KR900011016A - 복합형 다이오드장치 - Google Patents

복합형 다이오드장치 Download PDF

Info

Publication number
KR900011016A
KR900011016A KR1019890018016A KR890018016A KR900011016A KR 900011016 A KR900011016 A KR 900011016A KR 1019890018016 A KR1019890018016 A KR 1019890018016A KR 890018016 A KR890018016 A KR 890018016A KR 900011016 A KR900011016 A KR 900011016A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
semiconductor region
electrode
conductivity type
semiconductor
electrically connected
Prior art date
Application number
KR1019890018016A
Other languages
English (en)
Other versions
KR920010675B1 (ko
Inventor
마사유끼 하나오까
히사나가 타까노
Original Assignee
고타니 고우이찌
산켄 덴끼 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 고타니 고우이찌, 산켄 덴끼 가부시끼가이샤 filed Critical 고타니 고우이찌
Publication of KR900011016A publication Critical patent/KR900011016A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR920010675B1 publication Critical patent/KR920010675B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/40Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/41Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/08Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
    • H01L27/0814Diodes only
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/86Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable only by variation of the electric current supplied, or only the electric potential applied, to one or more of the electrodes carrying the current to be rectified, amplified, oscillated or switched

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

복합형 다이오드장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예 1의 복합형 다이오드를 보여주는 것으로서, 제4도의 I-I선에 대응하는 부분의 단면도, 제2도는 제4도의 II-II선에 대응하는 부분의 단면도, 제3도는 실시예 1의 복합형 다이오드의 반도체의 표면을 보여주는 평면도, 제4도는 실시예 1의 복합형 다이오드의 평면도, 제5도는 실시예 2의 복합형 다이오드를 보여주는 것으로서, 제6도의 V-V선에 대응하는 부분을 보여주는 단면도, 제6도는 제5도의 반도체기체의 표면을 보여주는 평면도, 제7도는 실시예 3의 쇼트키배리어 다이오드를 보여주는 것으로서, 제8도의 VI-VI선에 대응하는 부분을 보여주는 단면도, 제8도는 제7도의 반도체기체의 표면을 보여주는 평면도.

Claims (2)

  1. 제1의 도전형의 제1의 반도체영역(3)과, 이 제1의 반도체영역(3)에 각각 인접하고 있으며, 또한 서로 이간하도록 배치되어 있는 제1의 도전형과 반대의 제2의 도전형의 제2 및 제3의 반도체영역(4), (5)와, 제1의 도전형을 가지고 있는 전극접속용 반도체영역(2)을 거쳐서 제1의 반도체영역(3)에 전기적으로 접속되어 있는 제1의 전극(13)과, 제2의 반도체영역(4)에는 전기적으로 접속되어 있는 제2의 전극(10)과 제3의 반도체영역(5)에 전기적으로 접속되어 있는 제3의 전극(12)를 구비하고 있으며, 제1의 전극(13)과 전극접속용반도체영역(2)과 제1의 반도체영역(3)과 제2의 반도체영역(4)와 제2의 전극(10)에 의하여 제1의 pn 접합다이오드(6)이 형성되고, 제1의 전극(13)과 전극접속용반도체영역(2)와 제1의 반도체영역(3)과 제3의 반도체영역(5)와 제3의 전극(12)에 의하여 제2의 pn 접합다이오드(7)가 형성되어 있는 복합형 다이오드에 있어서, 평면적으로 보아, 제2의 반도체영역(4)과 제3의 반도체영역(5)과의 사이에 제1의 반도체영역(3)을 통하여 제2의 도전형의 제4의 반도체영역(14)가 배치되고, 또한 제1의 도전형을 가지고 있는 동시에 제1의 반도체영역(3) 보다도 높운 불순물 농도를 가지고 있으며 또한 제1의 반도체영역(3)에 인접하도록 배치되어 있는 제5의 반도체영역(15)가 설치되어 있으며, 나아가서 제4의 반도체영역(14)를 제5의 반도체영역(15)에 전기적으로 접속하기 위한 전극(16)이 형성되어 있는 것을특징으로 하는 복합형 다이오드장치.
  2. 제1의 도전형의 제1의 반도체영역(3)과, 이 제1의 반도체영역(3)에 각각 인접하고 있으며 또한 서로 이간하도록 배치되어있는 제1의 도전형과 반대의 제2의 도전형의 제2 및 제3의 반도체영역(23), (24)와, 제1의 도전형을 가지고 있는 전극접속용반도체영역(2)을 거쳐, 제1의 반도체영역(3)에 전기적으로 접속되어 있는 제1의 전극(13)과, 제1 및 제2의 반도체영역(2), (23)에 전기적으로 접속되어 있는 제2의 전극(21)과, 제1 및 제3의 반도체영역(3), (24)에 전기적으로 접속되어있는 제3의 전극(22)과를 구비하고 있으며, 제2의 전극(21)과의 제1의 반도체영역(3)과의 계면에는 제1의 쇼트키배리어(25)가 형성되어 있으며, 제3의 전극(22)와 제1의 반도체영역(3)과의 계면에는 제2의 쇼트키배리어(26)가 형성되고, 제2및 제3의 반도체영역(23), (24)는 각각 제1 및 제2의 쇼트키배리어(25), (26)이 인접하여 이것을 포위하고, 제1의 전극(13)과 전극접속용반도체영역(2)과 제1의 반도체영역(3)과 제2의 반도체영역(23)과 제2의 전극(21)에 의하여 제1의 쇼트키배리어 다이오드(6)가 형성되고, 제1의 전극(13)과의 전극접속용반도체영역(2)와 제1의 반도체영역(3)과 제3의 반도체영역(24)와 제3의 전극(22)에 의하여 제2의 쇼트키배리어 다이오드(7)이 형성되어 있는 복합형 다이오드장치에 있어서,평면적으로보아, 제2의 반도체영역(23)과 제3의 반도체영역(24)과의 사이에 제1의 반도체영역(3)을 통하여 제2의 도전형의 제4도의 반도체영역(14)가 배치되고, 또한, 제1의 도전형을 가지고 있는 동시에 제1의 반도체영역(3) 보다도 높은 불순물농도를 가지고 있으며 또한 제1의 반도체영역(3)에 인접하도록 배치되어 있는 제5의 반도체영역(15)가 설치되어 있으며, 나아가서, 제4의 반도체영역(14)를 제5의 반도체영역(15)에 전기적으로 접속하기 위한 전극(16)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 복합형 다이오드장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890018016A 1988-12-09 1989-12-06 복합형 다이오드장치 KR920010675B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63-311067 1988-12-09
JP63311067A JPH0766975B2 (ja) 1988-12-09 1988-12-09 複合型ダイオード装置
JP88-311067 1988-12-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR900011016A true KR900011016A (ko) 1990-07-11
KR920010675B1 KR920010675B1 (ko) 1992-12-12

