KR970059843A - 형광체 패턴 및 형광체 패턴의 제조법 및 여기에 사용하는 감광성 엘리먼트 - Google Patents

형광체 패턴 및 형광체 패턴의 제조법 및 여기에 사용하는 감광성 엘리먼트 Download PDF

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세이끼찌 단노
하지메 가꾸마루
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와까 바야시 구니히꼬
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Abstract

본 발명의 감광성 엘리먼트는, 엣지퓨젼성이 양호하며,(B)열가소성 수지층 또는 (C)매입층 또는 각종 압력을 사용한 본 발명의 형광체 패턴의 제조법에서, 형광체 패턴의 형성성(PDP용 기판의 배리어 리브 벽면 및 공간 저면상으로의 매입성)에서도 양호하다.
이와 비교하여, (B)열가소성 수지층 또는 (C)매입층 또는 각종 압력을 사용하지 않았을 때는, 형광체 패턴의 형성성(PDP용 기판의 배리어 리브 벽면 및 공간 저면상으로의 매입성)은 떨어진다.
또, 본 발명의 감광성 엘리먼트를 상용하며, 본 발명의 형광체 패턴의 제조법을 사용하면, 다색 형광체 패턴의 형성성(PDP용 기판의 배리어 리브 벽면 및 공간 저면상으로의 매입성)은 양호하다.

Description

형광체 패턴 및 형광체 패턴의 제조법 및 여기에 사용하는 감광성 엘리먼트
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 배리어 리브가 형성된 PDP용 매입성 일예를 나타낸 모식도.

Claims (63)

