KR960029824A - 수차보정 광학계 및 이 광학계를 사용한 정렬 장치 - Google Patents

수차보정 광학계 및 이 광학계를 사용한 정렬 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR960029824A
KR960029824A KR1019960000941A KR19960000941A KR960029824A KR 960029824 A KR960029824 A KR 960029824A KR 1019960000941 A KR1019960000941 A KR 1019960000941A KR 19960000941 A KR19960000941 A KR 19960000941A KR 960029824 A KR960029824 A KR 960029824A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
optical system
aberration
image
correcting
pattern
Prior art date
Application number
KR1019960000941A
Other languages
English (en)
Inventor
아야코 수가야
마사히로 나카가와
타다시 나가야마
Original Assignee
오노 시게오
가부시끼가이샤 니콘
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP00385695A external-priority patent/JP3611054B2/ja
Priority claimed from JP7222677A external-priority patent/JPH0949781A/ja
Priority claimed from JP7303932A external-priority patent/JPH09127409A/ja
Application filed by 오노 시게오, 가부시끼가이샤 니콘 filed Critical 오노 시게오
Publication of KR960029824A publication Critical patent/KR960029824A/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70591—Testing optical components
    • G03F7/706—Aberration measurement
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605—Workpiece metrology
    • G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
    • G03F7/70633—Overlay, i.e. relative alignment between patterns printed by separate exposures in different layers, or in the same layer in multiple exposures or stitching
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605—Workpiece metrology
    • G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
    • G03F7/70641—Focus
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

본 발명은 수차 보정할 광학계에 의해 형성된 복수의 촛점 조건 하의 영상에 기초하여, 즉 복수의 촛점 일탈 조건하의 영상을 사용하여 수차 보정할 광학계의 광학 조절 및 수차 조건 중의 적어도 하나를 특정화하기 위해 영상간의 비대칭성의 변화 및 위치 변화 경향을 산츨하는 수차 보정 장치 및 방법. 수사 보정 장치를 제공하는 노광 장치 및 중첩 정확성 측정 장치에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 노광 장치에 적용할 수 있는 정렬 장치에 적합한 결상 광학계에 관한 것이다. 이 결상 광학계는 결상 광학계에서 비대칭 수차 또는 대칭 수차를 의도적으로 발생시키는 보정 광학계 및 결상 광학계에서 비대칭 수사 또는 대칭 수차를 제거하도록 보정 광학계를 편심화시키는 편심 기구로 이루어진다.

Description

수차보정 광학계 및 이 광학계를 사용한 정렬 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 주 광선이 전체 시스템의 광축으로부터 이탈하는 수차보정할 광학계의 제1광학 조절 조건(텔레센트리시트)을 도시하는 도면, 제6도는 본 발명에 따르는 광학계의 수차보정 방법의 제1 및 제2실시예를 설명하는 플로우 챠트, 제12도는 본 발명에 따르는 광학계의 수차보정 방법의 제3실시예를 설명하는 플로우 챠트.

Claims (90)

  1. 수차 보정에 사용되는 광학계의 수차 조건 및 광학 조절 조건 중의 적어도 하나를 특정하고, 제1표면위의 패턴 영상을 제2표면으로 투영하는 데에 사용하는 수차 보정 장치에 있어서, 상기 제2표면 위에 형성된 상기 제1표면 위의 패턴 영상을 영상의 최상의 조건으로부터 소정 촛점 일탈량 만큼 촛점 일탈시키는 촛점 일탈 기구; 소정의 촛점 조건하에서 상기 제2표면 위에 형성된 영상을 검출하는 검출 장치; 및 서로 상이한 촛점 조건하에서 상기 제2표면 위에 형성된 복수의 영상의 각각의 위치에 해당하는 정보에 기초하여 소정 촛점 일탈 범위 내에서 상기 제2표면 위의 영상 위치의 변화를 산출하는 수차 보정 유니트로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 수차 보정 유니트가 서로 상이한 적어도 세 종류의 촛점 조건 하에서 상기 제2표면 위의 상기 영상의 각각의 위치에 해당하는 정보에 기초하여 촛점 일탈량과 영상 위치 사이의 관계를 나타내는 측정선을 산출하는 산출 장치를 포함함을 특징으로 하는 수차 보정 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 수차 보정 유니트가 서로 이상한 형태를 갖는 상기 제1표면 상에서 복수의 패턴 각각에 대해서 상기 제2표면 상에서의 영상 위치의 변화를 산출하는 단계; 및 각 패턴 사이의 상기 제2표면상의 영상 위치의 변화의 차이에 기초하여 수차 보정할 상기 광학계의 수차 조건 및 광학 조절 조건을 특정화하는 단계로 수행되는 산출 장치를 포함함을 특징으로 하는 수차 보정 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 촛점 일탈 기구가 수차 보정할 상기 광학계의 광축을 따라서 상기 제1표면, 수차 보정할 상기 광학계, 측정할 상기 광학계의 광학 소자 중에서 적어도 하나 및 상기 검출 장치 위에서 적어도 하나의 패턴을 이동시킴을 특징으로 하는 수자 보정 장치.
  5. 제1항에 있어서, 추가로 상기 수차 보정 장치의 수차 보정 감도를 제어하는 감도 제어 기구로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 장치.
  6. 소정 패턴이 소정 파장을 갖는 노광광으로 형성되는 마스크를 조명하는 조명 광학계; 상기 마스크 위의 패턴 영상을 감광성 기판 위로 전이시키는 투영 광학계; 상기 투영 광학계의 수차 조건 및 상기 투영 광학계 및 상기 조명 광학계의 각 광학 조절 조건을 특정하는 제1항에 따르는 수차 보정 장치; 상기 수차 보정 장치에 의해 검출된 상기 투영 광학계의 수차 조건에 기초하여 상기 투영 광학계의 수차를 보정하는 수차 보정 기구; 및 상기 수차 보정 장치에 의해 특정화된 상기 조명 광학계 및 상기 투영 광학계의 각 광학 조절 조건에 기초하여 상기 조명 광학계 및 상기 투영 광학계의 광학 조절을 수행하는 광학 조절 기구로 이루어짐을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  7. 소정 패턴이 소정 파장을 갖는 노광광으로 형성되는 마스크를 조명하는 조명 광학계; 상기 마스크 위의 패턴 영상을 감광성 기판위로 전이시키는 투영 광학계; 상기 감광성 기판의 위치를 결정하고, 상기 감광성 기판 위에 형성된 정렬 표지를 조명하는 표지 조명 광학계 및 상기 정렬 표지로부터의 빛을 검출하는 표지 검출 광학계로 이루어진 정렬 장치; 상기 표지 검출 광학계의 수차 조건 및 상기 표지 조명 광학계 및 상기 표지 검출 광학계의 각 광학 조절 조건을 특정하는 제1항에 따르는 수차 보정 장치; 상기 수차 보정 장치에 의해 검출된 상기 표지 검출 광학계의 수차 조건에 기초하여 상기 표지 검출 광할계의 수차를 보정하는 수차 보정 기구; 및 상기 수차 보정 장치에 의해 특정화된 상기 조명 광학계 및 상기 표지 검출 광학계의 각 광학 조걸 조건에 기초하여 상기 표지 조명 광학계 및 상기 표지 검출 광학계의 광학 조절을 수행하는 광학 조절 기구로 이루어짐을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  8. 소정 파장을 갖는 노광광으로 노광되는 감광성 기판위에 형성된 패턴의 중첩 정확도를 측정하는 중첩 정확도 측정 장치에 있어서, 상기 감광성 기판 위에 형성된 패턴을 조명하는 패턴 조명 광학계; 상기 패턴으로부터의 빛을 검출하는 패턴 검출 광학게; 상기 패턴 검출 광학계의 수차 조건 상기 패턴 조명 광학계 및 상기 패턴 검출 광학계의 각 광학 조절 조건을 특정하는 제1항에 따르는 수차 보정 장치; 상기 수차 보정 장치에 의해 검출된 상기 패턴 검출 광학계의 수차 조건에 기초하여 상기 패턴 검출 광학계의 수차를 보정하는 수차 보정 기구; 및 상기 수차 보정 장치에 의해 특정화된 상기 패턴 조명 광학계 및 상기 패턴 검출 광학계의 각 광학 조절 조건에 기초하여, 상기 패턴 조명 광학계 및 상기 패턴 검출 광학계의 광학 조절을 수행하는 광학 조절 기구로 이루어짐을 특징으로 하는 중첩 정확도 측정 장치.
