KR20200090853A - 화장판 - Google Patents

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KR20200090853A
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transparent film
resin
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KR1020207017895A
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고사쿠 다무라
사토시 호리우치
도시노리 기후쿠
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스미또모 베이크라이트 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 화장판은, 투명 필름과, 상기 투명 필름의 일방의 면인 제1 면 측에 배치된 경질 수지 재료로 구성된 코팅층과, 상기 투명 필름의 상기 제1 면과는 반대의 면인 제2 면 측에 배치된 은폐층과, 상기 코팅층과 상기 은폐층의 사이에 배치된 인쇄층을 구비하는 것을 특징으로 한다.

Description

화장판
본 발명은, 화장판에 관한 것이다.
빌딩, 호텔, 맨션의 로비나 회의실, 오피스의 벽면에는, 화장판이 장착되어 있다. 예를 들면, 나뭇결이나 돌결 등의 모양을 갖는 복수의 화장판이, 벽면에 장착되어 있다. 이로써, 볼품이 좋은 쾌적한 공간이 연출되고 있다. 또, 이와 같은 화장판은 부동산용 내장재로서뿐만 아니라, 전철 등의 차량용 내장재로서도 사용되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).
이와 같은 화장판에는, 배 표면 모양이나 나뭇결 등의 잔주름이 형성되어 있는 경우가 있다.
한편, 화장판의 외관에 다양성이 요구되고 있어, 잔주름으로는 표현할 수 없는 외관의 화장판도 요구되고 있다.
이와 같은 화장판을 제공하기 위하여, 화장판에 인쇄층을 마련하는 것도 생각할 수 있다.
그러나, 단순히 인쇄층을 화장판에 마련한 경우, 화장판을 시공한 상태에 있어서 목적으로 하는 심미성이 충분히 발휘되지 않는 경우가 있다.
특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2013-202906호
본 발명의 목적은, 심미성이 우수함과 함께, 내찰상성, 방오성(내오염성)이 우수한 화장판을 제공하는 것에 있다. 또, 본 발명의 목적은, 심미성이 우수함(특히, 입체감이 넘치는 우수한 외관을 가짐)과 함께, 내찰상성, 방오성(내오염성)이 우수한 화장판을 제공하는 것에 있다. 또, 본 발명의 목적은, 심미성이 우수함과 함께, 내구성, 방오성(내오염성)이 우수한 화장판을 제공하는 것에 있다.
이와 같은 목적은, 하기 (1)~(15)의 본 발명에 의하여 달성된다.
(1) 투명 필름과,
상기 투명 필름의 일방의 면인 제1 면 측에 배치된 경질 수지 재료로 구성된 코팅층과,
상기 투명 필름의 상기 제1 면과는 반대의 면인 제2 면 측에 배치된 은폐층과,
상기 코팅층과 상기 은폐층의 사이에 배치된 인쇄층을 구비하는 것을 특징으로 하는 화장판.
(2) 상기 인쇄층이, 상기 투명 필름의 상기 제2 면 측에 배치되어 있는 상기 (1)에 기재된 화장판.
(3) 상기 인쇄층과 상기 은폐층의 사이에 마련된 갭층을 구비하고,
상기 코팅층 측으로부터 관찰한 경우의, 상기 인쇄층의 표면으로부터 상기 은폐층의 표면까지의 갭 길이가 1μm 이상 50μm 이하인 상기 (2)에 기재된 화장판.
(4) 상기 갭층은, 상기 인쇄층과 상기 은폐층을 접착하는 접착층인 상기 (3)에 기재된 화장판.
(5) 상기 인쇄층은, 상기 은폐층의 상기 투명 필름에 대향하는 면에 마련되고,
상기 투명 필름과, 상기 인쇄층이 마련된 상기 은폐층의 사이에 마련된 접착층을 구비하는 상기 (2)에 기재된 화장판.
(6) 상기 인쇄층이, 상기 투명 필름의 상기 제1 면 측에 배치되어 있는 상기 (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 화장판.
(7) 상기 코팅층을 구성하는 상기 경질 수지 재료는, 멜라민계 수지를 포함하는 상기 (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 기재된 화장판.
(8) 상기 은폐층의 상기 투명 필름에 대향하는 면과는 반대의 면 측에, 심재층을 더 구비하는 상기 (1) 내지 (7) 중 어느 하나에 기재된 화장판.
(9) 상기 심재층은, 유리 섬유를 포함하는 상기 (8)에 기재된 화장판.
(10) 상기 은폐층은, 백색 또는 금속 광택을 나타내는 상기 (1) 내지 (9) 중 어느 하나에 기재된 화장판.
(11) 상기 은폐층은, 폴리에틸렌테레프탈레이트를 포함하는 재료로 구성되어 있는 상기 (1) 내지 (10) 중 어느 하나에 기재된 화장판.
(12) 상기 은폐층은, 상기 폴리에틸렌테레프탈레이트에 더하여, 산화 타이타늄 및 산화 아연 중 적어도 일방을 포함하는 재료로 구성되어 있는 상기 (11)에 기재된 화장판.
(13) 상기 은폐층의 두께는, 10μm 이상 300μm 이하인 상기 (1) 내지 (12) 중 어느 하나에 기재된 화장판.
(14) 상기 투명 필름은, 폴리에틸렌테레프탈레이트를 포함하는 재료로 구성된 기부(基部)와, 잉크 수용층을 구비하는 상기 (1) 내지 (13) 중 어느 하나에 기재된 화장판.
(15) 상기 은폐층은, 잉크 수용층을 구비하는 상기 (1) 내지 (14) 중 어느 하나에 기재된 화장판.
본 발명에 의하면, 심미성이 우수함과 함께, 내찰상성, 방오성(내오염성)이 우수한 화장판을 제공할 수 있다. 또, 본 발명에 의하면, 심미성이 우수함(특히, 입체감에 넘치는 우수한 외관을 가짐)과 함께, 내찰상성, 방오성(내오염성)이 우수한 화장판을 제공할 수 있다. 또, 본 발명에 의하면, 심미성이 우수함과 함께, 내구성, 방오성(내오염성)이 우수한 화장판을 제공할 수 있다.
도 1은, 본 발명의 화장판의 제1 실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는, 본 발명의 화장판의 제2 실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은, 본 발명의 화장판의 제조 방법의 제1 실시형태를 나타내는 단면도이다.
도 4는, 본 발명의 화장판의 제조 방법의 제2 실시형태를 나타내는 단면도이다.
도 5는, 본 발명의 화장판의 다른 적합한 실시형태를 나타내는 단면도이다.
도 6은, 본 발명의 화장판의 다른 적합한 실시형태를 나타내는 단면도이다.
도 7은, 본 발명의 화장판의 제3 실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 8은, 본 발명의 화장판의 제4 실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 9는, 본 발명의 화장판의 제조 방법의 제4 실시형태를 나타내는 단면도이다.
이하, 본 발명의 화장판에 대하여, 첨부 도면에 나타내는 적합한 실시형태에 근거하여 상세하게 설명한다.
<<화장판>>
화장판은, 빌딩, 호텔, 맨션의 로비나 엘리베이터, 회의실, 오피스 등의 벽면에 장착된다. 이로써, 공간의 볼품이나 쾌적성을 향상시킬 수 있다. 또, 화장판은, 예를 들면 부동산뿐만 아니라, 전철 등의 차량이나, 비행기, 선박 등의 내장재로서 사용되어도 된다.
[제1 실시형태]
도 1은, 본 발명의 화장판의 제1 실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 화장판(100)은, 경질 수지 재료로 구성된 코팅층(경질 수지층)(2)과, 투명 필름(투명 기재)(1)과, 인쇄층(3)과, 접착층(6)과, 은폐층(4)과, 접착층(7)과, 코어재(심재층)(5)가 이 순서로 적층되어 이루어진다.
화장판(100)이, 예를 들면 내장재로서 사용되었을 때, 도 1 중의 상측이 관찰자의 시점 측이 된다.
바꾸어 말하면, 화장판(100)은, 투명 필름(1)과, 투명 필름(1)의 일방의 면인 제1 면(11) 측에 배치된 경질 수지 재료로 구성된 코팅층(2)과, 투명 필름(1)의 제1 면(11)과는 반대의 면인 제2 면(12) 측에 배치된 은폐층(4)과, 코팅층(2)과 은폐층(4)의 사이에 배치된 인쇄층(3)을 구비하고 있다. 다시 바꾸어 말하면, 화장판(100)은, 인쇄층(3)이 마련된 투명 필름(1)과, 투명 필름(1)의 일방의 면인 제1 면(11) 측에 배치된 경질 수지 재료로 구성된 코팅층(2)과, 투명 필름(1)의 제1 면(11)과는 반대의 면인 제2 면(12) 측에 배치된 은폐층(4)을 구비하고 있다.
이와 같은 구성에 의하여, 경질 수지 재료가 갖는 내찰상성, 방오성 등의 장점을 발휘시키면서, 인쇄층(3)에 의한 패턴을 화장판(100)의 외관에 적합하게 반영시킬 수 있어, 심미성이 우수한 화장판(100)을 제공할 수 있다. 특히, 화장판(100)의 시공 부위(화장판(100)의 하지(下地))에 관계없이, 안정적으로 우수한 심미성을 발휘할 수 있다. 따라서, 심미성이 우수함과 함께, 내찰상성(흠집이 나기 어려움), 방오성(오물이 부착되기 어려움, 오물의 제거 용이성)이 우수한 화장판(100)을 제공할 수 있다. 또, 은폐층(4)과 함께, 인쇄층(3)을 구비함으로써, 다양한 패턴, 색조를 표현할 수 있어, 특히 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있다.
특히, 본 실시형태에서는, 상기 인쇄층(3)이, 투명 필름(1)의 제2 면(12) 측에 배치되어 있다.
이로써, 화장판(100)의 내마모성을 특히 향상시킬 수 있다.
<투명 필름>
투명 필름(투명 기재)(1)은, 코팅층(2), 인쇄층(3) 등을 지지하는 기능을 갖는다.
또, 투명 필름(1)은, 인쇄층(3), 은폐층(4)에서 반사한 광을 적합하게 투과한다. 즉, 투명 필름(1)은, 투과광을 관찰자에게 시인시킬 수 있도록, 충분한 광투과성을 갖고 있다.
투명 필름(1)은, 충분히 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있을 정도(인쇄층(3), 은폐층(4)이 화장판(100)의 외관에 영향을 줄 정도)의 광투과성(투명성)을 가지면 된다. 예를 들면, 투명 필름(1)에 있어서, 380nm 이상 780nm 이하의 범위의 각 파장에 대한 광의 투과율은, 80% 이상인 것이 바람직하고, 85% 이상인 것이 보다 바람직하며, 90% 이상인 것이 더 바람직하다.
이로써, 보다 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있다.
투명 필름(1)은, 투명성을 갖는 재료이면, 어떠한 재료로 구성되어도 된다. 투명 필름(1)의 구성 재료로서는, 예를 들면 각종 수지 재료, 각종 유리 재료 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 굽힘 외력 등에 대한 안정성, 취급의 용이성, 화장판(100)의 생산 비용 등의 관점에서, 투명 필름(1)은, 수지 재료를 포함하는 구성(투명 수지 필름)인 것이 바람직하다.
투명 필름(1)을 구성하는 수지 재료로서는, 예를 들면 각종 열가소성 수지, 경화성 수지 재료의 경화물 등을 이용할 수 있다. 투명 필름(1)을 구성하는 수지 재료의 구체예로서는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 에틸렌-아세트산 바이닐 공중합체(EVA) 등의 폴리올레핀, 환상 폴리올레핀(COP), 변성 폴리올레핀, 폴리 염화 바이닐, 폴리 염화 바이닐리덴, 폴리스타이렌, 폴리아마이드(예: 나일론 6, 나일론 46, 나일론 66, 나일론 610, 나일론 612, 나일론 11, 나일론 12, 나일론 6-12, 나일론 6-66), 폴리이미드, 폴리아마이드이미드, 폴리카보네이트(PC), 폴리-(4-메틸펜텐-1), 아이오노머, 아크릴계 수지, 폴리메틸메타크릴레이트, 아크릴로나이트릴-뷰타다이엔-스타이렌 공중합체(ABS 수지), 아크릴로나이트릴-스타이렌 공중합체(AS 수지), 뷰타다이엔-스타이렌 공중합체, 폴리옥시메틸렌, 폴리바이닐알코올(PVA), 에틸렌-바이닐알코올 공중합체(EVOH), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리뷰틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리사이클로헥세인테레프탈레이트(PCT) 등의 폴리에스터, 폴리에터, 폴리에터케톤(PEK), 폴리에터에터케톤(PEEK), 폴리에터이미드, 폴리아세탈(POM), 폴리페닐렌옥사이드, 변성 폴리페닐렌옥사이드, 폴리설폰, 폴리에터설폰, 폴리페닐렌설파이드, 폴리아릴레이트, 방향족 폴리에스터(액정 폴리머), 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리 불화 바이닐리덴, 그 외 불소계 수지, 스타이렌계, 폴리올레핀계, 폴리 염화 바이닐계, 폴리유레테인계, 폴리에스터계, 폴리아마이드계, 폴리뷰타다이엔계, 트랜스폴리아이소프렌계, 불소 고무계, 염소화 폴리에틸렌계 등의 각종 열가소성 엘라스토머, 에폭시 수지, 페놀 수지, 유레아 수지, 멜라민 수지, 불포화 폴리에스터, 실리콘계 수지, 유레테인계 수지, 폴리파라자일릴렌(poly-para-xylylene), 폴리모노클로로파라자일릴렌(poly-monochloro-para-xylylene), 폴리다이클로로파라자일릴렌(poly-dichloro-para-xylylene), 폴리모노플루오로파라자일릴렌(poly-monofluoro-para-xylylene), 폴리모노에틸파라자일릴렌(poly-monoethyl-para-xylylene) 등의 폴리파라자일릴렌 수지 등, 또는 이들을 주로 하는 공중합체, 블렌드체, 폴리머 알로이 등을 들 수 있다. 이들 중 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여(예를 들면, 블렌드 수지, 폴리머 알로이, 적층체 등으로서) 이용하여, 투명 필름(1)을 구성할 수 있다.
또한, 투명 필름(1)은, 상술한 이외의 성분을 포함하고 있어도 된다.
이와 같은 성분으로서는, 예를 들면 착색제, 슬립제(레벨링제), 필러, 자외선 흡수제, 가소제, 방미제, 방부제, 산화 방지제, 킬레이트제, 증점제, 소포제, 증감제(증감 색소) 등을 들 수 있다.
투명 필름(1) 중에 있어서의 수지 재료의 함유율은, 80질량% 이상인 것이 바람직하고, 90질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 95질량% 이상인 것이 더 바람직하다.
이로써, 상술한 바와 같은 효과가 보다 현저하게 발휘된다.
투명 필름(1)은, 각 부위에서 균일한 조성을 갖고 있어도 되고, 서로 다른 조성의 복수의 부위를 갖고 있어도 된다.
예를 들면, 투명 필름(1)은, 폴리에틸렌테레프탈레이트를 포함하는 재료로 구성된 기부와, 잉크 수용층을 구비하고 있어도 된다.
이로써, 굽힘 외력 등에 대한 안정성, 취급의 용이성을 보다 향상시킬 수 있음과 함께, 인쇄층(3)의 밀착성이나 인쇄층(3)의 정밀함을 보다 향상시킬 수 있어, 화장판(100)의 내구성, 심미성을 보다 향상시킬 수 있다.
투명 필름(1)의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 10μm 이상 300μm 이하인 것이 바람직하고, 20μm 이상 150μm 이하인 것이 보다 바람직하다.
이로써, 화장판(100)의 박형화를 도모하면서, 화장판(100)의 가공성, 내구성, 신뢰성 등을 특히 향상시킬 수 있다.
이것에 대하여, 투명 필름(1)의 두께가 과도하게 작으면, 화장판(100)의 내구성이 저하된다. 특히, 화장판(100)의 표면의 특성에, 투명 필름(1)보다 내측의 층(접착층(6) 등)이 주는 영향이 커진다. 그 결과, 화장판(100)의 내찰상성 등을 충분히 향상시키는 것이 곤란해질 가능성이 있다.
또, 투명 필름(1)의 두께가 과도하게 크면, 화장판(100)의 박형화를 도모하는 것이 곤란해지고, 또 화장판(100)의 가공성이 저하된다.
<코팅층>
투명 필름(1)의 제1 면(11) 측(화장판(100)이 설치된 상태에서의 관찰자의 시점 측)에는, 경질 수지 재료로 구성된 코팅층(2)이 마련되어 있다. 코팅층(2)은, 경질 수지 재료를 포함하는 코팅층 형성용 조성물을 이용하여 형성된다.
이와 같은 코팅층(2)이 마련되어 있음으로써, 화장판(100)의 내찰상성, 방오성(내오염성) 등을 향상시킬 수 있다.
또, 코팅층(2)을 구성하는 경질 수지 재료는, 일반적으로, 높은 투명성을 갖는다. 따라서, 투명 필름(1)과 함께 코팅층(2)이, 인쇄층(3), 은폐층(4)에서 반사한 광을 적합하게 투과한다. 이로써, 투과광을 관찰자에게 시인시킬 수 있어, 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있다.
또, 코팅층(2)은, 인쇄층(3), 은폐층(4) 등을 보호하는 기능도 갖고 있다.
따라서, 장기간에 걸쳐 안정적으로 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있다.
코팅층(2)은, 충분히 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있을 정도(인쇄층(3), 은폐층(4)이 화장판(100)의 외관에 영향을 줄 정도)의 광투과성(투명성)을 가지면 된다. 예를 들면, 코팅층(2)에 있어서, 380nm 이상 780nm 이하의 범위의 각 파장에 대한 광의 투과율은, 80% 이상인 것이 바람직하고, 85% 이상인 것이 보다 바람직하며, 90% 이상인 것이 더 바람직하다.
이로써, 보다 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있다.
코팅층(2)의 표면(투명 필름(1)에 대향하는 면과는 반대 측의 면)의 마르텐스 경도는, 200N/mm2 이상 800N/mm2 이하인 것이 바람직하고, 300N/mm2 이상 700N/mm2 이하인 것이 보다 바람직하다.
이로써, 화장판(100)을 특히 흠집이 나기 어렵게 할 수 있다.
이것에 대하여, 코팅층(2)의 표면의 마르텐스 경도가 상기 하한값 미만이면, 코팅층(2)의 내찰상성 등이 낮아지고, 따라서 화장판(100)은, 흠집이 나기 쉬워진다.
또, 코팅층(2)의 표면의 마르텐스 경도가 상기 상한값을 초과하면, 화장판(100)의 가공성이 낮아질 가능성이 있다.
코팅층(2)의 구성 재료로서는, 예를 들면 멜라민계 수지, 유레아계 수지, 염화 바이닐계 수지, 페놀계 수지, 아크릴계 수지, 유레테인계 수지 등의 수지 재료 등, 세라믹계, 유리계 등의 무기 재료를 들 수 있다. 이들 중에서도, 코팅층(2)은, 멜라민계 수지를 포함하는 재료로 구성되는 것이 바람직하다.
이로써, 적당한 탄성, 강성을 갖고, 취급성(취급의 용이성)이 특히 우수한 화장판(100)을 제공할 수 있다. 또, 멜라민계 수지는, 각종 경질 수지 재료 중에서도, 특히 높은 표면 경도를 갖고, 내찰상성, 방오성(오물이 부착되기 어려움)이 특히 우수하다. 이 때문에, 화장판(100)의 심미성, 내구성의 가일층의 향상의 관점에서도 멜라민계 수지는 바람직하다.
이하, 코팅층(2)이 멜라민계 수지를 포함하는 재료로 구성된 경우에 대하여 중심적으로 설명한다.
멜라민계 수지는, 구성 성분으로서 멜라민 화합물과 알데하이드 화합물을 포함하는 수지이다.
멜라민 화합물은, 1,3,5-트라이아진 골격을 갖는 화합물이며, 트라이아진환에 3개의 아미노기가 도입된 화합물이다.
멜라민 화합물의 바람직한 구조는, 예를 들면 하기 식 (3)으로 나타낸다.
[화학식 1]
Figure pct00001
(식 (3) 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수가 1 이상 4 이하의 탄화 수소기이다.)
멜라민 화합물로서는, 특히 식 (3)의 R1, R2 및 R3이 모두 수소 원자인 화합물(멜라민)이 바람직하다.
이로써, 화장판(100)의 경도를 보다 향상시킬 수 있다. 또, 화장판(100)을 구성하는 멜라민계 수지의 합성을 보다 효율적으로 행할 수 있다.
알데하이드 화합물은, 분자 내에 알데하이드기(-CHO)를 가지면 되고, 예를 들면 하기 식 (2)로 나타낸다.
[화학식 2]
Figure pct00002
(식 (2) 중, R은 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수가 1 이상 10 이하의 탄화 수소기이다.)
알데하이드 화합물로서는, 특히 폼알데하이드가 바람직하다.
이로써, 화장판(100)의 경도를 보다 향상시킬 수 있다. 또, 화장판(100)을 구성하는 멜라민계 수지의 합성을 보다 효율적으로 행할 수 있다.
멜라민계 수지는, 구성 성분으로서 멜라민 화합물 및 알데하이드 화합물을 포함하고 있으면 된다. 멜라민계 수지는, 멜라민 화합물 및 알데하이드 화합물에 더하여, 구아나민 화합물을 구성 성분으로서 더 포함하고 있어도 된다.
이로써, 화장판(100)의 경도를 충분히 향상시키면서, 화장판(100)의 가공성을 특히 향상시킬 수 있다.
구아나민 화합물은, 1,3,5-트라이아진 골격을 갖는 화합물이며, 트라이아진환에 2개의 아미노기가 도입된 화합물이다.
구아나민 화합물의 바람직한 구조로서는, 예를 들면 하기 식 (1)로 나타낸다.
[화학식 3]
Figure pct00003
(식 (1) 중, R은 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수가 1 이상 10 이하의 탄화 수소기이다.)
구아나민 화합물로서는, 특히 식 (1)의 R이 메틸기인 화합물(아세토구아나민)이 바람직하다.
이로써, 화장판(100)의 경도 및 가공성을 보다 높은 레벨로 양립시킬 수 있다. 또, 화장판(100)을 구성하는 멜라민계 수지의 합성을 보다 효율적으로 행할 수 있다.
멜라민계 수지는, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 멜라민계 화합물과 알데하이드계 화합물을 중성 또는 약알칼리 하에 있어서 반응시켜 얻어지는 멜라민계 수지 등을 이용할 수 있다.
멜라민계 화합물에 대한 알데하이드계 화합물의 반응 몰비((알데하이드계 화합물의 몰량)/(멜라민계 화합물의 몰량)의 값이며, 이하 간단히 "반응 몰비"라고 하는 경우가 있음)는, 특별히 한정되지 않는다. 반응 몰비는, 1.0 이상 4.0 이하인 것이 바람직하고, 1.0 이상 2.0 이하인 것이 보다 바람직하며, 1.1 이상 1.8 이하인 것이 더 바람직하다.
반응 몰비가 상기 하한값 미만이면, 미반응 성분이 증가한다. 그 결과, 얻어진멜라민계 수지의 보존성이 저하되어, 고비용이 되는 경우가 있다.
또, 상기 상한값을 초과하면, 경화 후의 멜라민계 수지의 유연성이 현저하게 저하되는 경우가 있다.
또한, 멜라민계 수지에 있어서는, 1종류의 멜라민계 수지를 단독으로 이용할 수도 있고, 반응 몰비나 중량 평균 분자량 등이 다른 2종류 이상의 멜라민계 수지를 혼합하여 이용할 수도 있다.
또, 멜라민계 수지로서는, 예를 들면 스미토모 가가쿠(주)제의 멜라민계 수지 등, 시판품을 이용할 수도 있다.
또한, 코팅층(2) 중에는, 상술한 이외의 성분이 포함되어 있어도 된다.
이와 같은 성분으로서는, 예를 들면 무기 충전제, 착색제, 슬립제(레벨링제), 필러, 자외선 흡수제, 가소제, 방미제, 방부제, 산화 방지제, 킬레이트제, 증점제, 소포제, 증감제(증감 색소) 등을 들 수 있다.
코팅층(2) 중에 있어서의 멜라민계 수지의 함유율은, 특별히 한정되지 않지만, 80질량% 이상 100질량% 이하인 것이 바람직하고, 95질량% 이상 100질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.
이로써, 상술한 바와 같은 효과가 보다 현저하게 발휘된다.
코팅층(2)의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 1μm 이상 30μm 이하인 것이 바람직하고, 3μm 이상 20μm 이하인 것이 보다 바람직하다.
이로써, 화장판(100)의 내찰상성, 방오성(내오염성)을 특히 향상시킬 수 있음과 함께, 화장판(100)의 굽힘 가공성 등도 특히 향상시킬 수 있다.
또, 코팅층(2)의 외표면(투명 필름(1)에 대향하는 면과는 반대 측의 면) 측에는, 경면 완성, 엠보싱 완성 등의 표면 완성이 실시되어 있어도 된다.
이로써, 화장판(100)의 심미성의 가일층의 향상을 도모할 수 있다.
<인쇄층>
투명 필름(1)의 제2 면(12)(제1 면(11)의 반대의 면) 측에는, 인쇄층(3)이 마련되어 있다.
인쇄층(3)은, 나중에 상세하게 설명하는 은폐층(4)과 함께, 은폐층(4)보다 화장판(100)의 외표면 측(관찰자의 시점 측)에 마련되어 있다. 이로써, 특히 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면 인쇄층(3)과 은폐층(4)의 콘트라스트를 보다 높게 할 수 있어, 인쇄층(3)을 보다 인식하기 쉽게 할 수 있다. 그 결과, 특히 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있다.
또, 인쇄층(3)이 투명 필름(1)의 제2 면(12) 측에 마련되어 있음으로써, 화장판(100)의 내구성을 특히 향상시킬 수 있다.
인쇄층(3)은, 통상 안료, 염료 등의 착색제를 포함하는 재료로 구성된다.
또, 인쇄층(3)은, 착색제에 더하여, 수지 재료를 포함하고 있어도 된다. 이로써, 인쇄층(3)의 투명 필름(1) 등에 대한 밀착성을 향상시킬 수 있어, 화장판(100)의 내구성을 보다 향상시킬 수 있다. 또, 화장판(100)의 제조 시에 있어서, 인쇄층(3)의 형성에 이용되는 잉크의 본의 아닌 뭉침이나 젖음 확산을 보다 효과적으로 방지 또는 억제할 수 있다. 이로써, 인쇄층(3)의 패턴의 정밀도를 보다 확실히 향상시킬 수 있다.
인쇄층(3)을 구성하는 수지 재료로서는, 예를 들면 각종 열가소성 수지, 경화성 수지 재료의 경화물 등을 이용할 수 있다. 인쇄층(3)을 구성하는 수지 재료의 구체예로서는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 에틸렌-아세트산 바이닐 공중합체(EVA) 등의 폴리올레핀, 환상 폴리올레핀(COP), 변성 폴리올레핀, 폴리 염화 바이닐, 폴리 염화 바이닐리덴, 폴리스타이렌, 폴리아마이드(예: 나일론 6, 나일론 46, 나일론 66, 나일론 610, 나일론 612, 나일론 11, 나일론 12, 나일론 6-12, 나일론 6-66), 폴리이미드, 폴리아마이드이미드, 폴리카보네이트(PC), 폴리-(4-메틸펜텐-1), 아이오노머, 아크릴계 수지, 폴리메틸메타크릴레이트, 아크릴로나이트릴-뷰타다이엔-스타이렌 공중합체(ABS 수지), 아크릴로나이트릴-스타이렌 공중합체(AS 수지), 뷰타다이엔-스타이렌 공중합체, 폴리옥시메틸렌, 폴리바이닐알코올(PVA), 에틸렌-바이닐알코올 공중합체(EVOH), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리뷰틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리사이클로헥세인테레프탈레이트(PCT) 등의 폴리에스터, 폴리에터, 폴리에터케톤(PEK), 폴리에터에터케톤(PEEK), 폴리에터이미드, 폴리아세탈(POM), 폴리페닐렌옥사이드, 변성 폴리페닐렌옥사이드, 폴리설폰, 폴리에터설폰, 폴리페닐렌설파이드, 폴리아릴레이트, 방향족 폴리에스터(액정 폴리머), 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리 불화 바이닐리덴, 그 외 불소계 수지, 스타이렌계, 폴리올레핀계, 폴리 염화 바이닐계, 폴리유레테인계, 폴리에스터계, 폴리아마이드계, 폴리뷰타다이엔계, 트랜스폴리아이소프렌계, 불소 고무계, 염소화 폴리에틸렌계 등의 각종 열가소성 엘라스토머, 에폭시 수지, 페놀 수지, 유레아 수지, 멜라민 수지, 불포화 폴리에스터, 실리콘계 수지, 유레테인계 수지, 폴리파라자일릴렌(poly-para-xylylene), 폴리모노클로로파라자일릴렌(poly-monochloro-para-xylylene), 폴리다이클로로파라자일릴렌(poly-dichloro-para-xylylene), 폴리모노플루오로파라자일릴렌(poly-monofluoro-para-xylylene), 폴리모노에틸파라자일릴렌(poly-monoethyl-para-xylylene) 등의 폴리파라자일릴렌 수지 등, 또는 이들을 주로 하는 공중합체, 블렌드체, 폴리머 알로이 등을 들 수 있다. 이들 중 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여(예를 들면, 블렌드 수지, 폴리머 알로이, 적층체 등으로서) 이용하여, 인쇄층(3)을 구성할 수 있다.
또한, 인쇄층(3) 중에는, 상술한 이외의 성분이 포함되어 있어도 된다.
이와 같은 성분으로서는, 예를 들면 슬립제(레벨링제), 필러, 자외선 흡수제, 가소제, 분산제, 침투 촉진제, 습윤제(보습제), 정착제, 방미제, 방부제, 산화 방지제, 킬레이트제, 증점제, 소포제, 증감제(증감 색소) 등을 들 수 있다.
인쇄층(3)은, 어떠한 패턴으로 마련되어도 되지만, 이 패턴은, 통상 수요자의 요구 등에 따라 결정된다.
인쇄층(3)의 패턴으로서는, 예를 들면 나뭇결, 석재조(石材調), 줄무늬 가공, 각종 기하학 모양 등을 들 수 있다.
또한, 도시의 구성에서는, 인쇄층(3)은, 투명 필름(1)의 제2 면(12)의 일부에만 선택적으로 마련되어 있지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 은폐층(4)으로부터의 반사광의 적어도 일부를 투과할 수 있다면, 인쇄층(3)은, 투명 필름(1)의 제2 면(12)의 전체에 마련되어 있어도 된다.
또, 도시의 구성에서는, 투명 필름(1)과 인쇄층(3)의 사이에는 명확한 계면이 있지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 화장판(100)의 제조 과정에 있어서, 투명 필름(1)의 일부가 용해 등 함으로써, 투명 필름(1)과 인쇄층(3)의 계면이 불선명(불명료)하게 되어 있어도 된다.
또, 예를 들면 투명 필름(1)이 잉크 수용층을 갖는 경우, 인쇄층(3)은, 잉크가 투명 필름(1)(특히, 잉크 수용층)의 내부에 침투함으로써, 투명 필름(1)의 내부에 형성되어도 된다.
<은폐층>
인쇄층(3)의 투명 필름(1)에 대향하는 면과는 반대의 면 측에는, 은폐성을 갖는 은폐층(4)이 마련되어 있다.
은폐층(4)을 구비함으로써, 은폐층(4)의 이면 측(인쇄층(3)에 대향하는 면과는 반대의 면 측)의 모습을 은폐할 수 있다. 이로써, 화장판(100)의 은폐층(4)보다 이측의 구성이나 화장판(100)이 설치되는 부위(벽면 등)가, 화장판(100)의 외관에 악영향을 주는 것을 효과적으로 방지할 수 있다. 그 결과, 원하는 외관을 갖는 화장판(100)을 확실히 얻을 수 있다.
특히, 은폐층(4)이, 화장판(100)의 사용 상태에 있어서, 인쇄층(3)보다 관찰자의 시점에서 떨어진 측(내측)에 마련되어 있음으로써, 다음의 효과를 나타낼 수 있다. 즉, 인쇄층(3)과 은폐층(4)의 조합의 색조, 패턴을 관찰자에게 적합하게 시인시킬 수 있다. 따라서, 특히 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있다.
또, 은폐층(4)은, 코팅층(2), 투명 필름(1) 등보다 내측에 마련되어 있음으로써, 화장판(100)의 내구성을 보다 향상시킬 수 있다.
은폐층(4)은, 그 이면 측을 은폐하는 기능을 갖고 있으면 되고, 그 색조는 특별히 한정되지 않는다. 단, 이하에 나타내는 효과의 관점에서, 은폐층(4)은, 무채색을 나타내는 것이 바람직하다.
이로써, 화장판(100)의 외관상의 콘트라스트를 향상시킬 수 있어, 인쇄층(3)의 시인성, 인쇄층(3) 등에 의한 심미성을 더 향상시킬 수 있다. 또, 무채색은, 폭넓은 색과의 조합에 있어서, 우수한 시인성, 심미성을 발휘시킬 수 있기 때문에, 인쇄층(3)의 색조의 선택의 폭이 넓어진다. 또, 인쇄층(3)이 각 부위에서 미묘한 색조의 변화를 수반하는 경우여도, 관찰자에게 이와 같은 미묘한 색조의 변화를 시인시키기 쉬워, 화장판(100)의 심미성을 더 향상시키는 데에 있어서 유리하다.
이와 같은 효과는, 은폐층(4)이, 백색 또는 금속 광택을 나타내는 경우에, 보다 현저하게 발휘된다.
은폐층(4)에 있어서, 380nm 이상 780nm 이하의 범위의 각 파장에 대한 광의 투과율은, 0% 이상 40% 이하인 것이 바람직하고, 0% 이상 30% 이하인 것이 보다 바람직하며, 0% 이상 25% 이하인 것이 더 바람직하다.
이로써, 은폐층(4)을 갖는 것에 의한 효과가 보다 현저하게 발휘된다.
은폐층(4)은, 어떠한 재료로 구성되어 있어도 되고, 은폐층(4)의 구성 재료로서는, 예를 들면 수지 재료, 금속 재료, 금속 산화물 등의 금속 화합물 등을 들 수 있다.
수지 재료로서는, 각종 열가소성 수지, 경화성 수지 재료의 경화물 등을 이용할 수 있다. 보다 구체적으로는, 예를 들면 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 에틸렌-아세트산 바이닐 공중합체(EVA) 등의 폴리올레핀, 환상 폴리올레핀(COP), 변성 폴리올레핀, 폴리 염화 바이닐, 폴리 염화 바이닐리덴, 폴리스타이렌, 폴리아마이드(예: 나일론 6, 나일론 46, 나일론 66, 나일론 610, 나일론 612, 나일론 11, 나일론 12, 나일론 6-12, 나일론 6-66), 폴리이미드, 폴리아마이드이미드, 폴리카보네이트(PC), 폴리-(4-메틸펜텐-1), 아이오노머, 아크릴계 수지, 폴리메틸메타크릴레이트, 아크릴로나이트릴-뷰타다이엔-스타이렌 공중합체(ABS 수지), 아크릴로나이트릴-스타이렌 공중합체(AS 수지), 뷰타다이엔-스타이렌 공중합체, 폴리옥시메틸렌, 폴리바이닐알코올(PVA), 에틸렌-바이닐알코올 공중합체(EVOH), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리뷰틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리사이클로헥세인테레프탈레이트(PCT) 등의 폴리에스터, 폴리에터, 폴리에터케톤(PEK), 폴리에터에터케톤(PEEK), 폴리에터이미드, 폴리아세탈(POM), 폴리페닐렌옥사이드, 변성 폴리페닐렌옥사이드, 폴리설폰, 폴리에터설폰, 폴리페닐렌설파이드, 폴리아릴레이트, 방향족 폴리에스터(액정 폴리머), 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리 불화 바이닐리덴, 그 외 불소계 수지, 스타이렌계, 폴리올레핀계, 폴리 염화 바이닐계, 폴리유레테인계, 폴리에스터계, 폴리아마이드계, 폴리뷰타다이엔계, 트랜스폴리아이소프렌계, 불소 고무계, 염소화 폴리에틸렌계 등의 각종 열가소성 엘라스토머, 에폭시 수지, 페놀 수지, 유레아 수지, 멜라민 수지, 불포화 폴리에스터, 실리콘계 수지, 유레테인계 수지, 폴리파라자일릴렌(poly-para-xylylene), 폴리모노클로로파라자일릴렌(poly-monochloro-para-xylylene), 폴리다이클로로파라자일릴렌(poly-dichloro-para-xylylene), 폴리모노플루오로파라자일릴렌(poly-monofluoro-para-xylylene), 폴리모노에틸파라자일릴렌(poly-monoethyl-para-xylylene) 등의 폴리파라자일릴렌 수지 등, 또는 이들을 주로 하는 공중합체, 블렌드체, 폴리머 알로이 등을 들 수 있다. 이들 중 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여(예를 들면, 블렌드 수지, 폴리머 알로이, 적층체 등으로서) 이용하여, 은폐층(4)을 구성할 수 있다.
이들 중에서도, 은폐층(4)은, 적어도 폴리에틸렌테레프탈레이트를 포함하는 재료로 구성되어 있는 것이 바람직하다.
이로써, 은폐층(4)의, 접착층(6)이나 코어재(5), 인쇄층(3)에 대한 밀착성을 보다 향상시킬 수 있어, 화장판(100)의 내구성을 더 향상시킬 수 있다. 또, 폴리에틸렌테레프탈레이트를 포함하는 재료로 구성된 은폐층(4)은, 일반적으로, 적당한 유연성을 갖고 있기 때문에, 화장판(100) 전체로서의 가공성, 취급의 용이성이 향상된다.
또, 은폐층(4)은, 상술한 성분 이외의 성분을 포함하고 있어도 된다.
이와 같은 성분으로서는, 예를 들면 산화 타이타늄, 산화 아연 등의 백색 안료; 카본 블랙 등의 흑색 안료; 그 외의 안료; 각종 염료; 각종 금속 재료 등을 들 수 있다.
이와 같은 성분을 포함함으로써, 은폐층(4)의 은폐성 이외의 특성(예를 들면, 투명 필름(1)이나 인쇄층(3)과의 밀착성, 인성, 가요성 등)의 저하를 보다 효과적으로 방지하면서, 은폐층(4)에 의한 은폐성을 보다 향상시킬 수 있다.
그 중에서도, 은폐층(4)이, 폴리에틸렌테레프탈레이트에 더하여, 산화 타이타늄 및 산화 아연 중 적어도 일방을 포함하는 재료로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 이로써, 화장판(100)의 내구성을 향상시킬 수 있음과 함께, 은폐층(4)을, 명도가 높은 백색 또는 금속 광택을 나타내는 구성으로 할 수 있다. 또, 화장판(100)의 생산 비용의 저감의 관점에서도 유리하다.
또, 은폐층(4)은, 상술한 이외의 성분을 포함하고 있어도 된다.
이와 같은 성분으로서는, 예를 들면 슬립제(레벨링제), 필러, 자외선 흡수제, 가소제, 방미제, 방부제, 산화 방지제, 킬레이트제, 증점제, 소포제 등을 들 수 있다.
또, 은폐층(4)은, 복수 개의 기포를 포함하고 있어도 된다.
이로써, 은폐층(4) 중에 있어서의 수지 재료(예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트) 이외의 성분의 함유율을 낮게 하면서, 광의 난반사(難反射)에 의하여 은폐층(4)에 의한 은폐성을 향상시킬 수 있다.
은폐층(4)이, 폴리에틸렌테레프탈레이트를 포함하는 재료로 구성되어 있는 경우, 은폐층(4) 중에 있어서의 폴리에틸렌테레프탈레이트의 함유율은, 특별히 한정되지 않지만, 60질량% 이상 99.5질량% 이하인 것이 바람직하고, 80질량% 이상 99질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.
이로써, 상술한 바와 같은 효과가 보다 현저하게 발휘된다.
은폐층(4)의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 10μm 이상 300μm 이하인 것이 바람직하고, 20μm 이상 200μm 이하인 것이 보다 바람직하다.
이로써, 화장판(100)이 필요 이상으로 후형화하는 것을 보다 효과적으로 방지하면서, 은폐층(4)의 기능(예를 들면, 은폐층(4)에 의한 은폐성)을 보다 효과적으로 발휘시킬 수 있다. 또, 굽힘 외력 등에 대한 안정성, 취급의 용이성을 보다 향상시킬 수 있다.
은폐층(4)은, 예를 들면 평탄성이 높은 표면을 갖고 있어도 된다. 또, 은폐층(4)의 표면에는, 엠보싱 가공, 줄무늬 가공, 블라스트 가공 등의 조면화 처리가 실시되어 있어도 된다.
조면화 처리는, 투명 필름(1)에 대향하는 측의 면에 실시되어 있어도 되고, 코어재(5)에 대향하는 측의 면(투명 필름(1)에 대향하는 면과는 반대 측의 면)에 실시되어 있어도 되며, 이들 양쪽 모두에 실시되어 있어도 된다. 또, 조면화 처리는, 대상이 되는 면의 전체에 실시되어 있어도 되고, 면의 일부에만 실시되어 있어도 된다.
상술한 은폐층(4)은, 인쇄층(3)이 마련되는 부위, 즉, 인쇄층(3)의 하지로서의 기능을 가질 수도 있다. 이와 같은 구성이어도, 은폐층(4)은, 화장판(100)의 사용 상태에 있어서, 인쇄층(3)보다 관찰자의 시점에서 떨어진 측(내측)에 배치된다. 이로써, 인쇄층(3)과 은폐층(4)의 조합의 색조, 패턴을 관찰자에게 적합하게 시인시킬 수 있어, 특히 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있다. 특히, 은폐층(4)에 인쇄층(3)이 마련됨으로써(인쇄층(3)이 은폐층(4)과 접촉함으로써), 이들 사이에 다른 구성을 갖는 경우에 비하여, 인쇄층(3)의 패턴은, 콘트라스트가 우수하여, 관찰자에게 선명히 인식될 수 있다. 그 결과, 특히 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있다.
은폐층(4)이, 인쇄층(3)의 하지로서의 기능을 갖는 경우, 은폐층(4)은, 잉크 수용층을 구비하는 것이 바람직하다.
이로써, 인쇄층(3)의 형성에 이용하는 잉크를 은폐층(4)(잉크 수용층)의 내부에 적합하게 침투시켜, 인쇄층(3)과 은폐층(4)의 밀착성을 보다 향상시킬 수 있다. 또, 인쇄층(3)을 은폐층(4)의 내부에 형성함으로써, 은폐층(4)의 표면(투명 필름(1)에 대향하는 면)에 노출되어 있는 인쇄층(3)의 비율을 억제할 수 있어, 은폐층(4)의 면내의 각 부위에서의 투명 필름(1)에 대한 접착성(접착층(6)을 통한 접착성)의 차를 작게 할 수 있다. 그 결과, 화장판(100)의 신뢰성을 보다 향상시킬 수 있다. 또, 은폐층(4) 중에 착색제가 포함되지 않는 경우나 은폐층(4) 중에 있어서의 착색제의 함유율이 낮은 경우에서도, 은폐층(4)에 의한 은폐성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 은폐층(4) 중에 착색제를 포함하는 것(특히, 비교적 높은 함유율제를 포함하는 것)에 의한 은폐층(4)의 본의 아닌 물성의 변화를 효과적으로 방지할 수 있어, 원하는 물성을 갖는 은폐층(4)을 용이하게 얻을 수 있다.
잉크 수용층은, 공극부를 갖고 있어도 된다. 이 경우, 공극부는, 예를 들면 잉크 수용층을 구성 성분으로서의 복수 개의 입자 간의 간극으로서 마련되어 있어도 된다. 단, 공극부는, 발포에 의하여 형성되어 있는 것이 바람직하다.
이로써, 인쇄층(3)의 형성에 이용하는 잉크를 은폐층(4)(잉크 수용층)의 내부에 의하여 적합하게 침투시켜, 인쇄층(3)과 은폐층(4)의 밀착성을 더 향상시킬 수 있다.
잉크 수용층 중에 있어서의 공극률(공극부가 차지하는 체적율)은, 특별히 한정되지 않지만, 5체적% 이상 60체적% 이하인 것이 바람직하고, 10체적% 이상 55체적% 이하인 것이 보다 바람직하며, 15체적% 이상 50체적% 이하인 것이 더 바람직하다.
이로써, 잉크 수용층의 강도를 충분히 향상시키면서, 상술한 바와 같은 잉크 수용층을 마련한 것에 의한 효과가 보다 효과적으로 발휘된다.
잉크 수용층에 있어서의 공극부가 공공(空孔)인 경우, 당해 공공의 평균 직경은, 10nm 이상 10μm 이하인 것이 바람직하고, 20nm 이상 7μm 이하인 것이 보다 바람직하며, 30nm 이상 5μm 이하인 것이 더 바람직하다.
이로써, 상술한 바와 같은 효과가 보다 현저하게 발휘됨과 함께, 잉크의 흡수성을 보다 향상시킬 수 있어, 인쇄층(3)의 형성 효율(화장판(100)의 생산성)을 보다 향상시킬 수 있다.
잉크 수용층(실체부)의 구성 재료는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 각종 열가소성 수지, 경화성 수지 재료의 경화물 등의 각종 수지 재료가 바람직하다. 잉크 수용층(실체부)을 구성하는 수지 재료의 구체예로서는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 에틸렌-아세트산 바이닐 공중합체(EVA) 등의 폴리올레핀, 환상 폴리올레핀(COP), 변성 폴리올레핀, 폴리 염화 바이닐, 폴리 염화 바이닐리덴, 폴리스타이렌, 폴리아마이드(예: 나일론 6, 나일론 46, 나일론 66, 나일론 610, 나일론 612, 나일론 11, 나일론 12, 나일론 6-12, 나일론 6-66), 폴리이미드, 폴리아마이드이미드, 폴리카보네이트(PC), 폴리-(4-메틸펜텐-1), 아이오노머, 아크릴계 수지, 폴리메틸메타크릴레이트, 아크릴로나이트릴-뷰타다이엔-스타이렌 공중합체(ABS 수지), 아크릴로나이트릴-스타이렌 공중합체(AS 수지), 뷰타다이엔-스타이렌 공중합체, 폴리옥시메틸렌, 폴리바이닐알코올(PVA), 에틸렌-바이닐알코올 공중합체(EVOH), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리뷰틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리사이클로헥세인테레프탈레이트(PCT) 등의 폴리에스터, 폴리에터, 폴리에터케톤(PEK), 폴리에터에터케톤(PEEK), 폴리에터이미드, 폴리아세탈(POM), 폴리페닐렌옥사이드, 변성 폴리페닐렌옥사이드, 폴리설폰, 폴리에터설폰, 폴리페닐렌설파이드, 폴리아릴레이트, 방향족 폴리에스터(액정 폴리머), 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리 불화 바이닐리덴, 그 외 불소계 수지, 스타이렌계, 폴리올레핀계, 폴리 염화 바이닐계, 폴리유레테인계, 폴리에스터계, 폴리아마이드계, 폴리뷰타다이엔계, 트랜스폴리아이소프렌계, 불소 고무계, 염소화 폴리에틸렌계 등의 각종 열가소성 엘라스토머, 에폭시 수지, 페놀 수지, 유레아 수지, 멜라민 수지, 불포화 폴리에스터, 실리콘계 수지, 유레테인계 수지, 폴리파라자일릴렌(poly-para-xylylene), 폴리모노클로로파라자일릴렌(poly-monochloro-para-xylylene), 폴리다이클로로파라자일릴렌(poly-dichloro-para-xylylene), 폴리모노플루오로파라자일릴렌(poly-monofluoro-para-xylylene), 폴리모노에틸파라자일릴렌(poly-monoethyl-para-xylylene) 등의 폴리파라자일릴렌 수지 등, 또는 이들을 주로 하는 공중합체, 블렌드체, 폴리머 알로이 등을 들 수 있다. 이들 중 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여(예를 들면, 블렌드 수지, 폴리머 알로이, 적층체 등으로서) 이용하여, 잉크 수용층을 구성할 수 있다.
잉크 수용층 중에 있어서의 수지 재료의 함유율은, 특별히 한정되지 않지만, 90질량% 이상 99.5질량% 이하인 것이 바람직하고, 95질량% 이상 99질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.
이로써, 상술한 바와 같은 효과가 보다 현저하게 발휘된다.
잉크 수용층의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 20nm 이상 50μm 이하인 것이 바람직하고, 30nm 이상 40μm 이하인 것이 보다 바람직하며, 40nm 이상 30μm 이하인 것이 더 바람직하다.
이로써, 은폐층(4)에 의한 은폐성을 보다 향상시키면서, 화장판(100)의 후형화를 보다 효과적으로 방지할 수 있다.
은폐층(4)의 기부는, 폴리에틸렌테레프탈레이트를 포함하는 재료로 구성되어 있는 것이 바람직하다.
이로써, 보다 적합한 탄성, 강성을 화장판(100) 전체에 부여할 수 있어, 취급성(취급의 용이성)이 특히 우수한 화장판(100)을 제공할 수 있다.
또, 은폐층(4)의 기부는, 수지 재료 이외의 성분을 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 성분으로서는, 예를 들면 착색제, 슬립제(레벨링제), 필러, 자외선 흡수제, 가소제, 방미제, 방부제, 산화 방지제, 킬레이트제, 증점제, 소포제, 증감제(증감 색소) 등을 들 수 있다.
기부 중에 있어서의 수지 재료의 함유율은, 특별히 한정되지 않지만, 90질량% 이상 99.5질량% 이하인 것이 바람직하고, 95질량% 이상 99질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.
이로써, 상술한 바와 같은 효과가 보다 현저하게 발휘된다.
기부의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 30nm 이상 260μm 이하인 것이 바람직하고, 70nm 이상 210μm 이하인 것이 보다 바람직하며, 110nm 이상 170μm 이하인 것이 더 바람직하다.
이로써, 화장판(100)의 박형화를 도모하면서, 화장판(100)의 가공성, 내구성, 신뢰성 등을 특히 향상시킬 수 있다.
<접착층(제1 접착층)>
본 실시형태에서는, 인쇄층(3)이 마련된 투명 필름(1)과, 은폐층(4)과의 사이에 이들을 접합하는 기능을 갖는 접착층(제1 접착층)(6)이 마련되어 있다.
이로써, 인쇄층(3)이 마련된 투명 필름(1)과 은폐층(4)의 밀착성을 향상시킬 수 있어, 화장판(100)의 내구성을 향상시킬 수 있다. 또, 비교적 온화한 제조 조건(온도, 압력 등)에 의하여 화장판(100)을 제조할 수 있다. 따라서, 화장판(100)의 구성 재료의 본의 아닌 열화 등을 효과적으로 방지하여, 화장판(100)의 신뢰성을 향상시킬 수 있음과 함께, 생산 설비, 생산 비용, 에너지 절약 등의 관점에서도 유리하다. 또, 화장판(100)의 제조를 보다 용이하게 행할 수 있고, 화장판(100)의 생산성의 향상을 도모할 수 있다.
접착층(6)을 구성하는 접착제로서는, 예를 들면 아크릴계 접착제, 유레테인계 접착제, 실리콘계 접착제, 폴리이미드, 폴리이미드아마이드, 폴리이미드아마이드에터, 폴리에스터이미드, 폴리이미드에터 등의 열가소성 폴리이미드계 접착제, 각종 핫 멜트 접착제(폴리에스터계, 변성 올레핀계), 폴리아세트산 바이닐(VA), 폴리에틸렌바이닐아세테이트(EVA)계 접착제 등을 들 수 있다.
또, 접착층(6)은, 열가소성 수지 에멀션의 고형분이어도 된다.
이로써, 인쇄층(3)이 마련된 투명 필름(1)과, 은폐층(4)의 밀착성을 특히 향상시킬 수 있다. 그 결과, 화장판(100)의 내구성을 특히 향상시킬 수 있음과 함께, 화장판(100)의 가공성을 특히 향상시킬 수 있다.
이하의 설명에서는, 접착층(6)이 열가소성 수지 에멀션의 고형분을 포함하는 경우에 대하여, 중심적으로 설명한다.
또한, 본 명세서 중에 있어서, 열가소성 수지 에멀션이란, 열가소성 수지가 용제에 분산되어 에멀션 상태가 된 원료를 의미한다.
또, 열가소성 수지 에멀션의 고형분이란, 열가소성 수지 에멀션으로부터 용제를 제외한 성분을 의미한다.
열가소성 수지 에멀션의 고형분은, 에멀션 수지 입자로서 존재하는 성분을 포함하고, 각종 재료(각종 수지 재료나 착색제 등)와의 접착 특성을 가지며, 화장판(100)에 유연성을 부여한다. 그 결과, 인쇄층(3)이 마련된 투명 필름(1)과 은폐층(4)의 밀착성(접착 강도)을 향상시킬 수 있음과 함께, 화장판(100)의 굽힘 가공성을 향상시킬 수 있다.
열가소성 수지 에멀션의 고형분에는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 아크릴 수지, 유레테인 수지, 아세트산 바이닐계 공중합체, 유레테인아크릴 복합 입자, 스타이렌뷰타다이엔 고무(SBR), 나이트릴 고무(NBR) 등의 열가소성 수지의 에멀션 입자를 들 수 있다. 이들 중에서도 유레테인아크릴 복합 입자가 바람직하다.
본 명세서 중에 있어서, 유레테인아크릴 복합 입자란, 단일 입자 내에 아크릴 수지와 유레테인 수지의 이상(異相) 구조를 갖는 입자를 의미한다.
유레테인 수지와 아크릴 수지의 각각은, 투명 필름(1), 은폐층(4) 및 후술하는 심재층(5)에 대하여, 높은 접착 강도를 갖는다. 이 때문에, 유레테인아크릴 복합 입자를 이용함으로써, 투명 필름(1), 은폐층(4) 및 심재층(5)과의 양호한 접착 강도를 발현할 수 있다. 또한, 유레테인 수지는, 특히 강인성, 탄성, 유연성이 우수하고, 아크릴 수지는, 특히 투명성, 내구성, 내후성, 내약품성, 조막성이 우수하다.
또, 본 명세서 중에 있어서 "이상 구조"란, 1개의 입자 내에 다른 종류의 수지로 이루어지는 상(相)이 복수 존재하는 구조를 의미하고, 예를 들면 코어 셸 구조, 국재 구조, 해도(海島) 구조 등을 들 수 있다.
또, 접착층(6)에 있어서의 복수 개의 유레테인아크릴 복합 입자의 배열 상태는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 직쇄 구조 등을 들 수 있다. 입자의 구조 및 입자 간의 배열 상태는, 예를 들면 주사형 전자 현미경(SEM)에 의하여 확인할 수 있다.
상술한 것 중에서도, 상기 유레테인아크릴 복합 입자는, 아크릴 성분을 코어로 하고, 유레테인 성분을 셸로 하는 코어 셸 구조를 갖는 수성 클리어 타입인 것이 특히 바람직하다.
유레테인아크릴 복합 입자가 상기 코어 셸 구조를 가지면, 접착층(6)의 표면 외곽이 유레테인 조성이 된다. 이 때문에, 접착층(6)은, 유레테인 수지 및 아크릴 수지의 양쪽 모두의 특성을 가지면서, 외곽에 유레테인 수지의 특성이 부여된다.
또한, 본 명세서 중에 있어서 "수성 클리어"란, 수지액은 수용성이며 수분을 제거한 후의 도막은 비수성이고, 또한 하지의 색과 무늬를 분명하게 식별할 수 있을 정도의 투명성을 갖는 수지 수용액을 의미한다.
상기 유레테인아크릴 복합 입자가 수성 클리어 타입임으로써, 접착층(6)이 화장판(100)의 외관에 악영향을 주는 것을 보다 효과적으로 방지, 억제할 수 있다.
또한, 열가소성 수지 에멀션의 고형분에 있어서는, 상술한 열가소성 수지의 중의 1종류를 단독으로 이용할 수도 있고, 다른 2종류 이상의 열가소성 수지를 혼합하여 이용할 수도 있다.
또, 열가소성 수지 에멀션의 고형분에는, 상기 열가소성 수지의 에멀션 입자 이외에도, 필요에 따라서 소량의 증점제, 침투 촉진제, 소포제 등을 포함하고 있어도 된다.
열가소성 수지 에멀션의 고형분은, 평균 입경이 30nm 이상 10μm 이하인 에멀션 수지 입자를 포함하는 것이 바람직하고, 상기 에멀션 수지 입자의 평균 입경은, 60nm 이상 5μm 이하인 것이 보다 바람직하다.
이로써, 인쇄층(3)이 마련된 투명 필름(1)과 은폐층(4)의 밀착성을 보다 향상시키면서, 화장판(100)의 유연성을 보다 향상시킬 수 있다.
본 발명에 있어서, 평균 입경이란, 특별히 설명이 없는 한 체적 기준의 평균 입자경을 가리킨다.
여기에서, 입자경은, 레이저 회절식 입도 분포 측정 장치 SALD-7000(시마즈 세이사쿠쇼사제)을 이용하여, 수중의 대상 입자를 1분간 초음파 처리함으로써, 대상 입자를 수중에 분산시켜, 측정할 수 있다.
또, 열가소성 수지 에멀션의 고형분은, 비수용성인 것이 바람직하다.
이로써, 화장판(100)의 제조 시에, 물을 분산매로서 포함하는 열가소성 수지 에멀션을 적합하게 이용할 수 있다. 이로써, 화장판(100)의 생산 비용의 저감이나 환경으로의 부하의 저감 등을 도모할 수 있다.
또한, 본 명세서에 있어서, 비수용성이란, 25℃에 있어서의 물에 대한 용해도가, 0.5g/100g수 미만인 것을 의미하고, 수용성이란, 25℃에 있어서의 물에 대한 용해도가, 0.5g/100g수 이상인 것을 의미한다.
<코어재(심재층)>
본 실시형태의 화장판(100)에서는, 은폐층(4)의 인쇄층(3)에 대향하는 면과는 반대의 면 측에, 코어재(심재층)(5)를 더 구비하고 있다.
이로써, 화장판(100)의 형상의 안정성, 내열성, 내구성을 특히 향상시킬 수 있다.
코어재(심재층)(5)는, 예를 들면 화학 섬유 기재로 구성된다. 또, 심재층(5)은, 페놀계 수지, 금속 재료 등으로 구성되어 있어도 된다.
심재층(5)에 이용되는 화학 섬유 기재의 재질(재료)에 대해서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 합성 섬유, 반합성 섬유, 재생 섬유, 무기 섬유 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 심재층(5)에 이용되는 화학 섬유 기재의 재료로서는, 예를 들면 폴리벤즈옥사졸 수지 섬유, 폴리아마이드 수지 섬유, 방향족 폴리아마이드 수지 섬유, 전방향족 폴리아마이드(아라마이드) 수지 섬유 등의 폴리아마이드계 수지 섬유, 폴리에스터 수지 섬유, 방향족 폴리에스터 수지 섬유, 전방향족 폴리에스터 수지 섬유 등의 폴리에스터계 수지 섬유, 폴리이미드 수지 섬유, 불소 수지 섬유, 유리 섬유, 탄소 섬유, 세라믹 섬유, 금속 섬유(스테인리스 섬유) 등을 들 수 있다.
그 중에서도, 심재층(5)은, 유리 섬유를 포함하는 것이 바람직하다.
이로써, 화장판(100)의 형상의 안정성, 내열성, 내구성을 더 향상시킬 수 있다.
유리 섬유를 포함하는 심재층(5)으로서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 글라스 클로스, 유리 부직포 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 불연성, 강도의 점에서 글라스 클로스가 바람직하다.
글라스 클로스로서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 평직, 능직, 수자직, 레노직, 모사직, 사문직, 이중직 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 재료 비용과 가공성의 면에서 평직의 글라스 클로스가 바람직하다.
또, 글라스 클로스를 구성하는 유리로서는, 예를 들면 E 유리, C 유리, A 유리, S 유리, D 유리, NE 유리, T 유리, H 유리 등을 들 수 있다.
이들 중에서도 T 유리를 이용한 경우, 글라스 클로스의 열팽창 계수를 작게 할 수 있다. 또, E 유리를 이용한 경우, 충분한 기능을 확보하면서, 화장판(100)의 생산 비용를 보다 낮게 할 수 있다.
글라스 클로스의 중량은, 특별히 한정되지 않지만, 건축 기준법 제2조 제9호의 불연성 적합 요건인 "연소 후의 균열·관통이 있어서는 안됨"을 충족시킬 필요가 있는 경우는, 평량 80g/m2 이상으로 하는 것이 바람직하다. 또, 중량의 상한은 특별히 제약을 필요로 하지 않지만, 재료 비용과 가공성의 면에서 평량 250g/m2 이하가 바람직하다.
또, 심재층(5)은, 상술한 바와 같은 유리 재료를 기재로 하는 프리프레그여도 된다.
이로써, 화장판(100)의 내열성, 강성 등을 특히 향상시킬 수 있다.
프리프레그는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 열가소성 수지, 열경화성 수지 등을 함유하는 수지 조성물을 상술한 글라스 클로스에 함침하여 얻을 수 있다.
프리프레그 중에 포함되는 수지 조성물의 함유량은, 은폐층(4)과 심재층(5)의 층 간 접착 강도가, 화장판(100)을 형성하기 위하여 충분하면, 특별히 한정되지 않지만, 수지 조성물로서 열가소성 수지를 이용하는 경우는, 프리프레그 중에 고형분에 1질량% 이상 20질량% 이하 함유하는 것이 바람직하고, 1질량% 이상 10질량% 이하 함유하는 것이 보다 바람직하다. 또, 수지 조성물로서 열경화성 수지를 이용하는 경우는, 프리프레그 중에 고형분에 1질량% 이상 20질량% 이하 함유하는 것이 바람직하고, 2질량% 이상 10질량% 이하 함유하는 것이 보다 바람직하다. 이로써, 은폐층(4)과 심재층(5)의 층 간 접착 강도를 향상시킬 수 있다.
열가소성 수지로서는, 예를 들면 아크릴 수지, 유레테인 수지, 에틸렌아세트산 바이닐 수지, 스타이렌뷰타다이엔 고무(SBR) 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아크릴 수지 및/또는 유레테인 수지를 이용하는 것이 바람직하다.
열경화성 수지로서는, 예를 들면 페놀 수지, 에폭시 수지, 옥세테인 수지, (메트)아크릴레이트 수지, 불포화 폴리에스터 수지, 다이알릴프탈레이트 수지, 유레아 수지, 말레이미드 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 불연성, 내열성, 밀착성의 관점에서 페놀 수지가 바람직하다. 이들 수지는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 이용할 수 있다.
프리프레그는, 종래 공지의 방법에 의하여 제조할 수 있다. 예를 들면, 상술한 글라스 클로스와 동일한 글라스 클로스에, 수지를 용제에 용해시킨 바니스를 함침, 건조시킴으로써 프리프레그는 얻어진다.
또, 심재층(5)은, 복수의 층이 적층된 구성을 갖고 있어도 된다. 이와 같은 심재층(5)은, 예를 들면 다음과 같이 하여 얻어진다. 먼저, 페놀계 수지를 섬유성의 기재(예를 들면, 크래프트지 등의 종이로 구성된 기재)에 함침시켜 복수의 부재를 얻는다. 다음으로, 복수의 부재를 중첩하여 접합함으로써, 심재층(5)을 얻을 수 있다.
심재층(5)에 이용되는 금속 재료로서는, 예를 들면 철(Fe), 알루미늄(Al), 아연(Zn), 니켈(Ni), 비스무트(Bi), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 백금(Pt)이나, 이들 중 적어도 1종을 포함하는 합금 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 알루미늄이 바람직하다.
이로써, 화장판(100)의 불연성을 특히 향상시킬 수 있다. 또, 경량화나 저비용화, 휨 방지 등의 관점에서도 유리하다.
심재층(5)의 두께는, 80μm 이상인 것이 바람직하다.
이로써, 화장판(100)에 충분한 내열성, 불연성을 부여할 수 있다. 또, 심재층(5)의 두께의 상한에 대해서는, 특별히 한정되지 않는다. 단, 심재층(5)의 두께가 클수록 화장판(100)의 두께와 중량이 증대됨과 함께, 비용도 증가한다. 이 때문에, 최종적인 제품에 있어서의 설계상, 허용되는 범위에서 심재층(5)의 두께를 설정하는 것이 바람직하다. 이와 같은 관점에서, 심재층(5)의 두께는, 500μm 이하로 하는 것이 보다 바람직하다.
<접착층(제2 접착층)>
본 실시형태에서는, 은폐층(4)과 심재층(5)의 사이에 이들을 접합하는 기능을 갖는 접착층(제2 접착층)(7)이 마련되어 있다.
이로써, 은폐층(4)과 심재층(5)의 밀착성을 향상시킬 수 있어, 화장판(100)의 내구성을 향상시킬 수 있다. 또, 비교적 온화한 제조 조건(온도, 압력 등)에 따라 화장판(100)을 제조할 수 있다. 따라서, 화장판(100)의 구성 재료의 본의 아닌 열화 등을 효과적으로 방지하여, 화장판(100)의 신뢰성을 향상시킬 수 있음과 함께, 생산 설비, 생산 비용, 에너지 절약 등의 관점에서도 유리하다. 또, 화장판(100)의 제조를 보다 용이하게 행할 수 있고, 화장판(100)의 생산성의 향상을 도모할 수 있다.
접착층(7)은, 상술한 접착층(6)에 대하여 설명한 조건과 동일한 조건을 만족하는 것이 바람직하지만, 접착층(7)과 접착층(6)은, 동일한 조건을 만족하지 않아도 된다.
화장판(100)은, 전체 두께(평균 두께)가 0.1mm 이상 2mm 이하인 것이 바람직하고, 0.1mm 이상 1.2mm 이하인 것이 보다 바람직하다.
이로써, 충분한 강도를 가짐과 함께, 특히 우수한 가공성 및 취급성을 갖는 화장판(100)을 얻을 수 있다.
[제2 실시형태]
도 2는, 본 발명의 화장판의 제2 실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 이하의 설명에서는, 상술한 실시형태와의 차이점에 대하여 중심적으로 설명하고, 동일한 사항에 대한 설명은 생략한다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 화장판(100)에서는, 경질 수지 재료로 구성된 코팅층(경질 수지층)(2)과, 인쇄층(3)과, 투명 필름(투명 기재)(1)과, 접착층(6)과, 은폐층(4)과, 접착층(7)과, 코어재(심재층)(5)가 이 순서로 적층되어 이루어진다.
즉, 상술한 실시형태의 화장판(100)에서는, 인쇄층(3)이, 투명 필름(1)의 제2 면(12) 측에 배치되어 있던 것에 대하여, 본 실시형태의 화장판(100)에서는 인쇄층(3)이, 투명 필름(1)의 제1 면(11) 측에 배치되어 있다.
이와 같은 구성이면, 인쇄층(3)이, 관찰자의 시점에 의하여 가까운 측에 배치되게 되어, 인쇄층(3)의 색과 무늬가 보다 선명해진다. 이 때문에, 더 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있다. 또, 인쇄층(3)과 은폐층(4)의 사이에, 소정의 두께의 투명 필름(1)이 개재되어 있다. 이와 같은 인쇄층(3)과 은폐층(4)에 기인하여, 화장판(100)의 외관에 깊이감을 갖게 할 수 있어, 보다 입체감이 넘치는 외관의 화장판(100)을 제공할 수 있다.
[제3 실시형태]
도 7은, 본 발명의 화장판의 제3 실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 이하의 설명에서는, 상술한 실시형태와의 차이점에 대하여 중심적으로 설명하고, 동일한 사항에 대한 설명은 생략한다.
도 7에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 화장판(100)은, 경질 수지 재료로 구성된 코팅층(경질 수지층)(2)과, 투명 필름(투명 기재)(1)과, 인쇄층(3)과, 갭층(6)과, 은폐층(4)과, 접착층(7)과, 코어재(심재층)(5)가 이 순서로 적층되어 이루어진다.
바꾸어 말하면, 화장판(100)은, 투명 필름(1)과, 투명 필름(1)의 일방의 면인 제1 면(11) 측에 배치된 경질 수지 재료로 구성된 코팅층(2)과, 투명 필름(1)의 제1 면(11)과는 반대의 면인 제2 면(12) 측에 마련된 인쇄층(3)과, 인쇄층(3)의 투명 필름(1)에 대향하는 면과는 반대의 면 측에 마련된 은폐층(4)과, 인쇄층(3)과 은폐층(4)의 사이에 마련된 갭층(6)을 구비하고 있다.
즉, 인쇄층(3)이 마련된 투명 필름(1)과 은폐층(4)의 사이에는, 인쇄층(3)과 은폐층(4)의 사이에 소정의 간격(갭)을 마련하는 기능을 갖는 갭층(6)이 마련되어 있다.
이로써, 인쇄층(3)이, 은폐층(4)보다 관찰자의 시점 측으로 부상하는 듯한 시각적인 효과가 얻어져, 입체감이 넘치는 우수한 외관을 얻을 수 있다.
갭층(6)은, 인쇄층(3)과 은폐층(4)의 사이에 소정의 간격(갭)을 마련하는 기능을 갖고 있으면 되지만, 갭층(6)은, 인쇄층(3)이 마련된 투명 필름(1)과 은폐층(4)을 접착하는 접착층인 것이 바람직하다. 즉, 갭층(6)은, 접착제의 경화물으로 구성되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 갭층은 접착층으로서의 기능을 갖고 있지 않아도 된다. 이 경우, 투명 필름(1)과 갭층(6)과 은폐층(4)의 사이에 접착층을 마련하면 된다.
여기에서, 코팅층(2) 측으로부터 관찰한 경우의, 인쇄층(3)의 표면으로부터 은폐층(4)의 표면까지의 갭 길이(L)가 1μm 이상 50μm 이하인 것이 바람직하다. 즉, 인쇄층(3)의 투명 필름(1)에 대향하는 면으로부터, 은폐층(4)의 투명 필름(1)에 대향하는 면까지의 갭 길이(L)가 1μm 이상 50μm 이하인 것이 바람직하다. 이로써, 입체감이 넘치는 우수한 외관의 화장판(100)을 얻을 수 있다.
또, 이와 같은 구성에 의해서도, 경질 수지 재료가 갖는 내찰상성, 방오성 등의 장점을 발휘시키면서, 인쇄층(3)에 의한 패턴을 화장판(100)의 외관에 적합하게 반영시킬 수 있어, 심미성이 우수한 화장판(100)을 제공할 수 있다. 특히, 화장판(100)의 시공 부위(화장판(100)의 하지)에 관계없이, 안정적으로 우수한 심미성을 발휘할 수 있다. 따라서, 심미성이 우수함과 함께, 내찰상성(흠집이 나기 어려움), 방오성(오물이 부착되기 어려움, 오물의 제거 용이성)이 우수한 화장판(100)을 제공할 수 있다. 또, 은폐층(4)과 함께, 인쇄층(3)을 구비함으로써, 다양한 패턴, 색조를 표현할 수 있어, 특히 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있다. 특히, 소정의 갭 길이(L)의 갭층(6)을 가짐으로써, 입체감이 넘치는 우수한 외관의 화장판(100)을 얻을 수 있다.
이것에 대하여, 상기와 같은 조건을 만족하지 않는 경우에는, 상기와 같은 우수한 효과가 얻어지지 않는다.
한편, 상기와 같은 조건을 만족하면, 인쇄층(3)이 투명 필름(1)의 제1 면(11) 측(코팅층(2)이 마련된 면 측)에 배치되어 있는 경우에 비하여, 다음과 같은 효과도 나타낼 수 있다. 즉, 마찰에 의하여 코팅층(2)이 마모된 경우여도, 인쇄층(3)이 손상하는 것을 방지할 수 있어, 우수한 외관을 유지할 수 있다. 바꾸어 말하면, 상기와 같은 조건을 만족하는 화장판(100)은, 충분히 우수한 내마모성을 가진다고 할 수 있다.
또한, 은폐층(4)을 갖고 있지 않은 경우에는, 화장판(100)의 하지에 따라서는, 인쇄층(3)의 시인성, 화장판(100)의 심미성이 저하될 수 있다.
또, 인쇄층(3)의 표면으로부터 은폐층(4)의 표면까지의 갭 길이가 상기 하한값 미만이면, 인쇄층(3)이 마련된 투명 필름(1)과, 은폐층(4)의 밀착성이 저하된다. 그 결과, 충분히 우수한 내구성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 없다. 또, 인쇄층(3)의 패턴의 입체감이 저하되어, 충분히 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 없다.
또, 인쇄층(3)의 표면으로부터 은폐층(4)의 표면까지의 갭 길이가 상기 상한값을 초과하면, 화장판(100)의 압입 변형에 대한 강도를 유지할 수 없어진다. 그 결과, 충분히 우수한 내구성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 없다. 또, 인쇄층(3)의 패턴이 부자연스럽게 부상한 인상을 관찰자에게 주어, 화장판(100)의 심미성이 저하되는 경우가 있다.
상술한 바와 같이, 갭 길이(L)는, 1μm 이상 50μm 이하인 것이 바람직하지만, 3μm 이상 30μm 이하인 것이 보다 바람직하고, 10μm 이상 20μm 이하인 것이 특히 바람직하다.
이로써, 상술한 바와 같은 효과가 보다 현저하게 발휘된다.
[제4 실시형태]
도 8은, 본 발명의 화장판의 제4 실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 이하의 설명에서는, 상술한 실시형태와의 차이점에 대하여 중심적으로 설명하고, 동일한 사항에 대한 설명은 생략한다.
도 8에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 화장판(100)은, 경질 수지 재료로 구성된 코팅층(경질 수지층)(2)과, 투명 필름(투명 기재)(1)과, 접착층(6)과, 인쇄층(3)이 마련된 은폐층(4)과, 접착층(7)과, 코어재(심재층)(5)가 이 순서로 적층되어 이루어진다.
바꾸어 말하면, 화장판(100)은, 투명 필름(1)과, 투명 필름(1)의 일방의 면인 제1 면(11) 측에 배치된 경질 수지 재료로 구성된 코팅층(2)과, 투명 필름(1)의 제1 면(11)과는 반대의 면인 제2 면(12) 측에 마련된 은폐층(4)과, 은폐층(4)의 투명 필름(1)에 대향하는 면에 마련된 인쇄층(3)과, 투명 필름(1)과, 인쇄층(3)이 마련된 은폐층(4)의 사이에 마련된 접착층(6)을 구비하고 있다.
이와 같은 구성에 의하여, 경질 수지 재료가 갖는 내찰상성(흠집이 나기 어려움), 방오성 등의 장점을 발휘시키면서, 화장판(100)의 시공 부위(화장판(100)의 하지)에 관계없이, 인쇄층(3)에 의한 패턴을 화장판(100)의 외관에 적합하게 반영시킬 수 있어, 안정적으로 우수한 심미성을 발휘할 수 있는 화장판(100)을 제공할 수 있다. 특히, 은폐층(4)에 인쇄층(3)이 마련됨으로써, 이들 사이에 다른 구성을 갖는 경우에 비하여, 인쇄층(3)의 패턴은, 우수한 콘트라스트를 갖고, 관찰자에게 선명히 인식될 수 있다. 그 결과, 특히 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있다. 또, 본 실시형태에서는, 인쇄층(3)이 마련된 은폐층(4)이, 접착층(6)에 의하여 투명 필름(1)에 접합되어 있다. 이 때문에, 인쇄층(3)과 투명 필름(1)의 사이에서의 본의 아닌 박리 등이 효과적으로 방지된다. 따라서, 심미성이 우수함과 함께, 내구성, 방오성(오물이 부착되기 어려움, 오물의 제거 용이성)이 우수한 화장판(100)을 제공할 수 있다. 또, 은폐층(4)과 함께, 인쇄층(3)을 구비함으로써, 다양한 패턴, 색조를 표현할 수 있어, 특히 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있다. 또, 잉크 수용층을 갖지 않는 투명 필름(1)을 적합하게 이용할 수 있음과 함께, 은폐층(4)으로서는 이른바 매트 타입의 시트를 이용할 수 있음으로써, 화장판(100)의 박형화를 도모할 수 있다.
또한, 도시의 구성에서는, 인쇄층(3)은, 은폐층(4)의 투명 필름(1)에 대향하는 면의 일부에만 선택적으로 마련되어 있지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 은폐층(4)으로부터의 반사광의 적어도 일부를 투과할 수 있다면, 인쇄층(3)은, 은폐층(4)의 투명 필름(1)에 대향하는 면의 전체에 마련되어 있어도 된다.
또, 도시의 구성에서는, 인쇄층(3)은, 은폐층(4)(잉크 수용층)의 내부에 함침하여 형성되어 있지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 인쇄층(3)은, 은폐층(4)의 표면에 담지되어 있어도 된다.
<<화장판의 제조 방법>>
다음으로, 상술한 화장판의 제조 방법에 대하여 설명한다.
[제조 방법의 제1 실시형태]
도 3은, 본 발명의 화장판의 제조 방법의 제1 실시형태를 나타내는 단면도이다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 제조 방법은, 투명 필름(1)을 준비하는 투명 필름 준비 공정(1a)과, 투명 필름(1)의 일방의 면(제2 면(12))에 인쇄층(3)을 형성하는 인쇄 공정(1b)과, 투명 필름(1)의 타방의 면(제1 면(11))에 코팅층(2)을 형성하는 코팅층 형성 공정(1c)과, 접착층(6)을 은폐층(4)의 일방의 표면에 형성하여, 인쇄층(3)이 마련된 투명 필름(1)과 은폐층(4)을 접합함과 함께, 접착층(7)을 은폐층(4)의 타방의 표면(투명 필름(1)에 대향하는 면과는 반대 측의 면)에 형성하여, 은폐층(4)과 심재층(5)을 접합하는 접착 공정(1d)을 갖고 있다.
<투명 필름 준비 공정>
투명 필름 준비 공정에서는, 상술한 바와 같은 투명 필름(1)을 준비한다(1a).
투명 필름(1)으로서는, 예를 들면 제조해야 할 화장판(100)에 대응하는 면적의 필름을 이용할 수 있다. 또, 본 공정에서는, 예를 들면 롤상으로 권취된 장척의 필름을 이용할 수 있다. 또한, 본 공정 시에, 또는 본 공정보다 후에, 당해 필름을 소정의 길이로 절단해도 된다.
또, 본 공정에서 준비하는 투명 필름(1)은, 예를 들면 제2 면(12)에, 인쇄층(3)의 형성에 이용하는 잉크를 흡수하는 잉크 수용층을 구비하고 있어도 된다.
또, 본 공정에서 준비하는 투명 필름(1)은, 후의 인쇄 공정에 앞서, 제2 면(12)에, 예를 들면 플라즈마 처리, 자외선 조사 처리, 프라이머 처리 등의 각종 표면 처리(표면 활성화 처리) 등이 실시되어 있어도 된다.
이로써, 투명 필름(1)과, 투명 필름(1)에 마련되는 층(예를 들면 인쇄층(3)이나, 접착층(6)을 통한 은폐층(4))의 밀착성을 특히 향상시킬 수 있다.
또, 투명 필름(1)의 제1 면(11)에는, 후의 코팅층 형성 공정에 앞서, 상기와 동일한 표면 처리가 실시되어 있어도 된다.
이로써, 투명 필름(1)과 코팅층(2)의 밀착성을 특히 향상시킬 수 있다.
<인쇄 공정>
다음으로, 상기 공정으로 준비한 투명 필름(1)의 제2 면(12)에 대하여, 잉크를 부여하여 인쇄층(3)을 형성한다(1b).
투명 필름(1)에 대한 잉크의 부여는, 예를 들면 잉크젯법, 스크린 인쇄법, 그라비어 인쇄법, 패드 인쇄법 등의 각종 인쇄법에 의하여 행할 수 있다.
잉크젯법을 이용하여 잉크를 부여함으로써, 판의 준비가 불필요해져, 단기간으로, 다양한 패턴의 인쇄층(3)을 적합하게 형성할 수 있다. 따라서, 다품종의 화장판(100)을 적합하게 제공할 수 있다.
또, 패턴의 미묘한 조정 등에도 적합하게 대응할 수 있기 때문에, 수요자의 요구에 정확하게 응할 수 있다.
또, 본 공정에서는, 잉크로서 투명 필름(1)의 일부(잉크가 부여된 표면 부근의 영역)를 용해 또는 팽윤시키는 성분(용제 등)을 포함하는 잉크가 이용되어도 된다.
이로써, 부여된 잉크를, 투명 필름(1)의 목적의 부위에 적합하게 부착시킬 수 있어, 투명 필름(1) 상에서의 잉크의 뭉침이나 과잉된 젖음 확산 등을 효과적으로 방지할 수 있다. 그 결과, 원하는 패턴의 인쇄층(3)을 용이하고 또한 확실하게 형성할 수 있다. 또, 형성되는 인쇄층(3)은, 투명 필름(1)에 강고하게 결합하기 때문에, 투명 필름(1)에 대한 인쇄층(3)의 밀착성을 향상시킬 수 있어, 최종적으로 얻어지는 화장판(100)의 내구성을 특히 향상시킬 수 있다.
본 공정에서는, 복수 종의 잉크를 이용해도 된다.
이로써, 예를 들면 색재현 범위를 확대할 수 있어, 미묘한 그라데이션의 표현을 보다 적합하게 행할 수 있다.
인쇄층(3)의 형성에 이용하는 잉크에 대해서는, 나중에 상세하게 설명한다.
<코팅층 형성 공정>
다음으로, 투명 필름(1)의 인쇄층(3)이 마련된 면(제2 면(12))과는 반대의 면(제1 면(11)) 측에, 코팅층(2)을 형성한다(1c).
코팅층(2)은, 예를 들면 다음과 같이 하여 형성된다. 즉, 침지법(디핑), 스프레이법, 키스 코터, 콤마 코터, 롤 코터, 나이프 코터, 블레이드 코터 등의 각종 코터를 이용한 코팅법, 각종 인쇄법 등의 각종 방법에 의하여, 코팅층 형성용의 조성물을 투명 필름(1)의 제1 면(11) 측에 부여한다. 그 후, 경화 반응을 행함으로써 코팅층(2)을 적합하게 제1 면(11)에 형성할 수 있다.
코팅층(2)의 형성에 이용하는 조성물(코팅층 형성용 조성물)에 대해서는, 나중에 상세하게 설명한다.
또, 코팅층(2)은, 시트상으로 성형한 코팅층 형성용 부재를 투명 필름(1)의 제1 면(11) 측에 접합함으로써 형성되어도 된다.
코팅층 형성용 부재와 투명 필름(1)의 접합은, 예를 들면 압착에 의하여 행할 수 있다.
코팅층 형성용 부재와 투명 필름(1)의 접합을 압착에 의하여 행하는 경우, 투명 필름(1)과 코팅층 형성용 부재의 접합은, 예를 들면 압착 시에 투명 필름(1)과 코팅층 형성용 부재를 가열하여 행해져도 된다.
이로써, 화장판(100)의 생산성을 특히 향상시킬 수 있음과 함께, 투명 필름(1)과 코팅층(2)의 접합 강도를 특히 향상시킬 수 있다. 또, 예를 들면 코팅층(2)에 포함되는 성분의 중합 반응을 적합하게 진행시킬 수 있다. 이 때문에, 코팅층(2)의 경도, 화장판(100)의 내구성, 신뢰성을 특히 향상시킬 수 있다.
또, 코팅층 형성용 부재와 투명 필름(1)의 접합 시에, 코팅층 형성용 부재의 외표면(투명 필름(1)에 대향하는 면과는 반대 측의 면) 측에, 경면 완성판을 중첩함으로써 경면 완성을 행할 수 있다. 또, 이 접합 시에, 코팅층 형성용 부재의 외표면 측에, 엠보싱판 또는 엠보싱 필름 등을 중첩함으로써, 엠보싱 완성을 행할 수 있다.
코팅층(2)이 경화성 수지로 구성되어 있는 경우, 본 공정에서 형성되는 코팅층(2)은, 중합 반응이 종료되어 있지 않아도 된다. 이와 같은 경우여도, 후의 공정에서, 코팅층(2)의 구성 성분의 중합 반응을 진행시킬 수 있어, 최종적으로 얻어지는 화장판(100)의 내구성, 신뢰성 등을 특히 향상시킬 수 있다.
<접착 공정>
다음으로, 접착층(6)을 은폐층(4)의 일방의 표면에 형성하여, 인쇄층(3)이 마련된 투명 필름(1)과 은폐층(4)을 접합한다. 또, 접착층(7)을 은폐층(4)의 타방의 표면(투명 필름(1)에 대향하는 면과는 반대의 면)에 형성하여, 은폐층(4)과 코어재(심재층)(5)를 접합한다(1d).
이로써, 화장판(100)이 얻어진다.
은폐층(4)은, 상술한 바와 같은 재료로 구성되고, 예를 들면 백색의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(백색 PET 필름) 등을 이용하여 형성할 수 있다.
접착층(6)은, 예를 들면 침지법(디핑), 스프레이법, 키스 코터, 콤마 코터, 롤 코터, 나이프 코터, 블레이드 코터 등의 각종 코터를 이용한 코팅법, 각종 인쇄법 등의 각종 방법에 의하여, 접착층 형성용의 조성물을 인쇄층(3)이 마련된 투명 필름(1), 은폐층(4) 중 적어도 일방에 부여함으로써, 적합하게 형성할 수 있다. 또, 접착층(7)은, 접착층(6)을 형성하는 방법과 동일한 방법에 의하여, 심재층(5) 및 은폐층(4) 중 적어도 일방에, 적합하게 형성할 수 있다.
심재층(5)과 은폐층(4)의 접합은, 예를 들면 심재층(5)이 수지 재료를 포함하는 경우, 심재층(5)의 일부를 용융·연화시킴으로써 행할 수 있다.
또, 심재층(5)과 은폐층(4)의 접합은, 예를 들면 접착에 의하여 행해도 된다.
또한, 심재층(5)을 갖지 않는 화장판(100)을 제조하는 경우, 상술한 접착 공정의 일부(심재층 형성 공정)를 생략함으로써, 화장판(100)을 제조할 수 있다.
[제조 방법의 제2 실시형태]
도 4는, 본 발명의 화장판의 제조 방법의 제2 실시형태를 나타내는 단면도이다. 이하의 설명에서는, 상술한 제조 방법의 제1 실시형태와의 차이점에 대하여 중심적으로 설명하고, 동일한 사항에 대한 설명은 생략한다.
도 4에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 제조 방법은, 투명 필름(1)을 준비하는 투명 필름 준비 공정(2a)과, 투명 필름(1)의 일방의 면(제1 면(11))에 인쇄층(3)을 형성하는 인쇄 공정(2b)과, 투명 필름의 인쇄층(3)이 마련된 면 측에 코팅층(2)을 형성하는 코팅층 형성 공정(2c)과, 접착층(6)을 은폐층(4)의 일방의 표면에 형성하여, 인쇄층(3)이 마련된 투명 필름(1)과 은폐층(4)을 접합함과 함께, 접착층(7)을 은폐층(4)의 타방의 표면(투명 필름(1)에 대향하는 면과는 반대 측의 면)에 형성하여, 은폐층(4)과 심재층(5)을 접합하는 접착 공정(2d)을 갖고 있다.
즉, 상술한 제1 실시형태의 제조 방법에서는, 인쇄층(3)을 투명 필름(1)의 제2 면(12)에 형성하고 있던 것에 대하여, 본 실시형태의 제조 방법에서는, 인쇄층(3)을 투명 필름(1)의 제1 면(11)에 형성하고 있다.
[제조 방법의 제3 실시형태]
상술한 제3 실시형태의 화장판(100)을 제조하는 방법에 대하여, 상술한 제조 방법의 제1 실시형태와의 차이점에 대하여 중심적으로 설명하고, 동일한 사항에 대한 설명은 생략한다. 상술한 제조 방법의 제1 실시형태에서는, 은폐층(4)의 표면에 접착층(6)을 형성하고 있던 것에 대하여, 본 실시형태에서는, 접착층(6)으로 변경하여, 갭층(6)을 은폐층(4)의 표면에 형성하고 있다. 이로써, 상술한 제3 실시형태의 화장판(100)을 제조할 수 있다.
[제조 방법의 제4 실시형태]
도 9는, 본 발명의 화장판의 제조 방법의 제4 실시형태를 나타내는 단면도이다. 이하의 설명에서는, 상술한 제조 방법의 실시형태와의 차이점에 대하여 중심적으로 설명하고, 동일한 사항에 대한 설명은 생략한다.
도 9에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 제조 방법은, 은폐층(4)의 일방의 면에 인쇄층(3)을 형성하는 인쇄 공정(1a)과, 투명 필름(1)의 일방의 면(제1 면(11))에 코팅층(2)을 형성하는 코팅층 형성 공정(1b)과, 접착층(6)을 은폐층(4)의 일방의 표면에 형성하여, 코팅층이 형성된 투명 필름(1)과 인쇄층(3)이 마련된 은폐층(4)을 접합함과 함께, 접착층(7)을 은폐층(4)의 타방의 표면에 형성하여, 심재층(5)과 은폐층(4)을 접합하는 접착 공정(1c)을 갖고 있다. 이들 공정 중, 은폐층(4)의 일방의 면에 인쇄층(3)을 형성하는 인쇄 공정(1a)에 대하여, 상세하게 설명한다.
<인쇄 공정>
본 실시형태의 인쇄 공정에서는, 은폐층(4)의 일방의 면에 대하여, 잉크를 부여하여 인쇄층(3)을 형성한다(1a).
은폐층(4)으로서는, 예를 들면 제조해야 할 화장판(100)에 대응하는 면적의 필름을 이용할 수 있다. 또, 본 공정에서는, 예를 들면 롤상으로 권취된 장척의 시트를 이용할 수 있다. 또한, 본 공정 시에, 또는 본 공정보다 후에, 당해 시트를 소정의 길이로 절단해도 된다.
또, 본 공정에서 이용하는 은폐층(4)은, 예를 들면 인쇄층(3)의 형성에 이용하는 잉크를 흡수하는 잉크 수용층을 구비하고 있어도 된다. 이로써, 도 9에 나타내는 바와 같이, 인쇄층(3)을 은폐층(4)의 내부에 형성할 수 있다. 그 결과, 상술한 효과를 보다 확실히 발휘(심미성, 내구성 및 방오성이 우수한 화장판(100)을 제공)할 수 있다.
또, 본 공정에서 이용하는 은폐층(4)은, 인쇄에 앞서, 인쇄층(3)이 형성되는 면에, 예를 들면 플라즈마 처리, 자외선 조사 처리, 프라이머 처리 등의 각종 표면 처리(표면 활성화 처리) 등이 실시되어 있어도 된다.
이로써, 은폐층(4)과 인쇄층(3)의 밀착성, 은폐층(4)과 투명 필름(1)의 밀착성(접착층(6)을 통한 투명 필름(1)과의 밀착성)을 특히 향상시킬 수 있다.
또, 은폐층(4)은, 인쇄층(3)이 형성되는 면과는 반대 측의 면에, 상기와 동일한 표면 처리가 실시되어 있어도 된다.
이로써, 은폐층(4)과 코어재(5)의 밀착성(접착층(7)을 통한 은폐층(4)과의 밀착성)을 특히 향상시킬 수 있다.
은폐층(4)에 대한 잉크의 부여는, 상술한 제조 방법의 제1 실시형태에서의 투명 필름(1)에 대한 잉크의 부여와 동일하게, 예를 들면 잉크젯법, 스크린 인쇄법, 그라비어 인쇄법, 패드 인쇄법 등의 각종 인쇄법에 의하여 행할 수 있다.
잉크젯법을 이용하여 잉크를 부여함으로써, 판의 준비가 불필요해져, 단기간으로, 다양한 패턴의 인쇄층(3)을 적합하게 형성할 수 있다. 따라서, 다품종의 화장판(100)을 적합하게 제공할 수 있다.