  1. 요철을 갖는 기판의 요부 내표면에 형성된 형광체층이, 요부 저면에서 철부선단까지의 길이 L(㎛)이라 했을 때, 요부 저면에서 철부 선단을 향하여 0.9xL위치의 요철 벽면에 형성된 형광체층 두께(x)와 요부 저면에서 철부 선단을 향하여 0.4xL위치의 요철 벽면에 형성된 형광체층 두께(y)의 형광체층 두께 비(x)/(y)가, (x)/(y)=0.1 내지 1.5의 범위를 만족하는 것을 특징으로 하는 형광체 패턴.
  2. (Ia)요철을 갖는 기판의 요철 표면상에 (A)Ia 함유하는 감광성 수지 조성물층 상에 (B)열가소성 수지층이 잡재된 상태에서 (B)열가소성 수지층을 가열하고 감압하여 요철 표면상에 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층을 적층하는 공정, (Ⅱa)(A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (또는) (B)열가소성 수지층을 활성 광선에 의해 상적으로 조사하는 공정,(Ⅲa)현상에 의해 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (또는) (B)열가소성 수지층에서 불요 성분을 제거하는 공정 및 (IVa) 소성에의해 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (또는) (B)열가소성 수지층에서 불요 성분을 제거하는공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 형광체 패턴의 제조법.
  3. 제2항에 있어서, (Ia)내지 (Ⅲa)의 각 공정을 로, 적, 녹 및 청으로 발생하는 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물으로 이루어지는 다색 패턴을 형성한 후, (Ⅳa)의 공정을 행하여 각 색의 형광체 패턴을 형성하는 형광체 패턴의 제조법.
  4. 제2 또는 3항에 있어서, (Ia)내지 (Ⅳa)의 각 공정을 반복하여, 적, 녹 및 청으로 발색하는 다색의 형광체 패턴을 형성하는 형광체 패턴의 제조법.
  5. 지지체 필름상에,(B)열가소성 수지층을 가지며, 그 위에 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층을 갖는 것으로 이루어지는 감광성 엘리먼트.
  6. (Ib) 제5항 기재의 감광성 엘리먼트를 요철을 갖는 기판의 요철 표면상에 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이 접하도록 가열하고 가압하여 요철 표면상에 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및(B) 열가소성 수지층을 적측하는 공정, (Ⅱb) (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및(또는) (B)열가소성 수지층을 활성 광성에 의해 상적으로 조사하는 공정, (Ⅲb)현상에 의해 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및(또는) (B)열가소성 수지층에서 불요부를 제거하는 공정 및 (Ⅳb)소성의 의해 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및(또는) (B)열가소성 수지층에서 불요 성분을 제거하는 공정의 각 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 형광체 패턴의 제조법.
  7. 제6항에 있어서, (Ib)내지 (Ⅲb)의 각 공정을 반복하여, 적, 녹 및 청으로 발색하는 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층으로 이루어지는 다색 패턴을 형성한 후, (Ⅴb)의 공정을 행하여 다색의 형광체 패턴을 형성하는 형광체 패턴의 제조법.
  8. 제6 또는 제7항에 있어서, (Ib)내지 (Ⅳb)의 각 공정을 반복하여, 적, 녹 및 청으로 발색하는 다색의 형광체 패턴을 형성하는 형광체 패턴의 제조법.
  9. (Ic) 요철을 갖는 기판상에 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층의 상부에 (C)매입층이 적재된 상태에서 (C)매입층을 가열하고 가압하여 요철 표면상에 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (C)매입층을 적충하는 공정, (Ⅱc)(C)매입층을 박리하는 공정, (Ⅲc)(A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층을 활성 광성에 의해 상적으로 조사하는 공정, (Ⅳc)현상에 의해 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층에서 불요부를 제거하는 공정 및 (Ⅴc)소정에 의해 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층에서 불요성분을 제거하는 공정의 각 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 형광체 패턴의 제조법.
  10. 제9항에 있어서, (Ic)내지 (Ⅳc)의 각 공정을 반복하여, 적, 녹 및 청으로 발생하는 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층으로 이루어지는 다색 패턴을 형성한 후, (Ⅴc)의 공정을 행하여 다색의 형광체 패턴을 형성하는 형광체 패턴의 제조법.
  11. 제9 또는 10항에 있어서, (Ic)내지 (Ⅴc)의 각 공정을 반복하여, 적, 녹 및 청으로 발색하는 다색의 형광체 패턴을 형성하는 형광체 패턴의 제조법.
  12. 지지체 필름상에, (C)매입층을 가지며, 그 위에 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층을 갖는 것으로 이루어지는 감광성 엘리먼트.
  13. 제1항에 있어서, (Id) 제 12항에 기재한 감광성 엘리먼트를 요철을 갖는 기판의 요철 표면상에 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이 접하도록 가열하고 가압하여 요철 표면상에 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (C)매입층을 적충하는 공정, (Ⅱd)(C)매입층을 박리하는 공정, (Ⅲd)(A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층을 활성 광성에 의해 상적으로 조사하는 공정, (Ⅴd)현상에 의해 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층에서 불요부를 제거하는 공정 및 (Ⅴd) 소정에 의해 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층에서 불요성불을 제거하는 공정의 각 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 형광체 패턴의 제조법.
  14. 제13항에 있어서, (Id) 내지 (Ⅳd)의 각 공정을 반복하여, 적, 녹 및 청으로 발색하는 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층으로 이루어지는 다색 패턴을 형성한 후, (Ⅴd)의 공정을 행하여 박리하는 형광체 패턴을 형성하는 형광체 패턴의 제조법.
  15. 제13 또는 14항에 있어서, (Id) 내지 (Ⅳd)의 각 공정을 반복하여, 적, 녹 및 청으로 발색하는 다색의 형광체 패턴을 형성하는 형광체 패턴의 제조법.
  16. (Ie) 요철을 갖는 기판상에 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이 적재된 상태에서 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층을 합력에 의해 요철을 갖는 기판상의 요부 내면에 밀착시키는 공정, (Ⅱe)(A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층을 활성 광성에 의해 상적으로 조사하는 공정, (Ⅲe)현상에 의해 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층에서 불요부를 제거하는 공정 및 (Ⅳe) 소정에 의해 (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층에서 불요 성분을 제거하는 공정의 각 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 형광체 패턴의 제조법.
  17. 제 16항에 있어서, (Ie) 내지 (Ⅲe)의 각 공정을 반복하여, 적, 녹 및 청으로 발색하는 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층으로 이루어지는 다색 패턴을 형성한 후, (Ⅳe)의 공정을 행하여 다색의 형광체 패턴을 형성하는 형광체 패턴의 제조법.
  18. 제16 또는 17항에 있어서, (Ie) 내지 (Ⅳe)의 각 공정을 반복하여, 적, 녹 및 청으로 발색하는 다색의 형광체 패턴을 형성하는 형광체 패턴의 제조법.
    제2 또는 3항에 있어서, (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (a) 필름성 부여 폴리머, (b)에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (c) 활성광의 조사에 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합개시제 및 (d) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  19. 제2 또는 3항에 있어서, (A) 형광체를 하뮤하는 감광성 수지 조성물층이, (a) 필름성 부여 폴리머, (b)에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화화합물, (c) 활성과의 조사에 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (d) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  20. 제4항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (a) 필름성 부여 폴리머, (b) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (c) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (d) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  21. 제6 또는 7항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (a) 필름성 부여 폴리머, (b) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (c) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (d) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  22. 제8항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (a) 필름성 부여 폴리머, (b) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (c) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (d) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  23. 제9 또는 제10항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (a) 필름성 부여 폴리머, (b) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (c) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (d) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  24. 제11항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (a) 필름성 부여 폴리머, (b) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (c) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (d) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  25. 제13 또는 제14항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (a) 필름성 부여 폴리머, (b) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (c) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (d) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  26. 제14항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (a) 필름성 부여 폴리머, (b) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (c) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (d) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  27. 제16 또는 17항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (a) 필름성 부여 폴리머, (b) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (c) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (d) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  28. 제18항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (a) 필름성 부여 폴리머, (b) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (c) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (d) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  29. 제5항에 있서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (a) 필름성 부여 폴리머, (b) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (c) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (d) 형광체를 포함하는 감광성 엘리먼트.
  30. 제12항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (a) 필름성 부여 폴리머, (b) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (c) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (d) 형광체를 포함하는 감광성 엘리먼트.
  31. 제2 또는 3항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (e) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 고분자 결합제, (f) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  32. 제4항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (e) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 고분자 결합제, (f) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  33. 제6 또는 7항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (e) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 고분자 결합제, (f) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  34. 제8항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (e) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 고분자 결합제, (f) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  35. 제9 또는 10항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (e) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 고분자 결합제, (f) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  36. 제11항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (e) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 고분자 결합제, (f) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  37. 제13 또는 14항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (e) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 고분자 결합제, (f) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  38. 제15항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (e) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 고분자 결합제, (f) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  39. 제16 또는 17항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (e) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 고분자 결합제, (f) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  40. 제18항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (e) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 고분자 결합제, (f) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 형|광체 패턴의 제조법.
  41. 제5항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (e) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 고분자 결합제, (f) 활성광의 조사의 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 감광성 엘리먼트.
  42. 제12항에 있어서, (A)형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층이, (e) 에틸렌성 불포화기를 같는 광중합성 고분자 결합제, (f) 활성광의 조사에 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 감광성 엘리먼트.
  43. 제2항 또는 3항에 있어서, (B) 열가소성 수지층이, (h) 열가소성 수지, (i) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (j) 활성광의 조사에 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  44. 제4항에 있어서, (B) 열가소성 수지층이, (h) 열가소성 수지, (i) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (j) 활성광의 조사에 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  45. 제6항 또는 7항에 있어서, (B) 열가소성 수지층이, (h) 열가소성 수지, (i) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (j) 활성광의 조사에 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  46. 제8항에 있어서, (B) 열가소성 수지층이, (h) 열가소성 수지, (i) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (j) 활성광의 조사에 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 형광체 패턴의 제조법.
  47. 제5항에 있어서, (B) 열가소성 수지층이, (h) 열가소성 수지, (i) 에틸렌성 불포화기를 갖는 광중합성 불포화 화합물, (j) 활성광의 조사에 의해 유리 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 및 (g) 형광체를 포함하는 감광성 엘리먼트.
  48. 제2 또는 3항에 있어서, (Ⅲa) 또는 (Ⅲb) 현상에 의해 불요부를 제거하는 공정에서, (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층이 동일한 현상액을 사용하여 현상하는 형광체 패턴의 제조법.
  49. 제4항에 있어서, (Ⅲa) 또는 (Ⅲb) 현상에 의해 불요부를 제거하는 공정에서, (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층이 동일한 현상액을 사용하여 현상하는 형광체 패턴의 제조법.
  50. 제6 또는 7항에 있어서, (Ⅲa) 또는 (Ⅲb) 현상에 의해 불요부를 제거하는 공정에서, (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층이 동일한 현상액을 사용하여 현상하는 형광체 패턴의 제조법.
  51. 제8항에 있어서, (Ⅲa) 또는 (Ⅲb) 현상에 의해 불요부를 제거하는 공정에서, (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층이 동일한 현상액을 사용하여 현상하는 형광체 패턴의 제조법.
  52. 제5항에 있어서, (Ⅲa) 또는 (Ⅲb) 현상에 의해 불요부를 제거하는 공정에서, (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층이 동일한 현상액을 사용하여 현상하는 감광성 엘리먼트.
  53. 제2 또는 3항에 있어서, 요철을 가진 기판상의 요철이 형성된 영역과 같은 영역의 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층에서, (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층의 합계 체적(Ⅴ1)과, 요철을 갖는 기판의 요부 공간의 체적(Ⅴ2)의 비 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)가 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)=1 내지 2의 범위인 것을 특징으로 하는 형광체 패턴의 제조법.
  54. 제4항에 있어서, 요철을 가진 기판상의 요철이 형성된 영역과 같은 영역의 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층에서, (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층의 합계 체적(Ⅴ1)과, 요철을 갖는 기판의 요부 공간의 체적(Ⅴ2)의 비 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)가 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)=1 내지 2의 범위인 것을 특징으로 하는 형광체 패턴의 제조법.
  55. 제6항 또는 7항에 있어서, 요철을 가진 기판상의 요철이 형성된 영역과 같은 영역의 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층에서, (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층의 합계 체적(Ⅴ1)과, 요철을 갖는 기판의 요부 공간의 체적(Ⅴ2)의 비 (Ⅴ1)/(Ⅴ|2)가 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)=1 내지 2의 범위인 것을 특징으로 하는 형광체 패턴의 제조법.
  56. 제8항에 있어서, 요철을 가진 기판상의 요철이 형성된 영역과 같은 영역의 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층에서, (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층의 합계 체적(Ⅴ1)과, 요철을 갖는 기판의 요부 공간의 체적(Ⅴ2)의 비 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)가 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)=1 내지 2의 범위인 것을 특징으로 하는 형광체 패턴의 제조법.
  57. 제5항에 있어서, 요철을 가진 기판상의 요철이 형성된 영역과 같은 영역의 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층에서, (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (B) 열가소성 수지층의 합계 체적(Ⅴ1)과, 요철을 갖는 기판의 요부 공간의 체적(Ⅴ2)의 비 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)가 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)=1 내지 2의 범위인 것을 특징으로 하는 감광성 엘리먼트.
  58. 제9항 또는 10항에 있어서, 요철을 가진 기판상의 요철이 형성된 영역과 같은 영역의 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (C) 열가소성 수지층에서, (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (C) 매입층의합계 체적(Ⅴ1)과, 요철을 갖는 기판의 요부 공간의 체적(Ⅴ2)의 비 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)가 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)=1 내지 2의 범위인 것을 특징으로 하는 형광체 패턴의 제조법.
  59. 제11항에 있어서, 요철을 가진 기판상의 요철이 형성된 영역과 같은 영역의 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (C)매입층에서 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (C) 매입층의 합계체적(Ⅴ1)과, 요철을 갖는 기판의 요부 공간의 체적(Ⅴ2)의 비 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)가 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)=1 내지 2의 범위인 것을 특징으로 하는 형광체 패턴의 제조법.
  60. 제13항 또는 14항에 있어서, 요철을 가진 기판상의 요철이 형성된 영역과 같은 영역의 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (C)매입층에서 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (C) 매입층의 합계합계 체적(Ⅴ1)과, 요철을 갖는 기판의 요부 공간의 체적(Ⅴ2)의 비 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)가 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)=1 내지 2의 범위인 것을 특징으로 하는 형광체 패턴의 제조법.
  61. 제15항에 있어서, 요철을 가진 기판상의 요철이 형성된 영역과 같은 영역의 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (C)매입층에서 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (C) 매입층의 합계합계 체적(Ⅴ1)과, 요철을 갖는 기판의 요부 공간의 체적(Ⅴ2)의 비 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)가 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)=1 내지 2의 범위인 것을 특징으로 하는 형광체 패턴의 제조법.
  62. 제12항에 있어서, 요철을 가진 기판상의 요철이 형성된 영역과 같은 영역의 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (C)매입층에서 (A) 형광체를 함유하는 감광성 수지 조성물층 및 (C) 매입층의 합계합계 체적(Ⅴ1)과, 요철을 갖는 기판의 요부 공간의 체적(Ⅴ2)의 비 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)가 (Ⅴ1)/(Ⅴ2)=1 내지 2의 범위인 것을 특징으로 하는 감광성 엘리먼트.
  63. 제1항에 기재한 형광체층을 배리어 리브를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널용 기판상에 라미네이트하고, 플라즈마 디스플레이 패널용 기판의 표면상에 감광성 필름의 형광체층을 이행하여 패턴상으로 노광하고 현상한 후, 소성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 배면판의 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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