  9. 소정 패턴이 소정 파장을 갖는 노광광으로 형성되는 마스크를 조명하는 조명 광학계; 상기 마스크 위의 패턴 영상을 감광성 기판 위로 전이시키는 투영 광학계; 및 제8항에 따르는 중첩 정확도 측정 장치로 이루어짐을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  10. 제1표면 위에 형성된 패턴의 영상을 제2표면에 투영시키는 시스템을 포함하는, 수차 보정되는 광학계의 수차 조건 및 광학 조절 조건 중의 적어도 하나를 특정하는 수차 보정 방법에 있어서, 상기 제2표면 위에 형성되어야 하는, 상기 제1표면 위의 패턴 영상이 상기 제2표면 위의 최상 촛점 조건으로부터 소정 촛점 일탈량만큼 촛점 일탈하는 단계; 소정 촛점 조건 하에서 상기 제2표면 위에 형성된 영상을 검출하는 단계; 및 서로 다른 촛점 조건하에서 상기 제2표면 위에 형성된 복수의 영상의 각 위치에 관한 정보에 기초하여, 소정의 촛점 일탈 범위 내에서 상기 제2표면 위에서 영상 위치의 변화를 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 방법이 서로 상이한 적어도 세 종류의 촛점 조건 하에서 상기 제2표면 위의 상기 영상의 각각의 위치에 해당하는 정보에 기초하여, 촛점 일탈량과 해당 영상 위치 사이의 관계를 나타내는 측정선을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 방법이 상기 측정선의 곡률을 최대화시키는 촛점 일탈 범위 내에서 상기 측정선 위의 정점을 특정화시키는 단계; 및 상기 측정선의 정점을 통과하는 접선의 기울기에 기초하여, 수차 보정되는 상기 광학계의 광학 조절 조건의 조절 폭을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  13. 제11항에 있어서, 상기 방법이 상기 측정선의 곡률이 최대화되는 촛점 일탈 범위 내에서 상기 측정선 위에 정점을 특정화시키는 단계; 상기 측정선 위의 정점을 통과한 상기 측정선과 접선 사이의 최대 간격을 산출하는 단계; 및 구해진 최대 간격에 기초하여, 수차 보정할 상기 광학계의 비대칭 수차량을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  14. 제11항에 있어서, 상기 방법이 상기 측정선에 근접하는 근접선을 산출하는 단계; 및 상기 측정선의 상기 근접선의 기울기에 기초하여, 수차보정할 상기 광학계에서 광학 조절 조건의 조절폭을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차보정 방법.
  15. 제11항에 있어서, 상기 방법이 상기 측정선의 곡률을 최대화하는 촛점 일탈 범위 내에서 상기 측정선상에서 정점을 특성화시키는 단계; 상기 측정선에 근접하는 근접선을 산출하는 단계; 및 상기 측정선 상에서 상기 근접선과 정점의 사이의 거리에 기초하여, 수차보정할 상기 광학계에서 비대칭 수차량을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차보정 방법.
  16. 제11항에 있어서, 상기 방법이 상기 측정선의 곡률이 최대화되는 촛점 일탈 범위 내에서 상기 측정선 위에 정점을 특정화시키는 단계; 및 상기 측정선 위에 정점에서의 촛점 일탈량에 기초하여, 수차 보정할 상기 광학계의 대칭 수차량을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  17. 제10항에 있어서, 상기 방법이 상기 제1표면, 수차 보정할 상기 광학계, 수차 보정할 상기 광학계의 광학 소자 중에서 적어도 하나 및 상기 제2표면 중의 적어도 하나를 수차 보정할 상기 광학계의 광축을 따라서 이동시킴으로써, 영상이 최상 촛점 조건으로부터 상기 제2표면 위에 형성되도록 소정 촛점 일탈량 만큼 일탈시킴을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  18. 제10항에 있어서, 상기 방법이 서로 상이한 형태를 갖는 상기 제1표면 위의 복수의 패턴 각각에 대해서 상기 제2표면 위의 영상 위치의 변화를 산출하는 단계; 및 각 패턴 간의 상기 제2표면 위의 영상 위치의 변화의 차이에 기초하여 수차 보정할 상기 광학계의 수차 조건 및 광학 조절 조건을 특정화하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  19. 소정의 표면 위헤서 공급된 광속을 수렴하는 적어도 하나의 시스템을 포함하는 수차 보정할 광학계의 수차 조건 및 광학 조절 조건 중의 적어도 하나를 특성화하는 수차 보정 장치에 있어서, 수차 보정할 상기 광학계에 의해 형성된 상기 광속의 수렴 광속을 검출 표면 위에서 검출하는 검출 장치; 상기 수렴 광속의 수렴점을 상기 검출 장치의 검출 표면에 대하여 소정 촛점 일탈량만큼 촛점 일탈시키는 촛점 일탈 기구; 및 서로 상이한 촛점 조건하에서 형성된 상기 검출 표면 위에서 상기 수렴된 복수의 광속의 각각의 위치와 관련된 정보에 기초하여 소정 촛점 일탈 범위 내에서 상기 검출 표면에서의 수렴 강속의 위치 변화를 산출하는 수차 보정 유니트로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 장치.
  20. 제19항에 있어서, 상기 수차 보정 유니트가 서로 상이한 적어도 3종류의 촛점 조건 하에서 상기 제2표면 위의 수렴된 광속의 각각의 위치에 관한 정보에 기초하여 그 해당하는 상기 수렴 광속의 위치 및 촛점 일탈량 사이의 관계를 나타내는 측정선을 산출하는 산출 장치를 포함함을 특징으로 하는 수차 보정 장치.
  21. 제19항에 있어서, 상기 수차 보정 유니트가 상기 검출 표면 위에서 수차보정할 상기 광학계에 공급되고 서로 상이한 단면 형태를 갖는 상기 복수의 광속 각각에 대해서 상기 검출 표면 상의 수렴 광속의 위치 변화를 산출하는 단계; 및 각 광속 간의 상기 검출 표면 상에서 수렴된 광속의 위치 변화의 차이에 기초하여 수차보정할 상기 광학계의 수차 조건 및 광학 조절 조건을 특정화시키는 단계를 수행하는 산출 장치를 포함함을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  22. 제19항에 있어서, 상기 촛점 일탈 기구가 수차 보정할 상기 광학계의 광축을 따라서 상기 제1표면, 수차 보정할 상기 광학계 수차보정할 상기 광학계의 광학 소자 중에서 적어도 하나 및 상기 검출 장치로 상기 광속을 제공하는 적어도 하나의 광원을 이동시키는 제어 시스템을 포함함을 특징으로 하는 수차 보정 장치.
  23. 제19항에 있어서, 추가로 상기 수차 보정 장치의 수차 보정 감도를 제어하는 감도 제어 기구로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 장치.
