KR970706960A - 유리 피복 방법 및 이에 의해 피복된 유리(Glass Coating Method and Glass Coated Thereby) - Google Patents
유리 피복 방법 및 이에 의해 피복된 유리(Glass Coating Method and Glass Coated Thereby)Info
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Abstract
유리 기판(54)을 CVD에 의해 베이스, 중간 및 표면 층(58, 60 및 62) 각각을 포함하는 다층 피복물(56)로 피복시키고, 여기에서 상기 층은 실리카, 금속 산화물, 금속 질화물, 금속 탄화물 및 실리카 복합체 등이다. 유리 기판 상의 실리카 함유 피복물의 CVD에서, 실란, 산소, 에틸렌과 같은 라디칼 스캐빈저 가스 및 캐리어 가스를 전구 혼합물로서 혼합시킨다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 플로트 유리 방법을 실시하기 위한 및 본 발명에 따라 피복물 물질을 도포시키기 위하여 배치된 가스 분배기 빔을 포함하기 위한 장치의 개략적 종방향 수직 단면도, 제2도는 본 발명에 따라 제조된 피복된 유리 제품의 단편 단면도.
Claims (27)
- a) 피복물을 침착시키려는 표면을 갖는 유리 기판을 승온에서 제공하는 단계; b) 실란, 전구 기체의 점화를 방지시키고 혼합물의 반응 속도를 조절하기에 적합한 양으로 존재하는 라디칼 스캐빈저 가스, 산소 및 불활성 캐리어 가스를 포함하는 전부 혼합물을 피복시키려는 상기 표면을 향해 및 상기 표면을 따라 배향시키고, 상기 혼합물을 상기 표면에 또는 상기 표면 근처에 도달시켜 규소 함유 피복물을 형성시키는 단계; 및 c) 피복된 유리 기판을 주위 온도까지 냉각시키는 단계로 이루어지는, 규소 함유 피복물을 가열된 유리 기판 상에 침착시키는 방법.
- 제1항에 있어서, 단계 b) 전에 표면 상에 규소, 금속성 산화물 또는 금속성 질화물의 피복물을 침착시키는 단계 d) 를 포함하는 방법.
- 제1항에 있어서, 단계 b) 후에 표면 상에 규소, 금속성 산화물 또는 금속성 질화물의 피복물을 침착시키는 단계 d) 를 포함하는 방법.
- 제2항에 있어서, 단계 d) 후에 표면 상에 규소, 금속성 산화물 또는 금속성 질화물의 피복물을 침착시키는 단계 e) 를 포함하는 방법.
- 제3항에 있어서, 규소, 금속성 산화물 또는 금속성 질화물의 층이 침착되는 단계 d) 후에 단계 b)를 반복시켜 제2규소 함유 피복물을 규소, 금속성 산화물 또는 금속성 질화물의 층 상에 침착시키는 단계 e)를 포함하는 방법.
- 제1항에 있어서, 전구 혼합물 중의 실란이 모노실란(SiH4)인 방법.
- 제1항에 있어서, 전구 혼합물 중의 라디칼 스캐빈저 가스가 에틸렌 및 프로필렌으로 이루어진 군으로부터 선택되는 방법.
- 제7항에 있어서, 라디칼 스캐빈저 가스가 에틸렌인 방법.
- 제1항에 있어서, 실란이 모노실란(SiH4)이고 라디칼 스캐빈저가 에틸렌(C2H4)인 방법.
- 제9항에 있어서, 전구 혼합물 중의 실란 농도가 약 0.05 내지 3.0 부피%인 방법.
- 제9항에 있어서, 에틸렌/실란 비가 약 3 : 1 내지 17 : 1인 방법.
- 제9항에 있어서, 전구 혼합물 중의 산소 농도가 약 0.15 내지 9 부피 %인 방법.
- 제10항에 있어서, 에틸렌/실란 비가 약 3 : 1 내지 17 : 1이고 산소 농도가 약 0.15 내지 9 부피 %인 방법.
- 제13항에 있어서, 에틸렌/실란 비가 약 9 : 1인 방법.
