KR950034799A - 마스크 롬 제조 방법 - Google Patents

마스크 롬 제조 방법

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Abstract

[목적][구성] 1.전도막(34)의 소정 부위를 식각하여 이 부위에 롬 코드를 형성하는 마스크 롬 제조방법에 있어서, 상기 전도막(34)상에 산화 방지막(39)을 형성하는 단계; 롬 코드를 형성할 상기 산화 방지막(39)의 예정된 부위를 선택 제거한 후 노출된 상기 전도막(34)의 전체 두께중 일부 두께를 제거하는 단계; 상기 노출 부위의 잔류 전도막을 산화(34')시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 롬 제조방법.

Description

마스크 롬 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명의 일실시예에 따른 부분산화를 이용하는 마스크 롬의 단면도.

Claims (3)

  1. 전도막(34)의 소정 부위를 식각하여 이 부위에 롬 코드를 형성하는 마스크 롬 제조 방법에 있어서, 상기 전도막(34)상에 산화 방지막(39)을 형성하는 단계; 롬 코드를 형성할 상기 산화 방지막(39)의 예정된 부위를 선택 제거한후 노출된 상기 전도막(34)의 전체 두께중 일부 두께를 제거하는 단계; 상기 노출 부위의 잔류 전도막을 산화(34')시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 롬 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 전도막(34)은 1000Å내지 1500Å두께중에서 어느 하나의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 롬 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 노출된 상기 전도막(34)의 전체 두께중 일부 두께를 제거하는 단계는 전도막(34)은 500Å내지 1000Å두께중에서 어느 하나의 두께인 것을 특징으로 하는 마스크 롬 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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