  24. 소정 패턴이 소정 파장을 갖는 노광광으로 형성되는 마스크를 조명하는 조명 광학계; 상기 마스크 위의 패턴영상을 감광성 기판 위로 전이시키는 투영 광학계; 상기 투영 광학계의 수차 조건 및 상기 투영 광학계 및 상기 조명 광학계의 각 광학 조절 조건을 특정하는 제19항에 따르는 수차 보정 장치; 상기 수차 보정 장치에 의해 검출된 상기 투영 광학계의 수차 조건에 기초하여 상기 투영 광학계의 수차를 보정하는 수차 보정 기구; 및 상기 수차 보정 장치에 의해 특정화된 상기 조명 광학계 및 상기 투영 광학게의 각 광학 조절 조건에 기초하여 상기 조명 광학계 및 상기 투영 광학계의 광학 조절을 수행하는 광학 조절 기구로 이루어짐을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  25. 소정의 패턴이 소정 파장을 갖는 노광광으로 형성되는 마스크를 조명하는 조명 광학계; 상기 마스크 위의 패턴 영상을 감광성 기판위로 전이시키는 투영 광학계; 상기 감광성 기판의 위치를 결정하고, 상기 감광성 기판 위에 형성된 정렬 표지를 조명하는 표지 조명 광학계 및 상기 정렬 표지로부터의 빛을 검출하는 표지 검출 광학계로 이루어진 정렬 장치; 상기 표지 검출 광학계의 수차 조건 및 상기 조명 광학계 및 상기 표지 검출 광학계의 각 광학 조절 조건을 특정하는 제19항에 따르는 수차 보정 장치; 상기 수차 보정 장치에 의해 검출된 상기 표지 검출 광학계의 수차 조건에 기초하여 상기 표지 검출 광학계의 수차를 보정하는 수차 보정 기구; 및 상기 수차 보정 장치에 의해 특정화 된 상기 조명 광학계 및 상기 표지 검출 광학계의 각 광학 조절 조건에 기초하여 상기 조명 광학계 및 상기 표지 검출 광학계의 광학 조절을 수행하는 광학 조절 기구로 이루어짐을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  26. 소정 파장을 갖는 노광광으로 노광되는 감광성 기판 위에 형성된 패턴의 중첩 정확도를 측정하는 중첩 정확도측정 장치에 있어서, 상기 감광성 기판 위에 형성된 패턴을 조명하는 패턴 조명 광학계; 상기 패턴으로부터의 빛을 검출하는 패턴 검출 광학계; 싱기 패턴 검출 광학계의 수차 조건 상기 패턴 조명 광학계 및 상기 패턴 검출 광학계의 각 광학 조절 조건을 특정하는 제19항에 따르는 수차 보정 장치; 상기 수차 보정 장치에 의해 검출된 상기 패턴 검출 광학계의 수차 조건에 기초하여 상기 패턴 검출 광학계의 수차를 보정하는 수차 보정 기구; 및 상기 수차 보정 장치에 의해 특정화된 상기 패턴 조명 광학계 및 상기 패턴 검출 광학계의 각 광학 조절 조건에 기초하여, 상기 패턴 조명 광학계 및 상기 패턴 검출 광학계의 광학 조절을 수행하는 광학 조절 기구로 이루어짐을 특징으로 하는 중첩 정확도 측정 장치.
  27. 소정 패턴이 소정 파장을 갖는 노광광으로 형성되는 마스크를 조명하는 조명 광학계; 상기 마스크 위의 패턴 영상을 감광성 기판 위로 전이시키는 투영 광학계; 및 제26항에 따르는 중첩 정확도 측정 장치로 이루어짐을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  28. 소정의 표면 위에 제공된 광속을 수렴하는 적어도 하나의 시스템을 포함하며, 수차 보정할 광학계의 수차 조건 및 광학 조절 조건 중의 적어도 하나를 특정하는 수차 보정 방법에 있어서, 상기 수렴 광속의 수렴점을 수차 보정할 상기 광학계에 의해 형성되는 상기 광속의 수렴 광속을 검출하는 소정의 검출 표면에 대해서 소정 촛점 일탈량 만큼 촛점 일탈시키는 단계; 서로 상이한 촛점 조건 하에서 상기 복수의 수렴 광속을 상기 검출 표면 위에서 검출하는 단계; 및 상기 검출 표면 위에서 복수의 상기수렴 광속의 각 위치에 관한 정보에 기초하여, 서로 상이한 촛점 조건하에서 소정의 촛점 일탈 범위 내에서 상기 검출 표면 위에서 수렴 광속의 위치의 변화를 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  29. 제24항에 있어서, 상기 방법이 서로 상이한 적어도 세 종류의 촛점 조건 하에서 상기 촛점 표면 위의 상기 수렴 광속의 각각의 위치에 해당하는 정보에 기초하여, 그에 해당하는 촛점 일탈량과 수렴 광속의 위치 사이의 관계를 나타내는 측정선을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  30. 제29항에 있어서, 상기 방법이 상기 측정선의 곡률을 최대화시키는 촛점 일탈 범위 내에서 상기 측정선위의 정점을 특정화시키는 단계; 및 상기 측정선의 정점을 통과하는 접선의 기울기에 기초하여, 수차 보정할 상기 광학계의 광학 조절 조건의 조절 폭을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  31. 제29항에 있어서, 상기 방법이 상기 측정선의 곡률이 최대화되는 촛점 일탈 범위 내에서 상기 측정선위에 정점을 특정화시키는 단계; 상기 측정선 위의 정점을 통과한 상기 측정선과 접선 사이의 최대 간격을 산출하는 단계; 및 구해진 최대 간격에 기초하여, 수차 보정할 상기 광학계의 비대칭 수차량을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  32. 제29항에 있어서, 상기 측정선에 근접하는 근접선을 산출하는 단계; 및 상기 측정선을 기울기에 기초하여, 수차 보정할 상기 광학계에서 광학 조절 조건의 조절폭을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  33. 제29도에서, 상기 측정선의 곡률의 최대화되는 촛점 일탈 범위 내에서 상기 측정선 상의 정점을 특정화시키는 단계; 상기 측정선에 근접하는 근접선을 산출하는 단계; 및 상기 측정선에서 근접선과 정점 사이의 거리에 기초하여, 수차 보정할 상기 광학계의 비대칭 수차량을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  34. 제29항에 있어서, 상기 방법이 상기 측정선의 곡률이 최대화되는 촛점 일탈 범위 내에서 상기 측정선 위에 점점을 특정화시키는 단계; 및 산기 측정선 위의 점점에서의 촛점 일탈량에 기초하여, 수차 보정할 상기 광학계의 대칭 수차량을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  35. 제28항에 있어서, 상기 방법이 제1표면,수차 보정할 상기 광학계, 수차보정할 상기 광학계의 광학 소자 중에서 적어도 하나 및 상기 제2표면 중의 적어도 하나를 수차 보정할 상기 광학계의 광축을 따라서 이동시킴으로써, 상기 수렴 광속이 최상 촛점 조건으로부터 상기 검출 표면에 대해서 소정 촛점 일탈량 만큼 촛점 일탈시킴을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  36. 제28항에 있어서, 상기 방법이 수차 보정할 상기 광학계로 서로 상이한 단면 형태를 갖는 복수의 광속을 공급하는 단계; 상기 검출 표면 위의 상기 복수의 광속 각각에 대해서 상기 검출 표면 위의 수렴 광속의 위치 변화를 산출하는 단계; 및 각 광속 간의 상기 검출 표면 위에서의 수렴 광속의 위치 변화의 차이에 기초하여 수차 보정할 상기 광학계의 수차 조건 및 광학 조절 조건을 특정화하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  37. 수차 보정할 광학계의 수차 조건 및 광학 조절 조건 중의 적어도 하나를 특성화하는 수차 보정 장치에 있어서, 수차 보정할 상기 광학계에 의해 형성된 상 패턴의 영상을 소정의 검출 표면 위에서 검출하는 검출 장치; 상기 검출 장치의 검출 표면 위에 형성되는 영상을 최적 촛점 조건으로부터 소정 촛점 일탈량 만큼 촛점 일탈시키는 촛점 일탈 기구; 및 서로 상이한 촛점 조건하에서 상기 검출 표면 위에 형성된 복수의 상기 영상의 각각의 비대칭 특성에 관한 정보에 기초하여 소정 촛점 일탈 범위 내에서 상기 검출 표면에서의 영상 비대칭성의 변화를 산출하는 수차 보정 유니트로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 장치.
  38. 제37항에 있어서, 상기 수차 보정 유니트가 상기 검출 표면 위에서 소정 측정 방향으로 배열된 각 측정점에 대해서, 상기 측정 방향과 상이한 방향으로 배열된 각각의 측정점에서 측정된 상기 상 패턴의 영상의 광도에 해당하는 각각의 신호 V의 집적 신호인 신호 ∑V를 검출하는 신호 프로세서 및 상기 측정 방향과 상기 집적 신호 사이의 관계에 기초하여 다음 식에 따르는 상기 검출 표면 위에 형성된 영상의 비대칭 지수 β를 산출하는 산출 장치를 포함함을 특징으로 하는 수차 보정 장치 :
    상기 식에서, n : 상기 측정 방향에 대한 상기 집적 신호의 주기수; ViL: 상기 측정 방향에 대해 구한 상기 집적 신호 제i기간에서의 제1최소 신호치; ViR: 상기 측정 방향에 대해 구한 상기 집적 신호 제i기간에서의 마지막 최소 신호치; Vmax: 상기 측정 방향에 대해 전체 측정 영역에서의 상기 집적 신호의 최대값; 및 Vmin: 상기 측정 방향에 대해 전체 측정 영역에서의 상기 집적 신호의 최소값.
  39. 제37항에 있어서, 상기 수차 보정 유니트가 서로 상이한 적어도 두 종류의 촛점 조건하에서 상기 검출 표면 위에서 영상의 각각의 비대칭 특성에 관한 정보에 기초하여 촛점 일탈량과 그에 해당하는 영상의 비대칭 지수사이의 관계를 나타내는 측정선을 산출하는 산출 수단을 포함함을 특징으로 하는 수차 보정 장치.
  40. 제37항에 있어서, 상기 수차 보정 유니트가 서로 상이한 형태를 갖는 복수의 영상 패턴 각각에 대해서 소정 촛점 일탈 범위 상에서 상기 검출 표면 상의 영상 비대칭의 변화를 산출하는 단계; 및 상기 영상 패턴 상이의 상기 검출 표면 상에서 영상 비대칭의 변화의 차이에 기초하여, 수차보정할 상기 광학계의 수차 조건 및 광학 조절 조건을 특정화시키는 단계를 수행하는 산출 장치를 포함함을 특징으로하는 수차 보정 방법.
  41. 제37항에 있어서, 상기 촛점 일탈 기구가 수차 보정할 상기 광학계의 광축을 따라서 상기 적어도 하나의 상 표면, 수차 보정할 상기 광학계, 수차보정할 상기 광학계의 광학 소자 중에서 적어도 하나 및 상기 검출 장치를 이동시키는 제어 시스템을 포함함을 특징으로 하는 수차 보정 장치.
  42. 제37항에 있어서, 추가로 상기 수차 보정 장치의 수차 보정 감도를 제어하는 감도 제어 기구로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 장치.
  43. 소정 패턴이 소정 파장을 갖는 노광광으로 형성되는 마스크를 조명하는 조명 광학계; 상기 마스크 위의 패턴 영상을 감광성 기판 위로 전이시키는 투영 광학계; 상기 투영 광학계의 수차 조건 및 상기 투영 광학계 및 상기 조명 광학계의 각 광학 조절 조건을 특정하는 제37항에 따르는 수차 보정 장치; 상기 수차 보정 장치에 의해 검출된 상기 투영 광학계의 수차 조건에 기초하여 상기 투영 광학계의 수차를 보정하는 수차 보정 기구; 및 상기 수차 보정 장치에 의해 특정화된 상기 조명 광학계 및 상기 투영 광학계의 각 광학 조절 조건에 기초하여 상기 조명 광학계 및 상기 투영 광학계의 광학 조절을 수행하는 광학 조절 기구로 이루어짐을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  44. 소정 패턴이 소정 파장을 갖는 노광광으로 형성되는 마스크를 조명하는 조명 광학계; 상기 마스크 위의 패턴 영상을 감광성 기판 위로 전이시키는 투영 광학계; 상기 감광성 기판의 위치를 결정하고, 상기 감광성 기판 위에 형성된 정렬 표지를 조명하는 표지 조명 광학계 및 상기 정렬 포지로부터의 빛을 검출하는 표지 검출 광학계로 이루어진 정렬 장치; 상기 표지 검출 광학계의 수차 조건 및 상기 조명 광학계 및 상기 표지 검출 광학계의 각 광학 조절 조건을 특정하는 제37항에 따르는 수차 보정 장치; 상기 수차 보정 장치에 의해 검출된 상기 표지 검출 광학계의 수차 조건에 기초하여 상기 표지 검출 광학계의 수차를 보정하는 수차 보정 기구; 및 상기 수차 보정 장치에 의해 특정화된 상기 조명 광학계 및 상기 표지 검출 광학계의 각 광학 조절 조건에 기초하여 상기 조명 광학계 및 상기 표지 감출 광학계의 광학 조절을 수행하는 광학 조절 기구로 이루어짐을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  45. 소정 파장을 갖는 노광광으로 노광되는 감광성 기판 위에 형성된 패턴의 중첩 정확도를 측정하는 중첩 정확도 측정 장치에 있어서, 상기 감광성 기판 위에 형성된 패턴을 조명하는 패턴 조명 광학계; 상기 패턴으로부터의 빛을 검출하는 패턴 검출 광학계; 상기 패턴 검출 광학계의 수차 조건 상기 패턴 조명 광학계 및 상기 패턴 검출 광학계의 각 광학 조절 조건을 특정하는 제37항에 따르는 수차 보정 장치; 상기 수차 보정 장치에 의해 검출된 상기 패턴 검출 광학계의 수차 조건에 기초하여 상기 패턴 검출 광학계의 수차를 보정하는 수차 보정 기구; 및 상기 수차 보정 장치에 의해 특정화된 상기 패턴 조명 광학계 및 상기 패턴 검출 광학계의 각 광학 조절 조건에 기초하여, 상기 패턴 조명 광학계 및 상기 패턴 검출 광학계의 광학 조절을 수행하는 광학 조절 기구로 이루어짐을 특징으로 하는 중첩 정확도 측정 장치.
  46. 소정 패턴이 소정 파장을 갖는 노광광으로 형성되는 마스크를 조명하는 조명 광학계; 상기 마스크 위의 패턴 영상을 감광성 기판 위로 전이시키는 투명 광학계; 및 제45항에 따르는 중첩 정확도 측정 장치로 이루어짐을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  47. 수차 보정할 광학계의 수차 조건 및 광학 조절 조건 중의 적어도 하나를 특정하는 수차 보정 방법에 있어서, 수차 보정할 상기 광학계에 의해 소정 검출 표면 위에 형성되는 소정 표면 위의 상 패턴의 영상을 상기 제2표면 위의 영상의 최상 촛점 조건으로부터 소정 촛점 일탈량 만큼 일탈시키는 단계; 소정 촛점 조건 하에서 상기 검출 표면 위에 형성된 영상을 검출하는 단계; 및 서로 상이한 촛점 조건 하에서 상기 검출 표면 위에 형성된 복수의 영상의 각 위치에 관한 정보에 기초하여, 소정의 촛점 일탈 범위 내에서 상기 검출 표면 위에서 영상 비대칭의 변화를 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  48. 제47항에 있어서, 상기 방법이 상기 검출 표면 위에서 소정 측정 방향으로 배열된 각 측정점에 대해서, 상기 측정 방향과 상이한 방향으로 배열된 각각의 측정점에서 측정된 상기 상 패턴의 영상의 광도에 해당하는 각각의 신호 V의 직접 신호인 신호 ∑V를 측정하는 단계; 및 상기 측정 방향과 상기 집적 신호 사이의 관계에 기초하여 다음 식에 따르는 상기 검출 표면 위에 형성된 영상의 비대칭 지수 β를 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
    상기 식에서, n : 상기 측정 방향에 대한 상기 집적 신호의 주기수; ViL: 상기 측정 방향에 대해 구한 상기 집적 신호 제i기간에서의 제1최소 신호치; ViR: 상기 측정 방향에 대해 구한 상기 집적 신호 제i기간에서의 마지막 최소 신호치; Vmax: 상기 측정 방향에 대해 전체 측정 영역에서의 상기 집적 신호의 최대값; 및 Vmin: 상기 측정 방향에 대해 전체 측정 영역에서의 상기 집적 신호의 최소값.
