RU2009110493A - Реакционноспособные полимерные частицы, поглощающие инфракрасное излучение в ближней области, способы их получения и их применение - Google Patents

Реакционноспособные полимерные частицы, поглощающие инфракрасное излучение в ближней области, способы их получения и их применение Download PDF

Info

Publication number
RU2009110493A
RU2009110493A RU2009110493/04A RU2009110493A RU2009110493A RU 2009110493 A RU2009110493 A RU 2009110493A RU 2009110493/04 A RU2009110493/04 A RU 2009110493/04A RU 2009110493 A RU2009110493 A RU 2009110493A RU 2009110493 A RU2009110493 A RU 2009110493A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
polymer
polymer particle
meth
acrylate
chromophore
Prior art date
Application number
RU2009110493/04A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2434024C2 (ru
Inventor
Ми Т. НГУЙЕН (CA)
Ми Т. НГУЙЕН
Марк-Андре ЛОКА (CA)
Марк-Андре ЛОКА
Original Assignee
Америкэн Дай Сорс Инк. (Ca)
Америкэн Дай Сорс Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Америкэн Дай Сорс Инк. (Ca), Америкэн Дай Сорс Инк. filed Critical Америкэн Дай Сорс Инк. (Ca)
Publication of RU2009110493A publication Critical patent/RU2009110493A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2434024C2 publication Critical patent/RU2434024C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/28—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
    • C08F220/285—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety and containing a polyether chain in the alcohol moiety
    • C08F220/286—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety and containing a polyether chain in the alcohol moiety and containing polyethylene oxide in the alcohol moiety, e.g. methoxy polyethylene glycol (meth)acrylate
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1041—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by modification of the lithographic properties without removal or addition of material, e.g. by the mere generation of a lithographic pattern
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
    • C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
    • C08F212/06—Hydrocarbons
    • C08F212/08—Styrene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
    • C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
    • C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/28—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/38—Esters containing sulfur
    • C08F220/382—Esters containing sulfur and containing oxygen, e.g. 2-sulfoethyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/42—Nitriles
    • C08F220/44—Acrylonitrile
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • C08L33/16—Homopolymers or copolymers of esters containing halogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • C09D133/16—Homopolymers or copolymers of esters containing halogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/32—Radiation-absorbing paints
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

1. Полимерная частица, имеющая размер частиц между, приблизительно, 60 нм и, приблизительно, 1000 нм и содержащая полимер, который содержит: ! (a) гидрофобную основную цепь, ! (b) сегмент, поглощающий инфракрасное излучение в ближней области, соединенный с хромофором, поглощающим инфракрасное излучение в ближней области, имеющим пик поглощения между, приблизительно, 700 нм и, приблизительно, 1100 нм; и ! (c) сегмент, прозрачный для инфракрасного излучения в ближней области, ! где упомянутая полимерная частица слипается с соседними полимерными частицами при облучении, имеющем длину волны между, приблизительно, 700 нм и, приблизительно, 1100 нм. ! 2. Полимерная частица по п.1, в которой упомянутый размер частиц составляет между, приблизительно, 200 нм и 600 нм. ! 3. Полимерная частица по п.1, в которой упомянутый полимер имеет молекулярную массу, приблизительно, 3000 Да или более. ! 4. Полимерная частица по п.1, в которой упомянутый полимер имеет следующую структуру: ! ! в которой G1 представляет упомянутый поглощающий сегмент; ! G2 представляет упомянутый прозрачный сегмент; ! G1 и G2 образуют упомянутую гидрофобную основную цепь; ! a и b независимо представляют мольные отношения между 0,01 и 0,99; и ! упомянутый хромофор ковалентно или электростатически присоединяется к упомянутой гидрофобной основной цепи в качестве боковой группы. ! 5. Полимерная частица по п.1, в которой упомянутый поглощающий сегмент содержит: ! ! в которых NIR представляет упомянутый хромофор; ! R1 представляет водород или C1-C18 алкил; ! X представляет анионный противоион бромида, хлорида, йодида, тозилата, трифлата, трифторметанкарбоната, додецилбензосульфоната, тетрафенилбората

Claims (32)

1. Полимерная частица, имеющая размер частиц между, приблизительно, 60 нм и, приблизительно, 1000 нм и содержащая полимер, который содержит:
(a) гидрофобную основную цепь,
(b) сегмент, поглощающий инфракрасное излучение в ближней области, соединенный с хромофором, поглощающим инфракрасное излучение в ближней области, имеющим пик поглощения между, приблизительно, 700 нм и, приблизительно, 1100 нм; и
(c) сегмент, прозрачный для инфракрасного излучения в ближней области,
где упомянутая полимерная частица слипается с соседними полимерными частицами при облучении, имеющем длину волны между, приблизительно, 700 нм и, приблизительно, 1100 нм.
2. Полимерная частица по п.1, в которой упомянутый размер частиц составляет между, приблизительно, 200 нм и 600 нм.
3. Полимерная частица по п.1, в которой упомянутый полимер имеет молекулярную массу, приблизительно, 3000 Да или более.
4. Полимерная частица по п.1, в которой упомянутый полимер имеет следующую структуру:
Figure 00000001
в которой G1 представляет упомянутый поглощающий сегмент;
G2 представляет упомянутый прозрачный сегмент;
G1 и G2 образуют упомянутую гидрофобную основную цепь;
a и b независимо представляют мольные отношения между 0,01 и 0,99; и
упомянутый хромофор ковалентно или электростатически присоединяется к упомянутой гидрофобной основной цепи в качестве боковой группы.
5. Полимерная частица по п.1, в которой упомянутый поглощающий сегмент содержит:
Figure 00000002
в которых NIR представляет упомянутый хромофор;
R1 представляет водород или C1-C18 алкил;
X представляет анионный противоион бромида, хлорида, йодида, тозилата, трифлата, трифторметанкарбоната, додецилбензосульфоната, тетрафенилбората, алкилтрифенилбората, тетрафторбората или гексафторантимоната;
M представляет кислород, серу или диалкиламино;
a представляет мольное отношение между 0,01 и 0,99; и
m представляет число повторяющихся звеньев между 1 и 5.
6. Полимерная частица по п.1, в которой упомянутый поглощающий сегмент содержит полиэфирный линкер, ковалентно присоединяющий упомянутый хромофор к упомянутой основной полимерной цепи.
7. Полимерная частица по п.6, в которой упомянутый поглощающий сегмент содержит:
Figure 00000003
Figure 00000004
в которых a представляет мольное отношение между 0,01 и 0,99;
R представляет водород или метил;
R1 представляет C1-С8алкил или C1-С8алкилокси;
w представляет число повторяющихся звеньев между 10 и 50;
m представляет число повторяющихся звеньев между 1 и 10;
Y представляет линейный или разветвленный C2-С4алкил;
Q представляет спейсерную группу;
NIR представляет упомянутый хромофор;
L представляет:
Figure 00000005
в которых Q-NIR и (YO)W группы приведены для ясности, и j представляет число повторяющихся звеньев между 0 и 10.
8. Полимерная частица по п.7, в которой упомянутой спейсерной группой является:
Figure 00000006
в которой L и NIR группы приведены для ясности; R2 представляет C1-С8алкил или C1-С8алкилокси; R3 является такой же, как R2 или фенильным кольцом, замещенным H или R2; и A представляет анион.
9. Полимерная частица по п.8, в которой упомянутый анион представляет бромид, хлорид, йодид, тозилат, тетрафенилборат, алкилтрифенилборат, тетрафторборат или гексафторантимонат.
10. Полимерная частица по п.1, в которой две основные полимерные цепи сшиты через два поглощающих сегмента и один хромофор.
11. Полимерная частица по п.1, в которой упомянутый хромофор представляет:
Figure 00000007
в которой каждый D1 и D2 независимо представляют -O-, -S-, -Se-, -CH =CH-, или - C(CH3)2;
каждый Z1 и Z2 независимо представляют одно или более сконденсированных замещенных или незамещенных ароматических колец;
h представляет целое между 2 и 8;
n представляет 0 или 1;
M представляет водород или катионный противоион Na, K или тетраалкиламмониевой соли;
A1 представляет анионный противоион бромида, хлорида, йодида, тозилата, трифлата, трифторметанкарбоната, додецилбензосульфоната, тетрафторбората, тетрафенилбората или трифенил-н-бутилбората;
R3 представляет водород или алкил; и
каждый R4 и R5 независимо представляют алкил, арил алкил, гидроксиалкил, аминоалкил, карбоксиалкил, сульфоалкил, ацетоксилалкил, полиэфир или заместитель, который можно полимеризовать, формулы:
Figure 00000008
в которых m представляет число повторяющихся звеньев между 0 и 50; и R представляет водород или метил.
12. Полимерная частица по п.1, в которой упомянутый прозрачный сегмент содержит стирол, замещенный стирол, альфа-метилстирол, 4-винилфенол, 3-винилбензальдегид, эфир акриловой кислоты, эфир метакриловой кислоты, акрилонитрил, акриламид, метакриламид, винилгалид, виниловый сложный эфир, виниловый эфир, 9-винилкарбазол или винилфосфорную кислоту в качестве прозрачных мономерных блоков.
13. Полимерная частица по п.1, в которой упомянутый прозрачный сегмент содержит прозрачные мономерные блоки, полученные полимеризацией полиэфирных мономеров формулы:
H2C=C(R)-COO-(YO)W-Y-T
H2C=C(R)-COO-CH2CH2-NHCO-O(CH2CH2O)W-CH[CH2-(OCH2CH2)W-Y-T]2
или их смеси, в которых:
R представляет водород или метил;
Y представляет C2-С4алкил;
w представляет число повторяющихся звеньев между 5 и 50; и
T представляет концевые группы гидрокси, алкокси, арилокси, карбоновой кислоты, сульфокислоты или фосфорной кислоты и их соли.
14. Полимерная частица по п.1, в которой упомянутый прозрачный сегмент содержит мономерные звенья:
поли(этиленгликоль)(мет)акрилата,
поли(пропиленгликоль)(мет)акрилата,
поли(этиленгликоль-блок-пропиленгликоль)(мет)акрилата,
поли(этиленгликоль-блок-капролактон)(мет)акрилата,
алкилового эфира поли(этиленгликоль)(мет)акрилата,
алкилового эфира поли(пропиленгликоль)(мет)акрилата,
алкилового эфира поли(этиленгликоль-блок-пропиленгликоль)(мет)акрилата,
алкилового эфира поли(этиленгликоль-блок-капролактон)(мет)акрилата или их смеси.
15. Полимерная частица по п.1, в которой упомянутый прозрачный сегмент содержит один или более прозрачных мономерных звеньев, полученных полимеризацией мономера, имеющего две функциональные группы, которые можно полимеризовать, посредством чего происходит сшивка двух полимерных основных цепей через одно прозрачное мономерное звено.
16. Полимерная частица по п.15, в которой упомянутый мономер, имеющий две функциональные группы, которые можно полимеризовать, представляет:
дивинилбензол,
поли(этиленгликоль)ди(мет)акрилат,
поли(пропиленгликоль)ди(мет)акрилат,
статистический сополимер поли(этиленгликоль-пропиленгликоль)ди(мет)акрилат,
поли(пропиленгликоль)-блок-поликапролактонди(мет)акрилат,
поли(этиленгликоль)-блок-политетрагидрофуранди(мет)акрилат,
глицеролэтоксилатди(мет)акрилат,
глицеролэтоксилатди(мет)акрилат, или
их смеси.
17. Способ получения полимерной частицы, включающий:
(a) получение хромофора, поглощающего инфракрасное излучение в ближней области, первого и второго мономеров, которые можно полимеризовать; где упомянутый второй мономер и упомянутый хромофор содержат подходящие функциональные группы для соединения вместе; (b) полимеризацию упомянутых первого и второго мономеров в гидрофильной среде в присутствии инициатора, с получением полимерных частиц; и (с) присоединение упомянутого хромофора к упомянутому второму мономеру на поверхности упомянутых полимерных частиц.
18. Способ по п.17, в котором упомянутый хромофор присоединяют ко второму мономеру с помощью ковалентной связи.
19. Способ по п.17, в котором упомянутый хромофор присоединяют ко второму мономеру с помощью электростатического взаимодействия.
20. Способ по п.17, в котором упомянутым инициатором является 2,2'-азобисизобутиронитрил, персульфат аммония, перекись бензоила или бромид меди.
21. Способ по п.17, в котором упомянутой гидрофильной средой является вода, спирт, ацетонитрил, кетон или их смесь.
22. Покрывающая композиция, содержащая
(a) полимерные частицы по любому одному из пп.1-16; и
(b) реакционноспособный йодониевый олигомер.
23. Покрывающая композиция по п.22, содержащая между, приблизительно, 10 и, приблизительно, 90% по сухому весу упомянутых полимерных частиц.
24. Покрывающая композиция по п.22, содержащая между, приблизительно, 10 и, приблизительно, 90% по сухому весу упомянутого реакционноспособного йодониевого олигомера.
25. Покрывающая композиция по п.22, в которой упомянутым реакционноспособным йодониевым олигомером является Tuxedo® 06C051A фотополимер.
26. Покрывающая композиция по п.22, дополнительно содержащая полимерное связующее.
27. Покрывающая композиция по п.26, содержащая между, приблизительно, 2 и, приблизительно, 40% по сухому весу упомянутого полимерного связующего.
28. Покрывающая композиция по п.26, в которой упомянутым полимерным связующим является Tuxedo® XCP10 или Tuxedo® XAP02.
29. Покрывающая композиция по п.22, дополнительно содержащая красящее вещество, стабилизатор, светочувствительное вещество или их смеси.
30. Покрывающая композиция по п.29, в которой покрывающая композиция содержит между, приблизительно, 0,5 и, приблизительно, 10% по сухому весу упомянутых красящего вещества, стабилизатора, светочувствительного вещества или их смеси.
31. Негативная литографическая офсетная печатная пластина, содержащая:
(a) подложку;
(b) гидрофильный нижний слой; и
(c) проявляемый лазером верхний слой, в которой упомянутый проявляемый лазером верхний слой содержит полимерные частицы по п.1.
32. Пластина по п.31, в которой проявляемый лазером верхний слой содержит покрывающую композицию по п.22.
RU2009110493/04A 2006-08-24 2007-08-10 Реакционноспособные полимерные частицы, поглощающие инфракрасное излучение в ближней области, способы их получения и их применение RU2434024C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US82341506P 2006-08-24 2006-08-24
US60/823,415 2006-08-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2009110493A true RU2009110493A (ru) 2010-09-27
RU2434024C2 RU2434024C2 (ru) 2011-11-20

Family

ID=39106425

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2009110493/04A RU2434024C2 (ru) 2006-08-24 2007-08-10 Реакционноспособные полимерные частицы, поглощающие инфракрасное излучение в ближней области, способы их получения и их применение

Country Status (12)

Country Link
US (1) US7723010B2 (ru)
EP (1) EP2054454B1 (ru)
JP (1) JP5593068B2 (ru)
KR (1) KR101312760B1 (ru)
CN (1) CN101484484B (ru)
BR (1) BRPI0716670B1 (ru)
CA (1) CA2661147C (ru)
HK (1) HK1131630A1 (ru)
RU (1) RU2434024C2 (ru)
TW (1) TWI385184B (ru)
UA (1) UA93261C2 (ru)
WO (1) WO2008022431A1 (ru)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI409280B (zh) * 2007-07-31 2013-09-21 American Dye Source Inc 聚合物染料、塗覆層組合物及熱微影印刷板
CN102510869B (zh) 2009-09-15 2014-12-24 米兰集团 用于负性工作辐射敏感性平版印刷板的辐射敏感性涂料组合物的共聚物、包含所述共聚物的聚合颗粒和共聚粘合剂
MX2011013975A (es) 2009-10-29 2012-04-30 Mylan Group Compuestos gallotanicos para composiciones de revestimiento de placas de impresión litografica.
US9180719B2 (en) 2010-04-20 2015-11-10 Mylan Group Substrate for lithographic printing plate
JP5740234B2 (ja) * 2010-07-30 2015-06-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びそれに用いる新規なベタイン含有ポリマー
JP5578994B2 (ja) * 2010-08-27 2014-08-27 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法
CN103038267B (zh) 2010-09-14 2015-09-30 米兰集团 用于正型热平版印版的近红外辐射敏感涂料组合物的共聚物
AU2013386483B2 (en) 2013-04-10 2017-02-02 Mylan Group Lithographic printing plate comprising a laminated substrate
KR20160133381A (ko) * 2015-05-12 2016-11-22 코오롱인더스트리 주식회사 폴리머 비드, 폴리머 비드의 제조방법 및 이를 이용한 광학용 필름
CN106699930A (zh) * 2016-12-01 2017-05-24 沈阳化工研究院有限公司 一种油品标记聚合物及制备方法和应用
JP6934939B2 (ja) * 2017-05-31 2021-09-15 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法
CN108610461B (zh) * 2018-04-12 2020-10-20 南京邮电大学 一种近红外二区成像造影剂及其制备方法和用途
CN113423751B (zh) * 2019-04-24 2024-03-12 伊英克公司 电泳粒子、介质和显示器及其制造方法
US11714354B2 (en) 2020-03-25 2023-08-01 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use
CN111925469B (zh) * 2020-08-19 2021-04-06 上海金成高分子材料有限公司 一种高纯水制备专用树脂的方法

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994023954A1 (en) * 1993-04-20 1994-10-27 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Lithographic printing original plate and method for producing the same
DE19536805A1 (de) * 1995-10-02 1997-04-03 Basf Lacke & Farben Zur Herstellung von Flexodruckplatten durch digitale Informationsübertragung geeignetes mehrschichtiges Aufzeichnungselement
EP0770495B1 (en) 1995-10-24 2002-06-19 Agfa-Gevaert A method for making a lithographic printing plate involving on press development
US6261740B1 (en) * 1997-09-02 2001-07-17 Kodak Polychrome Graphics, Llc Processless, laser imageable lithographic printing plate
US6340722B1 (en) * 1998-09-04 2002-01-22 The University Of Akron Polymerization, compatibilized blending, and particle size control of powder coatings in a supercritical fluid
US6124425A (en) * 1999-03-18 2000-09-26 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near infrared absorption polymer coatings, method of preparing and methods of use
US6132933A (en) * 1999-07-30 2000-10-17 American Dye Source, Inc. Thermal waterless lithographic printing plates
JP2001270919A (ja) 2000-01-17 2001-10-02 Toyo Gosei Kogyo Kk 高分子化合物及びその製造方法並びに感光性組成物及びパターン形成方法
US6506533B1 (en) * 2000-06-07 2003-01-14 Kodak Polychrome Graphics Llc Polymers and their use in imagable products and image-forming methods
US6558872B1 (en) * 2000-09-09 2003-05-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Relation to the manufacture of masks and electronic parts
JP2002097384A (ja) * 2000-09-21 2002-04-02 Fuji Photo Film Co Ltd 高分子色素及びその製造方法
US6777155B2 (en) * 2000-10-03 2004-08-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
DE60215710T2 (de) * 2001-01-24 2007-09-20 Fujifilm Corp. Hydrophiles Polymer mit endständiger Silankupplungsgruppe und Flachdruckplattenträger
JP2002251008A (ja) 2001-02-23 2002-09-06 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
US6899994B2 (en) * 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US6582882B2 (en) * 2001-04-04 2003-06-24 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element comprising graft polymer
US6846614B2 (en) * 2002-02-04 2005-01-25 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates
DE60315086T2 (de) * 2002-03-13 2008-04-10 Fujifilm Corp. Lithographischer Druckplattenvorläufer
US7659046B2 (en) * 2002-04-10 2010-02-09 Eastman Kodak Company Water-developable infrared-sensitive printing plate
US6983694B2 (en) * 2002-04-26 2006-01-10 Agfa Gevaert Negative-working thermal lithographic printing plate precursor comprising a smooth aluminum support
EP1356926B1 (en) * 2002-04-26 2008-01-16 Agfa Graphics N.V. Negative-working thermal lithographic printing plate precursor comprising a smooth aluminum support.
JP2004012706A (ja) * 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US6969575B2 (en) * 2002-08-29 2005-11-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. On-press developable lithographic printing plate precursor
US6953652B2 (en) * 2003-01-27 2005-10-11 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP1442877B1 (en) * 2003-01-29 2007-04-18 FUJIFILM Corporation Presensitized lithographic plate comprising microcapsules
US7368215B2 (en) * 2003-05-12 2008-05-06 Eastman Kodak Company On-press developable IR sensitive printing plates containing an onium salt initiator system
US6889994B1 (en) * 2003-06-30 2005-05-10 Jason Birkenbaugh Trailer pulling apparatus
US7070902B2 (en) * 2003-08-26 2006-07-04 Eastman Kodak Company Imageable elements containing cyanoacrylate polymer particles
KR101174949B1 (ko) * 2006-05-17 2012-08-17 아메리칸 다이 소스, 인코포레이티드 석판 코팅을 위한 신규 물질, 이를 포함하는 석판 및 코팅,이의 제조방법 및 용도

Also Published As

Publication number Publication date
CA2661147C (en) 2013-02-05
TWI385184B (zh) 2013-02-11
EP2054454B1 (en) 2017-11-08
EP2054454A1 (en) 2009-05-06
TW200906868A (en) 2009-02-16
WO2008022431A1 (en) 2008-02-28
JP2010501650A (ja) 2010-01-21
RU2434024C2 (ru) 2011-11-20
CN101484484A (zh) 2009-07-15
HK1131630A1 (en) 2010-01-29
JP5593068B2 (ja) 2014-09-17
BRPI0716670B1 (pt) 2019-09-10
US7723010B2 (en) 2010-05-25
CA2661147A1 (en) 2008-02-28
KR101312760B1 (ko) 2013-09-30
EP2054454A4 (en) 2012-02-08
KR20090055568A (ko) 2009-06-02
UA93261C2 (ru) 2011-01-25
CN101484484B (zh) 2012-10-10
US20080171286A1 (en) 2008-07-17
BRPI0716670A2 (pt) 2013-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2009110493A (ru) Реакционноспособные полимерные частицы, поглощающие инфракрасное излучение в ближней области, способы их получения и их применение
Li et al. SI-PET-RAFT: surface-initiated photoinduced electron transfer-reversible addition–fragmentation chain transfer polymerization
Pojman et al. Frontal polymerization in solution
Nicolay et al. Responsive gels based on a dynamic covalent trithiocarbonate cross-linker
Robinson et al. Synthesis of well-defined, semibranched, hydrophilic− hydrophobic block copolymers using atom transfer radical polymerization
Hirao et al. Polymerization of monomers containing functional groups protected by trialkylsilyl groups. 5. Synthesis of poly (2-hydroxyethyl methacrylate) with a narrow molecular weight distribution by means of anionic living polymerization
Imato et al. Photoswitchable adhesives of spiropyran polymers
AU2002306752B2 (en) Materials, methods, and uses for photochemical generation of acids and/or radical species
RU2008131537A (ru) Новые материалы для покрытий офсетных печатных форм, офсетные печатные формы и покрытия, содержащие эти материалы, способы получения и применение
JP2010143220A5 (ru)
JP2005252239A5 (ru)
Wloka et al. Microfabrication of 3D-hydrogels via two-photon polymerization of poly (2-ethyl-2-oxazoline) diacrylates
Liu et al. Well-Defined Star Polymers with Mixed-Arms by Sequential Polymerization of Atom Transfer Radical Polymerization and Reverse Addition− Fragmentation Chain Transfer on a Hyperbranched Polyglycerol Core
Erdur et al. Poly (phenylenevinylene) s as sensitizers for visible light induced cationic polymerization
AU2011333883A1 (en) Aqueous formulations of hydrophobically associating copolymers and surfactants and also their use for petroleum recovery
AU2011333834A1 (en) Method for oil recovery using hydrophobically associating polymers
US8939206B2 (en) Process for mineral oil production using hydrophobically associating copolymers
CN101948562B (zh) 具有可交联性质的光响应嵌段液晶聚合物及其制备方法
JP2007531995A5 (ru)
Taskin et al. Polystyrene-b-poly (2-vinyl phenacyl pyridinium) salts as photoinitiators for free radical and cationic polymerizations and their photoinduced molecular associations
CN102585121A (zh) 一种可用作白板笔墨水分散剂的嵌段聚合物和白板笔墨水
BR112012001663B1 (pt) Copolímeros, partículas poliméricas compreendendo ditos copolímeros, e aglutinantes copolímeros para composições de revestimento sensíveis à radiação para placas de impressão litográficas sensíveis à radiação de trabalho negativo
CN105917275A (zh) 液体光反应性组合物以及制造结构的方法
WO2020071456A1 (ja) 接着性組成物
Yamago et al. Synthesis of concentrated polymer brushes via surface-initiated organotellurium-mediated living radical polymerization

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20190811