- a) 유리 시트 기판을 비산화 대기에서 약 1,050℉(566℃) 이상의 온도에서 유지시키는 단계; b) 실란, 전구 기체의 점화를 방지시키고 혼합물의 반응 속도를 선택적으로 조절하기에 적합한 양으로 존재하는 라디칼 스캐빈저 가스, 산소 및 불활성 캐리어 가스를 포함하는 기체 전구 혼합물을 상기 유리 시트 기판의 한 표면을 향해 및 상기 표면을 따라 배향시키고, 상기 혼합물을 상기 한 표면에 또는 상기 표면 근처에서 반응시켜 실리카 함유 피복물을 형성시키는 단계; 및 c) 피복된 유리 기판을 비산화 대기로부터 제거하고 피복된 기판을 주위 온도까지 냉각시키는 단계로 이루어지는, 실리카 함유 피복물을 유리 시트 기판의 한 표면 상에 갖는 유리 시트 기판의 제조 방법.
- 제15항에 있어서, 단계 a)와 단계 b) 사이에 상기 한 표면 상에 규소, 금속성 산화물 및 금속성 질화물로 이루어지는 군으로부터 선택된 피복물을 침착시키는 단계를 포함하는 방법.
- 제15항에 있어서, 단계 b) 후에 상기 한 표면 상에 규소, 금속성 산화물 및 금속성 질화물로 이루어지는 군으로부터 선택된 피복물을 침착시키는 단계를 포함하는 방법.
- 제15항에 있어서, 상기 비산화 대기가 질소가 대부분인 질소 및 수소의 혼합물로 이루어지고, 상기 실란이 모노실란으로 이루어지고, 상기 라디칼 스캐빈저 가스가 에틸렌으로 이루어지고, 상기 불활성 캐리어 가스가 질소로 이루어지는 방법.
- 제18항에 있어서, 모노실란 농도가 약 0.05 내지 3.0 부피%의 전구 가스이고, 산소 농도가 약 0.15 내지 9 부피%의 전구 가스이고, 에틸렌/실란 비가 약 3 : 1 내지 17 : 1인 방법.
- 제19항에 있어서, 모노실란 농도가 약 0.6 내지 1.0%이고, 산소 농도가 약 1.0 내지 7% 이고, 에틸렌/실란 비가 약 3 : 1 내지 12 : 1인 방법.
- a) 유리 기판을 승온에서 유지시키고; b) 실란, 라디칼 스캐빈저 가스, 산소 및 불활성 캐리어 가스를 포함하는 전구 혼합물을 상기 기판의 표면을 향해 및 상기 표면을 따라 배향시키고, 상기 혼합물을 상기 표면에 또는 상기 표면 근처에서 반응시켜 규소 함유 피복물을 상기 표면 상에 형성시키고; c) 상기 기판 및 상기 기판 상의 규소 함유 피복물의 온도를 주위 온도까지 냉각시킴으로써 형성된, 실리카 함유 피복물을 그 표면상에 갖는 유리 기판.
- 제21항에 있어서, 상기 규소 함유 피복물이 상기 표면 상의 또 다른 층 상에 배치된 다수의 피복물 층 중의 하나인 유리 기판.
- 제22항에 있어서, 상기 다수의 피복물 층이 규소, 금속성 산화물 및 금속성 질화물로 이루어지는 군으로부터 선택된 1개 이상의 층을 포함하는 유리 기판.
- 제22항에 있어서, 상기 실리카 함유 피복물이 상기 다수의 피복물 층 중의 1개를 포함하는 유리 기판.
- 제23항에 있어서, 규소, 금속성 산화물 및 금속성 질화물의 피복물 1개 이상에 의해 분리된 상기 규소 함유 피복물 2개 이상을 포함하는 유리 기판.
- 제21항에 있어서, 상기 승온이 약 600℉(316℃) 이상인 유리 기판.
- 제22항에 있어서, 상기 승온이 1,050℉(566℃) 이상인 유리 기판.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US32327294A | 1994-10-14 | 1994-10-14 | |
US08/323.272 | 1994-10-14 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970706960A true KR970706960A (ko) | 1997-12-01 |
KR100360629B1 KR100360629B1 (ko) | 2003-03-15 |
Family
ID=23258450
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019970702402A KR100360629B1 (ko) | 1994-10-14 | 1995-10-13 | 유리피복방법및이에의해피복된유리 |
Country Status (20)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5798142A (ko) |
EP (1) | EP0785868B1 (ko) |
JP (1) | JP4290760B2 (ko) |
KR (1) | KR100360629B1 (ko) |
CN (1) | CN1084674C (ko) |
AT (1) | ATE205136T1 (ko) |
AU (1) | AU688153B2 (ko) |
BR (1) | BR9509303A (ko) |
CA (1) | CA2159296C (ko) |
CZ (1) | CZ293607B6 (ko) |
DE (1) | DE69522573T2 (ko) |
ES (1) | ES2160176T3 (ko) |
FI (1) | FI971553A0 (ko) |
HU (1) | HU225402B1 (ko) |
MY (1) | MY112816A (ko) |
PL (1) | PL181307B1 (ko) |
TR (1) | TR199501271A2 (ko) |
TW (1) | TW403727B (ko) |
WO (1) | WO1996011802A1 (ko) |
ZA (1) | ZA958310B (ko) |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1995
- 1995-09-27 CA CA002159296A patent/CA2159296C/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-03 TW TW084110310A patent/TW403727B/zh not_active IP Right Cessation
- 1995-10-03 ZA ZA958310A patent/ZA958310B/xx unknown
- 1995-10-12 MY MYPI95003069A patent/MY112816A/en unknown
- 1995-10-13 CN CN95196798A patent/CN1084674C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-13 CZ CZ19971101A patent/CZ293607B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1995-10-13 BR BR9509303A patent/BR9509303A/pt not_active IP Right Cessation
- 1995-10-13 TR TR95/01271A patent/TR199501271A2/xx unknown
- 1995-10-13 HU HU9801383A patent/HU225402B1/hu not_active IP Right Cessation
- 1995-10-13 KR KR1019970702402A patent/KR100360629B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1995-10-13 WO PCT/US1995/013001 patent/WO1996011802A1/en active IP Right Grant
- 1995-10-13 AU AU38289/95A patent/AU688153B2/en not_active Ceased
- 1995-10-13 PL PL95319633A patent/PL181307B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1995-10-13 ES ES95936286T patent/ES2160176T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-13 AT AT95936286T patent/ATE205136T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-10-13 DE DE69522573T patent/DE69522573T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-13 JP JP52922595A patent/JP4290760B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-13 EP EP95936286A patent/EP0785868B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-07-29 US US08/681,611 patent/US5798142A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-04-14 FI FI971553A patent/FI971553A0/fi unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR9509303A (pt) | 1997-12-23 |
AU688153B2 (en) | 1998-03-05 |
WO1996011802A1 (en) | 1996-04-25 |
AU3828995A (en) | 1996-05-06 |
DE69522573T2 (de) | 2002-08-22 |
HUT77872A (hu) | 1998-09-28 |
JP4290760B2 (ja) | 2009-07-08 |
TR199501271A2 (tr) | 1997-05-21 |
MY112816A (en) | 2001-09-29 |
MX9702640A (es) | 1997-07-31 |
HU225402B1 (en) | 2006-11-28 |
CZ293607B6 (cs) | 2004-06-16 |
CZ110197A3 (en) | 1997-09-17 |
ATE205136T1 (de) | 2001-09-15 |
US5798142A (en) | 1998-08-25 |
TW403727B (en) | 2000-09-01 |
KR100360629B1 (ko) | 2003-03-15 |
CN1084674C (zh) | 2002-05-15 |
PL319633A1 (en) | 1997-08-18 |
DE69522573D1 (de) | 2001-10-11 |
TR199501271A3 (ko) | 1997-05-21 |
ES2160176T3 (es) | 2001-11-01 |
CA2159296A1 (en) | 1996-04-15 |
ZA958310B (en) | 1996-04-26 |
FI971553A (fi) | 1997-04-14 |
EP0785868B1 (en) | 2001-09-05 |
EP0785868A1 (en) | 1997-07-30 |
CN1169694A (zh) | 1998-01-07 |
JPH10506874A (ja) | 1998-07-07 |
CA2159296C (en) | 2007-01-30 |
FI971553A0 (fi) | 1997-04-14 |
PL181307B1 (pl) | 2001-07-31 |
EP0785868A4 (en) | 1998-01-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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