  49. 제47항에 있어서, 수차 보정 방법이 서로 상이한 적어도 세 종류의 촛점 조건 하에서 상기 촛점 표면 위의 각 비대칭 특성에 관한 정보에 기초하여, 그에 해당하는 영상의 비대칭 지수 및 촛점 일탈량 사이의 관계를 나타내는 측정선을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  50. 제49항에 있어서, 상기 방법이 상기 측정선의 돌기부에서의 정점을 촛점 일탈 범위 내에서 특정화시키는단계; 및 상기 측정선의 정점을 통과하는 접선의 기울기에 기초하여, 수차 보정할 상기 광학계의 비대칭 수차량을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  51. 제49항에 있어서, 상기 방법이 상기 측정선의 돌기부에서의 정점을 촛점 일탈 범위 내에서 특정화시키는단계; 및 상기 측정선에서의 비대칭 지수와 최상 촛점 조건 하에서의 비대칭 지수의 차이에 기초하여, 수차 보정할 상기 광학계의 대칭 수차량을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  52. 제49항에 있어서, 상기 측정선의 기울기에 기초하여, 수차보정할 상기 광학계의 비대칭 수차량을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  53. 제49항에 있어서, 최상 촛점 조건 하에서 상기 측정선의 비대칭 지수에 기초하여, 수차보정할 상기 광학계의 대칭 수차량을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  54. 제49항에 있어서, 상기 방법이 상기 측정선의 돌기부에서의 정점을 촛점 일탈 범위 내에서 특정화시키는 단계; 및 상기 측정선에 대하여 상기 측정선 상의 점점을 통과하는 접선의 각도에 기초하여, 수차 보정할 상기 광학계의 광학 조절 조건의 폭을 산출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  55. 제47항에 있어서, 상기 방법이 상기 상 패턴, 수차 보정할 상기 광학계, 수차보정할 상기 광학계의 광학 소자 중에서 적어도 하나 및 상기 검출 표면 중의 적어도 하나를 수차 보정할 상기 광학계의 광축을 따라서 이동시킴으로써, 상기 검출 표면 위에서 수차 보정할 영상을 상기 소정 촛점 일탈량 만큼 최적 촛점 조건으로부터 촛점 일탈시킴을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  56. 제47항에 있어서, 상기 방법이 서로 상이한 형태를 갖는 상 패턴의 복수의 영상 각각에 대해서 소정 촛점 일탈 범위에서의 상기 검출 표면 위에서 영상 비대칭의 변화를 산출하는 단계; 및 상기 상 패턴 간의 상기 검출 표면 위에서의 영상 비대칭성에서의 변화의 차이에 기초하여 수차 보정할 상기 광학계의 수차 조건 및 광학 조절 조건을 특정화하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 수차 보정 방법.
  57. 제1표면으로부터 빛을 수렴하는 대물 광학계; 상기 1표면의 영상을 제2표면 위에 형성시키기 위해 상기 대물 광학계를 통과하는 빛을 수렴하고, 결상 광학계에서 소정량 비대칭 수차를 발생시키는 콘덴서 광학계; 상기 대물 광학계와 상기 제2표면 사이에 장착되며, 상기 콘덴서 광학계의 광축에 대해 편심이 되도록 조절되고, 상기 콘덴서 광학계에 의해 발생된 비대칭 수차를 상쇄시키는 비대칭 수차를 발생시키는 보정 광학 및 상기 보정 광학계를 상기 콘덴서 광학계의 광출에 대해 편심으로 하는 편심 기구로 이루어짐을 특징으로 하며, 상기 결상 광학계의 전체 시스템에서 비대칭 수차를 감소시키기 위해, 상기 편심 기구에 의해 편심으로 된 상기 보정 광학계가 상기 대물 광학계에 의해 발생되는 비대칭 수차를 상쇄시키는 비대칭 수차를 발생시킴을 특징으로 하는 결상 광학계.
  58. 제57항에 있어서, 상기 결상 광학계에서 상기 콘덴서 광학계 및 상기 보정 광학계 사이의 공간이 텔레센트릭함을 특징으로 하는 결상 광학계.
  59. 제57항에 있어서, 상기 보정 광학계가 실질직으로 등배 적립 촛점일탈 광학계임을 특징으로 하는 결상 광학계.
  60. 제57항에 있어서, 상기 콘덴서 광학계가 상기 대물 광학계 보다 긴 촛점 길이를 가짐을 특징으로 하는 결상 광학계.
  61. 소정의 파장을 갖는 노광광으로 노광되는 감광성 기판의 위치를 결정하는 정렬 장치에 있어서, 대물 광학계가 상기 감광성 기판 위에서 정렬 표지로부터의 빛을 수렴하고, 그 콘덴서 광학계는 소정 검출 표면 위에서 상기 정렬 표지의 영상을 형성시키기 위해 상기 대물 광학계를 통과하는 빛을 수렴하는 제57항에 따르는 결상 광학계; 상기 결상 광학계에 의해 상기 검출 표면 위에 형성된 상기 정렬 표지의 영상을 검출하는 상－픽업 장치; 및 상기 상－픽업 장치로부터의 신호 출력에 기초하여 상기 검출 표면 위의 영상 위치를 산출하는 영상 처리 시스템으로 이루어짐을 특징으로 하는 정렬 장치.
  62. 제61항에 있어서, 상기 결상 광학계에서 상기 콘덴서 광학계와 상기 보정 광학계 사이의 공간이 털레센트릭함을 특징으로 하는 정렬 장치.
  63. 제61항에 있어서, 상기 결상 광학계의 상기 보정 광학계가 실질적으로 등배 직립 촛점 일탈 광학계임을 특징으로 하는 정렬 장치.
  64. 제61항에 있어서, 상기 결상 광학계의 상기 콘덴서 광학계가 상기 결상 광학계의 상기 대물 광학계 보다 긴 촛점 길이를 가짐을 특징으로 하는 정렬 장치.
  65. 제1표면으로부터 빛을 수렴하는 대물 광학계; 상기 제1표면의 영상을 제2표면 위에 형성시키기 위해 상기 대물 광학계를 통과하는 빛을 수렴하고, 결상 광학계에서 소정량의 대칭 수차를 발생시키는 콘덴서 광학계; 상기 대물 광학계와 상기 제2표면 사이에 장착되며, 상기 콘덴서 광학계의 광축에 대해 편심이 되도록 조절되고, 상기 콘덴서 광학계에 의해 발생되는 대칭 수차를 상쇄시키는 대칭 수차를 발생시키는 보정 광학계; 및 상기 보정 광학계를 상기 콘덴서 광학계의 광축에 대해 편심으로 하는 편심 기구로 이루어짐을 특징으로 하며, 상기 결상 광학계의 전체 시스템에서 비대칭 수차를 감소시키기 위해, 상기 편심 기구에 의해 편심으로 된 상기 보정 광학계가 상기 대물 광학계에 의해 발생되는 대칭 수차를 상쇄시키는 대칭 수차를 발생시킴을 특징으로 하는 결상 광학계.
  66. 제65항에 있어서, 상기 결상 광학계의 상기 콘덴서 광학계와 상기 결상 광학계의 상기 보정 광학계 사이의 공간이 비－텔레센트릭함을 특징으로 하는 결상 광학계.
  67. 제65항에 있어서, 상기 결상 광학계의 상기 보정 광학계가 상기 결상 광학계에서 실질적으로 등배 직립 촛점일탈 광학계임을 특징으로 하는 결상 광학계.
  68. 제65항에 있어서, 상기 결상 광학계의 상기 콘덴서 광학계가 상기 대물 광학계 보다 긴 촛점 길이를 가짐을 특징으로 하는 결상 광학계.
  69. 소정의 파장을 갖는 노광광으로 노광되는 감광성 기판의 위치를 결정하는 정렬 장치에 있어서, 그 대물 광학계가 상기 감광성 기판 위에서 정렬 표지로부터의 빛을 수렴하고, 그 콘덴서 광학계는 소정 검출 표면 위에서 상기 정렬 표지의 영상을 형성시키기 위해 상기 대물 광학계를 통과하는 빛을 수렴하는 제65항에 따르는 결상 광학계; 상기 결상 광학계에 의해 상기 검출 표면 위에 형성된 상기 정렬 표지의 영상을 검출하는 상－픽업 장치; 및 상기 상－픽업 장치로부터의 신호 출력에 기초하여 상기 검출 표면 위의 영상 위치를 산출하는 영상 처리 시스템으로 이루어짐을 특징으로 하는 정렬 장치.
  70. 제69항에 있어서, 상기 결상 광학계의 상기 콘덴서 광학계와 상기 보정 광학계 사이의 공간이 비－텔레센트릭함을 특징으로 하는 정렬 장치.
  71. 제69항에 있어서, 상기 결상 광학계의 상기 보정 광학계가 실질적으로 등배 직립 촛점일탈 광학계임을 특징으로 하는 정렬 장치.
  72. 제69항에 있어서, 상기 결상 광학계의 상기 콘덴서 광학계가 상기 결상 광학계의 상기 대물 광학계 보다 긴 촛점 길이를 가짐을 특징으로 하는 정렬 장치.