Family

ID=18012719

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019890018016A KR920010675B1 (ko) 1988-12-09 1989-12-06 복합형 다이오드장치

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4982245A (ko)
JP (1) JPH0766975B2 (ko)
KR (1) KR920010675B1 (ko)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03180074A (ja) * 1989-12-08 1991-08-06 Fujitsu Ltd 半導体装置
US5130760A (en) * 1991-06-11 1992-07-14 Honeywell Inc. Bidirectional surge suppressor Zener diode circuit with guard rings
US5408122A (en) * 1993-12-01 1995-04-18 Eastman Kodak Company Vertical structure to minimize settling times for solid state light detectors
US6674148B1 (en) 1996-01-26 2004-01-06 Sgs-Thomson Microelectronics S.A. Lateral components in power semiconductor devices
FR2744287B1 (fr) * 1996-01-26 1998-04-30 Sgs Thomson Microelectronics Composants lateraux dans un dispositif semiconducteur de puissance
US5777352A (en) * 1996-09-19 1998-07-07 Eastman Kodak Company Photodetector structure
DE19853743C2 (de) * 1998-11-21 2000-10-12 Micronas Intermetall Gmbh Halbleiter-Bauelement mit wenigstens einer Zenerdiode und wenigstens einer dazu parallel geschalteten Schottky-Diode sowie Verfahren zum Herstellen der Halbleiter-Bauelemente
US6376346B1 (en) * 2000-09-28 2002-04-23 Fabtech, Inc. High voltage device and method for making the same
GB0030595D0 (en) 2000-12-15 2001-01-31 Koninkl Philips Electronics Nv Semiconductor device layout
JP4043226B2 (ja) * 2001-03-30 2008-02-06 三菱電機株式会社 半導体装置
US7028391B2 (en) * 2002-06-19 2006-04-18 Speedline Technologies, Inc. Method and apparatus for supporting a substrate
US8803277B2 (en) * 2011-02-10 2014-08-12 Cree, Inc. Junction termination structures including guard ring extensions and methods of fabricating electronic devices incorporating same
JP2014103342A (ja) * 2012-11-22 2014-06-05 Nippon Inter Electronics Corp 半導体装置
JP2014143258A (ja) * 2013-01-23 2014-08-07 Origin Electric Co Ltd 面実装型半導体装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1061511B (it) * 1975-07-03 1983-04-30 Rca Corp Transistore con protezione integrata
US4110775A (en) * 1976-08-23 1978-08-29 Festa Thomas A Schottky diode with voltage limiting guard band
US4158206A (en) * 1977-02-07 1979-06-12 Rca Corporation Semiconductor device
JPS6146972A (ja) * 1984-08-11 1986-03-07 橋本 剛尚 縦波伝播説明装置
JPS62204357A (ja) * 1986-03-04 1987-09-09 Fujitsu Ltd 端末制御装置の出力ポ−ト検出装置

Also Published As

Publication number Publication date
US4982245A (en) 1991-01-01
JPH0766975B2 (ja) 1995-07-19
JPH02156684A (ja) 1990-06-15
KR920010675B1 (ko) 1992-12-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR900011016A (ko) 복합형 다이오드장치
KR970072395A (ko) 반도체 장치
KR910015073A (ko) 고전압 반도체 구조체 및 그 제조방법
KR860002153A (ko) 반도체 장치
KR970024165A (ko) 반도체 집적 회로 및 그 제조 방법(A Semiconductor Integrated Circuit and Its Fabricating Method)
KR920015577A (ko) 반도체장치
KR900008668A (ko) 반도체 장치
KR970060477A (ko) 반도체 장치
KR880011937A (ko) 과전압 보호용 집적회로
KR850005165A (ko) 반도체 장치
KR940003103A (ko) 집적 색선택성 광다이오드와 광다이오드에 접속하는 증폭기의 구성배열
KR930009044A (ko) 반도체 장치
KR970004014A (ko) 반도체장치
KR910008861A (ko) 집적회로소자
KR940016782A (ko) 반도체 장치
KR970067916A (ko) 접합누설이 적은 저 스트레스 광다이오드
KR910013570A (ko) 쇼트키.다이오드
KR890008993A (ko) 반도체 소자
KR910010750A (ko) 반도체 기억장치
KR910013587A (ko) 애벌란취 항복형 접합을 갖는 반도체 장치
KR870009453A (ko) 수지봉합형 반도체장치
KR860002878A (ko) 반도체 장치
KR910017656A (ko) 반도체장치
KR910008850A (ko) 반도체 디바이스
JPS5936264U (ja) シヨツトキバリア半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 19980924

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee