KR910010623A - 건식 식각 및 습식 식각의 특성을 이용한 접촉 식각 방법 - Google Patents

건식 식각 및 습식 식각의 특성을 이용한 접촉 식각 방법 Download PDF

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서현환
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문정환
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내용 없음

Description

건식 식간 및 습식 식각의 특성을 이용한 접촉 식각 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 접촉식각 공정에 따른 접촉홀 단면도.

Claims (1)

  1. 실리콘 기판(4) 및 저온증착 산화막(1) 위에 산화막(2)을 증착하고 이 산화막(2)에 감광막(3)을 도포 및 식각하여서된 것에 있어서, 상기 산화막(2)의 30%를 건식 식각하고 이 30%건식 식각후 남은 산화막(2)의 50%를 등방형 습식식각한 다음에 남은 산화막(2)을 건식 식각으로 접촉홀을 형성함을 특징으로 하는 건식 식각 및 습식 식각의 특성을 이용한 접촉식각방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임
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