  73. 제1표면의 영상을 제2표면 위에 형성시키기 위해 제1표면으로부터 빛을 수렴하는 제1결상 광학계; 상기 제1표면의 영상을 제3표면 위에 형성시키기 위해 상기 제2표면 위에 형성된 상기 제1표면의 영상으로부터의 빛을 수렴하고, 상기 광학계에서 소정량의 비대칭 수차를 발생시키는 제2결상 광학계; 상기 제2결상 광학계의 광로에 장착되고, 상기 제2결상 광학계의 광축에 대해 편심이 되도록 조절되며, 상기 제2결상 광학계에 의해 발생되는 비대칭 수차를 상쇄시키는 비대칭 수차를 발생시키는 보정 광학계; 및 상기 보정 광학계를 상기 제2결상 광학계의 광축에 대해 편심으로 만드는 편심 기구로 이루어지며, 상기 광학계의 전체 시스템의 비대칭 수차를 감소시키기 위해, 상기 편심 기구에 의해 편심이 된 상기 보정 광학계가 상기 제1결상 광학계에 의해 발생되는 비대칭 수차를 상쇄시키는 비대칭 수차를 발생시킴을 특징으로 하는 광학계.
  74. 제73항에 있어서, 상기 광학계에서 상기 제1결상 광학계가 확대 배율임을 특징으로 하는 광학계.
  75. 제73항에 있어서, 상기 광학계에서 상기 보정 광학계가 실질적으로 등배 직립 촛점 일탈 광학계이며, 보정 광학계가 상기 제2결상 광학계 내에서 광로안의 실질적으로 텔레센트릭한 공간에 장착됨을 특징으로 하는 광학계.
  76. 소정의 파장을 갖는 노광광으로 노광되는 감광성 기판의 위치를 결정하는 정렬 장치에 있어서, 그 제1결상 광학계가 상기 위치 결정 표지의 제1영역을 형성시키기 위해 상기 감광성 기판 위에서 정렬 표지로부터의 빛을 수렴하고, 그 제2결상 광학계가 소정 검출 표면 위에서 상기 정렬 표지의 제2영상을 형성시키기 위해 상기 제1영상으로부터의 빛을 수렴하는 제73항에 따르는 광학계; 상기 광학계에 의해 상기 검출 표면 위에 형성된 상기 정렬 표지의 제2영상을 검출하는 상－픽업 장치; 및 상기 상－픽업 장치로부터의 신호 출력에 기초하여 상기 검출 표면 위의 제2영상 위치를 산출하는 영상 처리 시스템으로 이루어짐을 특징으로 하는 정렬 장치.
  77. 제76항에 있어서, 상기 광학계의 상기 제1결상 광학계가 확대 배율을 가짐을 특징으로 하는 정렬 장치.
  78. 제76항에 있어서, 상기 광학계에서 상기 보정 광학계가 상기 제2결상 광학계 내의 광로에서 실질적으로 텔레센트릭 공간에 장착됨을 특징으로 하는 정렬 장치.
  79. 제1표면의 영상을 제2표면 위에 형성시키기 위해 제1표면으로부터 빛을 수렴하는 제1결상 광학계; 상기 제1표면의 영상을 제3표면 위에 형성시키기 위해 상기 제2표면 위에 형성된 상기 제1표면의 영상으로부터의 빛을 수렴하고, 상기 광학계에서 소정량의 대칭 수차를 발생시키는 제2결상 광학계; 상기 제2결상 광학계의 광로에 장착되고, 상기 제2결상 광학계의 광축에 대해 편심이 되도록 조절되며, 상기 제2결상 광학계에 의해 발생되는 대칭 수차를 상쇄시키는 대칭 수차를 발생시키는 보정 광학계; 및 상기 보정 광학계를 상기 제2결상 광학계의 광축에 대해 편심으로 만드는 편심 기구로 이루어지며, 상기 광학계의 전체 시스템의 비대칭 수차를 감소시키기 위해, 상기 편심 기구에 의해 편심이 된 상기 보정 광학계가 상기 제1결상 광학계에 의해 발생되는 대칭 수차를 상쇄시키는 대칭 수차를 발생시킴을 특징으로 하는 광학계.
  80. 제79항에 있어서, 상기 광학계에서 상기 제1결상 광학계가 확대 비율을 가짐을 특징으로 하는 광학계.
  81. 제79항에 있어서, 상기 광학계에서 상기 보정 광학계가 실질적으로 등배 직립 촛점 일탈 광학계이며,보정 광학계가 상기 제2결상 광학계 내에서 광로안의 실질적으로 비－텔레센트릭한 공간에 장착됨을 특징으로하는 광학계.
  82. 소정의 파장을 갖는 노광광으로 노광되는 감광선 기판의 위치를 결정하는 정렬 장치에 있어서, 그 제1결상 광학계가 상기 정렬 표지의 제1영상을 형성시키기 위해 상기 감광성 기판 위에서 정렬 표지로부터의 빛을 수렴하고, 그 제2결상 광학계가 소정 검출 표면 위에서 상기 정렬 표지의 제2영상을 형성시키기 위해 상기 제1영상으로부터의 빛을 수렴하는 제79항에 따르는 광학계; 상기 광학계에 의해 상기 검출 표면 위에 형성된 상기 정렬 표지의 제2영상을 검출하는 상－픽업 장치; 및 상기 상－픽업 장치로부터의 신호 출력에 기초하여 상기 검출 표면 위의 제2영상 위치를 산출하는 영상 처리 시스템으로 이루어짐을 특징으로 하는 정렬 장치.
  83. 제82항에 있어서, 상기 광학계의 상기 제1결상 광학계가 확대 배율을 가짐을 특징으로 하는 정렬 장치.
  84. 제82항에 있어서, 상기 광학계에서 상기 보정 광학계가 실질적으로 등배 직립 촛점 일탈 광학계이며, 상기 제2결상 광학계 내의 광로에서 실질적으로 비－텔레센트릭 공간에 장착됨을 특징으로 하는 정렬 장치.
  85. 제1표면으로부터의 빛을 제2표면 위에서 수렴하는 제1콘덴서 광학계; 상기 제1콘덴서 광학계에 의해 상기 제2표면 위에 형성된 집광점으로부터의 빛을 제3표면 위에 형성시키고, 상기 광학계에서 소정량의 비대칭 수차를 발생시키는 제2콘덴서 광학계; 상기 제2콘덴서 광학계의 광로에 장착되고, 상기 제2콘덴서 광학계의 광축에 대해 편심이 되도록 조절되며, 상기 제2콘덴서 광학계에 의해 발생되는 비대칭 수차를 상쇄시키는 비대칭 수차를 발생시키는 보정 광학계; 및 상기 보정 광학계를 상기 제2콘덴서 광학계의 광축에 대해 편심으로 만드는 편심 기구로 이루어지며, 상기 광학계의 전체 시스템의 비대칭 수차를 감소시키기 위해, 상기 편심 기구에 의해 편심이 된 상기 보정 광학계가 상기 제1콘덴서 광학계에 의해 발생되는 비대칭 수차를 상쇄시키는 비대칭 수차를 발생시킴을 특징으로 하는 광학계.
  86. 제85항에 있어서, 상기 광학계에서 상기 제1콘덴서 광학계가 축소 배율을 가짐을 특징으로 하는 광학계.
  87. 제85항에 있어서, 상기 광학계에서 상기 보정 광학계가 실질적으로 등배 직립 촛점 일탈 광학계이며, 보정 광학계가 상기 제2콘덴서 광학계 내에서 광로 안의 실질적으로 텔레센트릭한 공간에 장착됨을 특징으로 하는 광학계.
  88. 소정의 파장을 갖는 노광광으로 노광되는 감광성 기판의 위치를 결정하는 정렬 장치에 있어서, 제1콘덴서 광학계가 상기 감광성 기판 위에서 정렬 표지로부터의 빛을 수렴하고, 그 제2콘덴서가 광학계가 상기 제2콘덴서 광학계에 의해 형성된 수렴점으로부터 빛을 수렴하는 제85항에 따르는 광학계; 상기 광학계에 의해 형성된 상기 제3표면 위에서 수렴점을 검출하는 검출 장치; 및 상기 검출 장치로부터의 전기 신호 출력에 기초하여 상기 제3표면 위의 수렴점의 위치를 산출하는 영상 처리 시스템으로 이루어짐을 특징으로 하는 정렬 장치.
  89. 제88항에 있어서, 상기 광학계의 상기 제1콘덴서 광학계가 축소 배율을 가짐을 특징으로 하는 정렬 장치
  90. 제88항에 있어서, 상기 광학계에서 상기 보정 광학계가 실질적으로 등배 직립 촛점 일탈 광학계이고, 상기 보정 광학계가 상기 제2집광 광학계 내의 광로에서 실질적으로 텔레센트릭 공간에 장착됨을 특징으로 하는 정렬 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960000941A 1995-01-13 1996-01-12 수차보정 광학계 및 이 광학계를 사용한 정렬 장치 KR960029824A (ko)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP003856/1995 1995-01-13
JP00385695A JP3611054B2 (ja) 1995-01-13 1995-01-13 位置補正光学系、位置合わせ装置、並びに露光方法及び装置
JP7222677A JPH0949781A (ja) 1995-08-08 1995-08-08 光学系の検査装置および該検査装置を備えた投影露光装置
JP2226771/1995 1995-08-08
JP303932/1995 1995-10-27
JP7303932A JPH09127409A (ja) 1995-10-27 1995-10-27 収差補正光学系および該光学系を備えた位置合わせ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR960029824A true KR960029824A (ko) 1996-08-17

Family

ID=27276002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960000941A KR960029824A (ko) 1995-01-13 1996-01-12 수차보정 광학계 및 이 광학계를 사용한 정렬 장치

Country Status (2)

Country Link
US (2) US5754299A (ko)
KR (1) KR960029824A (ko)

Families Citing this family (77)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6133986A (en) * 1996-02-28 2000-10-17 Johnson; Kenneth C. Microlens scanner for microlithography and wide-field confocal microscopy
US5805290A (en) * 1996-05-02 1998-09-08 International Business Machines Corporation Method of optical metrology of unresolved pattern arrays
US6522386B1 (en) * 1997-07-24 2003-02-18 Nikon Corporation Exposure apparatus having projection optical system with aberration correction element
JP4352614B2 (ja) 1998-02-09 2009-10-28 株式会社ニコン 位置検出装置の調整方法
EP1090329A4 (en) * 1998-04-30 2002-09-25 Nikon Corp ALIGNMENT SIMULATION
US6819414B1 (en) 1998-05-19 2004-11-16 Nikon Corporation Aberration measuring apparatus, aberration measuring method, projection exposure apparatus having the same measuring apparatus, device manufacturing method using the same measuring method, and exposure method
AU3849199A (en) * 1998-05-19 1999-12-06 Nikon Corporation Aberration measuring instrument and measuring method, projection exposure apparatus provided with the instrument and device-manufacturing method using the measuring method, and exposure method
US6064486A (en) * 1998-05-21 2000-05-16 Leland Stanford Junior University Systems, methods and computer program products for detecting the position of a new alignment mark on a substrate based on fitting to sample alignment signals
US6975399B2 (en) * 1998-08-28 2005-12-13 Nikon Corporation mark position detecting apparatus
JP3882588B2 (ja) * 2001-11-12 2007-02-21 株式会社ニコン マーク位置検出装置
JP3513031B2 (ja) * 1998-10-09 2004-03-31 株式会社東芝 アライメント装置の調整方法、収差測定方法及び収差測定マーク
US6368763B2 (en) 1998-11-23 2002-04-09 U.S. Philips Corporation Method of detecting aberrations of an optical imaging system
US6248486B1 (en) * 1998-11-23 2001-06-19 U.S. Philips Corporation Method of detecting aberrations of an optical imaging system
JP2000294499A (ja) 1999-04-09 2000-10-20 Mitsubishi Electric Corp 重ね合わせ精度向上方法および重ね合わせずれ量測定装置
US6624897B1 (en) * 1999-04-15 2003-09-23 Micron Technology, Inc. Apparatus and method for feature edge detection in semiconductor processing
US6229871B1 (en) 1999-07-20 2001-05-08 Euv Llc Projection lithography with distortion compensation using reticle chuck contouring
JP2001217174A (ja) * 2000-02-01 2001-08-10 Nikon Corp 位置検出方法、位置検出装置、露光方法、及び露光装置
TWI256484B (en) * 2000-02-23 2006-07-01 Asml Netherlands Bv Method of measuring aberration in an optical imaging system
EP1128217B1 (en) * 2000-02-23 2007-08-29 ASML Netherlands B.V. Method of measuring aberration in an optical imaging system
US6897947B1 (en) * 2000-02-23 2005-05-24 Asml Netherlands B.V. Method of measuring aberration in an optical imaging system
JP3863339B2 (ja) * 2000-03-28 2006-12-27 株式会社東芝 光軸ずれ測定方法
WO2001085368A1 (en) 2000-05-09 2001-11-15 Usf Filtration And Separations Group, Inc. Apparatus and method for drawing continuous fiber
US6727989B1 (en) * 2000-06-20 2004-04-27 Infineon Technologies Ag Enhanced overlay measurement marks for overlay alignment and exposure tool condition control
JP4725822B2 (ja) 2000-07-10 2011-07-13 株式会社ニコン 光学的位置ずれ検出装置
US6548797B1 (en) 2000-10-20 2003-04-15 Nikon Corporation Apparatus and method for measuring a wavefront using a screen with apertures adjacent to a multi-lens array
JP4613357B2 (ja) * 2000-11-22 2011-01-19 株式会社ニコン 光学的位置ずれ測定装置の調整装置および方法
JP2002175964A (ja) * 2000-12-06 2002-06-21 Nikon Corp 観察装置およびその製造方法、露光装置、並びにマイクロデバイスの製造方法
KR100893516B1 (ko) * 2000-12-28 2009-04-16 가부시키가이샤 니콘 결상특성 계측방법, 결상특성 조정방법, 노광방법 및노광장치, 프로그램 및 기록매체, 그리고 디바이스 제조방법
US20060285100A1 (en) * 2001-02-13 2006-12-21 Nikon Corporation Exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
TWI220999B (en) * 2001-02-13 2004-09-11 Nikon Corp Measuring method of image formation characteristic, exposure method, exposure apparatus and its adjustment method, manufacture method of device, and recording medium
US6581193B1 (en) 2001-06-13 2003-06-17 Kla-Tencor Apparatus and methods for modeling process effects and imaging effects in scanning electron microscopy
JP4046961B2 (ja) * 2001-09-03 2008-02-13 キヤノン株式会社 位置検出方法、位置検出装置、露光装置及び露光方法
JP3870058B2 (ja) * 2001-10-05 2007-01-17 キヤノン株式会社 スキャン露光装置及び方法並びにデバイスの製造方法
JP4415674B2 (ja) * 2002-01-29 2010-02-17 株式会社ニコン 像形成状態調整システム、露光方法及び露光装置、並びにプログラム及び情報記録媒体
US6691052B1 (en) 2002-01-30 2004-02-10 Kla-Tencor Corporation Apparatus and methods for generating an inspection reference pattern
DE10204465A1 (de) * 2002-02-05 2003-08-14 Zeiss Carl Smt Ag Verfahren zur Korrektur von schwingungsinduzierten Abbildungsfehlern in einem Objektiv
AU2003211559A1 (en) * 2002-03-01 2003-09-16 Nikon Corporation Projection optical system adjustment method, prediction method, evaluation method, adjustment method, exposure method, exposure device, program, and device manufacturing method
AU2003268255A1 (en) * 2002-09-04 2004-03-29 Brooks Automation, Inc. Device and process for reading out identification information on reticles
JP4095391B2 (ja) * 2002-09-24 2008-06-04 キヤノン株式会社 位置検出方法
JP4203307B2 (ja) * 2002-12-03 2008-12-24 独立行政法人科学技術振興機構 パターン転写方法及び露光装置
US20040227944A1 (en) * 2003-02-28 2004-11-18 Nikon Corporation Mark position detection apparatus
JP4346938B2 (ja) * 2003-04-09 2009-10-21 キヤノン株式会社 画像処理装置、方法、プログラム及び記憶媒体
JP2004356193A (ja) * 2003-05-27 2004-12-16 Canon Inc 露光装置及び露光方法
US20050094856A1 (en) * 2003-11-03 2005-05-05 Warren Scott R. Systems and methods for detecting target focus and tilt errors during genetic analysis
US7618880B1 (en) * 2004-02-19 2009-11-17 Quick Nathaniel R Apparatus and method for transformation of substrate
US8617965B1 (en) 2004-02-19 2013-12-31 Partial Assignment to University of Central Florida Apparatus and method of forming high crystalline quality layer
JP3880589B2 (ja) * 2004-03-31 2007-02-14 キヤノン株式会社 位置計測装置、露光装置及びデバイス製造方法
US7268063B1 (en) * 2004-06-01 2007-09-11 University Of Central Florida Process for fabricating semiconductor component
US7419887B1 (en) * 2004-07-26 2008-09-02 Quick Nathaniel R Laser assisted nano deposition
JP2006123375A (ja) * 2004-10-29 2006-05-18 Pentel Corp ボールペン
US7871810B2 (en) * 2004-11-03 2011-01-18 Life Technologies Corporation Multiaxis focusing mechanism for microarray analysis
US7951632B1 (en) 2005-01-26 2011-05-31 University Of Central Florida Optical device and method of making
KR100655080B1 (ko) * 2005-12-09 2006-12-11 삼성전자주식회사 오버레이 계측설비 및 그의 오버레이 계측방법
JP2007193186A (ja) * 2006-01-20 2007-08-02 Olympus Corp 画像検出方法及び画像検出装置
US7222431B1 (en) * 2006-02-03 2007-05-29 Gilson, Inc. Alignment correction system and methods of use thereof
US20080013090A1 (en) * 2006-03-29 2008-01-17 Nikon Corporation Measurement method, measurement unit, processing unit, pattern forming method , and device manufacturing method
US7811914B1 (en) 2006-04-20 2010-10-12 Quick Nathaniel R Apparatus and method for increasing thermal conductivity of a substrate
US8617669B1 (en) 2006-04-20 2013-12-31 Partial Assignment to University of Central Florida Laser formation of graphene
JP5031272B2 (ja) * 2006-06-06 2012-09-19 キヤノン株式会社 表示光学系及びそれを有する画像表示装置
US8067303B1 (en) 2006-09-12 2011-11-29 Partial Assignment University of Central Florida Solid state energy conversion device
JP5041582B2 (ja) * 2006-12-05 2012-10-03 キヤノン株式会社 露光装置、計測条件を選定するための方法及びデバイス製造方法
JP5084239B2 (ja) * 2006-12-06 2012-11-28 キヤノン株式会社 計測装置、露光装置並びにデバイス製造方法
JP4944690B2 (ja) * 2007-07-09 2012-06-06 キヤノン株式会社 位置検出装置の調整方法、位置検出装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP5264116B2 (ja) * 2007-07-26 2013-08-14 キヤノン株式会社 結像特性変動予測方法、露光装置、並びにデバイス製造方法
US8114693B1 (en) 2007-09-18 2012-02-14 Partial Assignment University of Central Florida Method of fabricating solid state gas dissociating device by laser doping
JP2009088246A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
US8670106B2 (en) * 2008-09-23 2014-03-11 Pinebrook Imaging, Inc. Optical imaging writer system
CA2745634A1 (en) * 2008-12-02 2010-06-10 University Of Central Florida Energy conversion device
KR101038206B1 (ko) * 2009-02-09 2011-05-31 한국과학기술원 텔리센트릭 스캐너와 두 쐐기형 프리즘을 이용한 가변시야 광학계
WO2010127827A1 (de) * 2009-05-07 2010-11-11 Olympus Winter & Ibe Gmbh Objektiv mit zwei blickrichtungen für ein endoskop
US9059079B1 (en) 2012-09-26 2015-06-16 Ut-Battelle, Llc Processing of insulators and semiconductors
WO2014132485A1 (ja) * 2013-02-28 2014-09-04 オリンパス株式会社 標本観察方法及び標本観察装置
US9601641B1 (en) 2013-12-10 2017-03-21 AppliCote Associates, LLC Ultra-high pressure doping of materials
US9620667B1 (en) 2013-12-10 2017-04-11 AppliCote Associates LLC Thermal doping of materials
JP6386732B2 (ja) * 2014-01-20 2018-09-05 キヤノン株式会社 検出装置、検出方法、及びリソグラフィ装置
CN114391125A (zh) 2019-09-09 2022-04-22 Asml控股股份有限公司 具有远心转换器的放大率恒定的多级光学装置
WO2023138892A1 (en) * 2022-01-24 2023-07-27 Asml Netherlands B.V. Method and apparatus for illumination adjustment

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0726803B2 (ja) * 1984-11-26 1995-03-29 株式会社ニコン 位置検出方法及び装置
US5148214A (en) * 1986-05-09 1992-09-15 Canon Kabushiki Kaisha Alignment and exposure apparatus
US4888614A (en) * 1986-05-30 1989-12-19 Canon Kabushiki Kaisha Observation system for a projection exposure apparatus
US5140366A (en) * 1987-05-29 1992-08-18 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus with a function for controlling alignment by use of latent images
JPH0652705B2 (ja) * 1988-05-12 1994-07-06 キヤノン株式会社 露光装置
JP2773147B2 (ja) * 1988-08-19 1998-07-09 株式会社ニコン 露光装置の位置合わせ装置及び方法
JPH02292813A (ja) * 1989-05-02 1990-12-04 Canon Inc 自動焦点合せ装置
JP2897276B2 (ja) * 1989-09-04 1999-05-31 株式会社ニコン 位置合わせ方法及び露光装置
JP2897355B2 (ja) * 1990-07-05 1999-05-31 株式会社ニコン アライメント方法，露光装置，並びに位置検出方法及び装置
JP3109107B2 (ja) * 1991-02-28 2000-11-13 株式会社ニコン 位置検出装置、露光装置および露光方法
JP3117095B2 (ja) * 1991-10-24 2000-12-11 株式会社ニコン 投影光学系の検査方法
US5581404A (en) * 1992-01-10 1996-12-03 Canon Kabushiki Kaisha Image stabilizing apparatus
JP2861671B2 (ja) * 1992-08-19 1999-02-24 日本電気株式会社 重ね合せ精度測定装置
KR100300618B1 (ko) * 1992-12-25 2001-11-22 오노 시게오 노광방법,노광장치,및그장치를사용하는디바이스제조방법
JP3265668B2 (ja) * 1993-01-13 2002-03-11 株式会社ニコン ベストフォーカス位置の算出方法
US5461237A (en) * 1993-03-26 1995-10-24 Nikon Corporation Surface-position setting apparatus
JP3401769B2 (ja) * 1993-12-28 2003-04-28 株式会社ニコン 露光方法、ステージ装置、及び露光装置
JPH07335524A (ja) * 1994-06-06 1995-12-22 Canon Inc 位置合わせ方法

Also Published As

Publication number Publication date
US5680200A (en) 1997-10-21
US5754299A (en) 1998-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960029824A (ko) 수차보정 광학계 및 이 광학계를 사용한 정렬 장치
US5783833A (en) Method and apparatus for alignment with a substrate, using coma imparting optics
US4650983A (en) Focusing apparatus for projection optical system
JP3265504B2 (ja) 露光方法及び装置、並びに半導体素子の製造方法
US5731577A (en) Illumination apparatus and projection exposure apparatus using the same
US20060082775A1 (en) Mark position detecting apparatus
TW200305773A (en) Projection Aligner
JP2938187B2 (ja) パターン形成方法及び同方法を実施するための装置
JPH1082611A (ja) 面位置検出装置
US20050161615A1 (en) Position detecting method, surface shape estimating method, and exposure apparatus and device manufacturing method using the same
KR20020005977A (ko) 광학적 위치어긋남 검출장치
JPH08213306A (ja) 位置検出装置及び該装置を備えた投影露光装置
JP2008021830A (ja) 計測方法及び装置、並びに露光方法及び装置
JP3531227B2 (ja) 露光方法および露光装置
JPH10326734A (ja) 合焦位置検出方法及び該方法を使用する投影露光装置
JPH097915A (ja) 面傾斜検出装置
JPH09304016A (ja) 面位置検出装置及び該装置を備えた露光装置
JP2001185474A (ja) アライメント方法、アライメント装置、基板、マスク、及び露光装置
JP2004281904A (ja) 位置計測装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JP2004158555A (ja) マーク位置検出装置ならびにその調整用基板および調整方法
JP3223932B2 (ja) 半導体素子の製造方法、並びに該方法に使用する位置検出装置及び露光装置
JP3630189B2 (ja) アライメント方法、露光方法、及び露光装置
JP3617710B2 (ja) 投影露光装置
JP3381740B2 (ja) 露光方法及び投影露光装置
JPH06349708A (ja) 投影露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid