KR920008847A - 반도체소자의 위상이동 마스크 제조방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 종래의 공정 단면도.
제 2 도와 제 3 도는 종래 동작을 설명하기 위한 도면.
제 4 도는 본 발명의 공정 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 수정판 2 : 차광막
3, 6 : P/R 4, 5 : 광투광성막
Claims (1)
- 수정판 위에 차광막, 광투광성말, P/R을 형성하고 마스킹 작업에 의해 P/R을 선택적으로 제거하는 공정과, 제거되지 않은 P/R을 이용하여 상기 광투광성막과 차광막을 습식식각하는 공정과, 다시 광투광성막을 형성하고 비등방성 식각으로 측벽을 형성하는 공정과, P/R을 덮고 차광막 윗부분을 비등방성 식각하고 P/R을 제거하는 공정을 차례로 실시함을 특징으로 하는 반도체소자의 위상이동 마스크 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019900016278A KR930008848B1 (ko) | 1990-10-13 | 1990-10-13 | 반도체소자의 위상이동 마스크 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019900016278A KR930008848B1 (ko) | 1990-10-13 | 1990-10-13 | 반도체소자의 위상이동 마스크 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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KR920008847A true KR920008847A (ko) | 1992-05-28 |
KR930008848B1 KR930008848B1 (ko) | 1993-09-16 |
Family
ID=19304623
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1019900016278A KR930008848B1 (ko) | 1990-10-13 | 1990-10-13 | 반도체소자의 위상이동 마스크 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR930008848B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100790751B1 (ko) * | 2006-12-06 | 2008-01-02 | 삼성전기주식회사 | 수정판 제조방법 |
-
1990
- 1990-10-13 KR KR1019900016278A patent/KR930008848B1/ko not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100790751B1 (ko) * | 2006-12-06 | 2008-01-02 | 삼성전기주식회사 | 수정판 제조방법 |
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Publication number | Publication date |
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KR930008848B1 (ko) | 1993-09-16 |
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