KR920007068A - 반도체 금속박막의 스텝 커버리지 측정용 표준웨이퍼 제조방법 - Google Patents
반도체 금속박막의 스텝 커버리지 측정용 표준웨이퍼 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도는 본 발명의 공정 단면도.
Claims (1)
- 실리콘 초기 웨이퍼위에 산화막을 성장시키고, 여러가지 형태의 스텝 커버리지 측정패턴이 내장된 마스크를이용하여 사진감광과 사진식각 공정을 실시하며, 콘텍트 슬로프를 각기 달리 만들 수 있도록 건식 에치를 구분지어 실시하고, 웨이퍼 홈을 애치할 수 있는 마스크를 이용하여 사진감광 후 웨이퍼홈을 식각함을 특징으로하는 반도체 금속박막의 스텝 커버리지 측정용 표준웨이터 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019900014379A KR0156104B1 (ko) | 1990-09-12 | 1990-09-12 | 반도체 금속박막의 스텝커버리지 측정용 표준웨이퍼 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019900014379A KR0156104B1 (ko) | 1990-09-12 | 1990-09-12 | 반도체 금속박막의 스텝커버리지 측정용 표준웨이퍼 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR920007068A true KR920007068A (ko) | 1992-04-28 |
| KR0156104B1 KR0156104B1 (ko) | 1998-12-01 |
Family
ID=19303494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019900014379A KR0156104B1 (ko) | 1990-09-12 | 1990-09-12 | 반도체 금속박막의 스텝커버리지 측정용 표준웨이퍼 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR0156104B1 (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100252220B1 (ko) * | 1997-06-25 | 2000-04-15 | 윤종용 | 반도체장치의산화막두께표준시료및그제조방법 |
-
1990
- 1990-09-12 KR KR1019900014379A patent/KR0156104B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100252220B1 (ko) * | 1997-06-25 | 2000-04-15 | 윤종용 | 반도체장치의산화막두께표준시료및그제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR0156104B1 (ko) | 1998-12-01 |
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