KR970016800A - 사진 묘화 공정을 단순화 한 반도체 장치의 제조 방법 - Google Patents

사진 묘화 공정을 단순화 한 반도체 장치의 제조 방법 Download PDF

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이기영
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김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

사진 묘화 공정에서 포토레지스트를 제거하는 공정을 생략하여 공정을 단순화하는 반도체 장치의 제조 방법에 관하여 개시한다. 본 발명은 연속되는 사진 묘화 공정을 포함하는 반도체 장치의 제조 방법에서, 공정을 단순화하기 위하여 포토레지스트 패턴 위에 다른 포토레지스트를 도포하고, 상기 포토레지스트 패턴과 상기 다른 포토레지스트를 동시에 정렬 노광하여 다른 포토레지스트 패턴을 형성한다. 본 발명에 의한 반도체 장치의 제조 방법에 의해서 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 공정을 생략하고, 상기 다른 포토레지스트 패턴을 제거하면서 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 효과를 가진다. 따라서 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 공정을 생략하고 공정을 단순화하고, 생산 원가를 절감하는 효과를 가진다.

Description

사진 묘화 공정을 단순화 한 반도체 장치의 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 4도 내지
제 6도는 연속되는 사진 묘화 공정을 가지는 경우 본 발명의 방법에 따른 반도체 장치의 제조 방법을 보여주는 단면도들이다.

Claims (1)

  1. 연속되는 사진 묘화 공정을 포함하는 반도체 장치의 제조 방법에서, 공정을 단순화하기 위하여 포토레지스트 패턴 위에 다른 포토레지스트를 도포하고, 상기 포토레지스트 패턴과 상기 다른 포토레지스트를 동시에 정렬 노광하여 다른 포토레지스트 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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