KR20190020832A - 열전사 시트, 인화 시트 및 열전사 인화 장치 - Google Patents

열전사 시트, 인화 시트 및 열전사 인화 장치 Download PDF

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KR20190020832A
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무네노리 이에시게
마코토 하시바
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Abstract

고해상도의 인화에서의 발색 특성의 변화를 방지하고, 제조 비용을 억제하면서, 열전사 인화 장치로 식별 가능한 열전사 시트를 제공한다. 본 실시형태에 의한 열전사 시트(5)는, 기재(50)의 한쪽 면에 염료층(52) 및 보호층(54)이 형성되어 있다. 보호층(54)은 불가시광선 흡수 재료를 함유하고, 오목부 및 볼록부의 적어도 어느 하나를 포함하는 식별 마크(55)가 형성되어 있다.

Description

열전사 시트, 인화 시트 및 열전사 인화 장치
본 발명은, 열전사 시트, 인화 시트 및 열전사 인화 장치에 관한 것이다.
열전사 시트(잉크 리본)를 이용하여, 수상(受像) 시트 등의 피전사체에 문자나 화상 등을 인자하는 열전사 프린터가 널리 보급되어 있다. 열전사 시트는, 띠형상으로 연장되는 리본(지지층)과, 리본 위에 형성된 염료층, 및 필요에 따라서 보호층이나 열용융성 잉크층을 갖고 있다.
종래의 열전사 시트는, 옐로우, 마젠타, 시안의 3색의 염료층 및 보호층이 면순차적으로 반복 형성됨과 더불어, 각 염료층의 사이나 염료층과 보호층의 사이에, 카본 블랙이나 알루미늄 등의 안료를 이용한 잉크에 의해 검지 마크가 형성되어 있다. 열전사 인화 장치는, 장전된 열전사 시트의 검지 마크를 읽어냄으로써, 인화 개시 위치를 결정하거나, 열전사 시트의 품종이나 사이즈를 식별하거나 했다. 그러나, 염료층 사이에 검지 마크를 형성하는 영역을 설정함으로써, 열전사 시트의 전체 길이가 길어지고, 기재의 사용량이 증가하여 제조 비용이 상승했다. 또한, 검지 마크를 기재 필름에 인쇄하여 형성할 때에, 잉크 비산 등에 의해 불필요한 개소에 인쇄되어, 열전사 화상의 결함으로 이어질 우려가 있었다.
특허문헌 1에는, 2색 이상의 염료층이 면순차적으로 형성되고, 어느 염료층이 2층 구조로 이루어지고, 2층 중의 1층에 의해 검지 마크를 형성하여, 검지 마크와 검지 마크에 인접한 개소의 사이에 색차를 부여하는 열전사 시트가 제안되어 있다. 그러나, 검지 마크를 위해 새롭게 검지(염료)층 1층을 형성하는 공정이 필요해지기 때문에, 제조 비용이 증가했다. 또한, 고해상도의 인화에서 발색 특성이 변화할 우려가 있었다.
특허문헌 2, 3에는, 옐로우 염료층, 마젠타 염료층, 시안 염료층 등을 갖는 열전사 염료 시트에서, 옐로우 염료층 내에, 프린터로 검출 가능한 광학 밀도의 차이를 발생시키는 바이너리 코드 등의 인쇄 영역(검지 마크)을, 옐로우 염료층의 두께를 바꿔 형성하여, 프린터로 검출할 수 있도록 한 열전사 시트가 제안되어 있다. 그러나, 광학 밀도의 차이를 발생시키기 위해 염료층의 두께를 증감시켰기 때문에, 고해상도의 인화에서 발색 특성이 변화할 우려가 있었다.
특허문헌 4, 5에는, 1색 이상의 염료층이 면순차적으로 형성되고, 기재와 염료층 사이, 또는 기재와 배면층 사이에 검지층을 형성하는 열전사 시트가 제안되어 있다. 그러나, 새롭게 검지층을 1층 형성하는 공정이 필요해지기 때문에, 제조 비용이 증가했다.
특허문헌 1 : 일본 특허 제5799525호 공보
특허문헌 2 : 유럽 특허 제1872960호 명세서
특허문헌 3 : 유럽 특허 제2035233호 명세서
특허문헌 4 : 일본 특허 제5760763호 공보
특허문헌 5 : 일본 특허 공개 제2013-1047호 공보
본 발명은, 상기 종래의 실상을 감안하여 이루어진 것으로, 고해상도의 인화에서의 발색 특성의 변화를 방지하고, 제조 비용을 억제하면서, 열전사 인화 장치로 식별 가능한 열전사 시트를 제공하는 것을 과제로 한다. 또한, 본 발명은, 열전사 인화 장치로 식별 가능한 인화 시트를 제공하는 것을 과제로 한다. 또한, 본 발명은, 장전된 열전사 시트 또는 인화 시트를 식별하여 인화 처리를 행하는 열전사 인화 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명에 의한 열전사 시트는, 기재의 한쪽 면에 염료층 및 보호층이 형성된 열전사 시트로서, 상기 보호층은 불가시광선 흡수 재료를 함유하고, 오목부 및 볼록부의 적어도 어느 하나를 포함하는 식별 마크가 형성되어 있는 것이다.
본 발명의 일 양태에 의한 열전사 시트에서는, 상기 식별 마크는 볼록 라인부 또는 오목 라인부를 포함한다.
본 발명의 일 양태에 의한 열전사 시트에서는, 상기 볼록 라인부 또는 오목 라인부는 시트의 짧은 길이 방향을 따라서 형성되어 있다.
본 발명의 일 양태에 의한 열전사 시트에서는, 상기 식별 마크는, 인화지에 전사되지 않는 상기 보호층의 둘레 가장자리부에 형성되어 있다.
본 발명에 의한 열전사 인화 장치는, 서멀 헤드 및 플래튼 롤을 가지며, 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 열전사 시트와 인화지를 겹쳐, 상기 서멀 헤드와 상기 플래튼 롤 사이를 반송시킴과 더불어, 상기 서멀 헤드가 상기 열전사 시트를 가열하여 염료를 전사하고, 상기 인화지에 화상을 형성하고, 상기 화상 위에 상기 보호층을 전사하는 열전사 인화 장치로서, 상기 열전사 시트를 공급하는 공급부와 상기 서멀 헤드 사이에 설치되어, 상기 식별 마크를 검출하는 검출기와, 열전사 시트의 품종과 상기 식별 마크의 패턴을 대응시킨 테이블을 저장하는 기억부와, 상기 테이블을 참조하여, 상기 검출기가 검출한 패턴으로부터, 상기 공급부가 공급하는 열전사 시트를 식별하는 식별부를 구비하는 것이다.
본 발명의 일 양태에 의한 열전사 인화 장치에 있어서, 상기 식별 마크의 패턴은, 상기 식별 마크의 라인수, 갯수, 폭, 형상 또는 위치이다.
본 발명에 의한 열전사 인화 장치는, 서멀 헤드 및 플래튼 롤을 가지며, 염료층 및 불가시광선 흡수 재료를 포함하는 보호층이 형성된 열전사 시트와 인화지를 겹쳐, 상기 서멀 헤드와 상기 플래튼 롤 사이를 반송시킴과 더불어, 상기 서멀 헤드가 상기 열전사 시트를 가열하여 염료를 전사하고, 상기 인화지에 화상을 형성하고, 상기 화상 위에 상기 보호층을 전사하는 열전사 인화 장치로서, 상기 열전사 시트를 공급하는 공급부와 상기 서멀 헤드 사이에 설치되고, 상기 보호층에 불가시광선을 조사하여 투과광 또는 반사광의 강도를 측정하는 검출기와, 열전사 시트의 품종과 상기 강도를 대응시킨 테이블을 저장하는 기억부와, 상기 테이블을 참조하여, 상기 검출기의 측정 결과로부터, 상기 공급부가 공급하는 열전사 시트를 식별하는 식별부를 구비하는 것이다.
본 발명의 일 양태에 의한 열전사 인화 장치에 있어서, 상기 테이블에는, 열전사 시트의 품종마다의 인화 조건이 대응되어 있고, 상기 식별부가 식별한 열전사 시트의 품종에 따른 인화 조건으로 인화 처리를 행한다.
본 발명에 의한 인화 시트는, 기재, 상기 기재 위에 형성된 중간층, 및 상기 중간층 위에 형성된 수용층을 구비하는 인화 시트로서, 상기 중간층은 불가시광선 흡수 재료를 함유하고, 오목부 및 볼록부의 적어도 어느 하나를 포함하는 식별 마크가 형성되어 있는 것이다.
본 발명의 일 양태에 의한 인화 시트에 있어서, 상기 식별 마크는 볼록 라인부 또는 오목 라인부를 포함한다.
본 발명에 의한 열전사 인화 장치는, 서멀 헤드 및 플래튼 롤을 가지며, 본 발명의 열전사 시트와 본 발명의 인화 시트를 겹쳐, 상기 서멀 헤드와 상기 플래튼 롤 사이를 반송시킴과 더불어, 상기 서멀 헤드가 상기 열전사 시트를 가열하여 염료를 전사하고, 상기 인화 시트에 화상을 형성하고, 상기 화상 위에 상기 보호층을 전사하는 열전사 인화 장치로서, 상기 열전사 시트를 공급하는 공급부와 상기 서멀 헤드 사이에 설치되어, 상기 보호층에 형성된 제1 식별 마크를 검출하는 제1 검출기와, 상기 중간층에 형성된 제2 식별 마크를 검출하는 제2 검출기와, 열전사 시트의 품종과 상기 제1 식별 마크의 패턴을 대응시킨 테이블, 및 인화 시트의 품종과 상기 제2 식별 마크의 패턴을 대응시킨 테이블을 저장하는 기억부와, 상기 테이블을 참조하여, 상기 제1 검출기가 검출한 패턴으로부터 열전사 시트의 품종을 식별하고, 상기 제2 검출기가 검출한 패턴으로부터 인화 시트의 품종을 식별하는 식별부를 구비하는 것이다.
본 발명의 일 양태에 의한 열전사 인화 장치에 있어서, 상기 열전사 시트 및 상기 인화 시트에 불가시광선을 조사하는 광원이 설치되어 있고, 상기 인화 시트에는, 상기 보호층을 투과한 불가시광선이 조사되고, 상기 제1 검출기는, 상기 보호층으로부터의 광을 수광하고, 상기 제2 검출기는, 상기 보호층을 투과한 상기 인화 시트로부터의 광을 수광한다.
본 발명의 일 양태에 의한 열전사 인화 장치에 있어서, 상기 열전사 시트의 보호층은 자외선 흡수 재료를 함유하고, 상기 인화 시트의 중간층은 형광 증백제를 함유한다.
본 발명에 의하면, 고해상도의 인화에서의 발색 특성의 변화를 방지하고, 제조 비용을 억제하면서, 열전사 인화 장치로 열전사 시트의 식별이 가능해진다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 관한 열전사 인화 장치의 개략 구성도이다.
도 2는 동 실시형태에 관한 열전사 시트의 평면도이다.
도 3은 도 2의 III-III선을 따르는 단면도이다.
도 4a, 4b는 보호층의 단면의 예를 나타낸다.
도 5a, 5b는 보호층의 평면도이다.
도 6a, 6b는 보호층의 평면도이다.
도 7a, 7b는 보호층의 평면도이다.
도 8a, 8b는 보호층의 평면도이다.
도 9는 보호층의 평면도이다.
도 10은 보호층의 평면도이다.
도 11은 열전사 시트의 평면도이다.
도 12는 다른 실시형태에 관한 열전사 인화 장치의 개략 구성도이다.
도 13은 인화 시트의 평면도이다.
도 14a, 14b는 도 13의 XIV-XIV선을 따르는 단면도이다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 관한 열전사 인화 장치의 개략 구성도이며, 도 2는 열전사 인화 장치에서 사용되는 열전사 시트(5)의 평면도이며, 도 3은 열전사 시트(5)의 단면도이다.
열전사 시트(5)는, 기재(50)의 한쪽 면에 염료와 바인더 수지를 함유하는 염료층(52) 및 전사성 보호층(이하, 보호층(54)으로 기재함)이 면순차적으로 반복 형성되고, 기재(50)의 다른쪽 면에 배면층(57)이 형성된 구성을 채용한다. 염료층(52)은, 면순차적으로 형성된 옐로우(Y) 염료층, 마젠타(M) 염료층 및 시안(C) 염료층을 포함한다. 염료층(52) 및 보호층(54)과 기재(50)의 사이에 염료 프라이머층이 형성되어 있어도 좋다. 또한, 기재(50)와 배면층(57)의 사이에 배면 프라이머층이 형성되어 있어도 좋다.
열전사 인화 장치는, 열전사 시트(5)를 이용하여, 인화 시트(7)(인화지, 수상지) 위에 Y, M, C를 승화 전사시켜 화상을 인화하고, 화상 위에 보호층을 형성하는 서멀 헤드(1)를 구비하고 있다.
서멀 헤드(1)의 하류측에, 열전사 시트(5)를 권취하여 형성된 공급부(3)가 설치되고, 서멀 헤드(1)의 상류측에 회수부(4)가 설치되어 있다. 공급부(3)로부터 풀린 열전사 시트(5)는, 서멀 헤드(1)를 통과하여 회수부(4)에 회수되도록 되어 있다.
서멀 헤드(1)의 하방측에는 회전 가능한 플래튼 롤(2)이 설치되어 있다. 서멀 헤드(1) 및 플래튼 롤(2)을 포함하는 인화부(40)는, 인화 시트(7) 및 열전사 시트(5)를 끼워 넣고, 열전사 시트(5)를 가열하여 인화 시트(7) 위에 염료를 열전사함으로써 화상을 형성한다.
또한, 인화부(40)는, 보호층(54)을 가열하여 화상 위에 보호층을 전사한다. 보호층 형성시의 전사 에너지(인화부(40)에 의한 인화 에너지)를 높게 함으로써 보호층 표면이 광택도가 낮은 매트한 느낌이 나고, 전사 에너지를 낮게 함으로써 보호층 표면이 광택도가 높은 글로스한 느낌이 난다.
서멀 헤드(1)의 상류측에는, 인화 시트(7)의 반송을 행하기 위한 회전 구동 가능한 캡스턴 롤러(9a)와, 캡스턴 롤러(9a)에 인화 시트(7)를 압착시키기 위한 핀치 롤러(9b)가 설치되어 있다.
인화 시트(7)는, 인화지 롤(6)에 권취되어 있고, 인화지 롤(6)로부터 풀린다. 인화 시트(7)에는 공지의 것을 사용할 수 있다. 인화지 롤(6), 캡스턴 롤러(9a) 및 핀치 롤러(9b)를 포함하는 구동부(30)에 의해 인화 시트(7)의 풀림(전방측으로의 반송)이나 권취(후방측으로의 반송)가 행해진다.