또, 패턴의 미묘한 조정 등에도 적합하게 대응할 수 있기 때문에, 수요자의 요구에 정확하게 응할 수 있다.
본 공정에서는, 복수 종의 잉크를 이용해도 된다.
이로써, 예를 들면 색재현 범위를 확대할 수 있어, 미묘한 그라데이션의 표현을 보다 적합하게 행할 수 있다.
이하, 인쇄층(3)의 형성에 이용하는 잉크에 대하여 상세하게 설명한다.
<잉크>
인쇄층(3)의 형성에 이용하는 잉크는, 통상 착색제를 포함한다.
이하, 잉크의 구성 성분에 대하여 설명한다.
(착색제)
잉크는, 고형분으로서, 통상 착색제를 포함한다.
착색제로서는, 예를 들면 각종 안료나 각종 염료등을 이용할 수 있고, 또 형광 재료, 인광 재료 등을 이용할 수도 있다. 이들 중에서도, 착색제로서 안료를 포함하는 잉크를 이용하는 것이 바람직하다.
이로써, 화장판(100)의 내구성을 특히 향상시킬 수 있다.
복수 종의 잉크를 이용하는 경우, 예를 들면 색의 3원색(사이안(남자색), 마젠다(홍자색) 및 옐로(황색))에 대응하는 잉크를 이용할 수 있다.
또, 예를 들면 유채색의 잉크와 조합하여, 흑색의 잉크를 이용해도 된다.
이로써, 잉크의 사용량을 억제하면서, 농색을 적합하게 표현할 수 있다. 또한, 완벽한 흑색을 표현할 수 있는 등의 효과가 얻어진다.
또, 예를 들면 백색의 잉크를 이용해도 된다.
이로써, 예를 들면 유채색의 잉크에 의한 인쇄층(3)의 콘트라스트 등을 특히 향상시킬 수 있어, 특히 우수한 심미성을 갖는 화장판(100)을 제공할 수 있다.
특히, 남자색(사이안)을 나타내는 남자색 안료 잉크를 이용하는 경우, 당해 잉크를 구성하는 안료로서는, C. I. 피그먼트 블루 15:3, C. I. 피그먼트 블루 15:2, 및 C. I. 피그먼트 블루 60으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 이용하는 것이 바람직하다.
또, 홍자색(마젠다)을 나타내는 홍자색 안료 잉크를 이용하는 경우, 당해 잉크를 구성하는 안료로서는, C. I. 피그먼트 바이올렛 19, C. I. 피그먼트 레드 122, 및 C. I. 피그먼트 바이올렛 37으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 이용하는 것이 바람직하다.
또, 황색(옐로)을 나타내는 황색 안료 잉크를 이용하는 경우, 당해 잉크를 구성하는 안료로서는, C. I. 피그먼트 옐로 150, C. I. 피그먼트 옐로 138, 및 C. I. 피그먼트 옐로 139으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 이용하는 것이 바람직하다.
또, 적색(레드)을 나타내는 적색 안료 잉크를 이용하는 경우, 당해 잉크를 구성하는 안료로서는, C. I. 피그먼트 레드 177 및/또는 C. I. 피그먼트 레드 254를 이용하는 것이 바람직하다.
또, 녹색(그린)을 나타내는 녹색 안료 잉크를 이용하는 경우, 당해 잉크를 구성하는 안료로서는, C. I. 피그먼트 그린 36 및/또는 C. I. 피그먼트 그린 58을 이용하는 것이 바람직하다.
또, 청색(블루)을 나타내는 청색 안료 잉크를 이용하는 경우, 당해 잉크를 구성하는 안료로서는, C. I. 피그먼트 블루 15:6을 이용하는 것이 바람직하다.
또, 흑색(블랙)을 나타내는 흑색 안료 잉크를 이용하는 경우, 당해 잉크를 구성하는 안료로서는, 카본 블랙, 철흑(鐵黑), 망가니즘 페라이트 블랙, 코발트 페라이트 블랙, 구리 크로뮴 블랙 및 구리 크로뮴망가니즘 블랙으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 이용하는 것이 바람직하다.
또, 백색(화이트)을 나타내는 백색 안료 잉크를 이용하는 경우, 당해 잉크를 구성하는 안료로서는, 산화 타이타늄, 백연, 아연화, 리소폰, 유화 아연, 산화 안티모니, 탄산 칼슘, 카올린, 운모, 황산 바륨, 알루미나, 탤크, 실리카, 규산 칼슘, 글로스 화이트나, 백색 플라스틱 피그먼트 등을 이용할 수 있다.
(용제)
잉크는, 예를 들면 용제를 포함하고 있어도 된다.
이로써, 예를 들면 잉크의 유동성을 보다 양호하게 조정할 수 있어, 원하는 패턴의 인쇄층(3)을 보다 높은 정밀도로 형성할 수 있다.
또, 잉크가 투명 필름(1)(은폐층(4)에 인쇄층(3)이 마련되는 경우, 은폐층(4), 이하 동일)의 구성 재료(예를 들면, 수지 재료)를 용해 또는 팽윤시키는 기능을 갖는 용제를 포함하는 경우, 다음으로 나타내는 효과를 나타낼 수 있다. 즉, 잉크를 투명 필름(1)에 부여했을 때에, 투명 필름(1)의 일부(잉크가 부여된 표면 부근의 영역)에 잉크가 흡수되어, 투명 필름(1)을 부분적으로 용해 또는 팽윤시킬 수 있다. 그 결과, 형성되는 인쇄층(3)은 투명 필름(1)에 강고하게 결합한 상태가 되고, 투명 필름(1)에 대한 인쇄층(3)의 밀착성을 보다 향상시킬 수 있어, 최종적으로 얻어지는 화장판(100)의 내구성을 보다 향상시킬 수 있다. 또, 잉크를 투명 필름(1)의 원하는 부위에 선택적으로 흡수시킬 수도 있다. 이 때문에, 투명 필름(1) 상에서의 뭉침이나 과잉된 젖음 확산을 방지할 수 있어, 인쇄층(3)의 패턴이 흐트러져 버리는 것을 확실히 방지할 수 있다. 따라서, 투명 필름(1)의 변형 등을 확실히 방지하면서, 원하는 형상, 패턴의 인쇄층(3)을 보다 용이하고 보다 확실히 형성할 수 있어, 화장판(100)의 심미성 등을 보다 확실히 향상시킬 수 있다.
용제로서는, 예를 들면 알코올 화합물(메틸알코올, 에틸알코올, 프로필알코올, 뷰틸알코올, 아이소프로필알코올 등의 1가의 알코올이나 에틸렌글라이콜, 글리세린 등의 다가 알코올, 및 이들의 불화물 등), 케톤 화합물(아세톤, 메틸에틸케톤, 사이클로헥산온 등), 카복실산 에스터 화합물(아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 프로필, 아세트산 뷰틸, 프로피온산 메틸, 프로피온산 에틸 등), 에터 화합물(다이에틸에터, 다이프로필에터, 테트라하이드로퓨란, 다이옥세인 등), 락톤 화합물 등을 이용할 수 있다.
잉크가, 용제로서 알킬렌글라이콜 화합물 및 락톤 화합물로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 포함하는 경우, 예를 들면 잉크의 보존 안정성, 잉크젯법에 의한 토출 안정성을 특히 향상시킬 수 있다. 또, 인쇄 후에, 잉크로부터 용제를 신속하게 제거할 수 있기 때문에, 화장판(100)의 생산성을 특히 향상시킬 수 있다.
용제로서 이용할 수 있는 락톤 화합물로서는, 예를 들면 γ-뷰티로락톤, δ-발레롤락톤, ε-카프로락톤 등을 들 수 있다.
그 중에서도, 용제는 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 다이에틸렌글라이콜다이에틸에터, 테트라에틸렌글라이콜다이메틸에터, 테트라에틸렌글라이콜다이뷰틸에터, 및 γ-뷰티로락톤으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 포함하고 있어도 된다. 이로써, 예를 들면 잉크의 보존 안정성, 잉크젯법에 의한 토출 안정성 등을 더 향상시킬 수 있다.
또, 잉크는, 용제로서 액상의 중합성 화합물(예를 들면, 모노머 등)을 포함하고 있어도 된다.
이로써, 잉크를 이용하여 형성되는 인쇄층(3)의 투명 필름(1)에 대한 밀착성을 특히 향상시킬 수 있다. 또, 예를 들면 용제로서 휘발성 성분(화장판(100)의 제조에 있어서 휘발시킴으로써 제거하는 성분)을 이용할 필요가 없고, 또 휘발성 성분을 이용하는 경우에서도, 그 사용량을 억제할 수 있기 때문에, 화장판(100)의 생산성을 특히 향상시킬 수 있다.
액상의 중합성 화합물로서는, 예를 들면 열경화성 수지, 광경화성 수지 등의 각종 경화성 수지 등을 이용할 수 있지만, 광경화성 수지가 바람직하고, 자외선 경화성 수지가 보다 바람직하다.
광경화성 수지(특히, 자외선 경화성 수지)를 액상의 중합성 화합물로서 포함함으로써, 상술한 인쇄 공정으로, 보다 용이하고 또한 확실하게, 적절한 타이밍에 잉크에 포함되는 경화성 수지(광경화성 수지)를 확실히 경화시킬 수(액상의 중합성 화합물을 제거할 수) 있다. 이 때문에, 원하는 형상, 패턴의 인쇄층(3)을 보다 용이하고 또한 확실하게 형성할 수 있다.
또한, 용제로서의 액상의 중합성 화합물(예를 들면, 모노머 등)에 대해서는, 나중의 "(수지 재료)"의 항목에서 상세하게 설명한다.
(수지 재료)
잉크는, 수지 재료를 포함하고 있어도 된다.
이로써, 잉크를 이용하여 형성되는 인쇄층(3)의 투명 필름(1)에 대한 밀착성을 특히 향상시킬 수 있다.
수지 재료로서는, 각종 열가소성 수지, 경화성 수지 재료 등을 이용할 수 있다.
열가소성 수지를 이용함으로써 투명 필름(1)과 인쇄층(3)의 밀착성을 특히 향상시킬 수 있다. 또, 열가소성 수지는, 일반적으로, 상술한 용제에 대하여, 우수한 용해성, 분산성을 나타낸다. 이 때문에, 잉크 중, 형성되는 인쇄층(3) 중에서의 본의 아닌 조성의 편차를 효과적으로 방지할 수 있어, 잉크의 보존 안정성, 제조되는 화장판(100)의 신뢰성을 특히 향상시킬 수 있다. 또, 잉크의 잉크젯법에 의한 토출 안정성을 특히 향상시킬 수 있다.
또, 잉크가 경화성 수지 재료를 포함하는 경우, 잉크를 이용하여 형성되는 인쇄층(3)의 투명 필름(1)에 대한 밀착성을 특히 향상시킬 수 있다.
또, 잉크가 광경화성 수지(특히, 자외선 경화성 수지)를 포함함으로써, 다음으로 나타내는 효과를 나타낼 수 있다. 즉, 광의 조사 타이밍 등을 조정함으로써, 보다 용이하고 또한 확실하게, 적절한 타이밍에 잉크의 유동성을 저하시킬 수 있어, 원하는 형상, 패턴의 인쇄층(3)을 보다 용이하고 또한 확실하게 형성할 수 있다.
광경화성 수지는, 광의 조사에 의하여 경화 반응(중합 반응)이 진행되는 구성이면 된다. 예를 들면, 가시광선의 조사에 의하여 경화 반응(중합 반응)이 진행되는 가시광선 경화성 수지나, 자외선의 조사에 의하여 경화 반응(중합 반응)이 진행되는 자외선 경화성 수지 등을 이용할 수 있다. 이들 중에서도, 자외선의 조사에 의하여 경화 반응(중합 반응)이 진행되는 자외선 경화성 수지가 바람직하다.
이로써, 광경화성 수지의 경화 반응의 반응 속도를 특히 향상시킬 수 있어, 화장판(100)의 생산성을 특히 향상시킬 수 있다. 또, 자외선의 조사에는, 넓게 유통되고 있는 자외선 램프 등을 광원으로서 이용할 수 있다. 이 때문에, 특수한 광원을 필요로 하지 않고, 또 화장판(100)의 제조 장치의 구성의 간략화를 도모할 수 있어, 화장판(100)의 제조 비용의 억제를 도모할 수 있다. 또, 자외선 경화성 수지의 경화물은, 일반적으로, 높은 투명성을 갖기 때문에, 인쇄층(3)의 색조에 악영향이 미치는 것을 보다 효과적으로 방지할 수 있다.
광경화성 수지(중합성 화합물)는, 그것 단독으로 액상을 이루고, 투명 필름(1)을 구성하는 수지 재료를 용해 또는 팽윤시키는 기능을 갖는, 즉 상기 용제로서 기능하는 것이 바람직하다.
이로써, 화장판(100)의 제조 과정에 있어서 증발하는 휘발 성분을 상기 용제로서 이용하지 않아도 잉크의 점도를 충분히 낮게 할 수 있어, 각종 인쇄법(특히, 잉크젯법)에 의한 인쇄층(3)의 형성을 적합하게 행할 수 있다. 따라서, 액체 성분(휘발 성분)의 제거에 수반하는 패턴의 변형을 방지할 수 있어, 원하는 형상, 패턴의 인쇄층(3)을 용이하고 또한 확실하게 형성할 수 있다.
광경화성 수지(중합성 화합물)로서는, 예를 들면 각종 모노머, 각종 올리고머(다이머, 트리머 등을 포함함), 프리폴리머 등을 이용할 수 있지만, 잉크는, 광경화성 수지(중합성 화합물)로서 적어도 모노머 성분을 포함하는 것이 바람직하다. 모노머는, 올리고머 성분 등에 비하여 일반적으로, 저점도의 성분이다. 이 때문에, 광경화성 수지를 상기 용제로서 기능시킬 수 있다. 또, 잉크젯법에 의한 잉크의 토출 안정성을 특히 향상시키는 데에 있어서 유리하다.
광경화성 수지(중합성 화합물)로서의 모노머로서는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산이나, 이들의 에스터, 각종 유도체(예를 들면, 수소 원자 중 적어도 일부를 다른 원자 또는 원자단에서 이완한 화합물) 등의 아크릴계 모노머 등을 들 수 있다. 이들 모노머는, 상술한 용제로서 적합하게 기능할 수 있다.
(그 외의 성분)
잉크는, 상술한 이외의 성분(그 외의 성분)을 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 성분으로서는, 예를 들면 광중합 개시제, 슬립제(레벨링제), 분산제, 중합 촉진제, 중합 금지제, 침투 촉진제, 습윤제(보습제), 정착제, 방미제, 방부제, 산화 방지제, 킬레이트제, 증점제, 소포제, 증감제(증감 색소) 등을 들 수 있다.
광중합 개시제는, 광의 조사에 의하여 라디칼이나 양이온 등의 활성종을 발생하여, 상기 광경화성 수지(중합성 화합물)의 중합 반응을 개시시키는 구성이면 특별히 제한되지 않는다. 광중합 개시제로서는, 광라디칼 중합 개시제나 광양이온 중합 개시제를 사용할 수 있지만, 광라디칼 중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제를 이용하는 경우, 당해 광중합 개시제는, 자외선 영역에 흡수 피크를 갖고 있는 것이 바람직하다.
광라디칼 중합 개시제로서는, 예를 들면 방향족 케톤류, 아실포스핀옥사이드 화합물, 방향족 오늄염 화합물, 유기 과산화물, 싸이오 화합물(싸이오잔톤 화합물, 싸이오페닐기 함유 화합물 등), 헥사아릴바이이미다졸 화합물, 케톡심에스터 화합물, 보레이트 화합물, 아지늄 화합물, 메탈로센 화합물, 활성 에스터 화합물, 탄소 할로젠 결합을 갖는 화합물, 알킬아민 화합물 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 광경화성 수지(중합성 화합물)에 대한 용해성 및 경화성의 관점에서, 아실포스핀옥사이드 화합물 및 싸이오잔톤 화합물로부터 선택되는 적어도 1종이 바람직하고, 아실포스핀옥사이드 화합물 및 싸이오잔톤 화합물을 병용하는 것이 보다 바람직하다.
광라디칼 중합 개시제로서는, 예를 들면 아세토페논계 광라디칼 중합 개시제, 벤조인계 광라디칼 중합 개시제, 벤조페논계 광라디칼 중합 개시제, 싸이오잔톤계 광라디칼 중합 개시제, 케톤계 광라디칼 중합 개시제, 이미다졸계 광라디칼 중합 개시제, 옥심에스터계 광라디칼 개시제, 타이타노센계 광라디칼 중합 개시제, 아실포스핀옥사이드계 광라디칼 중합 개시제, 트라이클로로메틸트라이아진계 광라디칼 중합 개시제, 카바졸계 광라디칼 중합 개시제 등을 들 수 있다. 광라디칼 중합 개시제로서, 이들 중으로부터 선택되는 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
잉크가 슬립제를 포함하는 경우, 레벨링 작용에 의하여 인쇄층(3)의 표면의 평활성이 향상된다.
슬립제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 폴리에스터 변성 실리콘이나 폴리에터 변성 실리콘 등의 실리콘계 계면활성제를 이용할 수 있고, 폴리에터 변성 폴리다이메틸실록세인 또는 폴리에스터 변성 폴리다이메틸실록세인을 이용하는 것이 바람직하다.
잉크가 분산제를 포함하는 경우, 안료 등의 분산질의 분산성을 향상시킬 수 있어, 잉크의 보존 안정성, 토출 안정성을 특히 향상시킬 수 있다. 분산제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 폴리옥시알킬렌폴리알킬렌폴리아민, 바이닐계 폴리머 및 코폴리머, 아크릴계 폴리머 및 코폴리머, 폴리에스터, 폴리아마이드, 폴리이미드, 폴리유레테인, 아미노계 폴리머, 함규소 폴리머, 함황 폴리머, 함불소 폴리머, 에폭시 수지 등을 들 수 있다.
<코팅층 형성재용 조성물>
이하, 코팅층(2)의 형성에 이용하는 코팅층 형성용 조성물에 대하여 상세하게 설명한다.
(경질 재료 또는 그 전구체)
코팅층(2)의 형성에 이용하는 코팅층 형성용 조성물은, 코팅층(2)을 구성하는 상술한 경질 수지 재료 및/또는 그 전구체를 포함한다.
(용제)
코팅층 형성용 조성물은, 용제를 포함하고 있어도 된다. 이로써, 예를 들면 코팅층 형성용 조성물 중에 있어서, 경질 재료나 그 전구체를, 용해 및/또는 분산시킬 수 있고, 코팅층 형성용 조성물의 취급의 용이성(취급성)을 향상시킬 수 있어, 화장판(100)의 생산성을 특히 향상시킬 수 있다. 또, 투명 필름(1)과 코팅층(2)의 밀착성을 특히 향상시킬 수 있다.
코팅층 형성용 조성물 중에 포함되는 용제로서는, 극성 용매를 적합하게 이용할 수 있고, 구체적으로는, 물; 메탄올, 에탄올, 아이소프로판올 등의 알코올성 용매; 메틸에틸케톤, 아세톤 등의 케톤계 용매; 다이메틸폼아마이드(DMF) 등의 아마이드계 용매; 테트라하이드로퓨란(THF), 테트라하이드로피란 등의 에터계 용매; 다이메틸설폭사이드(DMSO) 등의 설폭사이드계 용매 등을 들 수 있다.
그 중에서도, 용제로서는, 물을 이용하는 것이 바람직하다.
이로써, 예를 들면 코팅층 형성용 조성물이 경질 재료의 전구체를 포함하는 경우에, 경질 재료의 전구체를 코팅층 형성용 조성물 중에 균일하게 용해시킬 수 있음과 함께, 수소 이온 지수(pH)의 제어가 용이하여, 코팅층 형성용 조성물 중에서의 본의 아닌 수소 이온 지수(pH)의 편차의 발생을 효과적으로 방지할 수 있다. 이와 같은 점에서, 중합 반응을 적합하게 진행시킬 수 있다.
(그 외의 성분)
코팅층 형성용 조성물은, 상술한 이외의 성분(그 외의 성분)을 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 성분으로서는, 예를 들면 각종 산성 물질, 각종 염기성 물질 등의 촉매, 이형제, 중합 개시제, 슬립제(레벨링제), 분산제, 중합 촉진제, 중합 금지제, 침투 촉진제, 습윤제(보습제), 착색제, 정착제, 방미제, 방부제, 산화 방지제, 킬레이트제, 증점제, 소포제, 증감제(증감 색소) 등을 들 수 있다.
촉매로서의 염기성 물질로서는, 예를 들면 수산화 나트륨, 수산화 칼륨 등을 들 수 있다.
촉매로서의 산성 물질로서는, 예를 들면 아세트산, 염화 수소, 황산, 질산이나, 이미드다이설폰산 다이암모늄 등의 잠재성 산촉매 등을 들 수 있다.
이상, 본 발명의 적합한 실시형태에 대하여 설명했지만, 본 발명은, 상술한 실시형태에 한정되지 않고, 본 발명의 목적을 달성할 수 있는 범위에서의 변형, 개량 등은 본 발명에 포함된다.
예를 들면, 본 발명의 화장판은, 도 1, 도 2, 도 7 및 도 8에 나타낸 화장판(100)의 형태에 한정되지 않고, 기계적 강도 등을 부여하고자 하는 경우에는, 예를 들면 도 5에 나타내는 바와 같이, 심재층(5)의 하측에 추가로 지지층(8)을 적층한 구성이어도 된다. 또, 본 발명의 화장판은, 예를 들면 도 6에 나타내는 바와 같이, 의장면 측의 최외층에 보호층(9)을 갖는 구성이어도 된다.
또, 본 발명에 있어서, 화장판은, 상술한 각층의 사이에 적어도 1층의 중간층을 갖고 있어도 된다.
또, 상술한 실시형태에서는, 화장판이, 심재층을 갖는 경우에 대하여 대표적으로 설명했지만, 본 발명의 화장판은, 심재층을 갖고 있지 않아도 된다.
또, 상술한 실시형태에서는, 화장판이, 접착층(제1 접착층, 제2 접착층)을 갖는 경우에 대하여 대표적으로 설명했지만, 본 발명의 화장판은, 접착층(제1 접착층, 제2 접착층 중 적어도 일방)을 갖고 있지 않아도 된다.
또, 본 발명의 화장판은, 어떠한 방법으로 제조되어도 되고, 본 발명의 화장판을 제조하는 방법은, 상술한 제조 방법에 한정되지 않는다.
예를 들면, 상술한 제조 방법에 대한 실시형태에서의 각 공정의 순번을 바꿔 넣어 행해도 된다.
보다 구체적으로는, 예를 들면 상술한 제조 방법의 실시형태에서는, 투명 필름 또는 은폐층에 인쇄층을 형성한 후에, 코팅층을 형성한다고 설명했지만, 코팅층의 형성은, 인쇄층의 형성보다 전에 행해도 된다.
또, 상술한 제조 방법의 실시형태에서는, 인쇄층이 마련된 투명 필름과 은폐층의 접합과, 코어재(심재층)의 형성(코어재의 접합)을 동일 공정에서 행하는 경우에 대하여 대표적으로 설명했다. 이에 관하여, 인쇄층이 마련된 투명 필름과 은폐층의 접합과, 코어재(심재층)의 형성(코어재의 접합)은, 다른 공정에서 행해도 된다. 보다 구체적으로는, 예를 들면 인쇄층이 마련된 투명 필름과 은폐층의 접합 후에, 코어재(심재층)의 형성(코어재의 접합)을 행해도 된다. 또, 인쇄층이 마련된 투명 필름과 은폐층의 접합 전에, 코어재(심재층)의 형성(코어재의 접합)을 행해도 된다.
또, 상술한 실시형태에서는, 인쇄층이 투명 필름 상에 형성되는 경우, 또는 인쇄층이 은폐층 상에 형성되는 경우에 대하여, 각각 설명했지만, 인쇄층이, 투명 필름 및 은폐층의 양쪽 모두에 형성되어 있어도 된다.
실시예
이하, 본 발명을 실시예 및 비교예에 근거하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다.
[1A] 화장판의 제조
(실시예 1A)
먼저, 투명 필름으로서 잉크 수용층을 갖는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 준비했다. 이 투명 필름은, 두께가 100μm였다.
다음으로, 이 투명 필름의 잉크 수용층이 마련된 면 측에, 잉크젯법에 의하여, 소정의 패턴(나뭇결의 패턴)으로 인쇄층을 형성했다.
인쇄층의 형성 시에는, 안료와, 자외선 경화형 수지로서의 아크릴계 수지를 포함하는 잉크를 이용했다. 또, 잉크젯법에 의한 잉크의 토출 후, 투명 필름에 착탄한 잉크에 대하여, 자외선을 조사하여 경화시켰다. 이로써, 인쇄층이 형성되었다.
다음으로, 투명 필름의 인쇄층이 마련된 면과는 반대의 면 측에, 멜라민계 수지(반응 몰비: 1.4, 수지 고형분: 50질량%)를 부여하여, 도막을 형성했다. 그 후, 120℃의 열풍 건조기에서 90초간, 도막을 건조하고, B 스테이지층(B 스테이지의 경화성 수지(멜라민계 수지)를 포함하는 재료로 구성된 층)을 얻었다. 또한, 상기 멜라민계 수지는, 다음의 방법으로 합성했다. 먼저, 반응기에 원료 멜라민과 포말린을 소정 배합 비율로 도입하고, 촉매를 첨가 후, 비점까지 승온하여 환류 반응시켰다. 멜라민 용해가 완료된 것을 확인한 후에, 반응 종점에 도달한 후, 탈수 처리로 수지 고형분을 조제하여 냉각했다. 이러한 방법에 의하여 멜라민계 수지가 합성되었다.
한편, 산화 타이타늄을 포함하는 재료로 구성된 백색의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(백색 PET 필름. 은폐층이 되는 부재)과, 글라스 클로스를 기재로 하여, 바인더를 포함하는 프리프레그로 이루어지는 심재층 재료로 구성된 기체(심재층이 되는 부재)를 준비했다. 또, 백색의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 양면에, 유레테인아크릴 복합 입자의 에멀션(츄오 리카 고교사제 "SU-100", 평균 입경: 84nm, 분산매: 물)을 고형분으로 10g/m2가 되도록 도공했다.
다음으로, B 스테이지층 및 인쇄층이 마련된 투명 필름, 유레테인아크릴 복합 입자의 에멀션이 도공된 백색의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 및 바인더를 포함하는 기체를, 이 순서로 적층하여, 적층체를 얻었다. 이때, B 스테이지층 및 인쇄층이 마련된 투명 필름은, 인쇄층이 마련된 측의 면이, 백색의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름에 대향하도록 설치되었다.
그 후, 140℃, 2MPa의 조건으로 40분간, 얻어진 적층체를 가열 가압 성형했다. 이로써, 경질 수지 재료로 구성된 코팅층(두께: 15μm), 투명 필름(두께: 100μm), 인쇄층, 제1 접착층, 은폐층(두께: 50μm), 제2 접착층, 및 심재층(두께: 100μm)이 이 순서로 적층되어 이루어지는 두께 0.3mm의 화장판(멜라민 화장판)을 얻었다(도 1 참조).
또한, 글라스 클로스로서는, E 유리의 유리 섬유로 구성되어, 평량이 104g/m2인 글라스 클로스를 이용했다. 또, 프리프레그 중에 포함되는 바인더는, 아크릴 수지였다. 또, 프리프레그 중에 있어서의 유리 섬유(100질량부)에 대한 바인더의 함유율은 1.50질량부였다.
(실시예 2A~4A)
각 층의 조건을 표 1에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는, 상기 실시예 1A와 동일하게 하여 화장판을 제조했다.
(실시예 5A)
투명 필름의 인쇄층이 마련된 면 측에, 멜라민계 수지(반응 몰비: 1.4, 수지 고형분: 50질량%)를 부여하고, 당해 면이 화장판의 외표면이 되도록 한 것 이외에는, 상기 실시예 1A와 동일하게 하여 화장판을 제조했다. 즉, 본 실시예에서는, 코팅층, 인쇄층, 투명 필름, 제1 접착층, 은폐층, 제2 접착층, 및 심재층을 이 순서로 적층함으로써, 화장판을 제조했다(도 2 참조).
(실시예 6A~8A)
각 층의 조건을 표 1에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는, 상기 실시예 5A와 동일하게 하여 화장판을 제조했다.
(비교예 1A)
은폐층의 형성을 생략한 것 이외에는, 상기 실시예 1A와 동일하게 하여 화장판을 제조했다. 즉, B 스테이지층 및 인쇄층이 마련된 투명 필름을 준비했다. 투명 필름의 인쇄층이 마련된 면 측에, 유레테인아크릴 복합 입자의 에멀션을 도공했다. 다음으로, 백색의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 개재시키지 않고, 도공한 에멀션을 개재하며, 투명 필름과 바인더를 포함하는 기체를 적층하여, 적층체를 얻었다. 그 후, 적층체를 가열 가압 성형하여 화장판을 제조했다.
(비교예 2A)
인쇄층의 형성을 생략한 것 이외에는, 상기 실시예 1A와 동일하게 하여 화장판을 제조했다.
(비교예 3A)
코팅층의 형성을 생략한 것 이외에는, 상기 실시예 1A와 동일하게 하여 화장판을 제조했다. 즉, 투명 필름의 인쇄층이 마련된 면과는 반대의 면 측으로의 멜라민계 수지의 부여를 생략한 것 이외에는, 상기 실시예 1A와 동일하게 하여 화장판을 제조했다.
상기 각 실시예 및 각 비교예의 화장판의 조건을 표 1에 정리하여 나타낸다. 또한, 상기 각 실시예 및 각 비교예의 화장판에서 이용된 층물성은, 이하와 같다. 투명 필름에 대하여, 380nm 이상 780nm 이하의 범위의 각 파장의 광의 투과율이, 모두, 90% 이상이었다. 또, 코팅층에 대하여, 380nm 이상 780nm 이하의 범위의 각 파장의 광의 투과율이, 모두 90% 이상이었다. 또, 코팅층에 대하여, 마르텐스 경도가, 모두 300N/mm2 이상 700N/mm2 이하의 범위 내의 값이었다. 또, 은폐층에 대하여, 380nm 이상 780nm 이하의 범위의 각 파장의 광의 투과율이, 모두 30% 이하였다. 또, 상기 각 실시예 및 각 비교예의 화장판의 심재층은, 모두, 콘 칼로리 연소 시험을 했을 때의 발열량이, 6MJ/m2 이하였다.
[표 1]
Figure pct00004
[2A] 평가
상기와 같이 하여 제조된 각 실시예 및 각 비교예의 화장판에 대하여, 이하의 평가를 행했다.
[2A. 1] 심미성
심재층이 재치판에 접촉하도록, 화장판을 석고 보드(요시노 셋고사제) 상에 재치했다. 즉, 심재층이 마련된 면과는 반대의 면(외표면)이 상방을 향하도록, 화장판을 석고 보드(요시노 셋고사제) 상에 재치했다. 이 상태로, 화장판을 외표면 측으로부터 관찰하여, 그 심미성을 이하의 기준에 따라 평가했다.
A: 화장판은 매우 우수한 외관을 갖고 있다.
B: 화장판은 우수한 외관을 갖고 있다.
C: 화장판은 양호한 외관을 갖고 있다.
D: 화장판의 심미성이 약간 뒤떨어져 있다.
E: 화장판의 심미성이 매우 뒤떨어져 있다.
[2A. 2] 방오성(내오염성) 시험
JIS K 6902의 내오염성 시험에 준거한 방법으로 화장판의 처리를 행하고, 화장판의 외표면의 오염 재료의 잔사 상태를 확인하여, 이하의 기준에 따라 평가했다.
A: 화장판의 외표면에 오염 재료의 잔사가 전혀 확인되지 않는다.
B: 화장판의 외표면에 오염 재료의 잔사가 거의 확인되지 않는다.
C: 화장판의 외표면에 오염 재료의 잔사가 약간 확인된다.
D: 화장판의 외표면에 오염 재료의 잔사가 분명히 확인된다.
E: 화장판의 외표면에 오염 재료의 잔사가 현저하게 확인된다.
[2A. 3] 내찰상성(내마모성) 시험
JIS K 6902의 내마모성 시험에 준거한 방법으로 측정되는 화장판의 내마모성을 확인하여, 이하의 기준으로 평가를 실시했다.
A: 내마모성이 1000회전 이상이었다.
B: 내마모성이 500회전 이상 1000회전 미만이었다.
C: 내마모성이 300회전 이상 500회전 미만이었다.
D: 내마모성이 100회전 이상 300회전 미만이었다.
E: 내마모성이 100회전 미만이었다.
이들 결과를 표 2에 정리하여 나타낸다.
[표 2]
Figure pct00005
표 2로부터 명확한 바와 같이, 본 발명에서는, 심미성이 우수함과 함께, 내찰상성, 방오성(내오염성)이 우수한 화장판이 얻어졌다. 이것에 대하여, 비교예에서는, 만족스러운 결과가 얻어지지 않았다.
다음으로, 입체감의 평가 등에 착목한 실시예 및 비교예에 대하여 설명한다.
[1B] 화장판의 제조
(실시예 1B)
먼저, 투명 필름으로서 잉크 수용층을 갖는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 준비했다. 이 투명 필름은, 두께가 100μm였다.
다음으로, 이 투명 필름의 잉크 수용층이 마련된 면 측에, 잉크젯법에 의하여, 소정의 패턴(나뭇결의 패턴)으로 인쇄층을 형성했다.
인쇄층의 형성 시에는, 안료와, 자외선 경화형 수지로서의 아크릴계 수지를 포함하는 잉크를 이용했다. 또, 잉크젯법에 의한 잉크의 토출 후, 투명 필름에 착탄한 잉크에 대하여, 자외선을 조사하여 경화시켰다. 이로써, 인쇄층이 형성되었다.
다음으로, 투명 필름의 인쇄층이 마련된 면과는 반대의 면 측에, 멜라민계 수지(반응 몰비: 1.4, 수지 고형분: 50질량%)를 부여하여, 도막을 형성했다. 그 후, 120℃의 열풍 건조기에서 90초간, 도막을 건조하여, B 스테이지층(B 스테이지의 경화성 수지(멜라민계 수지)를 포함하는 재료로 구성된 층)을 얻었다. 또한, 상기 멜라민계 수지는, 다음의 방법으로 합성했다. 먼저, 반응기에 원료 멜라민과 포말린을 소정 배합 비율로 도입하고, 촉매를 첨가 후, 비점까지 승온하여 환류 반응시켰다. 멜라민 용해가 완료된 것을 확인한 후에, 반응 종점에 도달한 후, 탈수 처리로 수지 고형분을 조제하여 냉각했다. 이러한 방법에 의하여 멜라민계 수지가 합성되었다.
한편, 산화 타이타늄을 포함하는 재료로 구성된 백색의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(백색 PET 필름. 은폐층이 되는 부재)과, 글라스 클로스를 기재로 하여, 바인더를 포함하는 프리프레그로 이루어지는 심재층 재료로 구성된 기체(심재층이 되는 부재)를 준비했다. 또, 백색의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 양면에, 유레테인아크릴 복합 입자의 에멀션(츄오 리카 고교사제 "SU-100", 평균 입경: 84nm, 분산매: 물)을 고형분으로 10g/m2가 되도록 도공했다.
다음으로, B 스테이지층 및 인쇄층이 마련된 투명 필름, 유레테인아크릴 복합 입자의 에멀션이 도공된 백색의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 및 바인더를 포함하는 기체를, 이 순서로 적층하여, 적층체를 얻었다. 이때, B 스테이지층 및 인쇄층이 마련된 투명 필름은, 인쇄층이 마련된 측의 면이, 백색의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름에 대향하도록 설치되었다.
그 후, 140℃, 2MPa의 조건으로 40분간, 얻어진 적층체를 가열 가압 성형했다. 이로써, 경질 수지 재료로 구성된 코팅층(두께: 15μm), 투명 필름(두께: 100μm), 인쇄층, 갭층(제1 접착층), 은폐층(두께: 50μm), 접착층(제2 접착층), 및 심재층(두께: 100μm)이 이 순서로 적층되어 이루어지는 두께 0.3mm의 화장판(멜라민 화장판)을 얻었다(도 7 참조).
또한, 글라스 클로스로서는, E 유리의 유리 섬유로 구성되고, 평량이 104g/m2인 글라스 클로스를 이용했다. 또, 프리프레그 중에 포함되는 바인더는, 아크릴 수지였다. 또, 프리프레그 중에 있어서의 유리 섬유(100질량부)에 대한 바인더의 함유율은 1.50질량부였다.
(실시예 2B~6B)
각 층의 조건을 표 3에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는, 상기 실시예 1B와 동일하게 하여 화장판을 제조했다.
(비교예 1B)
은폐층의 형성을 생략한 것 이외에는, 상기 실시예 1B와 동일하게 하여 화장판을 제조했다. 즉, B 스테이지층 및 인쇄층이 마련된 투명 필름을 준비했다. 투명 필름의 인쇄층이 마련된 면 측에, 유레테인아크릴 복합 입자의 에멀션을 도공했다. 다음으로, 백색의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 개재시키지 않고, 도공한 에멀션을 개재하며, 투명 필름과 바인더를 포함하는 기체를 적층하여, 적층체를 얻었다. 그 후, 적층체를 가열 가압 성형하여 화장판을 제조했다.
(비교예 2B)
인쇄층의 형성을 생략한 것 이외에는, 상기 실시예 1B와 동일하게 하여 화장판을 제조했다.
(비교예 3B)
코팅층의 형성을 생략한 것 이외에는, 상기 실시예 1B와 동일하게 하여 화장판을 제조했다. 즉, 투명 필름의 인쇄층이 마련된 면과는 반대의 면 측으로의 멜라민계 수지의 부여를 생략한 것 이외에는, 상기 실시예 1B와 동일하게 하여 화장판을 제조했다.
(참고예 4B, 5B)
각 층의 조건을 표 3에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는, 상기 실시예 1B와 동일하게 하여 화장판을 제조했다.
상기 각 실시예, 참고예 및 각 비교예의 화장판의 조건을 표 1에 정리하여 나타낸다. 또한, 상기 각 실시예, 참고예 및 각 비교예의 화장판에서 이용된 층물성은, 이하와 같다. 투명 필름에 대하여, 380nm 이상 780nm 이하의 범위의 각 파장의 광의 투과율이, 모두, 90% 이상이었다. 또, 코팅층에 대하여, 380nm 이상 780nm 이하의 범위의 각 파장의 광의 투과율이, 모두 90% 이상이었다. 또, 코팅층에 대하여, 마르텐스 경도가, 모두 300N/mm2 이상 700N/mm2 이하의 범위 내의 값이었다. 또, 은폐층에 대하여, 380nm 이상 780nm 이하의 범위의 각 파장의 광의 투과율이, 모두 30% 이하였다. 또, 상기 각 실시예, 참고예 및 각 비교예의 화장판의 심재층은, 모두, 콘 칼로리 연소 시험을 했을 때의 발열량이, 6MJ/m2 이하였다.
[표 3]
Figure pct00006
[2B] 평가
상기와 같이 하여 제조된 각 실시예, 참고예 및 각 비교예의 화장판에 대하여, 이하의 평가를 행했다.
[2B. 1] 심미성(입체감 및 종합 평가)
심재층이 재치판에 접촉하도록, 화장판을 석고 보드(요시노 셋고사제) 상에 재치했다. 즉, 심재층이 마련된 면과는 반대의 면(외표면)이 상방을 향하도록, 화장판을 석고 보드(요시노 셋고사제) 상에 재치했다. 이 상태로, 화장판을 외표면 측으로부터 관찰하여, 그 심미성에 대하여, 입체감의 평가 및 종합 평가를, 이하의 기준에 따라 행했다.
(입체감)
A: 화장판은 입체감이 넘치고 있다.
B: 화장판은 우수한 입체감을 나타내고 있다.
C: 화장판은 입체감이 있는 외관을 나타내고 있다.
D: 약간 입체감이 확인된다.
E: 입체감이 확인되지 않는다.
(종합 평가)
A: 화장판은 매우 우수한 외관을 갖고 있다.
B: 화장판은 우수한 외관을 갖고 있다.
C: 화장판은 양호한 외관을 갖고 있다.
D: 화장판의 심미성이 약간 뒤떨어져 있다.
E: 화장판의 심미성이 매우 뒤떨어져 있다.
[2B. 2] 방오성(내오염성) 시험
JIS K 6902의 내오염성 시험에 준거한 방법으로 화장판의 처리를 행하고, 화장판의 외표면의 오염 재료의 잔사 상태를 확인하여, 이하의 기준에 따라 평가했다.
A: 화장판의 외표면에 오염 재료의 잔사가 전혀 확인되지 않는다.
B: 화장판의 외표면에 오염 재료의 잔사가 거의 확인되지 않는다.
C: 화장판의 외표면에 오염 재료의 잔사가 약간 확인된다.
D: 화장판의 외표면에 오염 재료의 잔사가 분명히 확인된다.
E: 화장판의 외표면에 오염 재료의 잔사가 현저하게 확인된다.
[2B. 3] 내찰상성(내마모성) 시험
JIS K 6902의 내마모성 시험에 준거한 방법으로 측정되는 화장판의 내마모성을 확인하여, 이하의 기준으로 평가를 실시했다.
A: 내마모성이 1000회전 이상이었다.
B: 내마모성이 500회전 이상 1000회전 미만이었다.
C: 내마모성이 300회전 이상 500회전 미만이었다.
D: 내마모성이 100회전 이상 300회전 미만이었다.
E: 내마모성이 100회전 미만이었다.
[2B. 4] 연필 경도
JIS K5600의 연필 경도 시험에 준거한 방법으로 화장판의 처리를 행하고, 화장판의 외표면의 압입 변형에 대한 강도를 확인하여, 이하의 기준에 따라 평가했다.
A: 연필 경도가 5H 이상이었다.
B: 연필 경도가 3H 이상 5H 미만이었다.
C: 연필 경도가 H 이상 3H 미만이었다.
D: 연필 경도가 B 이상 H 미만이었다.
E: 연필 경도가 B 미만이었다.
이들의 결과를 표 4에 정리하여 나타낸다.
[표 4]
Figure pct00007
표 4로부터 명확한 바와 같이, 각 실시예에서는, 입체감이 넘치고, 심미성이 우수함과 함께, 내찰상성, 방오성(내오염성)이 우수한 화장판이 얻어졌다. 이것에 대하여, 각 비교예에서는, 만족스러운 결과가 얻어지지 않았다.
다음으로, 콘트라스트의 평가 등에 착목한 실시예 및 비교예에 대하여 설명한다.
[1C] 화장판의 제조
(실시예 1C)
먼저, 폴리에틸렌테레프탈레이트로 구성된 기부 상에, 백색의 잉크 수용층을 갖는 은폐층을 준비했다. 은폐층의 두께는, 53μm였다.
이 준비한 은폐층의 잉크 수용층이 마련된 면 측에, 잉크젯법에 의하여, 소정의 패턴(나뭇결의 패턴)으로 인쇄층을 형성했다.
인쇄층의 형성 시에는, 안료와, 자외선 경화형 수지로서의 아크릴계 수지를 포함하는 잉크를 이용했다. 또, 잉크젯법에 의한 잉크의 토출 후, 은폐층에 착탄한 잉크에 대하여, 자외선을 조사하여 경화시켰다. 이로써, 인쇄층이 형성되었다.
한편, 투명 필름으로서 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 준비했다. 이 투명 필름은, 두께가 100μm였다.
준비한 투명 필름의 일방의 면에, 멜라민계 수지(반응 몰비: 1.4, 수지 고형분: 50질량%)를 부여하여, 도막을 형성했다. 그 후, 120℃의 열풍 건조기에서 90초간, 도막을 건조하여, B 스테이지층(B 스테이지의 경화성 수지(멜라민계 수지)를 포함하는 재료로 구성된 층)을 얻었다. 또한, 상기 멜라민계 수지는, 다음의 방법으로 합성했다. 먼저, 반응기에 원료 멜라민과 포말린을 소정 배합 비율로 도입하고, 촉매를 첨가 후, 비점까지 승온하여 환류 반응시켰다. 멜라민 용해가 완료된 것을 확인한 후에, 반응 종점에 도달한 후, 탈수 처리로 수지 고형분을 조제하여 냉각했다. 이러한 방법에 의하여 멜라민계 수지가 합성되었다.
다음으로, 글라스 클로스를 기재로 하여, 바인더를 포함하는 프리프레그로 이루어지는 심재층 재료로 구성된 기체(심재층이 되는 부재)를 준비했다. 또, 인쇄층이 마련된 은폐층의 표면 및 이면(양면)에, 유레테인아크릴 복합 입자의 에멀션(츄오 리카 고교사제 "SU-100", 평균 입경: 84nm, 분산매: 물)을 고형분으로 10g/m2가 되도록 도공했다.
다음으로, B 스테이지층이 마련된 투명 필름, 양면에 유레테인아크릴 복합 입자의 에멀션이 도공된 은폐층(인쇄층이 마련된 은폐층), 및 바인더를 포함하는 기체를, 이 순서로 적층하여, 적층체를 얻었다. 이때, 인쇄층이 마련된 은폐층은, 인쇄층이 마련된 면이, 투명 필름에 대향하도록 설치되었다.
그 후, 140℃, 2MPa의 조건으로 40분간, 얻어진 적층체를 가열 가압 성형했다. 이로써, 경질 수지 재료로 구성된 코팅층(두께: 15μm), 투명 필름(두께: 100μm), 제1 접착층, 인쇄층, 은폐층(두께: 53μm), 제2 접착층, 및 심재층(두께: 100μm)이 이 순서로 적층되어 이루어지는 두께 0.3mm의 화장판(멜라민 화장판)을 얻었다(도 8 참조).
또한, 글라스 클로스로서는, E 유리의 유리 섬유로 구성되고, 평량이 104g/m2인 글라스 클로스를 이용했다. 또, 프리프레그 중에 포함되는 바인더는, 아크릴 수지였다. 또, 프리프레그 중에 있어서의 유리 섬유(100질량부)에 대한 바인더의 함유율은 1.50질량부였다.
(실시예 2C~4C)
각 층의 조건을 표 5에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는, 상기 실시예 1C와 동일하게 하여 화장판을 제조했다.
(비교예 1C)
은폐층의 형성을 생략한 것 이외에는, 상기 실시예 1C와 동일하게 하여 화장판을 제조했다. 즉, B 스테이지층이 마련된 투명 필름의 일방의 면에 인쇄층을 형성했다. 또, 당해 투명 필름의 인쇄층이 마련된 면 측에, 유레테인아크릴 복합 입자의 에멀션을 도공했다. 다음으로, 은폐층을 개재시키지 않고, 도공한 에멀션을 개재하며, 투명 필름과 바인더를 포함하는 기체를 적층하여, 적층체를 얻었다. 그 후, 적층체를 가열 가압 성형하여 화장판을 제조했다.
(비교예 2C)
인쇄층의 형성을 생략한 것 이외에는, 상기 실시예 1C와 동일하게 하여 화장판을 제조했다.
(비교예 3C)
코팅층의 형성을 생략한 것 이외에는, 상기 실시예 1C와 동일하게 하여 화장판을 제조했다. 즉, 투명 필름의 인쇄층이 마련된 면과는 반대의 면 측으로의 멜라민계 수지의 부여를 생략한 것 이외에는, 상기 실시예 1C와 동일하게 하여 화장판을 제조했다.
(참고예 4C)
인쇄층을 은폐층의 표면에 형성하는 대신에, 투명 필름의 코팅층에 대향하는 면과는 반대 측의 면에 형성한 것 이외에는, 상기 실시예 1C와 동일하게 하여 화장판을 제조했다.
상기 각 실시예, 참고예 및 각 비교예의 화장판의 조건을 표 5에 정리하여 나타낸다. 또한, 상기 각 실시예, 참고예 및 각 비교예의 화장판에서 이용된 층물성은, 이하와 같다. 투명 필름에 대하여, 380nm 이상 780nm 이하의 범위의 각 파장의 광의 투과율이, 모두, 90% 이상이었다. 또, 코팅층에 대하여, 380nm 이상 780nm 이하의 범위의 각 파장의 광의 투과율이, 모두 90% 이상이었다. 또, 코팅층에 대하여, 마르텐스 경도가, 모두 300N/mm2 이상 700N/mm2 이하의 범위 내의 값이었다. 또, 은폐층에 대하여, 380nm 이상 780nm 이하의 범위의 각 파장의 광의 투과율이, 모두 30% 이하였다. 또, 상기 각 실시예, 참고예 및 각 비교예의 화장판의 심재층은, 모두, 콘 칼로리 연소 시험을 했을 때의 발열량이, 6MJ/m2 이하였다.
[표 5]
Figure pct00008
[2C] 평가
상기와 같이 하여 제조된 각 실시예, 참고예 및 각 비교예의 화장판에 대하여, 이하의 평가를 행했다.
[2C. 1] 심미성
심재층이 재치판에 접촉하도록, 화장판을 석고 보드(요시노 셋고사제) 상에 재치했다. 즉, 심재층이 마련된 면과는 반대의 면(외표면)이 상방을 향하도록, 화장판을 석고 보드(요시노 셋고사제) 상에 재치했다. 이 상태로, 화장판을 외표면 측으로부터 관찰하여, 콘트라스트에 대한 평가 및 종합 평가를 이하의 기준에 따라 행했다.
[2C. 1.1] 콘트라스트
A: 콘트라스트가 매우 우수하다.
B: 콘트라스트가 우수하다.
C: 콘트라스트가 양호하다.
D: 콘트라스트가 약간 뒤떨어져 있다.
E: 콘트라스트가 뒤떨어져 있다.
[2C. 1.2] 종합 평가
A: 화장판은 매우 우수한 외관을 갖고 있다.
B: 화장판은 우수한 외관을 갖고 있다.
C: 화장판은 양호한 외관을 갖고 있다.
D: 화장판의 심미성이 약간 뒤떨어져 있다.
E: 화장판의 심미성이 매우 뒤떨어져 있다.
[2C. 2] 방오성(내오염성) 시험
JIS K 6902의 내오염성 시험에 준거한 방법으로 화장판의 처리를 행하고, 화장판의 외표면의 오염 재료의 잔사 상태를 확인하여, 이하의 기준에 따라 평가했다.
A: 화장판의 외표면에 오염 재료의 잔사가 전혀 확인되지 않는다.
B: 화장판의 외표면에 오염 재료의 잔사가 거의 확인되지 않는다.
C: 화장판의 외표면에 오염 재료의 잔사가 약간 확인된다.
D: 화장판의 외표면에 오염 재료의 잔사가 분명히 확인된다.
E: 화장판의 외표면에 오염 재료의 잔사가 현저하게 확인된다.
[2C. 3] 내찰상성(내마모성) 시험
JIS K 6902의 내마모성 시험에 준거한 방법으로 측정되는 화장판의 내마모성을 확인하여, 이하의 기준으로 평가를 실시했다.
A: 내마모성이 1000회전 이상이었다.
B: 내마모성이 500회전 이상 1000회전 미만이었다.
C: 내마모성이 300회전 이상 500회전 미만이었다.
D: 내마모성이 100회전 이상 300회전 미만이었다.
E: 내마모성이 100회전 미만.
[2C. 4] 층 간 밀착성 평가
JIS K6854-1의 접착제-박리 접착 강도 시험 방법- 제1부 90도 박리에 준거한 방법으로 측정되는 화장판의 층간 밀착성을 확인하여, 이하의 기준으로 평가를 실시했다.
A: 박리 강도가 10N 이상이었다.
B: 박리 강도가 7N 이상 10N 미만이었다.
C: 박리 강도가 2N 이상 7N 미만이었다.
D: 박리 강도가 2N 미만이었다.
E: 박리 강도 측정을 할 수 없었다.
이들의 결과를 표 6에 정리하여 나타낸다.
[표 6]
Figure pct00009
표 6으로부터 명확한 바와 같이, 각 실시예에서는, 심미성이 우수함과 함께, 내구성(내찰상성, 층간 밀착성), 방오성(내오염성)이 우수한 화장판이 얻어졌다. 이것에 대하여, 각 비교예에서는, 만족스러운 결과가 얻어지지 않았다.
산업상 이용가능성
본 발명에 의하면, 심미성이 우수함과 함께, 내찰상성, 방오성(내오염성)이 우수한 화장판을 제공할 수 있다. 따라서, 본 발명은, 산업상 이용가능성을 갖는다.
100: 화장판
1: 투명 필름(투명 기재)
11: 제1 면
12: 제2 면
2: 코팅층(경질 수지층)
3: 인쇄층
4: 은폐층
5: 코어재(심재층)
6: 갭층, 접착층(제1 접착층)
7: 접착층(제2 접착층)
8: 지지층
9: 보호층
L: 갭 길이

Claims (15)

  1. 투명 필름과,
    상기 투명 필름의 일방의 면인 제1 면 측에 배치된 경질 수지 재료로 구성된 코팅층과,
    상기 투명 필름의 상기 제1 면과는 반대의 면인 제2 면 측에 배치된 은폐층과,
    상기 코팅층과 상기 은폐층의 사이에 배치된 인쇄층을 구비하는 것을 특징으로 하는 화장판.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 인쇄층이, 상기 투명 필름의 상기 제2 면 측에 배치되어 있는 화장판.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 인쇄층과 상기 은폐층의 사이에 마련된 갭층을 구비하고,
    상기 코팅층 측으로부터 관찰한 경우의, 상기 인쇄층의 표면으로부터 상기 은폐층의 표면까지의 갭 길이가 1μm 이상 50μm 이하인 화장판.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 갭층은, 상기 인쇄층과 상기 은폐층을 접착하는 접착층인 화장판.
  5. 청구항 2에 있어서,
    상기 인쇄층은, 상기 은폐층의 상기 투명 필름에 대향하는 면에 마련되고,
    상기 투명 필름과, 상기 인쇄층이 마련된 상기 은폐층의 사이에 마련된 접착층을 구비하는 화장판.
  6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인쇄층이, 상기 투명 필름의 상기 제1 면 측에 배치되어 있는 화장판.
  7. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 코팅층을 구성하는 상기 경질 수지 재료는, 멜라민계 수지를 포함하는 화장판.
  8. 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 은폐층의 상기 투명 필름에 대향하는 면과는 반대의 면 측에, 심재층을 더 구비하는 화장판.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 심재층은, 유리 섬유를 포함하는 화장판.
  10. 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 은폐층은, 백색 또는 금속 광택을 나타내는 화장판.
  11. 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 은폐층은, 폴리에틸렌테레프탈레이트를 포함하는 재료로 구성되어 있는 화장판.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 은폐층은, 상기 폴리에틸렌테레프탈레이트에 더하여, 산화 타이타늄 및 산화 아연 중 적어도 일방을 포함하는 재료로 구성되어 있는 화장판.
  13. 청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 은폐층의 두께는, 10μm 이상 300μm 이하인 화장판.
  14. 청구항 1 내지 청구항 13 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 투명 필름은, 폴리에틸렌테레프탈레이트를 포함하는 재료로 구성된 기부와, 잉크 수용층을 구비하는 화장판.
  15. 청구항 1 내지 청구항 14 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 은폐층은, 잉크 수용층을 구비하는 화장판.
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