RU2008131537A - Новые материалы для покрытий офсетных печатных форм, офсетные печатные формы и покрытия, содержащие эти материалы, способы получения и применение - Google Patents

Новые материалы для покрытий офсетных печатных форм, офсетные печатные формы и покрытия, содержащие эти материалы, способы получения и применение Download PDF

Info

Publication number
RU2008131537A
RU2008131537A RU2008131537/04A RU2008131537A RU2008131537A RU 2008131537 A RU2008131537 A RU 2008131537A RU 2008131537/04 A RU2008131537/04 A RU 2008131537/04A RU 2008131537 A RU2008131537 A RU 2008131537A RU 2008131537 A RU2008131537 A RU 2008131537A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
alkyl
functional group
attached
aryl
coating solution
Prior art date
Application number
RU2008131537/04A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2443683C2 (ru
Inventor
Ми Т. НГУЙЕН (CA)
Ми Т. НГУЙЕН
Марк Андре ЛОКА (CA)
Марк Андре ЛОКА
Original Assignee
Америкэн Дай Сорс Инк. (Ca)
Америкэн Дай Сорс Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Америкэн Дай Сорс Инк. (Ca), Америкэн Дай Сорс Инк. filed Critical Америкэн Дай Сорс Инк. (Ca)
Publication of RU2008131537A publication Critical patent/RU2008131537A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2443683C2 publication Critical patent/RU2443683C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C275/00—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C275/46—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups containing any of the groups, X being a hetero atom, Y being any atom, e.g. acylureas
    • C07C275/58—Y being a hetero atom
    • C07C275/62—Y being a nitrogen atom, e.g. biuret
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D159/00—Coating compositions based on polyacetals; Coating compositions based on derivatives of polyacetals
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/10—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C271/16—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by singly-bound oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
    • C07F5/02—Boron compounds
    • C07F5/027—Organoboranes and organoborohydrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08B—POLYSACCHARIDES; DERIVATIVES THEREOF
    • C08B11/00—Preparation of cellulose ethers
    • C08B11/193—Mixed ethers, i.e. ethers with two or more different etherifying groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/22—Esters containing halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40—High-molecular-weight compounds
    • C08G18/62—Polymers of compounds having carbon-to-carbon double bonds
    • C08G18/6216—Polymers of alpha-beta ethylenically unsaturated carboxylic acids or of derivatives thereof
    • C08G18/622—Polymers of esters of alpha-beta ethylenically unsaturated carboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/77—Polyisocyanates or polyisothiocyanates having heteroatoms in addition to the isocyanate or isothiocyanate nitrogen and oxygen or sulfur
    • C08G18/78—Nitrogen
    • C08G18/785—Nitrogen containing tertiary amino groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D101/00—Coating compositions based on cellulose, modified cellulose, or cellulose derivatives
    • C09D101/08—Cellulose derivatives
    • C09D101/26—Cellulose ethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04—Polyurethanes
    • C09D175/14—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09D175/16—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds having terminal carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/0325—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polysaccharides, e.g. cellulose
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
    • C07C2603/02—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
    • C07C2603/04—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings
    • C07C2603/06—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members
    • C07C2603/10—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members containing five-membered rings
    • C07C2603/12—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members containing five-membered rings only one five-membered ring
    • C07C2603/18—Fluorenes; Hydrogenated fluorenes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

1. Полимеризуемая соль иодония, к которой присоединена по меньшей мере одна первая функциональной группа, способная к катионной или радикальной полимеризации, представляющая собой, преимущественно, акрилат, метакрилат, акриламид, метакриламид или виниловый эфир. ! 2. Соль иодония по п.1, в которой указанная первая функциональная группа присоединена к арильному кольцу соли иодония через связь уретана или мочевины. ! 3. Соль иодония по п.1, имеющая в качестве общей формулы ! или ! ! где A1 представляет собой тозилатный, трифлатный, гексафторантимонатный, тетрафторборатный, тетрафенилборатный или трифенил-н-алкилборатный анионный противоион; ! w может изменяться между 0 и 18; ! R8 и R9 представляют собой независимо водород, линейный C1-С18алкил, разветвленный C1-С18алкил, алкилокси, поли(этиленоксид) или поли(пропиленоксид); и ! Y1 и Y, каждый независимо представляет уретан-содержащий заместитель, к которому присоединена указанная первая функциональная группа, представляющая собой, предпочтительно ! ! или ! ! где R представляет собой водород или метил, ! m изменяется между 1 и 18, ! R10 представляет собой водород, линейную или разветвленную C1-С18алкильную цепь; ! Q1 и Q2 каждый независимо представляет конечное соединение, к которому присоединена указанная первая функциональная группа, представляющая собой, предпочтительно, ! ! или ! , ! где R представляет собой водород или метил, и m определен выше, и находится предпочтительно между 0 и 7; и ! Z представляет собой заместитель, включающий , ! где А1 определен в п.4. ! 4. Соль иодония по п.3, в которой к R8 или по меньшей мере одному из R9 присоединена указанная первая функциональная группа. ! 5. Соль иодония по

Claims (30)

1. Полимеризуемая соль иодония, к которой присоединена по меньшей мере одна первая функциональной группа, способная к катионной или радикальной полимеризации, представляющая собой, преимущественно, акрилат, метакрилат, акриламид, метакриламид или виниловый эфир.
2. Соль иодония по п.1, в которой указанная первая функциональная группа присоединена к арильному кольцу соли иодония через связь уретана или мочевины.
3. Соль иодония по п.1, имеющая в качестве общей формулы
Figure 00000001
или
Figure 00000002
где A1 представляет собой тозилатный, трифлатный, гексафторантимонатный, тетрафторборатный, тетрафенилборатный или трифенил-н-алкилборатный анионный противоион;
w может изменяться между 0 и 18;
R8 и R9 представляют собой независимо водород, линейный C1-С18алкил, разветвленный C1-С18алкил, алкилокси, поли(этиленоксид) или поли(пропиленоксид); и
Y1 и Y, каждый независимо представляет уретан-содержащий заместитель, к которому присоединена указанная первая функциональная группа, представляющая собой, предпочтительно
Figure 00000003
Figure 00000004
или
Figure 00000005
где R представляет собой водород или метил,
m изменяется между 1 и 18,
R10 представляет собой водород, линейную или разветвленную C1-С18алкильную цепь;
Q1 и Q2 каждый независимо представляет конечное соединение, к которому присоединена указанная первая функциональная группа, представляющая собой, предпочтительно,
Figure 00000006
Figure 00000007
или
Figure 00000008
,
где R представляет собой водород или метил, и m определен выше, и находится предпочтительно между 0 и 7; и
Z представляет собой заместитель, включающий
Figure 00000009
,
где А1 определен в п.4.
4. Соль иодония по п.3, в которой к R8 или по меньшей мере одному из R9 присоединена указанная первая функциональная группа.
5. Соль иодония по п.1, имеющая общую структуру
Figure 00000010
или
Figure 00000011
где A1 представляет собой тозилатный, трифлатный, гексафторантимонатный, тетрафторборатный, тетрафенилборатный или трифенил-н-алкилборатный анионный противоион; и
R8 и R9 представляют собой независимо водород, линейный C1-С18алкил, разветвленный C1-С18алкил, алкилокси, поли(этиленоксид) или поли(пропиленоксид),
и где по меньшей мере один из R8 или R9 не является водородом и имеет присоединенную к нему указанную первую функциональную группу.
6. Покрывающий раствор офсетной печатной формы, включающий соль иодония по любому одному из пп.1-5 или их смесь.
7. Покрывающий раствор по п.6, дополнительно включающий краситель, поглощающий в ближней инфракрасной области спектра, представляющий собой, предпочтительно, молекулярный краситель, димерный краситель, дендримерный краситель или полимерный краситель.
8. Покрывающий раствор по п.7, в котором указанный краситель, поглощающий в ближней инфракрасной области спектра, представляет собой сополимер ацеталя первого поливинилового спирта, предпочтительно
Figure 00000012
где G1 представляет собой обрабатываемый сегмент, обеспечивающий растворимость в органических растворителях, предпочтительно,
Figure 00000013
, линейный алкил, разветвленный алкил, или арил, в котором указанный линейный алкил, разветвленный алкил, линейный арил или разветвленный арил замещен циано, гидрокси, диалкиламино, солями триалкиламмония, этиленоксидом, пропиленоксидметилбензилсульфонил-карбаматом, функциональной группой карбоновой кислоты или фосфорной кислоты;
G2 представляет собой термически реакционноспособный сегмент, предпочтительно, линейный алкил, разветвленный алкил или арил, в котором к указанному линейному алкилу, разветвленному алкилу или арилу присоединена указанная вторая функциональная группа, способная к катионной или радикальной полимеризации, предпочтительно представляющая собой виниловый эфир, алкокси-метилакриламид, алкоксиметакриламид, акрилат или метакрилат, предпочтительно G2 представляет собой
Figure 00000014
Figure 00000015
или
Figure 00000016
где R представляет собой водород или метил;
R2 представляет собой C1-С8алкил или алкокси;
m и w могут изменяться между 0 и 50; и
y представляет собой 1 или 2,
Figure 00000017
или
Figure 00000018
;
G3 представляет собой сегмент, поглощающий излучение, показывающий один или более интенсивных абсорбционных пиков между 700 и 1100 нм, предпочтительно,
Figure 00000019
или
Figure 00000020
,
в котором NIR представляет собой хромофор, поглощающий в ближней инфракрасной области, показывающий один или более интенсивных абсорбционных пиков между 700 и 1100 нм, предпочтительно,
Figure 00000021
Figure 00000022
или
Figure 00000023
где D1 и D2 представляют собой -O-, -S-, -Se-, -CH=CH- или -C(CH3)2;
Z1 и Z2 каждый независимо представляет собой одно или более конденсированных замещенных или незамещенных ароматических колец;
h может изменяться от 2 до 8;
n представляет собой 0 или 1;
М представляет собой водород или Na, K, или катионный противоион солей тетраалкиламмония.
A1 представляет собой бромид, хлорид, иодид, тозилат, трифлат, карбонат трифторметана, додецилбензосульфонатный или тетрафторборатный, тетрафенилборатный и трифенил-н-бутилборатный анионный противоион.
R3 и R7 каждый независимо представляет собой водород или алкил;
R4, R5 и R6 каждый независимо представляет собой алкил, арилалкил, гидроксиалкил, аминоалкил, карбоксиалкил, сульфоалкил или полимеризующийся заместитель, причем указанный заместитель включает указанную вторую функциональную группу и представляет собой формулу
Figure 00000024
Figure 00000025
или
Figure 00000026
где m может изменяться между 0 и 50, и R представляет собой водород или метил;
a, b, c, d и e представляют собой молярные соотношения и могут изменяться от 0,01 до 0,99;
любой из
Figure 00000027
или
Figure 00000028
может независимо быть замещен с помощью
Figure 00000029
, и
указанная вторая функциональная группа, если присутствует, присоединена к G2, G3 или обеим.
9. Покрывающий раствор по п.8, в котором к указанному сополимеру ацеталя первого поливинилового спирта присоединена по меньшей мере одна вторая функциональная группа.
10. Покрывающий раствор по п.8, в котором указанный сополимер ацеталя первого поливинилового спирта включает более одного сегмента G3, который может быть одинаковым или различным.
11. Покрывающий раствор по п.8, в котором G3 дополнительно показывает один или более интенсивных абсорбционных пиков между 400 и 700 нм.
12. Покрывающий раствор по п.6, дополнительно включающий полимерное связующее вещество.
13. Покрывающий раствор по п.12, в котором к указанному полимерному связующему веществу присоединена по меньшей мере одна третья функциональная группа, способная к катионной или радикальной полимеризации, предпочтительно, представляющая собой акрилат, метакрилат, виниловый эфир, гидроксил, алкокси-метилакриламид, алкоксиметакриламид, N-метоксиметилакриламид или N-метоксиметилметакриламид.
14. Покрывающий раствор по п.12, в котором указанное полимерное связующее вещество представляет собой сополимер ацеталя второго поливинилового спирта, предпочтительно
Figure 00000030
где G1 представляет собой обрабатываемый сегмент, обеспечивающий растворимость в органических растворителях, предпочтительно, C3H7 или
Figure 00000031
, линейный алкил, разветвленный алкил или арил, в котором указанный линейный алкил, разветвленный алкил или арил замещен циано, гидрокси, диалкиламино, солями триалкиламмония, этиленоксидом, пропиленоксидметилбензилсульфонил-карбаматом, функциональной группой карбоновой кислоты или фосфорной кислоты;
G2 представляет собой термически реакционноспособный сегмент, предпочтительно, представляющий собой линейный алкил, разветвленный алкил или арил, в котором к указанному линейному алкилу, разветвленному алкилу или арилу присоединена третья функциональная группа по п.13, предпочтительно G2 представляет собой
Figure 00000032
Figure 00000032
Figure 00000032
или
Figure 00000033
где R представляет собой водород или метил;
R2 представляет собой C1-С8алкил или алкокси;
m и w могут изменяться между 0 и 50; и
y представляет собой 1 или 2;
a, b, d и e представляют собой молярные соотношения и могут изменяться от 0,01 до 0,99; и
любой из
Figure 00000034
и
Figure 00000035
может независимо быть замещен с помощью
Figure 00000036
,
указанная третья функциональная группа, если присутствует, присоединена к G2.
15. Покрывающий раствор по п.13, в котором указанное полимерное связующее вещество представляет собой растворимый в растворителе эфир целлюлозы, предпочтительно
Figure 00000037
где a и b представляют собой молярные соотношения и могут изменяться между около 0,01 и около 0,99,
G4 представляет собой гидрокси, гидроксиэтил или гидроксипропил; и
G5 включает указанную третью функциональную группу, предпочтительно
Figure 00000038
, и
в котором m представляет собой 0 или 1, и R представляет собой водород или метил,
растворимый в воде эфир целлюлозы или их смесь, причем к указанным эфирам целлюлозы присоединена указанная третья функциональная группа.
16. Покрывающий раствор по п.12, в котором указанное полимерное связующее вещество включает один или более мономеров формулы
Figure 00000039
Figure 00000039
Figure 00000039
Figure 00000040
или
Figure 00000041
где m и w могут изменяться между 0 и 50;
R представляет собой водород или метил;
R11 представляет собой линейную или разветвленную алкильную цепь; и
R12 представляет собой алкил, гидроксил или карбоновую кислоту.
17. Негативная офсетная печатная форма, включающая покрытие, полученное осаждением покрывающего раствора по п.6 на подложку.
18. Сополимер ацеталя поливинилового спирта, к которому присоединена по меньшей мере одна функциональная группа, способная к катионной или радикальной полимеризации, предпочтительно представляющий собой виниловый эфир, алкокси-метилакриламид или алкоксиметакриламид, причем указанный сополимер ацеталя поливинилового спирта представляет собой
Figure 00000042
где G1 представляет обрабатываемый сегмент, обеспечивающий растворимость в органических растворителях, предпочтительно,
Figure 00000013
, линейный алкил, разветвленный алкил или арил, в котором указанный линейный алкил, разветвленный алкил или арил замещен циано, гидрокси, диалкилкамино, солями триалкиламмония, этиленоксидом, пропиленоксидметилбензилсульфонат-карбаматом, функциональной группой карбоновой кислоты или фосфорной кислоты;
G2 представляет собой термически реакционноспособный сегмент, предпочтительно, линейный алкил, разветвленный алкил или арил, в котором к указанному линейному алкилу, разветвленному алкилу или арилу присоединена указанная функциональная группа, предпочтительно G2 представляет собой:
Figure 00000014
Figure 00000015
или
Figure 00000016
где R представляет собой водород или метил;
R2 представляет собой C1-С8алкил или алкокси;
m и w могут изменяться между 0 и 50; и
y представляет собой 1 или 2,
Figure 00000043
или
Figure 00000044
;
G3 представляет сегмент, поглощающий излучение, показывающий одну или более интенсивных полос поглощения между 700 и 1100 нм, предпочтительно представляющий собой
Figure 00000045
или
Figure 00000046
, в котором NIR представляет собой хромофор, поглощающий в ближней инфракрасной области, показывающий один или более абсорбционных пиков между 700 и 1100 нм, предпочтительно представляющий собой
Figure 00000021
Figure 00000022
или
Figure 00000023
где D1 и D2 представляют собой независимо -O-, -S-, -Se-, -CH=CH- и -C(CH3)2;
Z1 и Z2 каждый независимо представляет собой одно или более конденсированных замещенных или незамещенных ароматических колец;
h может изменяться от 2 до 8;
n представляет собой 0 или 1;
М представляет водород или Na, K, или катионный противоион солей тетраалкиламмония.
A1 представляет собой бромид, хлорид, иодид, тозилат, трифлат, карбонат трифторметана, додецилбензосульфонатный и тетрафторборатный, тетрафенилборатный или трифенил-н-бутилборатный анионный противоион.
R3 и R7 каждый независимо представляет собой водород или алкил;
R4, R5 и R6 каждый независимо представляет собой алкил, арилалкил, гидроксиалкил, аминоалкил, карбоксиалкил, сульфоалкил или полимеризующийся заместитель, причем указанный заместитель включает указанную функциональную группу и представляет собой формулу
Figure 00000047
Figure 00000048
Figure 00000049
или
Figure 00000050
где m может изменяться между 0 и 50, и R представляет собой водород или метил;
a, b, c, d и e представляют собой молярные соотношения и могут изменяться от 0,01 до 0,99;
любой из
Figure 00000051
и
Figure 00000052
может независимо быть замещен с помощью
Figure 00000053
, и
указанная функциональная группа присоединена к G2, G3 или обеим.
19. Сополимер ацеталя поливинилового спирта по п.18, в котором G3 далее показывает одну или более интенсивных полос поглощения между 400 и 700 нм.
20. Сополимер ацеталя поливинилового спирта по п.18, в котором сополимер ацеталя поливинилового спирта включает более одного сегмента G3, который может быть одинаковым или различным.
21. Покрывающий раствор офсетной печатной формы, включающий сополимер ацеталя поливинилового спирта по п.18 или их смеси.
22. Покрывающий раствор по п.21, дополнительно включающий соль иодония по любому одному из пп.1-5.
23. Покрывающий раствор по п.21, дополнительно включающий соль иодония по п.1 и полимерное связующее вещество, предпочтительно, полимерное связующее вещество по любому одному из пп.13-16.
24. Негативная офсетная печатная форма, включающая покрытие, полученное осаждением покрывающего раствора по п.21 на подложку.
25. Полимерное связующее вещество для покрытий офсетной печатной формы, к которому присоединена по меньшей мере одна функциональная группа, способная к катионной или радикальной полимеризации, предпочтительно, акрилат, метакрилат, виниловый эфир, гидроксил, алкокси-метилакриламид, алкоксиметакриламид, N-метоксиметилакриламид или N-метоксиметилметакриламид, причем полимерное связующее вещество имеет следующую структуру:
Figure 00000054
где G1 представляет собой обрабатываемый сегмент, обеспечивающий растворимость в органических растворителях, предпочтительно, C3H7 или
Figure 00000013
, линейный алкил, разветвленный алкил или арил, в котором линейный алкил, разветвленный алкил или арил замещен циано, гидрокси, диалкиламино, солями триалкиламмония, этиленоксидом, пропиленоксидметилбензилсульфонил-карбаматом, функциональной группой карбоновой кислоты и фосфорной кислоты;
G2 представляет собой термически реакционноспособный сегмент, к которому присоединена указанная функциональная группа, предпочтительно G2 представляет собой линейный алкил, разветвленный алкил или арил, в котором к линейному алкилу, разветвленному алкилу или арилу присоединена указанная функциональная группа, предпочтительно G2 представляет собой:
Figure 00000014
Figure 00000015
или
Figure 00000016
где R представляет собой водород или метил;
R2 представляет собой C1-С8алкил или алкокси;
m и w могут изменяться между 0 и 50; и
y представляет собой 1 или 2,
Figure 00000017
или
Figure 00000055
;
a, b, d и e представляют собой молярные соотношения и могут изменяться от 0,01 до 0,99; и
Figure 00000051
может быть замещен
Figure 00000053
26. Полимерное связующее вещество для покрытий офсетной печатной формы, к которому присоединена по меньшей мере одна функциональная группа, способная к катионной или радикальной полимеризации, предпочтительно, акрилат, метакрилат, виниловый эфир, гидроксил, алкоксиметилакриламид, алкоксиметакриламид, N-метоксиметилакриламид или N-метоксиметилметакриламид, причем полимерное связующее вещество является растворимым в растворителе эфиром целлюлозы, предпочтительно,
Figure 00000056
где a и b представляют собой молярные соотношения и могут изменяться между около 0,01 и около 0,99,
G4 представляет собой гидрокси, гидроксиэтил или гидроксипропил; и
G5 включает указанную функциональную группу, предпочтительно, G5 представляет собой
Figure 00000057
где m представляет собой 0 или 1, и R представляет собой водород или метил,
растворимым в воде эфиром целлюлозы или их смесью, причем к указанным эфирам целлюлозы присоединена указанная функциональная группа.
27. Полимерное связующее вещество для покрытий офсетной печатной формы, к которому присоединена по меньшей мере одна функциональная группа, способная к катионной или радикальной полимеризации, причем полимерное связующее вещество включает один или более мономеров формулы
Figure 00000058
Figure 00000059
,
Figure 00000060
,
Figure 00000061
Figure 00000062
Figure 00000063
или
Figure 00000064
где m и w могут изменяться между 0 и 50;
R представляет собой водород или метил;
R11 представляет собой линейную или разветвленную алкильную цепь; и
R12 представляет собой алкил, гидроксил или карбоновую кислоту.
28. Покрывающий раствор офсетной печатной формы, включающий полимерное связующее вещество по любому одному из пп.25-27 или их смесь.
29. Покрывающий раствор по п.28, дополнительно включающий соль иодония по п.1 и/или краситель, поглощающий в ближней инфракрасной области, предпочтительно, краситель, поглощающий в ближней инфракрасной области, определенный по п.8.
30. Негативная офсетная печатная форма, включающая покрытие, полученное осаждением покрывающего раствора по п.28 на подложку.
RU2008131537/05A 2006-05-17 2007-05-09 Новые материалы для покрытий офсетных печатных форм, офсетные печатные формы и покрытия, содержащие эти материалы, способы получения и применение RU2443683C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US74747406P 2006-05-17 2006-05-17
US60/747,474 2006-05-17

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2008131537A true RU2008131537A (ru) 2010-02-10
RU2443683C2 RU2443683C2 (ru) 2012-02-27

Family

ID=38693485

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008131537/05A RU2443683C2 (ru) 2006-05-17 2007-05-09 Новые материалы для покрытий офсетных печатных форм, офсетные печатные формы и покрытия, содержащие эти материалы, способы получения и применение

Country Status (12)

Country Link
US (4) US7910768B2 (ru)
EP (1) EP2018365B1 (ru)
JP (1) JP5254958B2 (ru)
KR (1) KR101174949B1 (ru)
CN (1) CN101454277B (ru)
BR (1) BRPI0707574B1 (ru)
CA (1) CA2652294C (ru)
ES (1) ES2530792T3 (ru)
HK (1) HK1121132A1 (ru)
RU (1) RU2443683C2 (ru)
UA (1) UA98450C2 (ru)
WO (1) WO2007131336A1 (ru)

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5254958B2 (ja) * 2006-05-17 2013-08-07 アメリカン・ダイ・ソース・インコーポレーテッド 平版印刷版コーティング用新規材料、それを含有する平版印刷版およびコーティング、調製方法ならびに使用
CN101484484B (zh) * 2006-08-24 2012-10-10 美洲染料资源公司 反应性近红外吸收聚合物粒子、其制备方法和用途
US7723013B2 (en) * 2007-01-11 2010-05-25 Southern Lithoplate, Inc. Negative-acting photolithographic printing plate with improved pre-burn performance
EP2098367A1 (en) * 2008-03-05 2009-09-09 Eastman Kodak Company Sensitizer/Initiator Combination for Negative-Working Thermal-Sensitive Compositions Usable for Lithographic Plates
US8354216B2 (en) * 2008-07-15 2013-01-15 Eastman Kodak Company Negative-working imaging elements and methods of use
US8137896B2 (en) * 2008-07-29 2012-03-20 Eastman Kodak Company Method of preparing lithographic printing plates
JP5622484B2 (ja) * 2009-08-20 2014-11-12 富士フイルム株式会社 発色感光性組成物、平版印刷版原版及び新規シアニン色素
KR101390985B1 (ko) 2009-09-15 2014-05-02 밀란 그룹 코폴리머, 상기 코폴리머를 포함하는 폴리머성 입자 및 네거티브형 감방사선성 평판 인쇄판용 감방사선성 코팅 조성물의 코폴리머성 결합제
EP2451821B1 (en) 2009-10-29 2016-07-20 Mylan Group Gallotannic compounds for lithographic printing plate coating compositions
CN102844196B (zh) 2010-04-20 2015-06-10 米兰集团 用于平版印刷板的基材、其制备方法及其回收处理方法
MX336236B (es) 2010-09-14 2016-01-11 Mylan Group Copolimeros para composiciones de revestimiento sensibles a radiacion casi-infrarroja para placas de impresion litografica termica de trabajo positivo.
JP5955584B2 (ja) * 2012-02-24 2016-07-20 株式会社Adeka 新規化合物及び着色アルカリ現像性感光性組成物
CA2895913A1 (en) 2013-04-10 2014-10-16 Mylan Group Lithographic printing plate comprising a laminated substrate
CN106463061B (zh) * 2014-05-27 2019-10-18 本田技研工业株式会社 碰撞可能性判定装置
US20160259243A1 (en) * 2015-03-03 2016-09-08 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursor
CN111560094A (zh) * 2015-05-29 2020-08-21 富士胶片株式会社 近红外线吸收性色素多聚物、组合物、膜、滤光片、图案形成方法及装置
CN105778041B (zh) * 2016-05-06 2019-01-15 南昌航空大学 一种耐磨耐指纹树脂的制备方法
CN105778040B (zh) * 2016-05-06 2018-08-24 南昌航空大学 一种环保耐指纹树脂的制备方法
CN105732943B (zh) * 2016-05-06 2019-01-22 南昌航空大学 一种聚甲基丙烯酸甲酯用高透明防指纹树脂的制备方法
CN105859631B (zh) * 2016-05-06 2019-04-02 南昌航空大学 一种镀锌钢板用高透明防指纹树脂的制备方法
CN105859632B (zh) * 2016-05-06 2019-04-02 南昌航空大学 一种电子束固化高透明防指纹树脂的制备方法
CN105778042B (zh) * 2016-05-06 2018-09-07 南昌航空大学 一种电子束固化耐指纹聚氨酯丙烯酸酯的制备方法
WO2019013139A1 (ja) * 2017-07-13 2019-01-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、発色組成物、硬化性組成物、及び、画像形成材料
KR102435745B1 (ko) * 2018-03-05 2022-08-24 후지필름 가부시키가이샤 감광성 조성물
CN112512825B (zh) * 2018-07-30 2022-10-25 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
WO2021039252A1 (ja) * 2019-08-28 2021-03-04 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、化合物、樹脂
US20210078350A1 (en) 2019-09-17 2021-03-18 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use
US11714354B2 (en) 2020-03-25 2023-08-01 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use
CN111691219B (zh) * 2020-05-28 2022-02-08 仙鹤股份有限公司 一种高撕裂度ctp版衬纸及其制备方法
WO2022212032A1 (en) 2021-04-01 2022-10-06 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use
US20230314935A1 (en) 2022-03-03 2023-10-05 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use
US20240069439A1 (en) 2022-08-12 2024-02-29 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use

Family Cites Families (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2929710A (en) * 1954-10-08 1960-03-22 Du Pont Polyvinyl acetal with terminal vinylidene groups
US3043805A (en) * 1958-08-05 1962-07-10 Du Pont Polymeric amides and their preparation
US3418295A (en) * 1965-04-27 1968-12-24 Du Pont Polymers and their preparation
US3448089A (en) * 1966-03-14 1969-06-03 Du Pont Photopolymerizable polymers containing free acid or acid anhydride groups reacted with glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate
US3885964A (en) * 1974-05-31 1975-05-27 Du Pont Photoimaging process using nitroso dimer
LU76471A1 (ru) * 1976-12-24 1978-07-10
US4345017A (en) 1980-10-06 1982-08-17 Polaroid Corporation Photographic products and processes with a pH sensitive xanthene light screening dye
DE3144905A1 (de) * 1981-11-12 1983-05-19 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Zur herstellung von druck- und reliefformen geeignetes lichtempfindliches auszeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von druck- und reliefformen mittels dieses aufzeichnungsmaterials
US4701402A (en) * 1984-02-13 1987-10-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Oxidative imaging
US4656229A (en) 1985-12-02 1987-04-07 National Starch And Chemical Corporation Anaerobic adhesive compositions
DE69411242T2 (de) * 1993-04-20 1999-03-25 Asahi Chemical Ind Lithographische druckplatte sowie verfahren zu ihrer herstellung
WO1996018133A1 (en) 1994-12-06 1996-06-13 Napp Systems, Inc. High-resolution letterpress printing plates and water-soluble photopolymerizable compositions comprising a polyvinylalcohol derivative useful therefor
ATE177583T1 (de) 1995-09-02 1999-03-15 New Transducers Ltd Schwingungswandler
EP0770495B1 (en) 1995-10-24 2002-06-19 Agfa-Gevaert A method for making a lithographic printing plate involving on press development
CA2187046A1 (fr) * 1996-10-03 1998-04-03 Alain Vallee Sulfonylimidures et sulfonylmethylures, leur utilisation comme photoinitiateur
US6008813A (en) 1997-08-01 1999-12-28 Mitsubishi Electric Information Technology Center America, Inc. (Ita) Real-time PC based volume rendering system
TW436491B (en) * 1997-08-22 2001-05-28 Ciba Sc Holding Ag Compositions for use in base-catalysed reactions, a process for curing said compostions and a process for photochemically generating bases in base catalysed polymeriaztion reactions
US6261740B1 (en) * 1997-09-02 2001-07-17 Kodak Polychrome Graphics, Llc Processless, laser imageable lithographic printing plate
JP3770436B2 (ja) * 1997-12-15 2006-04-26 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
DE69936995T2 (de) * 1998-03-20 2008-05-21 Nippon Soda Co. Ltd. Photohärtbare zusammensetzung welche ein iodoniumsalz enthält
JP2000119306A (ja) 1998-03-20 2000-04-25 Nippon Soda Co Ltd ヨ―ドニウム塩化合物を含有する光硬化性組成物
DE19824546A1 (de) * 1998-06-03 1999-12-09 Basf Drucksysteme Gmbh Herstellung vernetzbarer wasserlöslicher oder wasserdispergierbarer Zusammensetzungen und daraus erhältlicher strahlungsempfindlicher Gemische
US6884562B1 (en) * 1998-10-27 2005-04-26 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoresists and processes for microlithography
US6687402B1 (en) 1998-12-18 2004-02-03 Cognex Corporation Machine vision methods and systems for boundary feature comparison of patterns and images
EP1035105A1 (de) * 1999-03-11 2000-09-13 Goldschmidt AG Estergruppen enthaltende Iodoniumsalze und ihre Verwendung zur Strahlenhärtung kationisch härtender Massen
US6124425A (en) 1999-03-18 2000-09-26 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near infrared absorption polymer coatings, method of preparing and methods of use
WO2000058930A1 (en) * 1999-03-30 2000-10-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Adhesion-enhancing surfaces for marking materials
US6255033B1 (en) 1999-07-30 2001-07-03 Creo, Ltd. Positive acting photoresist compositions and imageable element
AU5649400A (en) * 1999-09-21 2001-10-11 Goldschmidt Ag Photoinitiators containing urethane groups for cationic curing
US6566035B1 (en) * 1999-10-29 2003-05-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Negative-type image recording material and precursor for negative-type lithographic printing plate
US20020015826A1 (en) * 2000-04-11 2002-02-07 Darryl Desmarteau Zwitterionic iodonium compounds and methods of application
JP2002069110A (ja) * 2000-09-01 2002-03-08 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
US6548222B2 (en) * 2000-09-06 2003-04-15 Gary Ganghui Teng On-press developable thermosensitive lithographic printing plates
JP2002139828A (ja) * 2000-11-06 2002-05-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
US6777155B2 (en) 2000-10-03 2004-08-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
JP4102014B2 (ja) 2000-10-03 2008-06-18 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP4253432B2 (ja) * 2000-11-01 2009-04-15 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
JP2002207293A (ja) * 2001-01-12 2002-07-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US7049046B2 (en) * 2004-03-30 2006-05-23 Eastman Kodak Company Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements
US6899994B2 (en) * 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US6582882B2 (en) 2001-04-04 2003-06-24 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element comprising graft polymer
US6846614B2 (en) * 2002-02-04 2005-01-25 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates
JP2003248285A (ja) * 2001-08-07 2003-09-05 Konica Corp 熱現像銀塩写真感光材料
EP1336630A3 (en) * 2002-02-15 2003-12-10 Shipley Co. L.L.C. Functionalized polymer
US7659046B2 (en) 2002-04-10 2010-02-09 Eastman Kodak Company Water-developable infrared-sensitive printing plate
US6983694B2 (en) * 2002-04-26 2006-01-10 Agfa Gevaert Negative-working thermal lithographic printing plate precursor comprising a smooth aluminum support
JP2004012706A (ja) * 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US6969575B2 (en) 2002-08-29 2005-11-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. On-press developable lithographic printing plate precursor
EP1442877B1 (en) * 2003-01-29 2007-04-18 FUJIFILM Corporation Presensitized lithographic plate comprising microcapsules
JP4070637B2 (ja) * 2003-03-05 2008-04-02 富士フイルム株式会社 重合性組成物、それに用いる化合物、それに用いた画像形成材料および感光性平版印刷版
WO2004081662A2 (en) 2003-03-14 2004-09-23 Creo Inc. Development enhancement of radiation-sensitive elements
US7368215B2 (en) * 2003-05-12 2008-05-06 Eastman Kodak Company On-press developable IR sensitive printing plates containing an onium salt initiator system
DE102004029501A1 (de) * 2004-06-18 2006-01-12 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Modifizierte Polymere und ihre Verwendung bei der Herstellung von Lithographie-Druckplattenvorläufern
US7279263B2 (en) * 2004-06-24 2007-10-09 Kodak Graphic Communications Canada Company Dual-wavelength positive-working radiation-sensitive elements
US20060032390A1 (en) * 2004-07-30 2006-02-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP2006058430A (ja) * 2004-08-18 2006-03-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2006335826A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
BRPI0611018B1 (pt) * 2005-06-03 2017-03-07 American Dye Source Inc copolímeros de acetal de absorção próxima do infravermelho termicamente reativos, métodos de preparo e métodos de uso
JP5204371B2 (ja) 2005-06-06 2013-06-05 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
JP5170960B2 (ja) 2005-08-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び平版印刷方法
US7169518B1 (en) * 2006-04-17 2007-01-30 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element with improved chemical resistance
JP5254958B2 (ja) * 2006-05-17 2013-08-07 アメリカン・ダイ・ソース・インコーポレーテッド 平版印刷版コーティング用新規材料、それを含有する平版印刷版およびコーティング、調製方法ならびに使用
CN101269564B (zh) * 2007-03-19 2012-02-15 成都新图印刷技术有限公司 热敏阴图平版印刷版的制备方法
WO2021062463A1 (en) 2019-09-30 2021-04-08 Robert Bosch (Australia) Pty Ltd Method and system for relay attack prevention incorporating channel coherence

Also Published As

Publication number Publication date
RU2443683C2 (ru) 2012-02-27
US8323867B2 (en) 2012-12-04
US8021827B2 (en) 2011-09-20
EP2018365B1 (en) 2014-11-19
US20070269739A1 (en) 2007-11-22
UA98450C2 (ru) 2012-05-25
CN101454277B (zh) 2014-02-19
ES2530792T3 (es) 2015-03-05
BRPI0707574A2 (pt) 2011-05-10
CA2652294A1 (en) 2007-11-22
EP2018365A1 (en) 2009-01-28
HK1121132A1 (en) 2009-04-17
US20100062370A1 (en) 2010-03-11
EP2018365A4 (en) 2010-07-07
WO2007131336A1 (en) 2007-11-22
US20100035183A1 (en) 2010-02-11
JP5254958B2 (ja) 2013-08-07
KR101174949B1 (ko) 2012-08-17
JP2009537458A (ja) 2009-10-29
US7910768B2 (en) 2011-03-22
CN101454277A (zh) 2009-06-10
CA2652294C (en) 2012-07-10
US20120003584A1 (en) 2012-01-05
BRPI0707574B1 (pt) 2017-06-06
KR20090016588A (ko) 2009-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2008131537A (ru) Новые материалы для покрытий офсетных печатных форм, офсетные печатные формы и покрытия, содержащие эти материалы, способы получения и применение
JP2009537458A5 (ru)
Schmitz et al. NIR-sensitized photoinitiated radical polymerization and proton generation with cyanines and LED arrays
CN1649559B (zh) 光敏粘合剂组合物
RU2009110493A (ru) Реакционноспособные полимерные частицы, поглощающие инфракрасное излучение в ближней области, способы их получения и их применение
RU2009138314A (ru) Композиции и способы обработки скважины с водным барьером
Wloka et al. Microfabrication of 3D-hydrogels via two-photon polymerization of poly (2-ethyl-2-oxazoline) diacrylates
CN102093569B (zh) 一种偶氮苯聚肽嵌段共聚物及其制备方法和应用
RU2012102774A (ru) Сополимеры, полимерные частицы, содержащие упомянутые сополимеры, и сополимерные связующие для композиций радиационно-чувствительных покрытий для негативных копировальных радиационно-чувствительных литографических печатных форм
CN105917275B (zh) 液体光反应性组合物以及制造结构的方法
Deng et al. Novel chalcone-based phenothiazine derivative photoinitiators for visible light induced photopolymerization with photobleaching and good biocompatibility
Kütahya et al. Near‐Infrared Photoinduced Copper‐Catalyzed Azide‐Alkyne Click Chemistry with a Cyanine Comprising a Barbiturate Group
JP2012025680A (ja) ベンゾトリアゾール誘導体化合物
Suerkan et al. Highly conjugated visible and near-infrared light photoinitiating systems for radical and cationic polymerizations
Kahveci et al. Photoinitiated cationic polymerization: Reactivity and mechanistic aspects
ITTO20001220A1 (it) Polimero organico per rivestimento antiriflesso e sua preparazione.
CN108299574A (zh) 一种水溶性双光子引发剂及其制备与应用
CN109313304A (zh) 带粘合层的偏振膜及该带粘合层的偏振膜的制造方法
Wen et al. Amphiphilic polymeric Michler's ketone (MK) photoinitiators (APMKs) containing PEO chain and coinitiator amine
CN102127222B (zh) 一种偶氮苯聚肽及其制备方法和应用
EP0813558A2 (en) Novel block copolymers and a novel method for preparing (co)polymers having a narrow molecular weight distribution by metal-free anionic polymerisation in the presence of a phosphonium cation
Uyar et al. A xanthate-type photofunctional chain transfer agent for the synthesis of macrophotoinitiators
CN102585046A (zh) 具有共轭结构含二苯甲酮片段的可见光引发剂及其合成与应用
Chen et al. Polymeric Nonlinear Absorption Chromophore Array from Controlled Radical Polymerization and “Click” Chemistry
CN101230198A (zh) 一种提高直链淀粉包结络合物溶液稳定性的方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20190510