인화부(40)에서 화상 형성 및 보호층의 전사가 실시된 인화 시트(7)는, 하류측에서 커터(8)에 의해 프린트 매엽(7a)으로서 절취된다. 프린트 매엽(7a)은, 도시를 생략하는 배출구로부터 배출된다.
본 실시형태에서는, 열전사 시트(5)의 보호층(54)은 불가시광선 흡수 재료를 포함하고 있다. 불가시광선 흡수 재료로서는, 예컨대 형광 증백제, 자외선 흡수 재료, 적외선 흡수 재료를 들 수 있다. 공급부(3)의 근방에는, 불가시광선 흡수 재료의 종류에 따른 검출기(20)가 설치되어 있다.
보호층(54)이 형광 증백제를 포함하는 경우, 검출기(20)로서 형광 센서를 사용하고, 보호층(54)에 자외선을 조사하고, 보호층(54)으로부터 방사되는 형광을 수광하여, 형광 강도를 측정한다. 보호층(54)이 자외선 흡수 재료 또는 적외선 흡수 재료를 포함하는 경우, 검출기(20)로서 자외선 센서 또는 적외선 센서를 사용하고, 보호층(54)에 자외선 또는 적외선을 조사하고, 반사광이나 투과광의 강도(반사율, 투과율)를 측정한다. 여기서, 자외선이란, 극대 흡수 파장(λmax) 영역이 280 nm 이상 400 nm 이하인 것을 말하고, 적외선이란, 극대 흡수 파장(λmax) 영역이 780 nm 이상 1 mm 이하인 것을 말한다. 가시광의 파장 영역은 400 nm보다 크고 780 nm 미만이다.
보호층(54)에는 식별 마크(55)가 형성되어 있고, 식별 마크(55)와, 식별 마크(55) 이외의 영역에서 검출기(20)의 측정치가 상이하도록 되어 있다.
예컨대, 식별 마크(55)는, 도 3, 도 4a에 나타낸 바와 같이, 식별 마크(55) 이외의 영역보다 두께가 얇은 오목부로 되어 있다. 혹은, 식별 마크(55)는, 도 4b에 나타낸 바와 같이, 식별 마크(55) 이외의 영역보다 두께가 두꺼운 볼록부로 되어 있어도 좋다.
예컨대, 식별 마크(55)는, 열전사 시트의 폭방향(시트의 긴 길이 방향에 직교하는 시트의 짧은 길이 방향)을 따르는 볼록 라인 또는 오목 라인(라인 패턴)으로 할 수 있다. 이 경우, 검출기(20)가, 공급부(3)로부터 풀려 반송되고 있는 열전사 시트(5)의 보호층(54)에 자외선 또는 적외선을 조사하고, 긴 길이 방향으로 스캔하면, 식별 마크(55)의 엣지 부분에서 측정치가 변화하기 때문에, 식별 마크(55)의 라인수, 갯수, 폭, 형상, 위치 등의 패턴을 검출할 수 있다.
예컨대, 보호층(54)에 형광 증백제가 포함되어 있는 경우, 검출기(20)가 형광을 수광하기 시작한 위치가 보호층(54)의 앞쪽 가장자리에 상당한다. 계속해서, 형광 강도가 증가(감소)한 위치가 식별 마크(55)의 한쪽 엣지에 상당하고, 그 후, 형광 강도가 감소(증가)한 위치가 식별 마크(55)의 다른쪽 엣지에 상당한다. 검출기(20)가 형광을 수광하지 않게 된 위치가 보호층(54)의 뒤쪽 가장자리에 상당한다.
열전사 인화 장치에는, 복수종의 열전사 시트(5)를 장전할 수 있다. 후술하는 기억부(12)의 테이블(T)에는, 열전사 시트(5)의 품종과, 식별 마크(55)의 패턴(라인수, 갯수, 폭, 형상, 위치)이 대응되어 기록되어 있다. 예컨대, 도 5a, 5b에 나타낸 바와 같이, 열전사 시트(5)의 품종에 따라 식별 마크(55)의 라인수가 상이하다. 또한, 예컨대, 도 6a, 6b에 나타낸 바와 같이, 열전사 시트(5)의 품종에 따라 식별 마크(55)의 폭 w1, w2가 상이하다. 또한, 예컨대, 도 7a, 7b에 나타낸 바와 같이, 열전사 시트(5)의 품종에 따라 식별 마크(55)의 시트의 긴 길이 방향에서의 위치가 상이하다. 또한, 예컨대, 도 8a, 8b에 나타낸 바와 같이, 식별 마크(55)는 시트의 짧은 길이 방향의 일부에만 형성되고, 열전사 시트(5)의 품종에 따라 식별 마크(55)의 시트의 짧은 길이 방향에서의 위치가 상이하다. 식별 마크(55)의 라인수, 갯수, 폭, 형상, 위치 등을 조합하여 열전사 시트(5)의 품종을 표현해도 좋다.
볼록 라인부 또는 오목 라인의 식별 마크(55)는, 도 9에 나타낸 바와 같이 시트의 긴 길이 방향을 따라서 형성되어 있어도 좋다. 식별 마크(55)는 직선형이 아니어도 좋고 파상 라인이어도 좋다. 또한, 식별 마크(55)는 라인 패턴에 한정되지 않고, 도 10에 나타낸 바와 같은 바둑판 무늬나 하트, 별, 스페이드 등의 패턴이어도 좋다.
제어 장치(10)는, 열전사 인화 장치의 각 부의 구동을 제어하여, 열전사 시트(5)의 식별 처리나 인화 처리를 행한다. 제어 장치(10)는, CPU(중앙 연산 처리 장치)나 플래시메모리, ROM(Read-only Memory), RAM(Random Access Memory) 등으로 이루어진 기억부(12)를 가진 컴퓨터이다. 기억부(12)는, 제어 프로그램 및 전술한 테이블(T)을 저장한다. CPU가 제어 프로그램을 실행함으로써, 식별부(11)가 실현된다.
식별부(11)는, 테이블(T)을 참조하여, 검출기(20)에 의한 식별 마크(55)의 검출 결과로부터, 열전사 시트(5)의 품종을 식별한다. 테이블(T)에는, 열전사 시트(5)의 품종마다, 적합한 인화 조건(인화 속도, 인화시의 인가 에너지)이나, 사용해야 할 인화 시트(7)의 품종 등을 대응시켜 기록해도 좋다. 제어 장치(10)는, 열전사 인화 장치에 장전되어 있는 인화 시트(7)의 품종이, 식별한 열전사 시트(5)의 품종에 대응하는 것이 아닌 경우, 경고음이나 경고 표시를 출력하거나, 인화 처리를 중지하거나 해도 좋다.
다음으로, 열전사 시트(5)의 구성에 관해 설명한다.
[기재]
열전사 시트(5)에 이용되는 기재(50)는, 종래 공지된 어느 정도의 내열성과 강도를 갖는 것이라면 어떤 것이어도 좋다. 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 1,4-폴리시클로헥실렌디메틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름, 폴리페닐렌술피드 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리술폰 필름, 아라미드 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리비닐알콜 필름, 셀로판, 아세트산셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 폴리에틸렌 필름, 폴리염화비닐 필름, 나일론 필름, 폴리이미드 필름, 아이오노머 필름 등의 수지 필름 등을 들 수 있다.
