KR950028007A - 박막트랜지스터의 제조방법 - Google Patents

박막트랜지스터의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 박막트랜지스터 제조방법에 관한 것으로, 기판 상부에 양극산화가 가능한 금속물질을 소정의 두께로 증착하여 금속물질층을 형성하고, 상기 금속물질층 상부에 양극산화 저지막을 형성한 후 상기 양극산화 저지막을 마스크로 하여 상기 금속물질층을 양극산화 시켜 양극산화되지 않은 부분으로 소오스/드레인전극을 형성하거나 상기 금속물질층 상부에 불순물이 도핑된 반도체층을 형성하고 상기 불순물이 도핑된 반도체층 상부에 양극산화저지막을 형성하며, 반도체층을 식각하여 오믹 접총용 반도체층을 형성한 후 계속하여 상기 양극산화 저지막을 마스크로 하여 상기 금속물질층을 양극산화하여 양극산화되지 않은 부분으로 소오스/드레인전극을 형성함으로써 단차의 발생을 방지할 수 있으며, 이에 따라 박막트랜지스터의 안정성 및 신뢰도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Description

박막트랜지스터 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 박막트랜지스터의 제1실시예의 단면도,
제3도는 제2도의 제조공정을 도시한 단면도.

Claims (3)

  1. 기판 상부에 양극산화가 가능한 금속물질을 소정의 두께로 증착하여 금속물질층을 형성하는 공정과, 상기 금속물질층 상부에 양극산화 저지막을 형성하는 공정과, 상기 양극산화 저지막을 마스크로 하여 상기 금속물질층을 양극산화 시켜 양극산화되지 않은 부분으로 소오스/드레인전극을 형성하는 공정과, 상기 소오스/드레인전극을 형성 후 오믹 접총용 반도체층, 반도체층, 절연막 및 게이트 전극을 형성하는 공정을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터 제조방법.
  2. 기판 상부에 양극산화가 가능한 금속물질을 소정의 두께로 증착하여 금속물질층을 형성하는 공정과, 상기 금속물질층 상부에 불순물이 도핑된 반도체층을 형성하는 공정과, 상기 불순물이 도핑된 반도체층 상부에 양극산화 저지막을 형성하는 공정과 상기 양극산화 저지막 형성후 상기 양극산화 저지막을 마스크로 하여 상기 불순물이 도핑된 반도체층을 식각하여 오믹 접촉용 반도체층을 형성하는 공정과, 상기 양극산화 저지막을 마스크로 하여 상기 금속물질층을 양극산화하여 양극산화되지 않은 부분으로 소오스/드레인전극을 형성하는 공정과, 상기 소오스/드레인전극을 형성 후 반도체층, 절연막 및 게이트 전극을 형성하는 공정을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터 제조방법.
  3. 기판 상부에 양극산화가 가능한 금속물질을 소정의 두께로 증착하여 금속물질층을 형성하는 공정과, 상기 금속물질층 상부에 불순물이 도핑된 반도체층을 형성하는 공정과, 상기 불순물이 도핑된 반도체층 상부에 양극산화 저지막을 형성하는 공정과, 양극산화 저지막 형성후 불순물이 도핑된 반도체층을 식각하지 않고 상기 양극산화 저지막을 마스크로 하여 상기 불순물이 도핑된 반도체층 및 금속물질층을 양극산화함으로써 소오스/드레인전극과 동시에 오믹 접촉용 반도체층을 형성하는 공정과, 상기 소오스/드레인전극 형성 후 반도체층, 절연막 및 게이트 전극을 형성하는 공정을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940005484A 1994-03-18 1994-03-18 박막트랜지스터의 제조방법 KR970006254B1 (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3549157A4 (en) * 2016-11-30 2020-06-24 Boe Technology Group Co. Ltd. METHOD FOR PRODUCING A THIN-LAYER TRANSISTOR, THIN-LAYER TRANSISTOR AND DISPLAY DEVICE

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EP3549157A4 (en) * 2016-11-30 2020-06-24 Boe Technology Group Co. Ltd. METHOD FOR PRODUCING A THIN-LAYER TRANSISTOR, THIN-LAYER TRANSISTOR AND DISPLAY DEVICE

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