KR970016801A - 양호한 포토레지스트 패턴을 얻을 수 있는 사진 묘화 공정 - Google Patents

양호한 포토레지스트 패턴을 얻을 수 있는 사진 묘화 공정 Download PDF

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KR970016801A
KR970016801A KR1019950032951A KR19950032951A KR970016801A KR 970016801 A KR970016801 A KR 970016801A KR 1019950032951 A KR1019950032951 A KR 1019950032951A KR 19950032951 A KR19950032951 A KR 19950032951A KR 970016801 A KR970016801 A KR 970016801A
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photoresist pattern
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good photoresist
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조준걸
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김광호
삼성전자 주식회사
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

꼬리가 없는 양호한 포토레지스트 패턴을 얻을 수 있는 사진 묘화 공정에 관하여 개시한다. 본 발명은 물질층 위에 포토레지스트 패턴을 형성하는 사진 묘화 공정에 있어서, 상기 물질층과 상기 포토레지스트 패턴 사이에 보조 물질층을 삽입하여 꼬리가 없는 포토레지스트 패턴을 형성하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하여 보조 물질층으로 사용한 실리콘 산화막 위에 꼬리가 없는 양호한 포토레지스트 패턴을 제공한다.

Description

양호한 포토레지스트 패턴을 얻을 수 있는 사진 묘화 공정
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 4도 내지
제 7도는 본 발명을 SEPOX 공정에 적용하여 양호한 포토레지스트 패턴을 형성하는 과정을 보여주는 단면도들이다.

Claims (2)

  1. 물질층 위에 포토레지스트 패턴을 형성하는 사진 묘화 공정에 있어서, 상기 물질층과 상기 포토레지스트 패턴 사이에 보조 물질층을 삽입하여 꼬리가 없는 포토레지스트 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 사진 묘화 공정.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 보조 물질층은 실리콘 산화막인 것을 특징으로 하는 사진 묘화 공정.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950032951A 1995-09-29 1995-09-29 양호한 포토레지스트 패턴을 얻을 수 있는 사진 묘화 공정 KR970016801A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150025979A (ko) * 2013-08-30 2015-03-11 엘지디스플레이 주식회사 포토 레지스트 필름 및 이를 이용하는 유기발광디스플레이장치의 제조 방법

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