기재(50)는, 두께가 일반적으로 약 0.5 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하이며, 바람직하게는 약 3.0 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하이다. 기재(50)는, 기재(50)와 접하는 층과의 접착성을 향상시키기 위해 표면 처리를 실시해도 좋다. 표면 처리로서는, 코로나 방전 처리, 화염 처리, 오존 처리, 자외선 처리, 방사선 처리, 조면화 처리, 화학 약품 처리, 플라즈마 처리, 그래프트화 처리 등, 공지의 수지 표면 개질 기술을 적용할 수 있다. 표면 처리는, 1종만 행해도 좋고, 2종 이상 행해도 좋다.
상기 표면 처리 중에서도, 비용이 낮은 점에서, 코로나 처리 또는 플라즈마 처리가 바람직하다. 또한, 필요에 따라서, 기재(50)의 한쪽 면 또는 양쪽 면에 언더코팅층을 형성하는 것이어도 좋다. 언더코팅층을 형성하는 프라이머 처리는, 예컨대 플라스틱 필름의 용융 압출의 성막시에, 미연신 필름에 프라이머액을 도포하고, 그 후에 연신 처리하여 행할 수 있다. 또한, 기재(50)와 배면층(57) 사이에, 배면 프라이머층(접착층)을 도공하여 형성하는 것도 가능하다. 배면 프라이머층은, 예컨대 폴리에스테르계 수지, 폴리아크릴산에스테르계 수지, 폴리아세트산비닐계 수지, 폴리우레탄계 수지, 스티렌아크릴레이트계 수지, 폴리아크릴아미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지, 폴리염화비닐 수지나 폴리비닐알콜 수지, 폴리염화비닐리덴 수지 등의 비닐계 수지, 폴리비닐아세트아세탈이나 폴리비닐부티랄 등의 폴리비닐아세탈계 수지, 셀룰로오스계 수지 등을 이용하여 형성할 수 있다.
[염료층]
염료층(52)은, 바인더 수지에, 승화성 염료를 용융 또는 분산시킨 재료를 이용하는 것이 바람직하다. 승화성 염료로서는, 예컨대 디아릴메탄계 염료; 트리아릴메탄계 염료; 티아졸계 염료; 메로시아닌 염료; 피라졸론 염료; 메틴계 염료; 인도아닐린계 염료; 아세토페논아조메틴, 피라졸로아조메틴, 이미다졸아조메틴, 이미다조아조메틴, 피리돈아조메틴 등의 아조메틴계 염료; 크산텐계 염료; 옥사진계 염료; 디시아노스티렌, 트리시아노스티렌 등의 시아노스티렌계 염료; 티아진계 염료; 아진계 염료; 아크리딘계 염료; 벤젠아조계 염료; 피리돈아조, 티오펜아조, 이소티아졸아조, 피롤아조, 피라졸아조, 이미다졸아조, 티아디아졸아조, 트리아졸아조, 디스아조 등의 아조계 염료; 스피로피란계 염료; 인돌리노스피로피란계 염료; 플루오란계 염료; 로다민락탐계 염료; 나프토퀴논계 염료; 안트라퀴논계 염료; 퀴노프탈론계 염료; 등을 들 수 있다.
염료층에 있어서, 승화성 염료는 염료층의 전체 고형분에 대하여 5 질량% 이상 90 질량% 이하, 바람직하게는 20 질량% 이상 80 질량% 이하의 양이다. 상기 승화성 염료의 사용량을 상기 범위 내로 함으로써, 적합한 인자 농도로 함과 더불어 보존성의 저하를 억제할 수 있다.
염료를 담지하기 위한 바인더 수지로서는, 일반적으로, 내열성을 가지며, 염료와 적당한 친화성이 있는 것을 사용할 수 있다. 상기 바인더 수지로서는, 예컨대, 에틸셀룰로오스, 히드록시에틸셀룰로오스, 에틸히드록시셀룰로오스, 히드록시프로필셀룰로오스, 메틸셀룰로오스, 아세트산셀룰로오스, 부티르산셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리비닐알콜, 폴리아세트산비닐, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐아세트아세탈, 폴리비닐피롤리돈 등의 비닐계 수지; 폴리(메타)아크릴레이트, 폴리(메타)아크릴아미드 등의 아크릴 수지; 폴리우레탄계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리에스테르계 수지; 등을 들 수 있다. 상기한 바인더 수지 중에서도, 내열성, 염료의 이행성 등이 우수한 관점에서, 셀룰로오스계 수지, 비닐계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지 등이 바람직하고, 비닐계 수지가 보다 바람직하고, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐아세트아세탈 등이 특히 바람직하다.
염료층(52)은, 이형제, 무기 미립자, 유기 미립자 등의 첨가제를 사용해도 좋다. 이형제로서는, 실리콘 오일, 인산에스테르 등을 들 수 있다. 무기 미립자로서는, 카본 블랙, 알루미늄, 이황화몰리브덴 등을 들 수 있다. 또한, 유기 미립자로서는, 폴리에틸렌 왁스 등을 들 수 있다.
염료층(52)은, 전술한 염료와 바인더 수지를, 필요에 따라서 첨가하는 첨가제와 함께, 적당한 유기 용제나 물에 용해 또는 분산하여 도공액을 조제하고, 또한, 그라비아 인쇄법, 스크린 인쇄법, 그라비아판을 이용한 리버스 롤 코팅 인쇄법 등의 공지의 수단에 의해, 전술한 기재(50)의 한쪽 면에 상기 도공액을 도포하고 건조시킴으로써 형성할 수 있다.
상기 유기 용제로서는, 톨루엔, 메틸에틸케톤, 에탄올, 이소프로필알콜, 시클로헥사논, 디메틸포름아미드〔DMF〕 등을 들 수 있다. 상기 염료층의 두께는, 건조시의 두께로 0.2 ㎛ 이상 6.0 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.2 ㎛ 이상 3.0 ㎛ 이하 정도이다.
[보호층]
보호층(54)에는, 종래부터 보호층 형성용 수지로서 알려져 있는 각종 수지에, 형광 증백제, 자외선 흡수 재료 또는 적외선 흡수 재료를 첨가한 것을 이용한다. 보호층 형성용 수지로서는, 예컨대, 폴리에스테르 수지, 폴리스티렌 수지, 아크릴 수지, 폴리우레탄 수지, 아크릴우레탄 수지, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 이들 각 수지를 실리콘 변성시킨 수지, 이들 각 수지의 혼합물 등이 예시된다.
형광 증백제로서는, 예컨대, 플루오레세인계 화합물, 티오플라빈계 화합물, 에오신계 화합물, 로다민계 화합물, 쿠마린계 화합물, 이미다졸계 화합물, 옥사졸계 화합물, 트리아졸계 화합물, 카르바졸계 화합물, 피리진계 화합물, 이미다졸론계 화합물, 나프탈산 유도체, 스틸벤디술폰산 유도체, 스틸벤테트라술폰산 유도체, 스틸벤헥사술폰산 유도체 등을 이용할 수 있다.
자외선 흡수 재료로서는, 예컨대, 벤조트리아졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 벤조페논계 화합물, 벤조에이트계 화합물 등의 유기계 자외선 흡수 재료나, 산화티탄, 산화아연, 산화세륨, 산화철, 황산바륨 등의 무기계 자외선 흡수 재료 등을 들 수 있다. 특히, 벤조트리아졸계 화합물을 이용하는 것이 바람직하다.
적외선 흡수 재료로서는, 예컨대, 디이모늄계 화합물, 아미늄계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 디티올계 유기 금속 착체, 시아닌계 화합물, 아조계 화합물, 폴리메틴계 화합물, 퀴논계 화합물, 디페닐메탄계 화합물, 트리페닐메탄계 화합물, 옥솔계 화합물 등을 들 수 있다.
보호층(54)은, 예컨대 그라비아 인쇄법을 이용하여, 상기 형광 증백제, 자외선 흡수 재료 또는 적외선 흡수 재료가 첨가된 상기 수지를 포함하는 도공액을 도포, 건조시킴으로써 형성한다. 그라비아 인쇄에서 사용하는 판동의 표면에는, 셀이라고 불리는 미소한 오목부가 형성되어 있고, 이 오목부에 충전된 도공액이 기재(50)에 도포된다. 본 실시형태에서는, 판동 표면의 요철을 조정하여, 막두께가 상이한 오목부 또는 볼록부(식별 마크(55))를 갖는 보호층(54)을 형성한다.
보호층(54)(식별 마크(55) 이외의 영역)의 두께는, 건조시의 두께로 0.1 ㎛ 이상 2.0 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 식별 마크(55) 부분의 두께는, 식별 마크(55) 이외의 영역의 두께의 65% 이상 80% 이하, 또는 125% 이상 150% 이하인 것이 바람직하다.
식별 마크(55)가 오목부인 경우, 식별 마크(55) 부분의 두께를 식별 마크(55) 이외의 영역의 두께의 80% 이하로 함으로써, 식별 마크(55)와 그 밖의 영역에서의 검출기(20)에 의한 검출치에 충분한 차가 생겨, 식별 마크(55)를 검출하기 쉬워진다. 또한, 식별 마크(55) 부분의 두께를 식별 마크(55) 이외의 영역의 두께의 65% 이상으로 함으로써, 열전사 화상이 형성된 프린트 매엽(7a)에서 식별 마크(55) 부분의 요철을 눈으로 확인하기 어려워진다.
식별 마크(55)가 볼록부인 경우, 식별 마크(55) 부분의 두께를 식별 마크(55) 이외의 영역의 두께의 125% 이상으로 함으로써, 식별 마크(55)와 그 밖의 영역에서의 검출기(20)에 의한 검출치에 충분한 차가 생겨, 식별 마크(55)를 검출하기 쉬워진다. 또한, 식별 마크(55) 부분의 두께를 식별 마크(55) 이외의 영역의 두께의 150% 이하로 함으로써, 열전사 화상이 형성된 프린트 매엽(7a)에서 식별 마크(55) 부분의 요철을 눈으로 확인하기 어려워진다.
[배면층]
열전사 시트(5)에서의 기재(50)의 염료층(52) 및 보호층(54)이 형성된 면과 반대면에, 배면층(57)이 형성된다. 배면층(57)은, 기재(50)의 다른쪽 면에, 내열성 및 인화시의 서멀 헤드(1)의 주행성 등을 향상시키기 위해 형성되어 있다.
배면층(57)은, 종래 공지의 열가소성 수지 등을 적절하게 선택하여 형성할 수 있다. 이러한 열가소성 수지로서, 예컨대, 폴리에스테르계 수지, 폴리아크릴산에스테르계 수지, 폴리아세트산비닐계 수지, 스티렌아크릴레이트계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드이미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아크릴아미드 수지, 폴리비닐클로라이드 수지, 폴리비닐부티랄 수지, 폴리비닐아세트아세탈 수지 등의 폴리비닐아세탈 수지 등의 열가소성 수지, 이들의 실리콘 변성물 등을 들 수 있다.
또한, 상기 수지에 경화제를 첨가해도 좋다. 경화제로서 기능하는 폴리이소시아네이트 수지로서는, 특별히 제한없이 종래 공지된 것을 사용할 수 있지만, 이들 중에서도, 방향족계 이소시아네이트의 어덕트체를 사용하는 것이 바람직하다. 방향족계 폴리이소시아네이트로서는, 2,4-톨루엔디이소시아네이트, 2,6-톨루엔디이소시아네이트, 또는, 2,4-톨루엔디이소시아네이트와 2,6-톨루엔디이소시아네이트의 혼합물, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트, trans-시클로헥산-1,4-디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 트리스(이소시아네이트페닐)티오포스페이트를 들 수 있고, 특히 2,4-톨루엔디이소시아네이트, 2,6-톨루엔디이소시아네이트, 또는, 2,4-톨루엔디이소시아네이트와 2,6-톨루엔디이소시아네이트의 혼합물이 바람직하다. 이러한 폴리이소시아네이트 수지는, 상기 수산기 함유 열가소성 수지를 그 수산기를 이용하여 가교시켜, 배면층(57)의 도막 강도나 내열성을 향상시킨다.
또한, 배면층(57)에는, 상기 열가소성 수지에 더하여, 슬립성을 향상시킬 목적으로, 왁스, 고급 지방산아미드, 인산에스테르 화합물, 금속 비누, 실리콘 오일, 계면 활성제 등의 이형제, 불소 수지 등의 유기 분말, 실리카, 클레이, 탈크, 탄산칼슘 등의 무기 입자 등의 각종 첨가제를 함유할 수 있다.
배면층(57)은, 예컨대, 상기 열가소성 수지, 필요에 따라서 첨가되는 각종 첨가제를 적당한 용매에 분산 또는 용해시킨 도공액을, 기재(50)의 염료층(52) 및 보호층(54)과는 반대측의 면 위에, 그라비아 인쇄법, 스크린 인쇄법, 그라비아판을 이용한 리버스 롤 코팅 인쇄법 등의 공지의 수단에 의해 도포하고 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 배면층의 두께는, 내열성 등의 향상 등의 점에서, 건조시의 두께가 3 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.1 ㎛ 이상 2 ㎛ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다.
이러한 열전사 시트(5)를 이용한 인화 처리에서는, 우선, 인화 시트(7)와 염료층(52)의 Y층이 위치 맞춤되고, 인화 시트(7) 및 열전사 시트(5)를 개재하여 서멀 헤드(1)가 플래튼 롤(2)에 맞닿는다. 다음으로, 캡스턴 롤러(9a) 및 회수부(4)가 회전 구동하여, 인화 시트(7) 및 열전사 시트(5)가 후방측으로 이송된다. 그 사이에, 화상 데이터에 기초하여, 서멀 헤드(1)에 의해 Y층의 영역이 선택적으로 순차적으로 가열되어, 열전사 시트(5)로부터 인화 시트(7) 위에 Y가 승화 전사된다.
Y의 승화 전사후, 서멀 헤드(1)가 상승하여 플래튼 롤(2)로부터 떨어진다. 다음으로, 인화 시트(7)와 M층이 위치 맞춤된다. 이 경우, 인화 시트(7)는 프린트 사이즈에 상당하는 거리만큼 전방측으로 이송됨과 더불어, 열전사 시트(5)는 Y층과 M층 사이의 마진에 상당하는 거리만큼 후방측으로 이송된다.
Y를 승화 전사하는 방법과 동일하게, 화상 데이터에 기초하여 인화 시트(7) 위에 M 및 C가 순차적으로 승화 전사되어, 인화 시트(7) 위에 화상이 형성된다.
화상 형성후, 인화 시트(7)와 보호층(54)이 위치 맞춤되고, 서멀 헤드(1)에 의해 보호층(54)이 가열되고, 화상을 덮듯이 열전사 시트(5)로부터 인화 시트(7) 위에 보호층이 전사된다. 보호층(54)에서는, 식별 마크(55) 부분의 두께를 식별 마크(55) 이외의 영역의 두께에 대하여 65% 이상 80% 이하, 또는 125% 이상 150% 이하로 하고 있기 때문에, 전사후의 보호층에 있어서 식별 마크(55)를 인간의 육안으로는 지각할 수 없게 되어 있어, 인화물의 완성에 미치는 영향은 없다.
인화물의 보존 기간이나 보존 환경에 따라서, 식별 마크(55) 부분에 의도하지 않은 변화가 생겨 인화물의 겉보기에 영향을 미치지 않도록, 식별 마크(55)를 보호층(54)의 인화 영역 밖이 되는 둘레 가장자리부에 형성하여, 식별 마크(55)가 인화 시트(7)에 전사되지 않도록 해도 좋다. 또한, 인화물의 겉보기에 미치는 영향을 억제하기 위해, 인화물의 둘레 가장자리부에만 라인형의 식별 마크(55)가 위치하도록 해도 좋다.
본 실시형태에서는, 식별 마크(55)를 보호층(54)에 형성하고, 염료층(52)에는 형성하지 않았기 때문에, 발색 특성의 변화가 없다. 또한, 그라비아 인쇄에서 판동의 요철을 조정한 뒤에, 불가시광선 흡수 재료를 첨가한 보호층 형성용 도공액을 도공하면 되기 때문에, 식별 마크(55)를 형성함에 있어서 도공 프로세스의 증가는 없어, 제조 비용을 억제할 수 있다. 식별 마크(55)는, 오목부 및 볼록부의 어느 하나만으로 구성해도 좋고, 오목부 및 볼록부를 조합하여 구성해도 좋다.
상기 실시형태에서는, 열전사 시트(5)의 품종마다, 보호층(54)에 형성되는 식별 마크(55)의 패턴(라인수, 갯수, 폭, 형상, 위치 등)을 바꾸는 예에 관해 설명했지만, 열전사 시트(5)의 품종마다, 보호층 형성용 수지에 대한 불가시광선 흡수 재료의 첨가 농도를 바꿔도 좋다(보호층(54)의 두께는 바꾸지 않는다). 이 경우, 열전사 시트(5)의 품종에 따라서, 검출기(20)에 의한 검출치가 상이하다. 기억부(12)의 테이블(T)에는, 열전사 시트(5)의 품종과, 투과광 또는 반사광의 강도가 대응되어 기록된다.
또한, 열전사 시트(5)의 품종마다, 보호층 형성용 수지에 첨가하는 불가시광선 흡수 재료의 종류를 바꿔도 좋다. 이 경우, 열전사 시트(5)의 품종에 따라서 자외선이나 적외선의 흡수 파장이 상이하다. 기억부(12)의 테이블(T)에는, 열전사 시트(5)의 품종과 흡수 파장이 대응되어 기록된다.
도 11에 나타낸 바와 같이, 식별 마크(55)를 보호층(54) 내의 시트의 긴 길이 방향의 후방측에 형성하고, 이 식별 마크를, 후속하는 염료층(52)(Y층)의 위치를 결정하기 위한 검지 마크로서 이용해도 좋다. 식별 마크(55)를, 인화 시트(7)에 전사되지 않은 영역, 예컨대 Y층의 근방에 형성해도 좋다.
상기 실시형태에서는, 보호층(54)에 식별 마크(55)(제1 식별 마크)를 형성하여 열전사 시트(5)의 품종을 식별하는 예에 관해 설명했지만, 열전사 시트(5)뿐만 아니라, 인화 시트(7)에 식별 마크(제2 식별 마크)를 형성하여, 그 품종의 식별을 행하도록 해도 좋다.
도 12는 인화 시트(7)의 품종의 식별도 행하는 열전사 인화 장치의 개략 구성도이며, 도 13은 인화 시트(7)의 평면도이며, 도 14a, 14b는 인화 시트(7)의 단면도이다. 도 1에 나타내는 열전사 인화 장치에서는 검출기(20)(제1 검출기)가 설치되어 있는 데 비해, 도 12에 열전사 인화 장치는 검출기(20)(제1 검출기) 및 검출기(60)(제2 검출기)가 설치되어 있는 점이 상이하다.
인화 시트(7)는, 기재(70)의 한쪽 면에 수용층(71)이 형성되고, 다른쪽 면에 이면층(72)이 형성된 구성을 채용한다. 기재(70)와 수용층(71) 사이에는, 기재(70)와 수용층(71)의 접착성을 향상시키기 위한 중간층(73)이 형성되어 있다. 인화 시트(7)는, 다른 층을 더 갖고 있어도 좋다.
중간층(73)은 불가시광선 흡수 재료를 포함하고 있다. 불가시광선 흡수 재료로서는, 예컨대 형광 증백제, 자외선 흡수 재료, 적외선 흡수 재료를 들 수 있다. 중간층(73)에 포함되어 있는 불가시광선 흡수 재료는, 보호층(54)에 포함되어 있는 불가시광선 흡수 재료와는 상이하다. 검출기(20)는 보호층(54)에 포함되어 있는 불가시광선 흡수 재료의 종류에 대응한 것이며, 검출기(60)는, 중간층(73)에 포함되어 있는 불가시광선 흡수 재료의 종류에 대응한 것이다.
중간층(73)이 형광 증백제를 포함하는 경우, 검출기(60)로서 형광 센서를 사용하고, 인화 시트(7)에 자외선을 조사하고, 인화 시트(7)로부터 방사되는 형광을 수광하여, 형광 강도를 측정한다. 중간층(73)이 자외선 흡수 재료 또는 적외선 흡수 재료를 포함하는 경우, 검출기(60)로서 자외선 센서 또는 적외선 센서를 사용하고, 인화 시트(7)에 자외선 또는 적외선을 조사하여, 반사광이나 투과광의 강도(반사율, 투과율)를 측정한다.
도 12에 나타낸 바와 같이, 검출기(20)와 검출기(60)를 근접하여 배치하는 경우, 자외선을 조사하는 광원을 공통으로 해도 좋다. 광원으로부터 출사된 자외선이 보호층(54)을 투과하여, 중간층(73)에 조사된다. 중간층(73)으로부터 반사한 자외선, 또는 중간층(73)으로부터 방사되는 형광이 보호층(54)을 투과하여, 검출기(60)에 의해 검지된다.
검출기(60)는, 인화부(40)와 인화지 롤(6) 사이에 설치되어 있어도 좋다.
인화 시트(7)의 중간층(73)에는 식별 마크(75)가 형성되어 있고, 식별 마크(75)와 식별 마크(75) 이외의 영역에서 검출기(60)의 측정치가 상이하도록 되어 있다.
예컨대, 중간층(73)에서 식별 마크(75)는, 도 14a에 나타낸 바와 같이, 식별 마크(75) 이외의 영역보다 두께가 얇은 오목부로 되어 있다. 혹은, 중간층(73)에서 식별 마크(75)는, 도 14b에 나타낸 바와 같이, 식별 마크(75) 이외의 영역보다 두께가 두꺼운 볼록부로 되어 있어도 좋다.
예컨대, 식별 마크(75)는, 인화 시트(7)의 폭방향(시트의 긴 길이 방향에 직교하는 시트의 짧은 길이 방향)을 따르는 볼록 라인 또는 오목 라인(라인 패턴)으로 할 수 있다. 이 경우, 검출기(60)가, 인화지 롤(6)로부터 풀려서 반송되고 있는 인화 시트(7)에 자외선 또는 적외선을 조사하고, 긴 길이 방향으로 스캔하면, 식별 마크(75)의 엣지 부분에서 측정치가 변화하기 때문에, 식별 마크(75)의 라인수, 갯수, 폭, 형상, 위치 등의 패턴을 검출할 수 있다. 식별 마크(75)는 일정한 간격으로 반복 형성되어 있다.
예컨대, 중간층(73)에 형광 증백제가 포함되어 있는 경우, 검출기(60)가 수광하는 형광 강도가 증가(감소)한 위치가 식별 마크(75)의 한쪽 엣지에 상당하고, 그 후, 형광 강도가 감소(증가)한 위치가 식별 마크(75)의 다른쪽 엣지에 상당한다.
열전사 인화 장치에는, 복수종의 인화 시트(7)를 장전할 수 있다. 기억부(12)의 테이블(T)에는, 인화 시트(7)의 품종과, 식별 마크(75)의 패턴(라인수, 갯수, 폭, 형상, 위치)이 대응되어 기록되어 있다. 예컨대, 인화 시트(7)의 품종에 따라 식별 마크(75)의 라인수, 폭, 위치 등이 상이하다.
식별부(11)는, 테이블(T)을 참조하여, 검출기(60)에 의한 식별 마크(75)의 검출 결과로부터, 인화 시트(7)의 품종을 식별한다.
테이블(T)에는, 열전사 시트(5)와 인화 시트(7)의 적합한 조합이 등록되어 있어도 좋다. 식별부(11)에 의해 식별된 열전사 시트(5)의 품종과 인화 시트(7)의 품종이, 등록된 조합과 합치하지 않는 경우, 제어 장치(10)는, 경고음이나 경고 표시를 출력하거나, 인화 처리를 중지하거나 해도 좋다.
인화부(40)에서의 인화 처리후, 인화 시트(7)는 프린트 매엽 영역과 마진 영역의 경계가 커터(8)에 의해 폭방향으로 절단된다. 프린트 매엽 영역은 프린트 매엽(7a)으로서 배출구로부터 배출된다. 한편, 마진 영역은 마진 조각으로서 절취되어, 커터(8)의 바로 아래에 배치된 회수 용기(도시 생략)에 회수된다.
화상은, 프린트 매엽 영역보다 조금 크게 인화된다. 이것에 의해, 커터(8)의 절단 위치가 다소 어긋나더라도, 전면에 화상이 형성된 프린트 매엽(7a)을 얻을 수 있다.
전술한 식별 마크(75)는, 마진 조각으로서 회수되는 마진 영역에 형성해도 좋다.
인화 시트(7)의 기재(70)로서는, 상질지, 코트지, 레진 코트지, 아트지, 캐스트 코트지, 판지, 합성지(폴리올레핀계, 폴리스티렌계), 합성 수지 또는 에멀젼 함침지, 합성 고무 라텍스 함침지, 합성 수지 내첨지, 셀룰로오스 섬유지 등을 들 수 있다. 기재(70)의 두께에 관해 특별히 한정은 없고, 10 ㎛ 이상 300 ㎛ 이하 정도이다.
수용층(71)은, 바인더 수지와 이형제를 포함한다. 바인더 수지로서는, 열전사 시트의 염료층의 염료를 수용하기 쉬운 종래 공지의 수지 재료를 사용할 수 있다. 이형제는, 열전사 시트의 염료층과의 이형성을 향상시키기 위한 것이며, 실리콘 오일, 폴리에틸렌 왁스, 아미드 왁스, 불소계나 인산에스테르계의 계면활성제 등을 사용할 수 있다.
이면층(72)은, 인화 시트(7)의 용도 등에 따라서 원하는 기능을 갖는 것을 적절하게 선택하여 이용할 수 있다. 예컨대, 인화 시트(7)의 반송성 향상 기능이나, 컬 방지 기능을 갖는 이면층(72)을 이용하는 것이 바람직하다.
중간층(73)에는, 기재(70)와 수용층(71)을 양호하게 접착하는 역할을 갖는 종래 공지의 수지에, 불가시광선 흡수 재료를 첨가한 것을 이용한다. 수지로서는, 예컨대, 폴리우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 에폭시 수지 등을 들 수 있다.
중간층(73)(식별 마크(75) 이외의 영역)의 두께는, 건조시의 두께로 0.1 ㎛ 이상 2.0 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 식별 마크(75) 부분의 두께는, 식별 마크(75) 이외의 영역의 두께의 65% 이상 80% 이하, 또는 125% 이상 150% 이하인 것이 바람직하다.
식별 마크(75)가 오목부인 경우, 식별 마크(75) 부분의 두께를 식별 마크(75) 이외의 영역의 두께의 80% 이하로 함으로써, 식별 마크(75)와 그 밖의 영역에서의 검출기(60)에 의한 검출치에 충분한 차가 생겨, 식별 마크(75)가 검출되기 쉬워진다. 또한, 식별 마크(75) 부분의 두께를 식별 마크(75) 이외의 영역의 두께의 65% 이상으로 함으로써, 수용층(71)의 표면에 나타나는 식별 마크(75) 부분의 요철을 눈으로 확인하기 어려워진다. 단, 식별 마크(75)를 마진 영역에 형성하는 경우는, 프린트 매엽(7a)에 요철은 나타나지 않는다.
식별 마크(75)가 볼록부인 경우, 식별 마크(75) 부분의 두께를 식별 마크(75) 이외의 영역의 두께의 125% 이상으로 함으로써, 식별 마크(75)와 그 밖의 영역에서의 검출기(60)에 의한 검출치에 충분한 차가 생겨, 식별 마크(75)가 검출되기 쉬워진다. 또한, 식별 마크(75) 부분의 두께를 식별 마크(75) 이외의 영역의 두께의 150% 이하로 함으로써, 열전사 화상이 형성된 프린트 매엽(7a)에서 식별 마크(75) 부분의 요철을 눈으로 확인하기 어려워진다. 단, 전술한 바와 같이, 식별 마크(75)를 마진 영역에 형성하는 경우는, 프린트 매엽(7a)에 요철은 나타나지 않는다.
식별 마크(75)는, 오목부 및 볼록부의 어느 하나만으로 구성해도 좋고, 오목부 및 볼록부를 조합하여 구성해도 좋다.
인화 시트(7)의 품종마다 식별 마크(75)의 패턴(라인수, 갯수, 폭, 형상, 위치 등)을 바꾸는 예에 관해 설명했지만, 인화 시트(7)의 품종마다, 중간층(73)이 함유하는 불가시광선 흡수 재료의 농도를 바꿔도 좋다(중간층(73)의 두께는 바꾸지 않는다). 이 경우, 인화 시트(7)의 품종에 따라서, 검출기(60)에 의한 검출치(수광 강도)가 상이하다. 기억부(12)의 테이블(T)에는, 인화 시트(7)의 품종과 검출치가 대응되어 기록된다.
도 12에 나타낸 바와 같이, 검출기(20)와 검출기(60)를 근접하여 배치하여 자외선을 조사하는 광원을 공통으로 하고, 보호층(54)과 인화 시트(7)가 포개진 형태로 식별 마크(55) 및 식별 마크(75)를 검출하는 경우, 식별 마크(55) 및 식별 마크(75)를 동시에 검출해도 좋고, 따로따로 검출해도 좋다.
식별 마크(55) 및 식별 마크(75)를 동시에 검출함에 있어서, 보호층(54)에 포함되는 불가시광선 흡수 재료와, 중간층(73)에 포함되는 불가시광선 흡수 재료가 동일한 종류라고 하면, 검출기에 의해 검출되는 광강도의 변화가, 식별 마크(55)에 의한 것인지, 또는 식별 마크(75)에 의한 것인지 판별하기 어려워진다.
따라서, 식별 마크(55) 및 식별 마크(75)를 동시에 검출하는 경우는, 보호층(54)에 포함되는 불가시광선 흡수 재료와, 중간층(73)에 포함되는 불가시광선 흡수 재료를 상이한 종류로 하는 것이 바람직하다. 특히, 제작되는 인화물(프린트 매엽(7a))의 품질을 고려하면, 보호층(54)이 자외선 흡수 재료를 포함하고, 중간층(73)이 형광 증백제를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 중간층(73)에는, 보호층(54)의 식별 마크(55)를 투과한 자외선이 조사된다. 식별 마크(55) 부분을 자외선이 투과할 때의 감쇠량을 억제하고, 중간층(73)에 충분한 강도의 자외선이 조사되도록 하기 위해, 식별 마크(55)를 오목부에서 형성하는 것이 바람직하다.
또, 본 발명은 상기 실시형태 그대로에 한정되는 것이 아니라, 실시 단계에서는 그 요지를 일탈하지 않는 범위에서 구성 요소를 변형하여 구체화할 수 있다. 또한, 상기 실시형태에 개시되어 있는 복수의 구성 요소의 적절한 조합에 의해 여러 발명을 형성할 수 있다. 예컨대, 실시형태에 나타내는 전체 구성 요소로부터 몇 개의 구성 요소를 삭제해도 좋다. 또한, 상이한 실시형태에 걸쳐 있는 구성 요소를 적절하게 조합해도 좋다.
본 출원은, 2017년 7월 31일부로 출원된 일본 특허 출원 2017-148112 및 2018년 1월 22일부로 출원된 일본 특허 출원 2018-008302에 기초하고 있고, 그 전체가 인용에 의해 원용된다.
1 : 서멀 헤드
2 : 플래튼 롤
3 : 공급부
4 : 회수부
5 : 열전사 시트
7 : 인화 시트
10 : 제어 장치
11 : 식별부
12 : 기억부
20 : 검출기(제1 검출기)
40 : 인화부
50 : 기재
52 : 염료층
54 : 보호층
55 : 식별 마크
60 : 검출기(제2 검출기)
75 : 식별 마크

Claims (13)

  1. 기재의 한쪽 면에 염료층 및 보호층이 형성된 열전사 시트로서,
    상기 보호층은 불가시광선 흡수 재료를 함유하고, 오목부 및 볼록부의 적어도 어느 하나를 포함하는 식별 마크가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 열전사 시트.
  2. 제1항에 있어서, 상기 식별 마크는 볼록 라인부 또는 오목 라인부를 포함하는 것을 특징으로 하는 열전사 시트.
  3. 제2항에 있어서, 상기 볼록 라인부 또는 오목 라인부는 시트의 짧은 길이 방향을 따라서 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 열전사 시트.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 식별 마크는, 인화지에 전사되지 않는 상기 보호층의 둘레 가장자리부에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 열전사 시트.
  5. 서멀 헤드 및 플래튼 롤을 가지며, 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 열전사 시트와 인화지를 겹쳐, 상기 서멀 헤드와 상기 플래튼 롤 사이를 반송시킴과 더불어, 상기 서멀 헤드가 상기 열전사 시트를 가열하여 염료를 전사하고, 상기 인화지에 화상을 형성하고, 상기 화상 위에 상기 보호층을 전사하는 열전사 인화 장치로서,
    상기 열전사 시트를 공급하는 공급부와 상기 서멀 헤드 사이에 설치되어, 상기 식별 마크를 검출하는 검출기와,
    열전사 시트의 품종과 상기 식별 마크의 패턴을 대응시킨 테이블을 저장하는 기억부와,
    상기 테이블을 참조하여, 상기 검출기가 검출한 패턴으로부터, 상기 공급부가 공급하는 열전사 시트를 식별하는 식별부
    를 구비하는 열전사 인화 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 식별 마크의 패턴은, 상기 식별 마크의 라인수, 갯수, 폭, 형상 또는 위치인 것을 특징으로 하는 열전사 인화 장치.
  7. 서멀 헤드 및 플래튼 롤을 가지며, 염료층 및 불가시광선 흡수 재료를 포함하는 보호층이 형성된 열전사 시트와 인화지를 겹쳐, 상기 서멀 헤드와 상기 플래튼 롤 사이를 반송시킴과 더불어, 상기 서멀 헤드가 상기 열전사 시트를 가열하여 염료를 전사하고, 상기 인화지에 화상을 형성하고, 상기 화상 위에 상기 보호층을 전사하는 열전사 인화 장치로서,
    상기 열전사 시트를 공급하는 공급부와 상기 서멀 헤드 사이에 설치되고, 상기 보호층에 불가시광선을 조사하여 투과광 또는 반사광의 강도를 측정하는 검출기와,
    열전사 시트의 품종과 상기 강도를 대응시킨 테이블을 저장하는 기억부와,
    상기 테이블을 참조하여, 상기 검출기의 측정 결과로부터, 상기 공급부가 공급하는 열전사 시트를 식별하는 식별부
    를 구비하는 열전사 인화 장치.
  8. 제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 테이블에는, 열전사 시트의 품종마다의 인화 조건이 대응되어 있고,
    상기 식별부가 식별한 열전사 시트의 품종에 따른 인화 조건으로 인화 처리를 행하는 것을 특징으로 하는 열전사 인화 장치.
  9. 기재, 상기 기재 위에 형성된 중간층, 및 상기 중간층 위에 형성된 수용층을 구비하는 인화 시트로서,
    상기 중간층은 불가시광선 흡수 재료를 함유하고, 오목부 및 볼록부의 적어도 어느 하나를 포함하는 식별 마크가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 인화 시트.
  10. 제9항에 있어서, 상기 식별 마크는 볼록 라인부 또는 오목 라인부를 포함하는 것을 특징으로 하는 인화 시트.
  11. 서멀 헤드 및 플래튼 롤을 가지며, 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 열전사 시트와, 제9항 또는 제10항에 기재된 인화 시트를 겹쳐, 상기 서멀 헤드와 상기 플래튼 롤 사이를 반송시킴과 더불어, 상기 서멀 헤드가 상기 열전사 시트를 가열하여 염료를 전사하고, 상기 인화 시트에 화상을 형성하고, 상기 화상 위에 상기 보호층을 전사하는 열전사 인화 장치로서,
    상기 열전사 시트를 공급하는 공급부와 상기 서멀 헤드 사이에 설치되어, 상기 보호층에 형성된 제1 식별 마크를 검출하는 제1 검출기와,
    상기 중간층에 형성된 제2 식별 마크를 검출하는 제2 검출기와,
    열전사 시트의 품종과 상기 제1 식별 마크의 패턴을 대응시킨 테이블, 및 인화 시트의 품종과 상기 제2 식별 마크의 패턴을 대응시킨 테이블을 저장하는 기억부와,
    상기 테이블을 참조하여, 상기 제1 검출기가 검출한 패턴으로부터 열전사 시트의 품종을 식별하고, 상기 제2 검출기가 검출한 패턴으로부터 인화 시트의 품종을 식별하는 식별부
    를 구비하는 열전사 인화 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 열전사 시트 및 상기 인화 시트에 불가시광선을 조사하는 광원이 설치되어 있고,
    상기 인화 시트에는, 상기 보호층을 투과한 불가시광선이 조사되고,
    상기 제1 검출기는, 상기 보호층으로부터의 광을 수광하고,
    상기 제2 검출기는, 상기 보호층을 투과한 상기 인화 시트로부터의 광을 수광하는 것을 특징으로 하는 열전사 인화 장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 열전사 시트의 보호층은 자외선 흡수 재료를 함유하고, 상기 인화 시트의 중간층은 형광 증백제를 함유하는 것을 특징으로 하는 열전사 인화 장치.
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