KR950703852A - 트리아졸리논을 함유하는 제초제 조성물(herbicidal compositions containing triazolinones) - Google Patents

트리아졸리논을 함유하는 제초제 조성물(herbicidal compositions containing triazolinones) Download PDF

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Abstract

본 발명은 밀과 같은 작물중에 광범위한 잡초, 특히 광엽잡초에 대해 특히 효과적인 제초제 조성물을 제공하기 위해서, 제초성 (2,4-디클로로페녹시)아세트산 (2,4-D), 또는 유사치환된 페녹시알칸산, 또는 에스테르, 또는 이들의 알칼리 금속 또는 암모늄 염과 배합되거나, 또는 특정한 제초성 설포닐우레아, 또는 이러한 부류의 화합물의 혼합물과 배합되는 1아릴-4,5-디하이드로-1,2,4-트리아졸-5(1H)-원(트리아졸리논)을 포함하는 조성물에 관한 것이다.

Description

트리아졸리논을 함유하는 제초제 조성물(HERBICIDAL COMPOSITIONS CONTAINING TRIAZOLINONES)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (22)

  1. 적합한 담체중의 혼합물로서, (1)하기 일반식(Ⅰ)의 트리아졸리논 또는 하기 Q′가 CO2H인 화합물의 염기-부가염, 및 (2) 디클로로-또는 클로로-저급 알킬페녹시 저급 알칸산, 또는 이들의 상응하는 제초활성 에스테르, 알칼리 금속 염 또는 암모늄 염의 배합물을 제초효과량으로 포함함을 특징으로 하는 제초제 조성물;
    상기식에서, R은 수소 또는 저급 알킬이고; R1은 할로알킬이고; X는 수소, 할로겐, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 또는 니트로 이고; Y는 수소 ,할로겐, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로 저급 알킬설피닐, 또는 할로 저급 알콕시이고; Q는 -CH(R2)C(R3)(R4)Q′ 또는 -CH=C(R4)Q′이고; R2는 H 또는 할로겐이고; R3은 할로겐이고; R4는 H 또는 저급 알킬이고; Q′는 CO2H, CO2R5, CON(R6)(7), CN, CHO, 또는 C(O)R5이고; R5는 알킬, 알콕시카보닐알킬, 사이클로알킬, 벤질, 클로로벤질, 알킬벤질 또는 할로알킬벤질이고; R6및 R7은 각각 독립적으로 H, 또는 알킬, 사이클로알킬, 알케닐, 알키닐, 알콕시, 페닐, 벤질 또는 SO2R6(여기서, R6은 H가 아니다) 라디칼이거나, 또는 할로겐, 알킬 또는 시아노로 치환된 상기 라디칼중 하나이고; 단, 임의의 알킬, 알케닐 또는 알키닐 잔기는 6개미만의 탄소원자를 갖고 임의의 사이클로알킬 잔기는 3 내지 7개의 탄소원자를 갖는다.
  2. (1)하기 일반식(Ⅰ)의 트리아졸리논 또는 하기 Q′가 CO2H인 화합물의 염기-부가염, 및 (2)하기 일반식 (Ⅳ)의 설포닐우레아의 배합물을 제초효과량으로 포함함을 특징으로 하는 제초제 조성물.
    상기식(1)에서, R은 할로겐 또는 저급 알킬이고; R1은 할로알킬이고; X는 수소, 알로겐, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 또는 니트로이고; Y는 수소 ,할로겐, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로 저급 알킬설피닐, 또는 할로 저급 알콕시이고; Q는 -CH(R2)C(R3)(R4)Q′ 또는-CH=C(R4)Q′이고; R2는 H 또는 할로겐이고; R3은 할로겐이고; R4는 H 또는 저급 알킬이고; Q′는 CO2H, CO2R5, CON(R6)(R7), CN, CHO, 또는 C(O)R5이고; R5는 알킬, 알콕시카보닐알킬, 사이클로알킬, 벤질, 클로로벤질, 알킬벤질 또는 할로알킬벤질이고; R6및 R7은 각각 독립적으로 H, 또는 알킬, 사이클로알킬, 알케닐, 알키닐, 알콕시, 페닐, 벤질 또는 SO2R6(여기서, R6은 H가 아니다) 라디칼이거나, 또는 할로겐, 알킬 또는 시아노로 치환된 상기 라디칼중 하나이고; 단, 임의의 알킬, 알케닐 또는 알키닐 잔기는 6개미만의 탄소원자를 갖고 임의의 사이클로알킬 잔기는 3 내지 7개의 탄소원자를 갖고;
    Z는 N또는 CH이고; R은 H 또는 -CH3이고; R1및 R2는 -OCH3또는 -CH3이고; R3은 CO2CH3또는 C1이고; n은 0또는 1이고;
    R4는또는 SO2C2H5이고; R5는 CH3또는이고; R6는이고; R7은 -OCH3또는 -OC2H5이다.
  3. 제1항에 있어서, 적절한 담체와의 혼합물로서 하기 구조식을 갖는 트리아졸리논, 및 디클로로- 또는 클로로-저급 알킬페녹시 저급 알칼산 또는 그의 상응하는 제초성 에스테르, 알칼리 금속 염 또는 암모늄 염을 포함하는 조성물;
  4. 제3항에 있어서, 페녹시 알칸산이 2,4-디클로로페녹시아세트산(2,4-D)임을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제3항에 있어서, 페녹시 알칸산이 2,4-D 암모늄 염임을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제3항에 있어서, 페녹시 알칸산이 4-(4-클로로-2-메틸페녹시)아세트산(MCPA)암모늄 염임을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제3항에 있어서, 페녹시 알칸산이 2-(4-클로로-2-메틸페녹시)프로피온산의 (+)이성질체(MCPPp)임을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제2항에 있어서, 적절한 담체와의 혼합물로서, 트리아졸리논이
    이고,
    설포닐우레아가 메트설푸론-메틸인 조성물.
  9. 제2항에 있어서, 적절한 담체와의 혼합물로서, 트리아졸리논이
    이고,
    설포닐우레아가 클로로설푸론인 조성물.
  10. 제2항에 있어서, 적절한 담체와의 혼합물로서, 트리아졸리논이
    이고,
    설포닐우레아가 트리베누론메틸인 조성물.
  11. 제2항에 있어서, 적절한 담체와의 혼합물로서, 트리아졸리논이
    이고,
    설포닐우레아가 디펜설푸론메틸인 조성물.
  12. 방제가 요구되는 지역에 제초효과량의 제1항의 조성물을 적용함을 특징으로 하는 바람직하지 못한 식물 성장을 방제하기 위한 방법.
  13. 방제가 요구되는 지역에 제초효과량의 제2항의 조성물을 적용함을 특징으로 하는 바람직하지 못한 식물 성장을 방제하기 위한 방법.
  14. 방제가 요구되는 지역에 제초효과량의 제3항의 조성물을 적용함을 특징으로 하는 바람직하지 못한 식물 성장을 방제하기 위한 방법.
  15. 방제가 요구되는 지역에 제초효과량의 제4항의 조성물을 적용함을 특징으로 하는 바람직하지 못한 식물 성장을 방제하기 위한 방법.
  16. 방제가 요구되는 지역에 제초효과량의 제5항의 조성물을 적용함을 특징으로 하는 바람직하지 못한 식물 성장을 방제하기 위한 방법.
  17. 방제가 요구되는 지역에 제초효과량의 제6항의 조성물을 적용함을 특징으로 하는 바람직하지 못한 식물 성장을 방제하기 위한 방법.
  18. 방제가 요구되는 지역에 제초효과량의 제7항의 조성물을 적용함을 특징으로 하는 바람직하지 못한 식물 성장을 방제하기 위한 방법.
  19. 방제가 요구되는 지역에 제초효과량의 제8항의 조성물을 적용함을 특징으로 하는 바람직하지 못한 식물 성장을 방제하기 위한 방법.
  20. 방제가 요구되는 지역에 제초효과량의 제9항의 조성물을 적용함을 특징으로 하는 바람직하지 못한 식물 성장을 방제하기 위한 방법.
  21. 방제가 요구되는 지역에 제초효과량의 제10항의 조성물을 적용함을 특징으로 하는 바람직하지 못한 식물 성장을 방제하기 위한 방법.
  22. 방제가 요구되는 지역에 제초효과량의 제11항의 조성물을 적용함을 특징으로 하는 바람직하지 못한 식물 성장을 방제하기 위한 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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