KR20140139400A - 디스플레이 기판들 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법, 장치, 및 시스템 - Google Patents

Abstract

복수의 퇴적 로케이션들에 필터 재료를 선택적으로 퇴적하도록 동작가능한 디지털 이미징 시스템을 이용하여 복수의 디스플레이 기판들 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법 및 시스템이 개시된다. 본 방법은 적어도 하나의 디스플레이 기판과 연관되는 복수의 픽셀들의 배열을 정의하는 방위 정보를 수신하는 단계, 픽셀 상에 필터 엘리먼트를 형성하기 위해 필터 재료를 수용할 픽셀들을 복수의 픽셀들에서 식별하는 단계, 그 픽셀 내 필터 엘리먼트의 배치와 연관되는 정렬 기준을 만족시키기 위해 그 방위 정보에 따라서 그 식별된 픽셀들의 각각 내에서 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계, 및 그 선택된 퇴적 로케이션들에서 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계를 포함한다. 또한, 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법 및 시스템이 개시되며, 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하기 위해 필터 재료를 수용할 로케이션들을 선택하는 단계, 무작위 변경을 필터 엘리먼트들의 배치에 도입하는 단계, 및 필터 엘리먼트들을 그 선택된 로케이션들에 형성하는 단계를 포함하고, 이 기판은 이후 디스플레이를 형성하기 위해 디스플레이 기판에 정렬된다. 또한, 디스플레이 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법 및 시스템이 개시되며, 필터 엘리먼트들을 디스플레이 기판과 연관되는 복수의 픽셀들 상에 형성하기 위해 필터 재료를 선택적으로 퇴적하는 단계, 및 그 퇴적된 필터 재료를 컨디셔닝하기 위해 그 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 선택적으로 노출시키는 단계를 포함한다.

Description

디스플레이 기판들 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법, 장치, 및 시스템{METHOD, APPARATUS, AND SYSTEM FOR FORMING FILTER ELEMENTS ON DISPLAY SUBSTRATES}

본 출원은 "METHOD FOR PRODUCING COLOR FILTERS ON MULTIPLE REFLECTIVE DISPLAYS WITH HIGH ACCURACY AND THROUGHPUT" 란 발명의 명칭으로 2010년 7월 26일자로 출원되어 본원에 참고로 전체적으로 포함된 미국 가특허 출원 제 61/400,291호의 이익을 주장한다. 또한, 본 출원은 "METHOD FOR ENHANCING SURFACE PROPERTIES OF MATERIALS THERMALLY TRANSFERRED USING LASER IMAGING" 란 발명의 명칭으로 2010년 8월 26일자로 출원되어 본원에 참고로 전체적으로 포함된 미국 가특허 출원 제 61/402,234호의 이익을 주장한다. 또한, 본 출원은 "METHOD FOR USING THE BIDIRECTIONAL NATURE OF A FLAT BED IMAGER TO INCREASE THROUGHPUT OF TILED IMAGING OF REFLECTIVE DISPLAYS" 란 발명의 명칭으로 2011년 6월 6일자로 출원되어 본원에 참고로 전체적으로 포함된 미국 가특허 출원 제 61/520,138호의 이익을 주장한다.

본 발명은 일반적으로 전자 디스플레이들에 관한 것으로, 좀더 구체적으로는 디스플레이 기판들 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 것에 관한 것이다.

전자 디스플레이들은 예를 들어, 텔레비전 및 컴퓨터 모니터들, 모바일 통신 디바이스들, 및 전자 책 디바이스들 (e-리더기들) 과 같은, 다수의 전자 디바이스들에 대한 시각적 출력을 발생하는데 사용되고 있다. 예를 들어, 액정 디스플레이들 (LCD), 유기 발광 다이오드 디스플레이들, 전자-습윤 디스플레이들, 및 전기영동 디스플레이들을 포함한, 여러 유형들의 전자 디스플레이들이 일반적으로 사용되고 있다.

LCD 디스플레이들은 단색광 디스플레이를 칼라 디스플레이로 효과적으로 변경하기 위해 칼라 필터를 이용하는 투과형 디스플레이의 일 예이다. 일반적으로 박막 트랜지스터 (TFT) 층 및 칼라 필터 층이 개별적으로 유리 기판들 상에 제조되고, 유리 기판들이 그 후에 디스플레이 유닛에 정렬되어 조립된다. TFT 층은 복수의 드라이버들을 포함하며, 각각의 드라이버는 디스플레이의 작은 영역 또는 화소 (픽셀) 를 제어하도록 동작가능하다. 칼라 필터 층은 일반적으로 칼라 이미지를 디스플레이하기 위해서 디스플레이 픽셀들을 오버레이하여 백색 광을 필터링하는 적색, 녹색, 및 청색 칼라 필터 엘리먼트들을 포함한다.

LCD 디스플레이들용 칼라 필터들은 포토리소그래픽 기법들을 이용하여 지배적으로 제조되고 있지만, 칼라 필터 유리 기판 상으로 또는 심지어 직접 TFT 층 상으로의 착색제들의 열적 레이저 전사 또는 착색제들의 잉크젯 전사가 또한 시도되고 있다. 착색제들을 직접 TFT 층 상으로 전사함으로써, TFT 층에 대한 칼라 필터의 후속 정밀 정렬에 대한 요구가 회피된다.

전기영동 디스플레이들은 반사형 디스플레이들의 일 예로서, 이 반사형 디스플레이들에서는 주변 광이 조명을 제공하며 주변 광을 선택적으로 반사시켜 디스플레이 이미지를 형성하기 위해서 디스플레이 픽셀들이 하부의 TFT 에 의해 전자적으로 제어된다. LCD 디스플레이들과 유사하게, 전기영동 디스플레이들은 또한 본질적으로 단색 디스플레이들이다. 칼라 디스플레이를 제공하기 위해, 칼라 필터 엘리먼트들은 반사형 디스플레이 픽셀들 상에 걸쳐서 형성될 수도 있다. 칼라 필터 엘리먼트들은 연관된 반사형 디스플레이 픽셀의 전체 영역을 실질적으로 덮거나, 또는 단지 그 영역의 부분만을 덮을 수도 있다.

칼라 필터들을 형성하는 향상된 방법들 및 장치에 대한 요구가 여전히 존재하고 있다.

본 발명의 일 양태에 따르면, 복수의 퇴적 로케이션들에 필터 재료를 선택적으로 퇴적하도록 동작가능한 디지털 이미징 시스템을 이용하여 적어도 하나의 디스플레이 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법이 제공된다. 본 방법은 적어도 하나의 디스플레이 기판과 연관되는 복수의 픽셀들의 배열을 정의하는 방위 정보를 수신하는 단계, 픽셀 상에 필터 엘리먼트를 형성하기 위해 필터 재료를 수용할 픽셀들을 복수의 픽셀들에서 식별하는 단계, 그 픽셀 내 필터 엘리먼트의 배치와 연관되는 정렬 기준을 만족하도록, 그 방위 정보에 따라서 그 식별된 픽셀들의 각각 내에서 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계, 및 그 선택된 퇴적 로케이션들에서 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계를 포함한다.

각각의 식별된 픽셀은 필터 엘리먼트가 위치될 연관된 범위들을 가질 수도 있으며 정렬 기준은 그 범위들에 대해서 필터 엘리먼트의 배치에서 허용된 편차를 나타내는 임계값을 포함할 수도 있으며, 선택하는 단계는, 후속 식별된 픽셀들에서 그 범위들에 대해 필터 엘리먼트의 순차적으로 시프트된 배치를 야기하는 한편 순차적으로 시프트된 배치가 그 임계값 내에서 유지되는, 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계를 포함할 수도 있다. 선택하는 단계는 순차적으로 시프트된 배치가 그 임계값을 초과할 때 필터 엘리먼트의 배치가 그 임계값 내에서 시프트될 수 있도록 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계를 더 포함할 수도 있다.

필터 엘리먼트의 배치가 그 임계값 내에서 시프트 백 (shift back) 될 수 있도록 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계는 적어도 인접한 퇴적 로케이션들 사이의 간격 만큼 그 범위들에 대해 시프트된 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계를 포함할 수도 있다.

본 방법은 무작위 변경을 그 임계값에 도입하는 단계를 포함할 수도 있으며, 이 무작위 변경은 후속 픽셀들에서 필터 엘리먼트들의 순차적으로 시프트된 배치로 인해 필터 엘리먼트 배치에서 일어나는 규칙적인 패턴들을 교란하도록 동작가능하다.

픽셀들을 식별하는 단계는 복수의 착색된 필터 재료들 중 하나를 수용할 픽셀들을 복수의 픽셀들에서 식별하는 단계를 포함할 수도 있으며, 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계는 후속 픽셀들에서 필터 엘리먼트들의 순차적으로 시프트된 배치로 인해 필터 엘리먼트 배치에서 일어나는 규칙적인 패턴들을 교란하기 위해, 복수의 착색된 필터 재료들 각각 사이에서 필터 엘리먼트의 배치가 변경되도록 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계를 포함할 수도 있다.

퇴적 로케이션들은 디스플레이 기판들의 제 1 축을 따라 일반적으로 정렬된 제 1 퇴적 로케이션들, 및 디스플레이 기판들의 제 2 축을 따라 일반적으로 정렬된 제 2 퇴적 로케이션들을 포함할 수도 있으며, 이 제 2 퇴적 로케이션들은 제 1 퇴적 로케이션들보다 더 가깝게 이격되며, 각각의 식별된 픽셀은 제 1 축의 방향에서의 연관된 제 1 축 범위들 및 제 2 축의 방향에서의 연관된 제 2 축 범위들을 가질 수도 있으며, 이 제 1 및 제 2 축 범위들은 필터 엘리먼트가 위치될 영역을 정의하며, 선택하는 단계는, 필터 엘리먼트와 제 1 축 범위들 사이에 증가된 간격을 제공하도록 제 1 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계, 및 필터 엘리먼트와 제 2 축 범위들 사이에 감소된 간격을 제공하도록 제 2 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계를 포함할 수도 있으며, 제 1 퇴적 로케이션 및 제 2 퇴적 로케이션의 선택이 그 필터 엘리먼트와 연관되는 커버리지 기준을 동시에 만족한다.

이 선택하는 단계는 무작위 변경을 필터 엘리먼트의 배치에 도입하는 단계를 더 포함할 수도 있으며, 이 무작위 변경은 그 선택으로 인해 필터 엘리먼트 배치에서 일어나는 규칙적인 패턴들을 교란하도록 동작가능하다.

필터 엘리먼트의 배치에 무작위 변경을 도입하는 단계는 제 1 축 방향에서의 증가된 간격이 후속 식별된 픽셀들 사이에서 무작위로 변하도록, 제 1 퇴적 로케이션들의 선택에 무작위 변경을 도입하는 단계를 포함할 수도 있으며, 상기 제 2 퇴적 로케이션들의 선택은 그 필터 엘리먼트와 연관되는 커버리지 기준을 만족하도록 제 2 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계를 포함할 수도 있다.

제 1 퇴적 로케이션들은 복수의 개별적으로 작동가능한 채널들 중 구동하고 있는 채널들과 연관될 수도 있으며, 이 개별적으로 작동가능한 채널들은 제 1 축을 따라서 일반적으로 정렬되며, 그 채널들과 연관되는 선택된 별개의 퇴적 로케이션들에 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 동작가능하게 구성된다.

개별적으로 작동가능한 채널들에는, 복수의 개별적으로 작동가능한 레이저 빔들을 발생하도록 동작가능하게 구성된 레이저 래디에이션 소스(laser radiation source)로서, 이 레이저 빔들이 필터 재료 도너 시트로부터 적어도 하나의 디스플레이 기판 상으로 필터 엘리먼트 재료의 퇴적을 야기하도록 선택적으로 동작가능한, 상기 레이저 래디에이션 소스; 및 필터 엘리먼트 재료를 적어도 하나의 디스플레이 기판 상으로 퇴적하기 위한 복수의 잉크 젯 노즐들 중 하나에 의해 제공될 수도 있다.

제 2 퇴적 로케이션들은 제 2 축과 일반적으로 정렬되는 방향으로 디스플레이 기판들과 디지털 이미징 시스템 사이에 상대적인 변위를 일으킴으로써, 제 2 축을 따라서 연장하는 스와쓰(swath)에 배치된 선택된 퇴적 로케이션들에 필터 재료의 퇴적을 용이하게 하는 것과 연관될 수도 있다.

이 선택하는 단계는 무작위 변경을 필터 엘리먼트의 배치에 도입하는 단계를 더 포함할 수도 있으며, 이 무작위 변경은 인접한 퇴적 로케이션들 사이의 간격으로 인해 각각의 디스플레이 기판 상의 식별된 픽셀들에서 필터 엘리먼트 배치에서 일어나는 규칙적인 패턴들을 교란하도록 동작가능하다.

픽셀들을 식별하는 단계는 각각의 칼라의 최종적인 필터 엘리먼트들이 각각의 디스플레이 기판에 걸쳐서 무작위로 분산되도록, 복수의 착색된 필터 재료들 중 하나를 수용할 픽셀들을 복수의 픽셀들에서 무작위로 식별하는 단계를 포함할 수도 있다.

적어도 하나의 디스플레이 기판은 적어도 2개의 디스플레이 기판들을 포함할 수도 있으며, 퇴적 로케이션들은 적어도 2개의 디스플레이 기판들의 제 1 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 1 퇴적 로케이션들, 및 적어도 2개의 디스플레이 기판들의 제 2 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 2 퇴적 로케이션들을 포함할 수도 있으며, 적어도 2개의 디스플레이 기판들은 제 2 축을 따라서 연속하여 배치될 수도 있으며, 방위 정보를 수신하는 단계는 제 1 축 및 제 2 축에 대해 적어도 2개의 디스플레이 기판들의 각각과 연관되는 복수의 픽셀들의 배열을 정의하는 정보를 수신하는 단계를 포함할 수도 있으며, 본 방법은 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 적어도 하나에 대해 제 1 축의 방향에서 복수의 픽셀들과 연관되는 오프셋을 계산하는 단계, 및 퇴적 로케이션들의 선택에 의해 보상될 수 없는 오프셋의 잔여 부분을 결정하는 단계를 더 포함할 수도 있으며, 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계는 제 2 축의 방향에서 적어도 2개의 디스플레이 기판들과 디지털 이미징 시스템 사이의 상대적인 변위가 일어나도록 하는 단계, 및 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 적어도 하나 상에 필터 재료의 퇴적을 위한 디지털 이미징 시스템을 위치시키기 위해, 디지털 이미징 시스템이 적어도 2개의 디스플레이 기판들에 대해 제 1 축의 방향에서 적어도 하나의 디스플레이 기판과 연관되는 오프셋의 잔여 부분만큼 재위치되도록 하는 단계를 포함할 수도 있다.

디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 하는 단계는 디지털 이미징 시스템이 적어도 2개의 디스플레이 기판들 사이에서 이동하는 동안 재위치되도록 하는 단계를 포함할 수도 있다.

제 2 축의 방향에서 적어도 2개의 디스플레이 기판들과 디지털 이미징 시스템 사이에 상대적인 변위가 일어나도록 하는 단계는 제 1 패스에서 제 2 축과 정렬된 제 1 방향으로 상대적인 변위들이 일어나도록 하는 것과, 제 2 패스에서 제 1 방향과 반대인 제 2 방향으로 상대적인 변위들이 일어나도록 하는 것 사이에 교번하는 단계를 포함할 수도 있으며, 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계는 제 1 패스 상의 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 제 1 디스플레이 기판 상에, 그리고 제 2 패스 상의 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 제 2의 디스플레이 기판 상에 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계를 포함할 수도 있으며, 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 하는 단계는 디지털 이미징 시스템이 제 1 패스와 제 2 패스 사이에서 방향을 변경하는 동안 재위치되도록 하는 단계를 포함할 수도 있다.

적어도 2개의 디스플레이 기판들은 제 2 축을 따라 연속하여 배치된 2개보다 많은 디스플레이 기판들을 포함할 수도 있으며, 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계는 제 1 패스 상에서 2개보다 많은 디스플레이 기판들 중 교번하는 디스플레이 기판들 및 제 2 패스 상에서 2개보다 많은 디스플레이 기판들 중 나머지 디스플레이 기판들 상에 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계를 포함할 수도 있으며, 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 하는 단계는 디지털 이미징 시스템이 제 1 패스에서 디스플레이 기판들 중 교번하는 디스플레이 기판들 중 적어도 하나 또는 제 2 패스 동안 디스플레이 기판들 중 나머지 디스플레이 기판들 사이에 배치되는 동안 재위치되도록 하는 단계를 더 포함할 수도 있다.

적어도 하나의 디스플레이 기판은 디지털 이미징 시스템의 기판 탑재 표면 상에 개별적으로 배치될 수도 있으며, 방위 정보를 수신하는 단계는 인디시아를 디스플레이 기판들의 각각 상에 로케이트함으로써 방위 정보를 발생하는 단계를 포함할 수도 있다.

본 방법은 인디시아를 디스플레이하기 위해 적어도 하나의 디스플레이 기판 상에서 선택된 픽셀들이 구동되도록 하는 단계를 포함할 수도 있다.

적어도 하나의 디스플레이 기판은 적어도 하나의 공통 기판 층을 가진 복수의 디스플레이 기판들을 포함할 수도 있으며, 방위 정보를 수신하는 단계는 인디시아를 적어도 하나의 공통 기판 층 상에서 로케이트함으로써 방위 정보를 발생하는 단계를 포함할 수도 있다.

인디시아를 로케이트하는 단계는 디지털 이미징 시스템과 연관되는 카메라가 인디시아를 소유하는 적어도 하나의 디스플레이 기판의 부분을 나타내는 이미지 데이터를 캡쳐하게 위치되도록 하는 단계를 포함할 수도 있으며, 본 방법은 인디시아의 상대적인 로케이션을 결정하기 위해 이미지 데이터를 프로세싱하는 단계를 더 포함할 수도 있다.

퇴적 로케이션들은 디스플레이 기판들의 제 1 축을 따라 일반적으로 정렬된 제 1 퇴적 로케이션들 및 디스플레이 기판들의 제 2 축을 따라 일반적으로 정렬된 제 2 퇴적 로케이션들을 포함할 수도 있으며, 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계는 제 1 패스에서 제 2 축과 정렬된 제 1 방향으로 상대적인 변위들이 일어나도록 하는 것과 제 2 패스에서 제 1 방향에 반대인 방향으로 상대적인 변위들이 일어나도록 하는 것 사이에서 교번하는 단계, 제 1 패스 동안 제 1 복수의 선택된 퇴적 로케이션들에서 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 하는 단계, 및 제 2 패스 동안 제 2 복수의 선택된 퇴적 로케이션들에서 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 하는 단계를 포함할 수도 있다.

제 1 복수의 선택된 퇴적 로케이션들은 제 1 축에 따른 교번하는 선택된 퇴적 로케이션들을 포함할 수도 있으며, 제 2 복수의 선택된 퇴적 로케이션들은 제 1 축에 따른 나머지 선택된 퇴적 로케이션들을 포함할 수도 있다.

본 방법은 디지털 이미징 시스템을 제 1 축의 방향으로 제 1 패스와 제 2 패스 사이에서 변위시키는 단계를 포함할 수도 있다.

본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 상기 방법들 중 임의의 방법을 실행하도록 제어기 프로세서 회로에 지시하는 코드들로 인코딩된 컴퓨터 판독가능 매체가 제공된다.

본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 상기 방법들 중 임의의 방법에 따라서 형성된 필터 엘리먼트들을 갖는 디스플레이 장치가 제공된다.

본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 필터 엘리먼트들을 적어도 하나의 디스플레이 기판 상에 형성하기 위해 복수의 퇴적 로케이션들에 필터 재료를 선택적으로 퇴적하도록 동작가능한 디지털 이미징 시스템이 제공된다. 디지털 이미징 시스템은 적어도 하나의 디스플레이 기판과 연관되는 복수의 픽셀들의 배열을 정의하는 방위 정보를 수신하고, 픽셀 상에 필터 엘리먼트를 형성하기 위해 필터 재료를 수용할 픽셀들을 복수의 픽셀들에서 식별하고, 그 픽셀 내 필터 엘리먼트의 배치와 연관되는 정렬 기준을 만족하도록 그 방위 정보에 따라서 그 식별된 픽셀들의 각각 내에 퇴적 로케이션들을 선택하고, 그 선택된 퇴적 로케이션들에 필터 재료의 퇴적이 일어나게 디지털 이미징 시스템을 제어하도록 동작가능하게 구성되는 제어기를 포함한다.

본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 복수의 퇴적 로케이션들에 필터 재료를 선택적으로 퇴적하도록 동작가능한 디지털 이미징 시스템을 이용하여 필터 엘리먼트들을 적어도 2개의 디스플레이 기판들 상에 형성하는 방법 및 시스템이 제공된다. 퇴적 로케이션들은 디스플레이 기판들의 제 1 축을 따라 일반적으로 정렬된 제 1 퇴적 로케이션들 및 디스플레이 기판들의 제 2 축을 따라 일반적으로 정렬된 제 2 퇴적 로케이션들을 포함하며, 적어도 2개의 디스플레이 기판들은 제 2 축을 따라서 연속하여 배치된다. 본 방법은 제 1 축 및 제 2 축에 대해서 디스플레이 기판들의 각각과 연관되는 복수의 픽셀들의 배열을 정의하는 방위 정보를 수신하는 단계, 픽셀 상에 필터 엘리먼트를 형성하기 위해 필터 재료를 수용할 픽셀들을 복수의 픽셀들에서 식별하는 단계, 그 픽셀 내 필터 엘리먼트의 배치와 연관되는 정렬 기준을 만족하도록 그 방위 정보에 따라서 그 식별된 픽셀들의 각각 내에서 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계, 및 디스플레이 기판들의 적어도 하나에 대해 제 1 축의 방향에서 복수의 픽셀들과 연관되는 오프셋을 계산하는 단계를 포함한다. 본 방법은 또한 퇴적 로케이션들의 선택에 의해 보상될 수 없는 오프셋의 잔여 부분을 결정하는 단계, 및 제 1 패스에서 제 2 축과 정렬된 제 1 방향으로 및 제 2 패스에서 제 1 방향과 반대인 제 2 방향으로 디스플레이 기판들과 디지털 이미징 시스템 사이에서 각각의 상대적인 변위들이 일어나도록 하고, 제 1 패스 동안 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 교번하는 디스플레이 기판들 상에 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 하고 제 2 패스 상에서 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 나머지 디스플레이 기판들 상에 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 함으로써, 그 선택된 퇴적 로케이션들에서 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계를 포함한다. 본 방법은 디지털 이미징 시스템이 제 1 패스에서 디스플레이 기판들 중 교번하는 디스플레이 기판들 중 적어도 하나 또는 제 2 패스 동안 디스플레이 기판들 중 나머지 디스플레이 기판들 사이에 배치되는 동안 오프셋의 잔여 부분만큼 디스플레이 기판들에 대해 재위치되도록 하는 단계를 더 포함한다.

본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법 및 시스템이 제공되며, 이 기판은 이후 디스플레이를 형성하기 위해 디스플레이 기판에 정렬된다. 본 방법은 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하기 위해 필터 재료를 수용할 로케이션들을 선택하는 단계, 필터 엘리먼트들의 배치에 무작위 변경을 도입하는 단계, 및 그 선택된 로케이션들에 필터 엘리먼트들을 형성하는 단계를 포함한다.

본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 위의 방법을 수행하도록 제어기 프로세서 회로에 지시하는 코드들로 인코딩된 컴퓨터 판독가능 매체가 제공된다.

본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 위의 방법에 따라서 형성된 필터 엘리먼트들을 갖는 디스플레이 장치가 제공된다.

본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 디스플레이 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법이 제공된다. 본 방법은 디스플레이 기판과 연관되는 복수의 픽셀들 상에 필터 엘리먼트들을 형성하기 위해 필터 재료를 선택적으로 퇴적하는 단계, 및 그 퇴적된 필터 재료를 컨디셔닝하기 위해 그 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션 (thermal laser radiation) 에 선택적으로 노출시키는 단계를 포함한다.

선택적으로 퇴적하는 단계는 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스로부터 래디에이션을 수신하는 것에 응답하여 필터 재료가 도너로부터 디스플레이 기판으로 전사되도록 하는 단계를 포함할 수도 있으며, 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계는 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스에 의해 그 퇴적된 필터 재료를 래디에이션에 노출시키는 단계를 포함할 수도 있다.

필터 재료가 도너로부터 디스플레이 기판으로 전사되도록 하는 단계는 필터 재료가 복수의 도너들에 대해 도너로부터 디스플레이 기판으로 전사되도록 하는 단계를 포함할 수도 있으며, 그 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계는 복수의 도너들의 각각으로부터의 재료의 전사의 완료 시에 그 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계를 포함할 수도 있다.

필터 재료를 선택적으로 퇴적하는 단계는 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스를 제어하는 단계를 포함할 수도 있으며, 그 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계는 디스플레이 기판을 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스에 의해 발생된 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계를 포함할 수도 있다.

필터 재료를 선택적으로 퇴적하는 단계는 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 제 1 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스를 제어하는 단계를 포함할 수도 있으며, 그 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계는 디스플레이 기판을 제 2 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스에 의해 발생된 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계를 포함할 수도 있다.

본 방법은 그 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 선택적으로 노출시키기 전에 레이저 소스와 연관되는 동작 강도를 변경하는 단계를 포함할 수도 있다.

퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계는 퇴적된 필터 재료를 가진 디스플레이 기판의 부분들을 열적 레이저 래디에이션에 선택적으로 노출시키는 단계를 포함할 수도 있다.

필터 엘리먼트들은 칼라 필터 엘리먼트들을 포함할 수도 있다.

칼라 필터 엘리먼트들은 반사형 디스플레이 기판 상의 칼라 필터 엘리먼트들을 포함할 수도 있다.

본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 상기 방법들 중 임의의 방법을 수행하도록 제어기 프로세서 회로에 지시하는 코드들로 인코딩된 컴퓨터 판독가능 매체가 제공된다.

본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 상기 방법들 중 임의의 방법에 따라서 형성된 필터 엘리먼트들을 가진 디스플레이 장치가 제공된다.

본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 디스플레이 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 디지털 이미징 시스템이 제공된다. 이 시스템은 디지털 이미징 시스템이 디스플레이 기판과 연관되는 복수의 픽셀들 상에 필터 엘리먼트들을 형성하기 위해 필터 재료를 선택적으로 퇴적하고, 그 퇴적된 필터 재료를 컨디셔닝하기 위해 그 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 선택적으로 노출시키도록 동작가능하게 구성된 제어기를 포함한다.

본 발명의 다른 양태들 및 특징들은 첨부 도면들과 함께, 특정의 본 발명의 실시형태들의 다음 설명의 검토 시 당업자들에게 명백해 질 것이다.

본 발명의 실시형태들을 도시하는 도면에서,
도 1 은 디지털 이미징 시스템의 사시도이다.
도 2 는 본 발명의 제 1 실시형태에 따른, 도 1 에 나타낸 디지털 이미징 시스템에서 제조된 디스플레이 기판의 부분의 평면도이다.
도 3 은 도 1 에 나타낸 제어기의 프로세서 회로 실시형태의 블록도이다.
도 4 는 도 3 에 나타낸 프로세서 회로로 하여금 필터 엘리먼트들이 복수의 디스플레이 기판들 상에 형성될 수 있도록 하는 프로세스 플로우차트이다.
도 5 는 방위 정보를 수신하는, 도 4 에 나타낸 프로세스의 부분의 프로세스 플로우차트이다.
도 6 은 도 1 에 나타낸 복수의 디스플레이 기판들의 개략 평면도이다.
도 7 은 도 6 에 나타낸 디스플레이 기판들 중 2개의 확대도이다.
도 8 은 퇴적 로케이션들을 선택하는, 도 4 에 나타낸 프로세스의 부분의 프로세스 플로우차트이다.
도 9 는 본 발명의 대안적인 실시형태에 따른, 도 6 에 나타낸 디스플레이 기판들 중 2개의 추가 확대도이다.
도 10 은 본 발명의 대안적인 실시형태에 따른, 도 6 에 나타낸 디스플레이 기판들 중 3개의 개략도이다.
도 11 은 본 발명의 또 다른 대안적인 실시형태에 따른, 도 6 에 나타낸 디스플레이 기판들 중 3개의 개략도이다.
도 12 는 또한 본 발명의 또 다른 대안적인 실시형태에 따른, 도 6 에 나타낸 디스플레이 기판들의 하나의 개략도이다.
도 13 은 도 3 에 나타낸 프로세서 회로가 퇴적된 필터 엘리먼트들을 컨디셔닝하는 프로세스를 수행할 수 있도록 하는 프로세스 플로우차트이다.

디지털 이미징 시스템

도 1 을 참조하면, 디지털 이미징 시스템이 일반적으로 100 으로 도시된다. 시스템 (100) 은 평면 (flat bed) 이미징 시스템으로서 구성되며, 편평한 상부 표면 (104) 을 가진 치수적으로 안정한 베이스 (102) 를 포함한다.

시스템 (100) 은 또한 베이스 (102) 상에 지지된 브릿지 (106) 를 포함한다. 브릿지 (106) 는 이미징 헤드 (108) 에 안정한 지지를 제공하며, 그 이미징 헤드는 브릿지 상에 제 1 축 (화살표 110 으로 표시됨) 에서의 모션을 위해 탑재된다. 나타낸 실시형태에서, 시스템 (100) 은 이미징 헤드 (108) 를 제 1 축 (110) 을 따라서 어느 한쪽 방향으로 이동시키는 제 1 축 선형 모터 (112) 를 포함한다. 선형 모터 (112) 는 위치적인 피드백을 제공함으로써, 이미징 헤드 (108) 의 정확한 측위 및 모션 제어를 용이하게 하는 인코더 그래쥬에이션들 (encoder graduations) (114) 을 더 포함한다.

시스템 (100) 은 또한 복수의 디스플레이 기판들 (120) 을 탑재하기 위한 편평한 탑재 표면 (118) 을 가진 탑재 테이블 또는 척 (116) 을 포함한다. 이 실시형태에서, 척 (116) 은 탑재 표면 (118) 상에 걸쳐서 분산된 복수의 포트들을 포함하며, 이 복수의 포트들은 진공 발생기 (미도시) 에 커플링될 때 디스플레이 기판들 (120) 를 편평한 탑재 표면 (118) 과 밀접하도록 끌어 당긴다. 척 (116) 은 제 2 축 (화살표 124 으로 표시됨) 에서 왕복 모션을 위해 공기 베어링 (미도시) 상에 지지된다. 평면 이미징 시스템들에서, 제 2 축 (124) 은 일반적으로 제 1 축 (110) 에 직교하지만, 일부 실시형태들에서, 제 1 축과 제 2 축 사이의 각도는 90° 가 아닐 수도 있다. 시스템 (100) 은 척 (116) 을 제 2 축 (124) 을 따라서 어느 한쪽의 방향으로 이동시키기 위한 제 2 축 선형 모터 (122) 를 더 포함한다. 선형 모터 (122) 는 또한 제 2 축에서 왕복 모션의 위치적인 피드백 및 제어를 위해 제공하는 인코더 그래쥬에이션들 (126) 을 포함한다.

일 실시형태에서, 이미징 헤드 (108) 는 복수의 빔들 (128) 을 제공하도록 구성된 래디에이션 소스를 포함한다. 래디에이션 소스는 레이저, 예컨대 레이저 다이오드일 수도 있으며, 이미징 헤드 (108) 는 멀티채널 변조기 (미도시) 를 더 포함할 수도 있으며, 이 경우 개개의 채널들은 복수의 빔들 (128) 을 발생하기 위해 선택적으로 구동된다.

도 1 에 나타낸 실시형태는 선형 모터들 (112 및 122) 과 같은 특정의 구성요소들을 포함하는 것으로 설명되었지만, 시스템 (100) 은 예를 들어, 회전 모터 및 볼 스크루 메카니즘 또는 벨트 구동기와 같은, 다른 구성요소들을 이용하여 동일하게 구현될 수 있다. 이와 유사하게, 척 (116) 은 정지된 채로 있으며 이미징 헤드 (108) 의 모션은 축들 (110 및 124) 과 정렬된 양자의 방향들로 이미징 헤드의 이동을 허용하는 갠트리 상에 이미징 헤드를 탑재하여 제공될 수도 있다.

도 1 에 나타낸 실시형태에서, 디스플레이 기판들의 각각은 인접한 디스플레이 기판들로부터 이격되며, 척 (116) 상에 탑재될 때 후속 이미징 프로세스들에서 고려될 필요가 있는 무시할 수 없는 차이들을 방위에서 가질 가능성이 있을 것이ㄷ다. 다른 실시형태들에서, 단일 또는 다수의 디스플레이 기판들 (120) 은 단일 기판 또는 디지털 이미징 시스템 (100) 에 단일 기판으로서 적재된 다른 캐리어 상에서 프로세싱될 수도 있다. 이런 실시형태들에서, 디스플레이 기판들 (120) 사이의 정합이 상당히 더 정확할 수도 있다.

디스플레이 기판들 (120) 의 각각은 디스플레이 기판들의 상대적인 변위와 연관되는 방위 정보의 발생을 촉진하기 위해, 디스플레이 기판의 노출되는 외부 표면 (130) 상에 배치된 복수의 인디시아 (indicia; 134) 를 포함한다. 시스템 (100) 은 이미징 헤드 (108) 상에 탑재된 카메라 (132) 를 더 포함하며, 이 카메라는 방위 정보를 발생하기 위해 인디시아의 이미지들을 캡쳐하도록 구성된다. 카메라 (132) 가 이미징 헤드 (108) 에 탑재되며 따라서 이미징 헤드와 함께 이동하기 때문에, 카메라의 정확한 측위가 또한 선형 모터 (112) 와 연관되는 인코더 그래쥬에이션들 (114) 에 의해 제공된다. 따라서, 카메라 (132) 에 의해 캡쳐된 인디시아 (134) 의 이미지들이 디스플레이 기판들 (120) 의 각각의 상대적인 방위를 결정하도록 프로세싱될 수도 있다. 복수의 이미징 빔들 (128) 과 카메라 (132) 사이의 상대적인 방위는 척 (116) 상에 탑재된 테스트 표면 상에 목표 피쳐 (target feature) 를 발생하는 하나 이상의 이미징 빔들 (128) 을 이용하여 결정될 수도 있다. 그후, 이 목표 피쳐의 이미지들은 이미징 빔들 (128) 과 카메라 (132) 사이의 상대적인 오프셋을 결정하도록 캡쳐되어 프로세싱될 수도 있으며, 이 상대적인 오프셋은 보정 값으로서 저장될 수도 있다.

나타낸 실시형태에서, 디스플레이 기판들 (120) 각각은 이전 프로세싱 단계에서 디스플레이 기판들 상에 마킹되어 있을 수도 있는 3개의 인디시아 (134) 를 포함한다. 이의 대안으로, 디스플레이 기판들 (120) 이 이미 동작가능한 반사형 디스플레이 픽셀들을 포함하는 일부 실시형태들에서, 각각의 디스플레이 기판 상의 선택된 픽셀들이 인디시아를 디스플레이하도록 구동될 수도 있으며, 이에 따라서 디스플레이 기판들이 미리 마킹된 인디시아를 포함해야 하는 필요성을 제거할 수 있다. 다른 실시형태들에서, 인디시아는 예를 들어, 특정의 픽셀들과 연관되는 TFT 엘리먼트의 부분과 같은, 디스플레이 기판의 물리적인 피쳐들을 포함할 수도 있다. 이들 인디시아 실시형태들의 각각에서, 디스플레이 기판들 (120) 상의 인디시아는 디스플레이 픽셀들 (200) 에 대해 알려진 고정된 관계로 배치되며, 이에 따라서, 픽셀 사이즈 및 구성의 정보 (knowledge) 와 함께, 인디시아에 대한 각 픽셀의 상대적인 로케이션을 제공한다. 일반적으로, 디스플레이 기판들의 픽셀들 (200) 은 매우 정확하게 이격되고 방향정렬된 픽셀들 (200) 및 인디시아 (134) 를 제공하는 리소그라피 프로세스로 형성된다.

일부 실시형태들에서, 시스템 (100) 을 이용하여 프로세싱될 수도 있는 여러 디스플레이 기판들 사이의 두께에서의 차이들을 고려하기 위해, 제 1 및 제 2 축들 (110 및 124) 에 일반적으로 직교하는 제 3 축에서의 모션을 제공하는 것이 필요할 수도 있다. 복수의 이미징 빔들 (128) 을 형성하기 위해 높은 개구수 이미징 광학을 이용하는 이미징 헤드 (108) 에 있어, 이미징 헤드는 시스템 (100) 의 전체 이미징 영역에 걸쳐서 빔들의 초점을 유지하기 위해 자동-초점 시스템을 채용하는 것이 필요할 수도 있다. 이런 경우들에서, 제 3 축에서의 조정은 자동-초점 시스템이 초점을 유지할 수 있는 것을 보장하는데 중요할 수도 있다.

일 실시형태에서, 필터 엘리먼트들을 복수의 디스플레이 기판들 (120) 상에 형성하기 위한 필터 재료가 도너 시트 (150) 의 형태 (그의 일부가 도 1 에 도시됨) 로 제공된다. 도너 시트 (150) 는 폴리에스테르 필름과 같은 지지 층 상에 배치된 필터 재료를 포함한다. 도너 (150) 는 또한 빔들 (128) 로부터의 래디에이션에 노출될 때 디스플레이 기판들에의 필터 재료의 전사를 향상시키기 위해 필터 재료와 지지 층 사이에 배치되는 해제 층 (release layer) 을 포함할 수도 있다. 칼라 필터 엘리먼트들을 형성하기 위해, 필터 재료는 예를 들어, 적색, 녹색, 및 청색 착색제들, 또는 시안, 마젠타, 및 황색 착색제들과 같은, 복수의 착색제들을 포함할 수도 있다. 다른 착색제들이 또한 복수의 착색제들에 첨가될 수도 있다. 예를 들어, 황색 착색제와 같은 착색제가 디스플레이의 칼라 공간 (color gamut) 을 향상시키기 위해, 적색, 녹색 및 청색 착색제들에 첨가될 수도 있다. 이런 경우들에서, 칼라 필터 엘리먼트 퇴적 프로세스를 완료하기 위해서 상이한 도너들 (150) 이 개별적으로 탑재되어 이미징될 수도 있을 것이다. 열 전사 도너 기술이 그래픽 아트 산업에서 상업적으로 사용되고 있으며, Fuji Finalproof^® 및 Kodak Approval™ 과 같은 여러 도너 매질들이 디지털 이미지들의 칼라 교정들을 생성하는데 이용할 수 있다. 따라서, 적합한 도너 (150) 는 원하는 광 투과 특성을 갖는 칼라 필터 엘리먼트들을 제공하도록 적응시킨 착색제 재료를 포함할 것이다.

본원에서의 실시형태들은 일반적으로 특정의 입사광 파장들을 투과하도록 구성되는 칼라 필터 엘리먼트들의 퇴적 (deposition) 을 참조하여 설명되었지만, 필터 엘리먼트는 입사광의 다른 성질들을 변경하는데 동일하게 잘 상호작용할 수도 있다. 예를 들어, 필터 엘리먼트들은 필터 엘리먼트를 통해 투과된 광을 편광시키기 위해, 선택된 픽셀들 상에 퇴적된 편광 재료를 포함할 수도 있다. 퇴적될 수도 있는 필터 엘리먼트들의 다른 예들은 간섭 필터들 또는 방현(anti-glare) 필터들을 포함한다.

위에서 언급한 바와 같이, 도 1 에 나타낸 실시형태에서, 이미징 헤드 (108) 는 복수의 이미징 빔들 (128) 을 발생하는 멀티-채널 이미징 헤드이며, 이 복수의 이미징 빔들은 디스플레이 기판들 (120) 의 노출되는 외부 표면 (130) 을 덮는 도너 시트 (150) 방향으로 안내된다. 도너 (150) 는 도너 재료를 디스플레이 기판들 (120) 과 밀접하도록 롤링시켜 도포되며, 탑재 표면 (118) 상에 걸쳐서 분산된 복수의 포트들에 제공되는 진공에 의해 제 위치에 고정될 수도 있다. 탑재 표면 (118) 상의 복수의 포트들은, 도너 (150) 가 도포되는 동안에 디스플레이 기판들 (120) 이 제 위치에 고정될 수 있도록 하기 위해서 별개의 진공 회로들과 통신하는, 기판 포트 영역들 및 도너 포트 영역들로 분할될 수도 있다. 그후, 도너 영역 포트들이 복수의 디스플레이 기판들 (120) 과 밀접하게 롤링되는 동안 또는 그 후에 도너를 제 위치에 고정하기 위해 활성화될 것이다.

시스템 (100) 은 제어기 (140) 를 더 포함하며, 이 제어기는 디지털 이미징 시스템의 동작들을 제어하도록 동작가능하게 구성된다. 제어기 (140) 는 이미징 헤드 (108), 선형 모터 (112), 및 선형 모터 (122) 를 각각 제어하기 위해 제어 신호 입력/출력 포트들 (142, 144, 및 146) 을 포함한다. 다른 신호 출력들 (미도시) 이 필요에 따라, 진공 발생기, 도너 탑재 및 다른 이미징 시스템 기능들을 제어하기 위해 제공될 수도 있다. 나타낸 실시형태에서, 신호 포트 (142) 는 제어기 내에 저장된 이미지 데이터에 따라서 복수의 이미징 빔들 (128) 중 선택된 빔들을 변조하도록 이미징 헤드 (108) 를 제어하는 신호들을 발생한다. 이미지 데이터는 예를 들어, TIFF (tagged image format) 파일과 같은 이미지 파일의 유형으로 저장될 수도 있다.

열 전사 도너의 이미징은 이미징 헤드 (108) 가 도너 (150) 로부터 디스플레이 기판들 (120) 상으로의 착색제의 열 전사를 초래하기에 충분한 파장 및 전력을 갖는 적외선 광을 발생하도록 구성되는 것을 필요로 할 수도 있다. 하나의 적합한 이미징 헤드 (108) 는 미국 뉴욕주 Rochester, Eastman Kodak Company 에 의해 제조된 Thermal SQUAREspot^® 이미징 헤드이다. 본원에서 개시하는 본 발명의 여러 실시형태들은 열 전사 도너의 이미징을 참조하여 설명되지만, 칼라 레지스트 재료의 잉크젯 전사, UV 전사, 레이저 노출, 또는 다른 방법들과 같은, 필터 재료의 전사를 위한 다른 이미징 기법들이 필터 엘리먼트들을 디스플레이 기판들 (120) 상에 형성하는데 동일하게 잘 구현될 수도 있다.

시스템 (100) 의 동작시, 제어기 (140) 가 척 (116) 이 제 2 축 (124) 을 따라서 이동하도록 하는 동안, 이미징 헤드 (108) 는 제어기 (140) 의 신호 포트 (142) 로부터 수신된 이미지 데이터에 따라서 복수의 이미징 빔들 (128) 을 변조한다. 일 실시형태에서, 척 (116) 은 약 2 m/s 의 속도로 횡단된다. 척 (116) 과 이미징 헤드 (108) 사이의 최종적인 상대적인 모션은, 복수의 이미징 빔들 (128) 이 폭에서 이미징 헤드 (108) 에 의해 발생된 빔들 (128) 의 발생된 개수에 대응하는 폭을 갖는 스와쓰 (파선 윤곽선 136 으로 나타냄) 를 제 2 축을 따라서 이미징하도록 한다. 일 실시형태에서, 이미징 헤드 (108) 는 10.6 μm 만큼 이격된 224 개의 이미징 빔들을 발생하며, 따라서, 2.374 mm 의 스와쓰 폭을 제공한다.

일단 척 (116) 이 제 1 패스에서 복수의 디스플레이 기판들 (120) 을 횡단하였으면, 제어기 (140) 는 선형 모터 (122) 가 척 (116) 을 정지까지 감속하고 척의 횡단하는 방향을 반대로 바꾸도록 한다. 척 (116) 이 감속되고 있는 동안, 선형 모터 (112) 는 이미징 헤드 (108) 를 스와쓰 폭 만큼 (즉, 상기 예에서는 2.374 mm 만큼) 위에 걸쳐서 시프트시키고, 그 스와쓰 (136) 에 인접한 추가 스와쓰 (도 1 에 미도시) 의 이미징이 제 2 패스에서 기판들 (120) 상에 걸친 척 (116) 의 복귀 횡단 시에 시작된다. 따라서, 이 설명되는 동작 실시형태에서, 스와쓰가 척 (116) 의 각각의 패스에 대해 이미징된다. 다른 실시형태들에서, 그러나, 본원에서 이후에 설명하는 바와 같이, 인터리브되는 방식 (interleaved manner) 으로 이미징되는 것이 바람직할 수도 있다. 이런 경우, 선형 모터 (112) 는 다음 이미징 스와쓰가 이미 이미징된 스와쓰를 적어도 부분적으로 중첩할 정도로, 이미징 헤드 (108) 를 스와쓰 폭 미만 만큼 위에서 걸쳐서 시프트시킬 수도 있다.

복수의 디스플레이 기판들 (120) 을 가로질러서 연속적인 스와쓰들을 이미징하기 위한, 척 (116) 의 횡단 및 이미징 헤드 (108) 의 시프팅은 복수의 퇴적 로케이션들에서 필터 재료의 퇴적을 용이하게 한다. 빔들 사이에 고정되는 간격을 갖는 복수의 이미징 빔들 (128) 을 가진 이미징 헤드 (108) 에 있어, 대응하는 퇴적 로케이션들은 제 1 축 (110) 의 방향에서 복수의 별개의 로케이션들에서 정의된다. 그러나, 위에서 설명한 노출 헤드 실시형태에서는, 빔들 (128) 이 제 2 축 (124) 의 방향에서 디스플레이 기판들 (120) 을 가로질러서 횡단되며, 그에 따라서, 이 축에서의 퇴적이 제 1 축 (110) 의 방향에서 제공되는 영역보다 더 크거나 또는 더 작은 영역 상에 걸쳐서 일어날 수도 있다. Kodak SQUARESpot^® 이미징 헤드의 예에서, 빔들 (128) 은 제 1 축 방향 (110) 에서 거의 10.6 μm, 그리고 제 2 축 방향 (124) 에서 겨우 약 1 - 2 μm 까지 연장하는 일반적으로 직사각형의 프로파일을 가질 수도 있다. 이 경우, 제 2 축 방향 (124) 에서 퇴적 로케이션들이 제 1 축 방향 (110) 에서 가능한 정밀도보다 더 큰 정밀도로 필터 재료를 퇴적하도록 제어될 수도 있다.

도 1 에 나타낸 실시형태에서, 척 (116) 은 베이스 (102) 의 상부 표면 (104) 을 가로질러서 제 2 축 (124) 의 방향으로 횡단하는 동안, 이미징 헤드 (108) 는 오직 제 1 축 (110) 의 방향으로 이동한다. 다른 실시형태들에서, 척은 베이스 (102) 에 대해 고정되어 있을 수도 있으며, 브릿지 (106) 는 제 1 및 제 2 축들 (110 및 124) 양자에서 이미징 헤드 (108) 의 횡단하는 모션을 제공하기 위해 선형 궤도 상에 배치될 수도 있다.

많은 경우들에서, 필터 엘리먼트들이 상부에 형성되는 디스플레이 기판들 (120) 은 강성이다. 그러나, 심지어 제조되는 디스플레이가 가요성 디스플레이인 경우에도, 추후에 제거되는 강성 캐리어에 탑재되는 동안 이런 가요성 디스플레이를 프로세싱하는 것이 매우 일반적이다. 다른 실시형태들에서, 가요성 디스플레이 기판들은 원통형 드럼 표면 상에 탑재하기에 적합하도록 구성될 수도 있으며, 그 경우에, 드럼-기반의 이미저 (imager) 는 도 1 에 나타낸 평면 이미저 (imager) 로 대체될 수도 있다. 도 1 에 나타낸 평면 이미징 시스템이 또한 가요성 기판들을 프로세싱하는데 사용될 수도 있다.

디스플레이 기판

디스플레이 기판들 (120) 중 하나의 디스플레이 기판 부분 (138) (도 1 에 도시) 이 도 2 에 더 자세하게 도시되어 있다. 도 2 를 참조하면, 디스플레이 기판 부분 (138) 은 복수의 픽셀들 (200) 을 포함하며, 이 실시형태에서, 이 픽셀들은 픽셀에 입사하는 주변 광이 하부의 드라이버 (미도시) 에 제공되는 구동 신호에 응답하여 픽셀에 의해 반사되는 상태로부터 픽셀에 의해 흡수되는 상태로 변하는 반사형 디스플레이 픽셀들이다.

나타낸 특정의 실시형태에서, 픽셀들 (200) 은 픽셀 상에 형성된 녹색 칼라 필터 엘리먼트 (202) 를 갖는 제 1 복수의 픽셀들, 픽셀 상에 형성된 청색 칼라 필터 엘리먼트 (204) 를 갖는 제 2 복수의 픽셀들, 및 픽셀 상에 형성된 적색 칼라 필터 엘리먼트 (206) 를 갖는 제 3 복수의 픽셀들을 포함한다. 추가적인 제 4 의 복수의 덮여지지 않은 픽셀들 (208) 은 픽셀 상에 형성된 임의의 칼라 필터 엘리먼트를 갖지 않는다. 칼라 필터 엘리먼트들 (202 - 206) 및 덮여지지 않은 픽셀들 (208) 은 반사되는 이미지를 발생하도록 동작할 수 있으며, 이 경우, 제 1, 제 2 및 제 3 복수의 픽셀들로부터 반사된 광은 그 최종적인 이미지에 칼라 구성요소 (color component) 를 제공하지만, 덮여지지 않은 픽셀들 (208) 은 더 밝은 디스플레이를 가능하게 한다. 이와 같이, 덮여지지 않은 픽셀들 (208) 의 포함으로 인해, 디스플레이된 이미지의 감소된 칼라 공간 (gamut) 과 휘도 사이에 이런 배열의 상충관계가 존재한다. 나타낸 실시형태에서, 각각의 착색된 필터 엘리먼트 (202 - 206) 는 오직 각각의 커버되는 픽셀 (200) 과 연관되는 영역의 부분만을 덮지만, 영역의 부분 (210) 은 덮이지 않은 채로 있다. 덮여지지 않은 영역들 (210) 은 이들 덮여지지 않은 영역들이 반사형 디스플레이의 휘도를 향상시킨다는 점에서, 덮여지지 않은 픽셀들 (208) 과 동일한 기능을 갖는다. 필터 엘리먼트 재료 퇴적이 연관되는 픽셀들 (200) 의 범위들을 지나서 이웃하는 픽셀들로 확장할 가능성을 이들 덮여지지 않은 영역들이 감소시키기 때문에, 덮여지지 않은 영역들 (210) 은 또한 필터 엘리먼트들 (202 - 206) 의 배치와 연관되는 허용오차들이 완화될 수 있도록 한다. 칼라 필터 엘리먼트들 (202 - 206), 덮여지지 않은 픽셀들 (208), 및 덮여지지 않은 영역들 (210) 의 여러 다른 배열들이 반사형 디스플레이를 제조하는데 사용될 수도 있다. 예를 들어, 일부 실시형태들은 증가되는 덮여지지 않은 영역 (210) 을 위해, 덮여지지 않은 픽셀들 (208) 을 생략할 수도 있다. 이와 유사하게, 다른 실시형태들은 실질적으로 각각의 픽셀의 영역을 필터 재료로 덮고, 그 요구된 디스플레이 휘도를 발생하기 위해 덮여지지 않은 픽셀들 (208) 에 의존할 수도 있다.

반사형 디스플레이들에 대한 칼라 필터들은 투과형 디스플레이들의 경우와 같이 별개의 기판 상에 제조될 수 있으며, 칼라 필터 엘리먼트들은 또한 디지털 이미징 기법들을 이용하여 반사형 디스플레이 픽셀들 상에 직접 형성될 수도 있다. 칼라 필터들의 디지털 이미징은 착색제를 다른 단색광 반사형 디스플레이 상으로 디지털 이미징 시스템을 이용하여 선택적으로 전사하는 것을 포함한다.

비-반사형 디스플레이들, 예컨대 LCD 디스플레이들은 일반적으로 전체 픽셀의 발광 영역이 필터 재료에 의해 덮여지지만 픽셀의 비발광 영역들이 종종 이들 영역들을 마스킹하는 블랙 매트릭스 재료에 의해 덮여지는 것을 필요로 한다. 디스플레이 자체 내에서 광속을 발생하는 이런 디스플레이들에서, 휘도는 후면-조명 강도를 증가시켜 증대될 수도 있으며, 따라서, 디스플레이 휘도가 반사형 디스플레이들보다 덜 중요할 수도 있다.

디스플레이의 유형에 관계없이, 필터 엘리먼트 배치는, 인접한 필터 엘리먼트에 의한 이웃하는 픽셀의 부분 커버리지와 같은 바람직하지 않은 효과들 또는 픽셀의 충분한 영역을 덮는데 대한 실패를 회피하기 위해, 충분히 정확해야 한다. 배치 정확도의 부족은 또한 눈에 시인가능한 바람직하지 않은 이미지 아티팩트들을 초래하여, 최종적인 디스플레이에 의해 야기되는 이미지의 품질을 손상시킬 수도 있다. 특히, 인간 눈은 반복하는 패턴들에 민감하며, 반복하는 패턴들은 칼라 필터 엘리먼트 배치 에러들에 의해 야기될 수도 있다.

일 실시형태에서, 반사형 디스플레이 상의 픽셀들 (200) 은 약 90 μm 내지 약 220 μm 의 체적들을 가질 수도 있으며, 칼라 필터 재료의 커버리지 영역은 그 픽셀 영역의 약 60 % 내지 약 100 % 의 범위일 수도 있다.

다수의 디스플레이 기판들 (120) 을 이미징할 때, 처리량이 중요한 고려사항이며, 도 1 에 나타낸 바와 같이 다수의 디스플레이들을 프로세싱하는 것이 바람직하다. 다수의 디스플레이 기판들 (120) 의 동시 이미징은 디스플레이 기판들 (120) 및 연관되는 도너 시트들 (150) 의 적재 (loading) 와 적하 (unloading) 와 연관되는 시간 오버헤드를 감소시킨다. 한 번에 하나의 디스플레이 기판을 이미징하는 것과 비교할 때, 동시 이미징은 또한 각각의 횡단 (traverse) 의 끝에서 척 (116) 을 감속시키고 척 이동의 방향을 역전시키고 그리고 이미징 속도까지 다시 가속하는 것과 연관되는 오버헤드를 감소시킨다.

복수의 디스플레이 기판들 (120) 이 공통 캐리어 또는 기판 층을 통해서 접속되어 유지되는 실시형태들에서, 디스플레이 기판들의 각각의 픽셀들의 오프셋 및 회전이 실질적으로 정렬되어야 한다. 그러나, 예컨대, 도 1 에 나타낸 바와 같은, 다른 실시형태들에서, 디스플레이 기판들 (120) 의 각각은, 비록 다수의 디스플레이들을 소유하는 더 큰 기판의 부분으로서 처음에 프로세싱되지만, 분리되어 있으며, 따라서, 하나의 디스플레이 기판 상의 픽셀들이 다른 디스플레이 기판들 상의 픽셀들과 반드시 정렬될 필요가 없기 때문에, 픽셀 방위를 맞추는데 이미징 축의 정렬을 복잡하게 하는 각각의 디스플레이들 사이에 무시할 수 없는 방위의 차이들을 가질 수도 있다.

따라서, 일반적으로 복수의 디스플레이 기판들 모두 상에서 필터 엘리먼트들 (202 - 206) 의 올바른 배치를 보장하는 이미지 시작 위치를 선택하는 것이 불가능할 것이다. 이 에러는 기판들 각각 사이의 상대적인 정렬에 따라서 중요할 수도 있으며, 이런 차이들을 고려하는데 대한 실패는 디스플레이 기판의 픽셀들에 대한 필터 엘리먼트들의 상당한 배치 에러들을 초래할 수도 있다. 더욱이, 디스플레이 기판들 (120) 은 또한 축들 (110 및 124) 에 대해 회전될 수도 있으며, 이것은 추가적인 배치 에러들을 도입할 것이다.

디지털 이미징 시스템 제어기

도 3 을 참조하면, 일 실시형태에서, 제어기 (140) 는 일반적으로 300 으로 나타낸 프로세서 회로를 이용하여 구현될 수도 있다. 프로세서 회로 (300) 는 마이크로프로세서 (302), 프로그램 메모리 (304), 가변 메모리 (306), 미디어 리더 (308), 및 입력 출력 포트 (I/O) (310) 를 포함하며, 이들 모두는 마이크로프로세서 (302) 와 통신한다.

여러 기능들을 수행하도록 마이크로프로세서 (302) 에 지시하는 프로그램 코드들은 프로그램 메모리 (304) 에 저장되며, 이 프로그램 메모리는 랜덤 액세스 메모리 (RAM), 하드 디스크 드라이브 (HDD), 비-휘발성 메모리, 예컨대 플래시, 또는 이들의 조합으로서 구현될 수도 있다. 프로그램 메모리는 동작 시스템 기능들을 수행하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시하기 위한 프로그램 코드들 (320) 의 제 1 블록, 및 필터 엘리먼트들을 복수의 디스플레이 기판들 (120) 상에 형성하기 위해 디지털 이미징 시스템 (100) 의 이미징 기능들을 제어하도록 마이크로프로세서에게 지시하기 위한 코드들 (322) 의 제 2 블록을 포함한다.

미디어 리더 (308) 는 프로그램 코드들을 컴퓨터 판독가능 매체 (312), 예컨대 CD ROM 디스크 (314), 플래시 메모리 (316) 로부터 프로그램 메모리 (304) 에 적재하는 것을 용이하게 하거나, 또는 컴퓨터 판독가능 신호 (318) 가 예를 들어, 네트워크를 통해서 수신될 수도 있다.

I/O (310) 는 제어 신호 입력/출력 포트 (142) 를 포함한다. I/O (310) 는 또한 제 1 축 선형 모터 (112) 를 제어하는 제어 포트 (144) 를 갖는 모터 드라이버 (380), 및 제 2 축 선형 모터 (122) 를 제어하는 제어 포트 (146) 를 갖는 모터 드라이버 (382) 를 포함한다. I/O (310) 는 카메라 (132) 의 동작, 도너 (150) 의 적재, 척 (116) 의 진공 동작들 등과 같은, 디지털 이미징 시스템 (100) 의 다른 기능들을 제어하는 다른 출력들 및/또는 입력들을 추가로 포함할 수도 있다.

가변 메모리 (306) 는 디스플레이 기판 및 픽셀 값들을 저장하는 방위 정보 스토어 (350), 디스플레이 기판들 (120) 과 연관되는 픽셀 구성과 연관되는 값들을 저장하는 디스플레이 구성 스토어 (352), 배치 임계값을 저장하는 스토어 (354), 및 퇴적 로케이션 마스크 값들을 저장하는 디지털 마스크 스토어 (356) 를 포함하는, 복수의 저장 로케이션들을 포함한다. 가변 메모리 (306) 는 예를 들어, 랜덤 액세스 메모리, 플래시 메모리, 또는 하드 드라이브로 구현될 수도 있다.

다른 실시형태들 (미도시) 에서, 제어기 (140) 는 예를 들어, 이산 로직 회로들 및/또는 주문형 반도체 (ASIC) 를 포함하는 하드웨어 로직 회로를 이용하여 부분적으로 또는 전적으로 구현될 수도 있다.

필터 엘리먼트 형성

도 4 를 참조하면, 디지털 이미징 시스템 (100) 을 이용하여 필터 엘리먼트들이 복수의 디스플레이 기판들 (120) 상에 형성되도록 프로세서 회로 (300) 에 지시하는 코드의 블록들을 도시하는 플로우차트가 일반적으로 400 으로 도시되어 있다. 블록들은 일반적으로 디스플레이들 (120) 상에 필터 엘리먼트 재료를 퇴적하는 것과 관련되는 여러 기능들을 수행하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시하기 위한, 컴퓨터 판독가능 매체 (312) 로부터 판독되어 프로그램 메모리 스토어 (322) 에 저장될 수도 있는 코드들을 나타낸다. 각각의 블록을 구현하는 실제 코드는 예를 들어, C, C++ 및/또는 어셈블리 코드와 같은, 임의의 적합한 프로그램 언어로 기록될 수도 있다.

프로세스 (400) 는 블록 (402) 에서 시작하며, 블록 (402) 은 디스플레이 기판들 (120) 의 각각과 연관되는 복수의 픽셀들 (200) 의 배열을 정의하는 방위 정보를 수신하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다.

프로세스는 그후 블록 (404) 에서 계속되며, 블록 (404) 은 식별되는 픽셀들 상에 필터 엘리먼트들 (202 - 206) 을 형성하기 위해 필터 재료를 수용할 픽셀들을 복수의 픽셀들 (200) 에서 식별하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 일 실시형태에서, 블록 (404) 은 가변 메모리 (306) 의 디스플레이 구성 스토어 (352) 로부터 픽셀 구성 정보를 판독하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 많은 실시형태들에서, 디스플레이 기판들 (120) 은 동일하게 구성될 것이며, 픽셀 구성 (즉, 픽셀들의 사이즈, 개수, 및 레이아웃) 도 동일할 것이다. 다른 실시형태들에서, 디스플레이 기판들 (120) 의 상이한 구성들이 동시에 프로세싱될 수도 있으며, 이런 경우들에서, 픽셀 구성 정보는 디스플레이 기판들 (120) 의 각각에 대해 디스플레이 구성 스토어 (352) 로부터 판독될 것이다. 스토어 (352) 로부터 판독된 픽셀 구성 정보는 어느 픽셀들 (즉, 필터 엘리먼트들 (202 - 206) 이 상부에 배치되는 도 2 에서의 픽셀들의 그룹들) 이 각각의 칼라 필터 재료를 수용할지를 식별하고, 필터 엘리먼트들 및/또는 덮여지지 않은 영역들 (210) 의 사이즈를 추가로 정의할 수도 있다. 픽셀 구성 정보는 예를 들어, 픽셀들을 식별하는 좌표들을 포함하는 파일로서 저장될 수도 있다.

블록 (406) 은 그후 블록 (402) 에서 수신된 방위 정보에 따라서 그 식별된 픽셀들의 각각 내에서 퇴적 로케이션들을 선택하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 일 실시형태에서, 퇴적 로케이션들은 본원에서 이후에 좀더 자세하게 설명되는 바와 같이, 픽셀들 (200) 내 필터 엘리먼트들 (202 - 206) 의 배치와 연관되는 정렬 기준을 만족하도록 선택된다. 블록 (408) 은 각각의 필터 엘리먼트에 대한 선택된 퇴적 로케이션들을 식별하는 디지털 마스크 값들을 가변 메모리 (306) 의 디지털 마스크 스토어 (356) 에 저장하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 추가로 지시할 수도 있다. 디지털 마스크는 비트맵 파일, TIFF 파일, 또는 다른 적합한 파일 포맷과 같은 이미지 파일로서 저장될 수도 있다.

프로세스 (400) 는 그후 블록 (408) 에서 계속하며, 블록 (408) 은 디지털 이미징 시스템 (100) 과 관련하여 위에서 설명한 바와 같이, 디지털 마스크 스토어 (356) 에서 디지털 마스크 값들을 판독하고, 제어 신호들을 포트들 (142, 144, 및 146) 에서 발생시켜 그 선택된 퇴적 로케이션들에서 필터 재료의 퇴적을 일으키도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 이미징 헤드 (108) 는 그 선택된 퇴적 로케이션들에 대응하는 레이저 빔 또는 빔들을 구동함으로써 응답한다.

도 4 에 나타낸 프로세스 실시형태 (400) 에서, 블록들 (404 및 406) 은 블록 (408) 에서 필터 엘리먼트 재료의 퇴적을 개시하기 전에 완료될 수도 있다. 그러나, 다른 실시형태들에서, 블록 (408) 은 블록 (404 및/또는 406) 이 완료되기 전에 시작할 수도 있다.

방위 정보 ( orientation information ) 수신

방위 정보를 수신하는, 도 4 에 나타낸 블록 (402) 의 프로세스가 도 5 에 (402) 로 더 자세하게 도시되어 있다. 도 5 를 참조하면, 프로세스 (402) 는 복수의 디스플레이 기판들 (120) 에서 각각의 디스플레이 기판에 대해 실행된다. 프로세스는 블록 (500) 에서 시작하며, 블록 (500) 은 인디시아 (134) 를 소유하는 디스플레이 기판들 (120) 각각의 부분들을 나타내는 이미지 데이터를 캡쳐하도록 카메라 (132) 가 위치되게 제어 신호들을 발생하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다.

디스플레이 기판들 (120) 은 도 6 에 개략 평면도로 도시되어 있다. 도 6 을 참조하면, 일 실시형태에서, 9개의 별개의 디스플레이 기판들이 디지털 이미징 시스템 (100) 에서 동시적인 프로세싱을 위해 탑재된다. 일반적으로, 디스플레이 기판들 (120) 은 이미징 헤드 (108) 및 척 (116) 의 모션들의 방향으로 정의된 제 1 및 제 2 축들 (110 및 124) 에 대해 거의 직교하게 각각의 디스플레이를 방향정렬하는 프레임 (도 1 에 미도시) 에 탑재될 것이다. 도 6 에서, 프레임은 파선들 (608 - 612 및 614 - 618) 로 표시되며, 그 파선들은 축들 (110 및 124) 에 대한 복수의 디스플레이 기판들 (120) 의 원하는 배열을 표시한다.

일반적으로, 디스플레이 기판들 (120) 상의 디스플레이 픽셀들 (200) 은 리소그라피 프로세스에 의해 형성될 수도 있으며, 이 리소그라피 프로세스는 정확히 이격 및 방향정렬된 픽셀들 (200) 을 제공한다. 그러나, 디스플레이 기판들을 개개의 디스플레이 기판들 (120) 로 분리하는 후속 다이싱 (dicing) 은 픽셀들 (200) 이 기판의 에지들에 대해 약간 오정렬되게 할 수도 있다. 프레임에의 정합은, 제공된다면, 또한 픽셀들의 치수들 및/또는 이미징 헤드 (108) 에 의해 제공되는 퇴적 로케이션들 사이의 간격에 비교할 때 부정확할 수도 있다. 따라서, 복수의 디스플레이 기판들 (120) 의 제 2 디스플레이 기판 (604) 은 라인 (614) 에 대한 오프셋 (D₁), 라인 (610) 에 대한 오프셋 (D₂), 및 회전 각도 (θ) 를 포함하는, 축들 (110 및 124) 에 대한 연관되는 배열을 갖는다. 도 6 에서, 이런 오정렬들은 명확성을 위해, 픽셀들 (200) 의 사이즈를 갖는 것 처럼 과장하였다. 실제는, 오정렬들은 육안으로 볼 수 없을 정도로 아주 작지만, 정정되지 않으면 필터 엘리먼트들 (202 - 206) 의 적어도 일부 배치 부정확성을 일으킬 정도로 충분히 클 수도 있다. 더욱이, 실시되는 디스플레이에서, 픽셀들은 일반적으로 도 6 에 나타낸 개수보다 상당히 더 작거나 더 클 것이다.

프로세스는 그후 블록 (502) 에서 계속하며, 그 블록 (502) 은 이미지들을 프로세싱하여 그 디스플레이 상에서 인디시아 (134) 의 각각의 좌표들 (x₁,y₁), (x₂,y₂) 및 (x₃,y₃) 을 결정하도록 마이크로프로세서에게 지시한다. 일 예로서, 복수의 디스플레이 기판들 (120) 의 제 1 디스플레이 기판 (602) 에 있어서 제 1 상부 우측 인디시아 (134) 에 대한 좌표들 (x₁,y₁) 이 축들 (110 및 124) 에 의해 정의된 좌표 프레임에 참조되는 것으로 도시된다.

블록 (504) 은 그후 디스플레이 기판에 있어 D₁, D₂, 및 θ 에 대한 값들을 계산하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시하고, 블록 (506) 은 그 값들을 가변 메모리 (306) (도 3 에 도시) 의 방위 정보 스토어 (350) 에 저장하도록 마이크로프로세서에게 지시한다. 도 6 을 참조하면, 이 실시형태에서, D₁ 의 값은 디스플레이 기판 (604) 과 관련하여 나타낸 바와 같이, 라인 (614) 으로부터 각각의 디스플레이 기판 상의 제 1 인디시아까지의 오프셋으로서 계산된다. 유사하게, D₂ 의 값은 라인 (610) 으로부터 제 1 인디시아까지의 오프셋으로서 계산된다. 이 실시형태에서, 각각의 디스플레이 기판에 대한 각도 θ 는 제 2 축 (124) 에 대한 디스플레이 기판 (604) 상의 상부 우측 인디시아와 하부 우측 인디시아 사이에 연장하는 라인의 각도 편차로서 정의된다. 따라서, 각도 θ 는 다음과 같이 주어진다:

식 1

여기서, (x₁,y₁), (x₂,y₂) 는 블록 (502) 에서 결정되는 상부 및 하부 우측 인디시아 각각의 좌표들이다. 블록 (506) 은 그후 그 값들을 가변 메모리 (306) 의 방위 정보 스토어 (350) 에 저장하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다.

퇴적 로케이션들 선택

프로세스 (400) 의 블록들 (402 및 404) 의 실행 이후, 가변 메모리 (306) 의 방위 정보 스토어 (350) 및 디스플레이 구성 스토어 (352) 에 저장된 정보는 제 1 및 제 2 축들 (110 및 124) 에 대한 디스플레이 기판들 (120) 의 각각과 연관되는 복수의 픽셀들 (200) 의 배열의 계산을 용이하게 한다. 디스플레이 기판들 (602 및 604) 중 2개가 도 7 에 확대도로 도시되어 있다. 도 7 을 참조하면, 이미징 헤드 (108) 에 의해 생성되는 이미징 스와쓰 (136) 가 디스플레이 기판들 (602 - 604) 상에 걸쳐서 중첩되어 도시되어 있으며, 복수의 퇴적 로케이션들 (700) 을 포함한다. 도시된 실시형태에서, 이미징 헤드 (108) 는 24 개의 퇴적 로케이션들을 제 2 축의 방향에서 발생시키도록 구성된다. 도 7 에서 퇴적 로케이션들 (700) 은 유사한 제 1 축 (110) 에서의 폭 및 제 2 축 (124) 에 따른 길이를 갖는 것으로 도시되지만, 다른 실시형태들에서, 제 1 축 폭 및 제 2 축 길이는 동일하지 않을 수도 있다. 이미징 헤드 (108) 및 척 (116) 의 이동이 제 1 및 제 2 축들 (110 및 124) 을 정의하기 때문에, 스와쓰 (136) 는 제 1 및 제 2 축들과 정렬된다.

제 1 축 (110) 에 따른 퇴적 로케이션들을 선택하는 블록 (406) (도 4 에 도시) 의 프로세스의 제 1 실시형태가 도 8 에 800 으로 도시되어 있다. 도 8 을 참조하면, 프로세스 (800) 는 블록 (802) 에서 시작하며, 이 블록 (802) 은 가변 메모리 (306) 의 임계값 스토어 (354) 로부터 배치 임계값을 판독하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 배치 임계값은 그 식별된 픽셀들 (200) 의 범위들에 대한 필터 엘리먼트들의 배치에서 허용된 편차를 나타낸다. 블록 (804) 은 그후 스토어 (352) 로부터 디스플레이 기판 (602) 에 대한 구성 정보를 판독하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 블록 (804) 은 또한 스토어 (350) 로부터 디스플레이 기판 (602) 에 대한 방위 정보를 판독하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다.

프로세스 (800) 는 그후 블록 (806) 에서 계속하며, 블록 (806) 은 그 구성 정보 및 방위 정보를 이용하여 그 퇴적 로케이션들 (700) 에 대한 제 1 식별 픽셀 (702) 의 범위들의 배열을 결정하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 방위 정보는, 디스플레이 기판에 대한 픽셀 구성과 함께, 디스플레이 기판 상의 각각의 픽셀의 로케이션 및 범위들이 제 1 및 제 2 축들 (110 및 124) 에 대해 계산될 수 있도록 하는 D₁, D₂, 및 θ 에 대한 값들을 제공한다.

블록 (808) 은 그후 일반적으로 픽셀 범위들 내 중앙 로케이션에서 제 1 필터 엘리먼트 (710) 의 배치를 일으킬 퇴적 로케이션들을 선택하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 도 7 을 다시 참조하면, 제 1 필터 엘리먼트 (710) 는 16 개의 퇴적 로케이션들을 덮는 것으로 도시되며, 일반적으로 픽셀 범위들로부터 제 1 축 (110) 을 따라 약 하나의 퇴적 로케이션 만큼 내측으로 이격된다. 블록 (808) 은 또한 제 1 필터 엘리먼트 (710) 에 대한 그 선택된 퇴적 로케이션들을 가변 메모리 (306) 의 디지털 마스크 스토어 (356) 에 저장하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다.

프로세스 (800) 는 그후 블록 (810) 에서 계속하며, 그 블록 (810) 은 제 1 필터 엘리먼트 (710) 와 동일한 제 1 축 퇴적 로케이션들에 대해 제 2 필터 엘리먼트 (712) 의 배치를 계산함으로써, 제 2 축 (124) 에 따른 다음 식별되는 픽셀 (704) 을 프로세싱하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 나타낸 실시형태에서, 제 2 픽셀 (704) 의 범위들의 중심에 대한 배치 편차 값이 필터 엘리먼트 (712) 에 대해 계산된다.

블록 (812) 은 그후 제 2 필터 엘리먼트 (712) 의 배치 편차가 정렬 기준을 만족하는지 여부를 결정하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시하며, 이 경우 결정은 편차 값이 블록 (802) 에서 판독한 임계값보다 작거나 또는 같은지 여부를 결정하는 것을 포함한다. 블록 (812) 에서, 정렬 기준이 만족되면, 프로세스는 블록 (814) 에서 계속하며, 블록 (814) 은 제 2 필터 엘리먼트 (712) 에 대한 선택된 퇴적 로케이션들을 디지털 마스크 스토어 (356) 에 저장하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 프로세스는 그후 블록 (816) 에서 시작하며, 블록 (816) 은 기판 (602) 에 대한 모든 필터 엘리먼트들이 배치되었는지 여부를 결정하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 이 경우, 추가적인 필터 엘리먼트들 (714 및 718) 이 여전히 위치될 것이기 때문에, 블록 (816) 은 마이크로프로세서 (302) 를 블록 (810) 으로 다시 안내하고, 제 3 픽셀 (706) 이 유사한 방법으로 프로세싱된다.

도 7 에 나타낸 예에서, 제 3 픽셀 (706) 은 또한 정렬 기준들을 만족하며, 따라서 그 선택된 퇴적 로케이션들을 식별하는 디지털 마스크 값들이 디지털 마스크로 스토어 (356) 에 저장된다. 따라서, 블록 (812) 의 정렬 기준이 만족하는 한, 처음 3개의 필터 엘리먼트들 (710 - 714) 에 대한 디스플레이 기판 (602) 상의 필터 엘리먼트 배치가 제 1 축 (110) 의 방향에서 좌측으로 순차적으로 시프트한다.

블록 (812) 에서, 정렬 기준이 만족되지 않으면, 프로세스는 블록 (818) 에서 계속하며, 블록 (818) 은 일반적으로 필터 엘리먼트를 픽셀 내에 제 1 축 (110) 을 따라서 다시 중앙에 위치시키기 위해, 필터 엘리먼트 배치를 제 1 축 (110) 을 따라 많은 퇴적 로케이션들 중 하나 만큼 시프트하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 도 7 을 다시 참조하면, 나타낸 예에서, 블록 (812) 에서의 정렬 기준들이 제 4 픽셀 (708) 에 대해 만족되지 않았으며, 따라서, 제 4 필터 엘리먼트 (716) 의 배치가 제 1 축을 따라서 하나의 제 1 축 퇴적 로케이션 만큼 시프트백되어 도시된다. 프로세스 (800) 는 그후 블록 (818) 에서 시작하며, 블록 (818) 은 마이크로프로세서 (302) 를 블록 (816) 으로 안내하며, 블록 (816) 은 제 4 필터 엘리먼트 (716) 에 대한 선택된 퇴적 로케이션들을 디지털 마스크 스토어 (356) 에 저장하도록 마이크로프로세서에게 지시한다.

도 7 에 나타낸 실시형태에서, 이미징 헤드 (108) 에 의해 제공되는 24 개의 퇴적 로케이션들은 필터 엘리먼트들의 2개의 칼럼들이 동시에 퇴적될 수 있게 하며, 따라서 프로세스 (800) 는 이미징 스와쓰 (136) 내에서 추가적인 엘리먼트들 (718 - 722) 의 배치에 대해 디지털 마스크 값들을 발생하도록 실행될 수도 있다. 이와 유사하게, 프로세스 (800) 는 디스플레이 기판과 연관되는 픽셀들 (200) 의 모두를 덮는 디지털 마스크 값들을 제공하기 위해 제 1 축 (110) 에 따른 후속 스와쓰들 (미도시) 에 대해 수행될 것이다. 도 7 에 나타낸 예에서, 필터 엘리먼트들 (710 - 722) 은 도 2 에 나타낸 녹색 필터 엘리먼트들 (202) 에 대응하며, 추가적인 필터 엘리먼트들 (204 및 206) 의 퇴적 로케이션들이 동일한 프로세스 (800) 를 수행함으로써 유사하게 선택될 수도 있다.

블록 (816) 에서, 디스플레이 기판 (602) 에 대한 모든 필터 엘리먼트들이 위치되어 있으면, 블록 (816) 은 마이크로프로세서 (302) 를 블록 (820) 으로 안내하고 그 블록 (820) 은 다음 디스플레이 기판을 프로세싱하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시하고, 이 경우 다음 디스플레이 기판은 디스플레이 기판 (604) 이다. 블록 (820) 은 그후 마이크로프로세서 (302) 를 블록 (804) 으로 다시 안내하며, 여기서 다음 기판 (604) 에 대한 디스플레이 구성 정보 및 방위 정보가 판독된다. 기판들 (120) 의 모두가 동일한 구성들을 갖는 실시형태들에서, 구성 정보를 판독하는 스텝이 생략될 수도 있다. 블록 (806) 은 다시 구성 정보 및 방위 정보를 이용하여 퇴적 로케이션들 (700) 에 대한 제 1 식별 픽셀 (702) 의 범위들의 배열을 결정하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 기판 (602) 에 있어서, 방위 정보는 디스플레이 기판 상의 각각의 픽셀의 로케이션 및 범위들이 제 1 및 제 2 축들 (110 및 124) 에 대해 계산될 수 있도록 하는 D₁, D₂, 및 θ 에 대한 값들을 제공한다. 도 7 을 참조하면, 필터 엘리먼트 (728) 의 퇴적을 수용할 디스플레이 기판 (604) 상의 제 1 식별 픽셀 (726) 이 제 1 축 (110) 을 따라서 좌측으로 추가로 오프셋된다. 이 경우, 필터 엘리먼트 (728) 는 스와쓰 (136) 의 시작으로부터, 730 으로 나타낸 바와 같이 오프셋되며, 이 오프셋은 디스플레이 기판 (602) 상의 제 1 필터 엘리먼트 (710) 와 연관되는 오프셋 (732) 보다 더 크다. 프로세스 (800) 는 따라서 퇴적 로케이션들의 선택을 통해서 디스플레이 기판 (602) 과 디스플레이 기판 (604) 사이에서 상대적인 방위에서의 차이들을 고려한다. 일단 복수의 디스플레이 기판들 (120) 에서 모든 기판들이 프로세싱되었으면, 프로세스 (800) 가 종료된다.

디스플레이 기판들 (602 및 604) 의 방위에서의 차이들 때문에, 각각의 식별된 픽셀 (702 - 708) 에 대해 구동될 퇴적 로케이션들 (700) 의 선택은 그 픽셀들 내에서 칼라 필터 엘리먼트들 (710 - 716) 의 배치의 연속적인 변경을 초래한다.

일 실시형태에서, 스토어 (354) 에 저장된 임계값은 픽셀들 (702 - 708) 각각의 사이즈들 및 필터 엘리먼트들 (710 - 722) 의 원하는 커버리지에 기초하여 미리 결정될 수도 있다. 10.6 μm 의 퇴적 로케이션들 사이의 간격, 70 μm 의 제 1 축 방향에서의 픽셀 범위, 및 필터 엘리먼트에 의한 픽셀의 60 % 커버리지의 예에 있어서, 임계치는 약 5 μm 의 값으로 설정될 수도 있다. 따라서, 일단 중심으로부터의 필터 엘리먼트의 편차가 5 μm 에 도달하면, 필터 엘리먼트는 그 축을 따라서 그 픽셀의 중심 방향으로 10.6 μm 만큼 다시 이동된다. 다른 실시형태들에서, 퇴적 로케이션들 사이의 간격, 픽셀 범위, 및/또는 필터 엘리먼트에 의한 픽셀의 커버리지는 상기 값들보다 작거나 클 수도 있으며, 그에 따라서 임계치가 선택될 수도 있다. 예를 들어, 도 2 를 참조하면, 임계치는 픽셀들 (200) 의 덮여지지 않은 영역들 (210) 의 비율로서 선택될 수도 있다. 일 실시형태에서, 임계값은 초기 임계치를 할당하고, 그 선택된 초기 임계치를 이용하여 하나 이상의 디스플레이 기판들을 프로세싱하고, 그후 최종적인 디스플레이를 이미지 아티팩트들 또는 다른 결함들에 대해 검사함으로써 선택될 수도 있다. 프로세스는 그후 원하는 결과가 획득될 때까지 상이한 임계값들을 이용하여 반복될 수도 있다.

도 7 에 나타낸 실시형태에서, 제 2 축 (124) 에 따른 퇴적 로케이션들은 제 1 축 (110) 을 따른 퇴적 로케이션들 사이의 간격과 동일한 간격을 가지며, 따라서 프로세스 (800) 와 유사한 프로세스가 제 2 축에 따른 퇴적 로케이션들을 선택하도록 구현될 수도 있다. 다른 실시형태들에서, 제 2 축 퇴적 로케이션들은 제 1 축 퇴적 로케이션들보다 더 가깝게 이격될 수도 있다.

도 2 를 다시 참조하면, 나타낸 디스플레이 기판 예에서, 청색 칼라 필터 엘리먼트들 (204) 은 녹색 칼라 필터 엘리먼트들 (202) 에 인접하게 배치된다. 프로세스 (800) 의 실행은 동일한 연속적인 시프트들, 그리고 그에 따라서 대응하는 규칙적인 배치 패턴을 갖는 필터 엘리먼트들 (204) 을 초래할 수도 있으며, 이런 패턴은 필터 엘리먼트들 (202) 의 배치에 이미 존재하는 그 패턴을 보강할 수도 있다. 따라서, 제 2 실시형태에서, 프로세스 (800) 는 일어나는 임의의 규칙적인 패턴들의 보강을 교란하기 위해, 필터 엘리먼트들 (204) 의 배치가 복수의 착색된 필터 재료들 각각 사이에서 변화될 수 있도록 구현될 수도 있다. 일부 상황들에서 이런 변경은, 또한 전체 패턴 빈도가 증가되어 최종적인 패턴을 분간하는 사용자의 눈의 능력을 감소시킬 수도 있기 때문에, 칼라 필터 엘리먼트들 (202) 과 연관되는 패턴의 효과를 줄일 수도 있다. 이런 변경은, 연속적인 시프트들이 필터 엘리먼트들 (204) 의 배치에서 오프셋 패턴을 초래할 수 있도록 어떤 필터 엘리먼트들을 픽셀 범위들 내 일반적으로 중앙 로케이션으로부터 신중히 오프셋함으로써, 도입될 수도 있다. 유사한 오프셋들이 또한 적색 칼라 필터 엘리먼트들 (206) 의 배치에 적용될 수도 있다.

도 4 에 나타낸 블록 (406) 의 프로세스의 제 3 실시형태에서, 블록 (802) 에서 판독한 임계값에 무작위 변경을 도입하기 위해 추가적인 스텝이 프로세스 (800) 에 추가될 수도 있다. 픽셀 사이즈, 필터 엘리먼트 커버리지, 및/또는 퇴적 로케이션 간격의 일부 조합들에 대해, 도 8 에 나타낸 프로세스 (800) 를 구현할 때에 일어날 수 있는 필터 엘리먼트 배치의 순차적인 시프팅은, 본원에서 앞에서 개시한 바와 같이 인간 눈이 매우 민감한, 필터 엘리먼트 배치에서 규칙적인 패턴들을 초래할 것이다. 임계값에서 무작위 변경은 필터 엘리먼트들의 순차적으로 시프트된 배치 및 프로세스 (800) 를 구현할 때에 일어나는 연관되는 시프트들로 인해 필터 엘리먼트 배치에서 일어나는 규칙적인 패턴들을 교란하도록 작용할 것이다. 일 실시형태에서, 무작위 변경은 임계값의 비율, 예를 들어, 5 μm 임계값의 경우 ±40 % 또는 ±2 μm 로서 설정될 수도 있으며, 따라서 이 임계값의 비율은 배치 임계값이 3 μm, 5 μm, 및 7 μm 를 포함하는 임계값들의 세트로부터 무작위로 선택되도록 할 것이다. 임계값들의 세트로부터 이런 무작위 선택은 도 3 에 나타낸 프로그램 메모리 (304) 의 프로그램 코드들 (320) 의 제 1 블록에서 동작 시스템 코드들에 의해 구현되는 동작 시스템과 연관되는 난수 발생기에 의해 제공되는 난수에 기초하여 행해질 수도 있다.

일어날 수도 있는 배치 패턴들을 추가로 교란하기 위해, 위에서 설명한 바와 같은 제 2 및 제 3 실시형태들은 또한 조합하여 적용됨으로써, 상이한 칼라 필터 엘리먼트들 (202 - 206) 에 대한 패턴들을 오프셋시키면서 또한 필터 엘리먼트들의 배치에 무작위 변경들을 도입할 수도 있다. 이의 대안으로, 도 4 에 나타낸 프로세스 (400) 의 블록 (404) 에서 필터 재료를 수용할 픽셀들을 식별하는 것은 복수의 착색된 필터 재료들 중 하나를 수용할 픽셀들을 복수의 픽셀들 (200) 에서 무작위로 식별하는 것을 포함할 수도 있다. 이 실시형태에서, 각각의 칼라의 최종적인 필터 엘리먼트들은 각각의 디스플레이 기판을 가로질러서 무작위로 흩어져 있을 것이며, 따라서 필터 엘리먼트 배치로 인해 일어날 수도 있는 패턴들을 교란할 것이다. 올바른 픽셀들이 대응하는 칼라 필터 엘리먼트들의 각각에 대해 구동될 수 있도록, 무작위 추출된 필터 엘리먼트 로케이션들이 디스플레이 기판과 연관되는 디스플레이 드라이버에 제공되는 것을 필요로 할 것이다.

이 실시형태에서, 필터 엘리먼트들의 배치에서 무작위 변경들이 블록 (802) 에서 판독한 임계치에 무작위 변경을 도입함으로써 달성되지만, 다른 실시형태들에서, 이런 무작위 배치 변경은 프로세스 (800) 에서 어디든지 도입될 수도 있다. 예를 들어, 블록 (808) 은 그 임계값에 독립적인 무작위성을 도입하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시할 수도 있다. 본원에서 설명하는 다른 구현예들 및 실시형태들은 또한 각각의 디스플레이 기판 상에서 상기 식별된 픽셀들에서 필터 엘리먼트 배치에서 일어나는 규칙적인 패턴들을 교란하기 위해 무작위 배치 변경을 도입할 수도 있다.

이와 유사하게, 필터 엘리먼트들이 유리 기판 상에 또는 그후 디스플레이 기판 상에 정렬되는 플라스틱과 같은 다른 기판 상에 형성되는 실시형태들에서, 칼라 필터 엘리먼트들은 도 1 에 나타낸 시스템 (100) 을 이용하여 형성될 수도 있거나, 또는 예를 들어, 포토리소그래피와 같은, 필터 엘리먼트들을 형성하는 대안적인 프로세스들을 이용하여 형성될 수도 있다. 추가 프로세싱 단계에서, 일단 유리 기판 상에 형성된 필터 엘리먼트들이 디스플레이에 정렬되었으면 일어날 수도 있는 규칙적인 패턴들을 교란하기 위해, 본원에서 설명하는 필터 엘리먼트 배치에 무작위 변경들의 도입이 구현될 수도 있다. 이런 패턴들은 필터 엘리먼트 기판과 디스플레이의 하부의 픽셀들 사이의 오정렬에 기인하여 일어날 수도 있다. 무작위 변경은 유리 칼라 필터가 디스플레이의 상부 상에 위치될 때 칼라 필터 엘리먼트들과 디스플레이 픽셀들 사이의 정렬 시프트들로부터 초래되는 패턴들을 교란하도록 동작할 수도 있다. 이런 패턴들은 칼라 필터 기판과 디스플레이 기판이 서로 부착될 때 나타나는, 필터 엘리먼트들과 디스플레이 픽셀들의 2개의 패턴들 사이의 에일리어싱 (aliasing) 에 기인할 수도 있다. 무작위 변경은 이런 패턴들을 감소시키고 정렬 정밀도 요구사항들을 완화시키는데 도움이 될 수도 있다.

디지털 이미징 시스템의 재위치

위에서 설명한 프로세스 (800) 에서, 제 1 디스플레이 기판 (602) 의 프로세싱을 시작할 때, 이미징 헤드 (108) 는, 블록 (804) 에서 판독한 방위 정보에 따라서, 스와쓰 (136) 가 픽셀들 (702 - 708) 상의 필터 엘리먼트 재료의 퇴적 및 디스플레이 기판 상의 다른 픽셀들의 퇴적을 위해 정렬되도록, 제 1 축을 따라서 위치될 수도 있다. 이런 정렬들은 제 1 축 선형 모터 (112) 및 연관되는 인코더 그래쥬에이션들 (114) 에 의해 제공되는 정밀도 이내에서 이루어질 수도 있다. 일 실시형태에서, 배치 정확도는 약 ±3 μm 일 수도 있으며, 인코더 해상도는 ±1 μm 보다 작을 수도 있다. 따라서, 블록 (808) 은 이런 정렬을 결정하고 적용하는 추가적인 스텝을 포함할 수도 있다. 그러나, 도 7 에 나타낸 디스플레이 기판 (604) 과 같이, 디스플레이 기판 (602) 에 정확히 정렬되지 않은 후속 디스플레이 기판들을 프로세싱할 때, 스와쓰는 제 2 기판의 픽셀들에 최적으로 정렬되지 않을 수도 있다. 오프셋 (730) 이 기판 (602) 과 기판 (604) 사이의 정렬에서의 일부 차이에 대해 정정할 수 있지만, 인접한 퇴적 로케이션들 사이의 간격의 적어도 절반의 잔여 오프셋이 남아 있을 것이다.

도 9 를 참조하면, 도 7 에 나타낸 프로세스 (800) 의 대안적인 실시형태에서, 이미징 헤드 (108) 는 잔여 오프셋에 대응하는 제 1 축 (110) 의 방향에서 작은 변위 (900) 를 일으킴으로써, 기판 (602) 상에서 필터 엘리먼트들의 퇴적 이후에 재위치될 수도 있다. 필터 엘리먼트들의 퇴적 동안, 노출 헤드 (108) 는 제 2 축 (124) 의 방향에서 기판들에 대해서 변위되며, 이미징 스와쓰 (136) 에 의해 일어나는 잔여 오프셋을 고려한 이미징 헤드 (108) 의 재위치는 오프셋된 이미징 스와쓰 (902) 를 야기한다. 따라서, 이미징 스와쓰 (902) 는 인접한 퇴적 로케이션들 사이의 간격의 절반보다 작거나 또는 동일한 만큼 오프셋되며 디스플레이 기판 (604) 의 픽셀 (726) 과 정렬한다.

디지털 이미징 시스템 (100) 에서 필터 엘리먼트 퇴적 속도를 증가시키기 위해, 제 2 축 방향에서의 속도들은 약 2 m/s 이상의 범위일 수도 있다. 디스플레이 기판들 (602 및 604) 사이의 20 mm 간격에 대해, 그 변위에 이용가능한 시간은 10 밀리초의 범위 내일 것이며, 따라서 선형 모터 (112) 와 연관되는 정착 시간을 고려할 때 제 1 축 방향으로 5 μm 오프셋에 대해 약 0.2 m/s² 의 가속도를 필요로 할 것이다. 이 가속도는 상당히 더 큰, 도 7 에 나타낸 오프셋들 (730 및 732) 사이의 전체 차이에 대해 고려하는 것을 필요로 하는 가속도에 대비될 수도 있다. 디스플레이 기판들 사이의 방위에서의 차이들은 일부 경우들에서 1 mm 에 달할 수도 있으며, 이는 상기 조건들 하에서 이미징 헤드 (108) 의 재위치 단독으로 정정하는데 약 40 m/s² 의 가속도를 필요로 할 것이다. 따라서, 이미징 헤드를 더 낮은 정도까지 이동시킴으로써 임의의 잔여 오프셋에 대해 정정하는 동안 디지털 마스크를 오프셋하는 것의 조합을 제공하는, 도 9 에 나타낸 프로세스의 실시형태는, 더 낮게 요구되는 제 1 축 가속도로 인해 구현하기에 더 용이할 것이다.

도 9 와 관련하여 위에서 설명한 실시형태는, 각각의 디스플레이 기판을 이미징하는 동안 제 1 축 (110) 으로 이동시키지 않는 이미징 헤드 (108) 와 관련하여 설명되었다. 그러나, 도 9 에 나타낸 디스플레이 기판들 (602 및 604) 은 각각 제 2 축 (124) 에 대한 각도 회전 (angular rotation) 을 가지며, 이 각도 회전은 프로세스 (800) 과 관련하여 앞에서 설명한 바와 같이, 픽셀들 내 칼라 필터 엘리먼트들의 배치에서 연속적인 시프트들을 일으킨다. 또다른 실시형태에서, 위에서 설명한 재위치는, 디스플레이 기판들 (602 및 604) 의 회전을 또한 보상하기 위해 제 1 축의 방향에서 이미징 헤드 (108) 의 느린 스캔과 결합됨으로써, 후속 픽셀들 상의 필터 엘리먼트들 사이에 연속적인 시프트들을 감소시킬 수도 있다.

예를 들어, 디스플레이 기판들의 하나에 대한 회전 각도 θ = 0.5° 를 2 m/s 상대적인 변위의 제 2 축 속도와 일치시키는 조정된 (coordinated) 스캔은, 0.017 m/s 의 제 1 축 방향에서의 스캔 속도를 필요로 할 것이다. 선형 모터 (112) 및 제어기 (140) 는 약 3.4 m/s² 의 가속도를 필요로 하는 이 변경을 개시하는데 약 10 밀리초를 소요할 것이다. 이런 가속도는 또한 일반적으로 도 1 에 나타낸 것과 같은 정밀한 평면 이미징 시스템에 타당할 것이다.

그러나, 다른 실시형태들에서, 디스플레이 기판들과 연관되는 회전 각도는 0.5° 보다 상당히 더 높을 수도 있으며, 따라서 그 조정된 모션을 디스플레이들 사이에 적응시키는데 충분한 시간을 제공하기 위해서는, 디스플레이들 사이에 더 큰 간극을 필요로 할 수도 있다. 이의 대안으로, 디스플레이들 사이의 간극이 억제되면, 더 높은 가속도가 제 1 축 선형 모터 (112) 에 의해 제공되어야 할 것이며, 이것은 제 1 축 선형 구동의 비용 및 복잡성을 증가시킬 수도 있다.

일반적으로, 제 2 축의 방향에서 디스플레이 기판들과 디지털 이미징 시스템 사이의 상대적인 변위는 제 2 축 (124) 과 정렬된 방향에서 제 1 패스 및 제 1 패스의 방향과 반대인 방향에서 제 2 패스 또는 복귀 패스를 포함할 것이다. 일부 실시형태들에서, 제 2 패스 상의 필터 엘리먼트들의 퇴적을 용이하게 하기 위해 이미징 헤드 (108) 는 모션의 방향이 변경되고 있는 동안 스와쓰 (136) 의 폭 만큼 오프셋되며, 그에 따라서 처리량을 증가시킨다. 다른 실시형태들에서, 제 2 패스 동안 퇴적되는 필터 엘리먼트들은 제 1 패스 동안 퇴적되는 필터 엘리먼트들과 시각적으로 상이할 수도 있으며, 이런 경우들에서, 퇴적은 단지 제 1 패스 동안 이용될 수도 있다. 도 10 을 참조하면, 또 다른 대안적인 실시형태에서, 디스플레이들 사이에서 이미징 헤드 (108) 를 가속시키기 위해 제공되는 시간이, 오직 스와쓰 (1000) 에 따른 제 1 패스 상의 디스플레이 기판들 중 선택된 디스플레이 기판들 (예를 들어, 기판들 (602 및 606)) 상에만 필터 엘리먼트들을 퇴적하고 그후 일반적으로 스와쓰 (1000) 에 따른 제 2 패스 상의 나머지 디스플레이 기판들 (예를 들어, 기판 (604)) 을 이미징함으로써, 증가될 수도 있다. 이 실시형태와 연관되는 하나의 이점은, 이미징 헤드 (108) 가 재위치를 위해 가속될 수도 있는 거리 (1002) 가 도 9 실시형태와 관련하여 위에서 설명한 바와 같이, 상당히 증가된다는 점이다. 이것은 연관되는 가속도 요구사항들을 감소시키고 제 1 축 방향에서의 스캔 속도의 정착 (settling) 및 개시에 더 많은 시간을 제공한다. 도 10 에 나타낸 실시형태에서, 필터 엘리먼트들을 디스플레이 기판 (602) 상에 스와쓰 (1000) 의 제 1 패스에서 퇴적하기 위해 이미징 헤드 (108) 가 먼저 위치되고, 그후 도 9 의 실시형태와 관련하여 위에서 개괄적으로 설명한 바와 같이, 거리 (1002) 를 횡단하는데 소요하는 시간 동안 재위치된다. 그후, 기판 (606) 상에서 필터 엘리먼트들의 퇴적이 일어나며, 완료될 때, 제 1 패스 방향에서 이미지 헤드의 모션이 감속되며 이미징 헤드가 제 2 패스 방향에서 이미징 속도까지 가속된다. 따라서, 거리 (1004) 가 이용될 수 있으며, 그 동안 이미징 헤드 (108) 가 제 2 축 (124) 에서 이미징 속도까지 가속되고, 제 2 패스 동안 디스플레이 기판 (604) 을 이미징하기 위해 재위치시키는 것을 가능하게 하기 위해 제 1 축 (110) 에서 가속될 수도 있다. 대표적인 디스플레이 기판 사이즈들 및 척 (116) 상의 배열에 대해, 이 실시형태는 제 1 축 (110) 에서 요구되는 가속도를 도 9 실시형태 보다 추가로 감소시킨다.

일단 디스플레이 기판 (604) 상의 필터 엘리먼트들의 퇴적이 스와쓰 (1000) 를 따라서 완료되면, 그후 이미징 헤드 (108) 를 다음 스와쓰 (1008) 에 대한 위치로 이동시키기 위해 거리 (1006) 를 이용할 수도 있다. 스와쓰 (1008) 에 대한 필터 엘리먼트들의 퇴적이 동일한 방식으로 진행될 수도 있다.

도 10 에 나타낸 실시형태는 제 2 축 (124) 에 따른 적어도 2개의 디스플레이 기판들이 있는 구성들에 사용될 수도 있으며, 그러나, 또한 임의의 다른 개수의 기판들의 구성들에도 적용가능하다. 도 10 에서, 그 실시형태는 필터 엘리먼트 퇴적이 제 1 패스 동안 기수 디스플레이들 상에서 및 제 2 패스 동안 우수 디스플레이들 상에서 일어나는 것과 관련하여 설명되었지만, 예를 들어, 일부 디스플레이들이 제거되는 경우들에서 디스플레이 기판들이 규칙적으로 배열되지 않는, 다른 구성들이 또한 구현될 수도 있다.

인터리빙 ( Interleaving )

도 11 을 참조하면, 위에서 개시된 여러 실시형태들과 결합될 수도 있는 대안적인 퇴적 실시형태가 도시되어 있다. 이 실시형태에서, 스와쓰 (1100) 에 따른 필터 엘리먼트들에 대한 퇴적이 이미징 헤드 (108) 의 제 1 패스 동안 디스플레이 기판들 (602, 604, 및 606) 의 각각 상에서 일어나지만, 이 제 1 패스 상에서는 단지 매 제 2 퇴적 로케이션 마다 구동된다. 따라서, 완료되지 않은 필터 엘리먼트들이 제 1 패스 동안 퇴적될 것이다. 제 2 패스 동안, 필터 엘리먼트의 나머지 부분들은 제 2 패스에서 스와쓰 (1100) 를 따라서 적합한 퇴적 로케이션들을 구동함으로써, 채워진다.

이의 대안으로, 제 1 패스의 완료 시, 이미징 헤드는 이미징 헤드를 제 2 스와쓰 (1102) 와 정렬하기 위해 퇴적 로케이션들 사이의 간격 만큼 위에 걸쳐서 이동될 수도 있으며, 제 2 패스 동안, 제 2 스와쓰 (1102) 에서 적합한 퇴적 로케이션을 구동함으로써 필터 엘리먼트의 나머지 부분들이 채워질 것이다.

상기 인터리브된 퇴적 구성들은, 각각의 필터 엘리먼트가 이미지 헤드 (108) 의 2개의 패스들에서 반대 방향들로 퇴적되게 함으로써, 도 10 의 실시형태와 관련하여 위에서 설명한 바와 같이, 제 1 패스와 제 2 패스 사이의 퇴적 차이들의 효과를 감소시키는 이점을 갖는다. 게다가, 일부 이미징 시스템들 및/또는 매질들은 디스플레이에의 착색제의 불완전한 전사를 초래하며, 이는 특히 필터 엘리먼트들 내에서 일어나는 것과 같이 고체 영역들을 이미징할 때에 단언될 수도 있다. 상기 인터리브된 퇴적은 또한 이런 효과들을 감소시킬 수도 있다.

상기 설명에서, 인터리빙 (interleaving) 은 단일 퇴적 로케이션에 기초하여 설명되지만, 다른 실시형태들에서, 인터리빙은 하나 보다 많은 퇴적 로케이션을 수반할 수도 있다.

필터 엘리먼트 형성 ( shaping )

상기 실시형태들은 일반적으로 제 1 및 제 2 축에서 유사한 치수들을 가진 퇴적 로케이션들을 발생하도록 구성된 이미징 시스템과 관련하여 설명되었다. 그러나, Kodak SQUARESpot^® 이미징 헤드의 예와 관련하여 위에서 언급한 바와 같이, 발생된 빔들 (128) 은 일반적으로 직사각형인 프로파일을 가지며, 제 1 축 방향에서 가능한 정밀도 보다 더 큰 정밀도로 필터 재료를 제 2 축 방향에서 퇴적하도록 제어될 수도 있다.

도 12 를 참조하면, 대안적인 실시형태에서, 이미징 헤드 (108) 는 제 1 축에 따른 제 1 퇴적 로케이션들보다 더 가깝게 이격된 제 2 축 (124) 에 따른 제 2 퇴적 로케이션들 (1200) 을 제공하도록 구성된다. 식별되는 픽셀 (1202) 은 도 12 에 나타낸 바와 같이 각각의 제 1 및 제 2 축들의 방향에서 연관된 제 1 축 범위들 및 제 2 축 범위들을 갖는다. 이들 조건들 하에서, 제 2 축 (124) 에 따른 필터 엘리먼트의 배치는 제 1 축 (110) 에 따른 필터의 배치보다 더 정확하게 제어될 수도 있다. 이 실시형태에서, 도 8 에 나타낸 프로세스 (800) 의 블록 (808) 은, 제 1 및 제 2 축들 (110 및 124) 에서 퇴적 로케이션들의 선택을 상이하게 초래하도록 구현될 수도 있다. 일 실시형태에서, 제 1 축 퇴적 로케이션들은 필터 엘리먼트 (1204) 와 픽셀 (1202) 의 제 1 축 범위들 (1206 및 1208) 사이에 증가된 간격을 제공하도록 선택된다. 도 12 에 나타낸 실시형태에서, 하나 보다 많은 퇴적 로케이션이 픽셀 (1202) 에 선택되지 않은 채 남아 있으며, 이는 대부분의 경우들에서, 단지 단일 퇴적 로케이션만이 그 픽셀 범위들 근처에서 선택되지 않은 채 남아 있는 도 7 에 나타낸 실시형태와 대조될 수도 있다. 그러나, 실시형태들에서, 각각의 픽셀이 동일한 칼라의 다른 픽셀들에 대해 실질적으로 유사한 휘도를 갖도록 하기 위해, 퇴적되는 필터 엘리먼트들은 목표 커버리지 영역과 같은 커버리지 기준을 만족해야 한다. 따라서, 제 1 퇴적 로케이션 및 제 2 퇴적 로케이션의 선택이 픽셀 (1202) 내 필터 엘리먼트와 연관되는 커버리지 기준 (1204) 을 함께 만족하도록, 제 1 축 방향 (110) 에서 증가된 간격에 대한 보상으로, 필터 엘리먼트와 제 2 축 범위들 (1210 및 1212) 사이에 감소된 간격을 제공하도록 제 2 축 (124) 에 따른 제 2 퇴적 로케이션들이 선택된다. 이 실시형태는 또한 도 9 내지 도 11 과 관련하여 설명된 실시형태들과 같은, 다른 설명되는 실시형태들과 결합될 수도 있다.

도 12 에 나타낸 실시형태는 또한 필터 엘리먼트 (1204) 와 제 1 축 범위들 사이에 더 큰 간격을 제공함으로써, 퇴적 로케이션들의 선택에 기인하여 필터 엘리먼트 배치에서 일어나는 규칙적인 패턴들을 교란하기 위해, 제 1 및 제 2 축들에서 필터 엘리먼트들의 배치에 무작위 변경의 도입을 추가로 촉진한다. 제 2 축 방향에서 퇴적 정밀도가 제 1 축보다 증가되기 때문에, 제 2 축 (124) 에 따른 필터 엘리먼트의 더 정확한 배치는 제 1 축 (110) 에 따른 배치에서 무작위 변경들에 대해 더 큰 허용정도 (latitude) 를 제공하는 효과를 갖는다.

다른 실시형태들에서, 후속 식별된 픽셀들에서 제 1 축 범위들 (1206 및 1208) 로부터의 간격에 무작위 변경들이 도입될 수도 있다. 이런 무작위 변경들은 그 필터 엘리먼트와 연관되는 커버리지 기준을 만족하도록 제 2 축 (124) 에 따른 제 2 퇴적 로케이션들을 선택함으로써 보상될 수도 있다. 설명한 실시형태들에서, 필터 엘리먼트들과 연관되는 형태가 일반적으로 직사각형으로 개시되었지만; 다른 실시형태들에서, 필터 엘리먼트의 형태는 정사각형 또는 직사각형 이외의 형태, 또는 심지어 불규칙적인 형태를 가질 수도 있다.

퇴적된 필터 엘리먼트들의 컨디셔닝 ( conditioning )

상기 실시형태들의 임의의 실시형태를 이용하여 퇴적되는 필터 엘리먼트들은 거친 표면 텍스쳐를 갖는 전사된 필터 엘리먼트를 초래할 수도 있다. 이 효과는 도너로부터의 각각의 퇴적 로케이션에서의 전사가 불완전할 수도 있기 때문에, 열 전사 도너들을 이용할 때에 특히 현저하였다. 일부 애플리케이션들에 있어, 거친 표면 텍스쳐는 바람직하지 않을 수도 있으며 어려움들을 야기할 수도 있다. 예를 들어, 디스플레이들에 대한 칼라 필터 엘리먼트들의 경우에, 거친 표면 텍스쳐로 인한 광학적 효과들은 디스플레이에 의해 디스플레이되는 이미지의 품질에서 열화를 초래할 수도 있다. 특히, 반사형 디스플레이들이 이런 광학적 효과들에 의해 영향을 받는 것으로 믿어지고 있다.

본 발명의 또 다른 실시형태에서, 일단 필터 엘리먼트 재료의 선택적 퇴적이 완료되었으면, 그 퇴적된 필터 재료를 컨디셔닝하기 위해 그 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 선택적으로 노출시키는 단계를 포함하는 추가적인 스텝이 도입될 수도 있다. 그 퇴적된 필터 엘리먼트들은 이렇게 어닐링 프로세스를 받으며, 이 어닐링 프로세스는 거친 표면 텍스쳐를 평탄화하기 위해서 필터 엘리먼트 재료의 온도가 그 재료의 유리 전이 온도 이상으로 상승되게 함으로써, 그 재료를 적어도 부분적으로 리-플로시킬 수 있게 하는 것으로 믿어지고 있다. 일단 냉각되면, 필터 엘리먼트 재료 표면은 리-플로로 인해 향상된 평활도를 갖는다.

동일한 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스를 이용한 선택적 컨디셔닝은 별개의 어닐링 스텝 보다 여러 이점들을 가질 수도 있다. 별개의 어닐링 프로세스를 도입하는 것은, 그 프로세스에 또다른 스텝을 추가할 것이며, 또한 추가적인 어닐링 장비를 수반할 것이다. 또한, 어닐링을 충분히 일으키기 위해 전체 기판의 온도를 상승시킴으로써 디스플레이 기판에의 손상의 가능성이 존재할 수도 있다. 이들 문제들은, 대개 오직 칼라 필터 엘리먼트 재료만이 어닐링 온도까지 상승되어 하부의 픽셀들에 대한 손상의 위험을 감소시킬 것이기 때문에, 모두 본원에서 설명한 선택적 컨디셔닝에 의해 해결된다. 더욱이, 열 전사에 있어, 레이저 전사를 가능하게 하는데 적합한 레이저 파장들이 필터 엘리먼트 재료에 의해 일반적으로 잘 흡수될 것이며, 따라서 필터 엘리먼트 재료를 어닐링 온도까지 상승시키는데 특히 효과적일 것이다.

도 13 을 참조하면, 본 발명의 일 실시형태에 따라서 컨디셔닝 프로세스를 수행하도록, 도 3 에 나타낸 마이크로프로세서 (302) 에 지시하는 프로세스가 일반적으로 1300 으로 도시되어 있다. 프로세스는 블록 (1302) 에서 시작하며, 이 블록 (1302) 은 위에서 개시한 실시형태들에서 설명한 바와 같이, 선택된 퇴적 로케이션들에서 필터 재료의 퇴적이 일어나게 하기 위해 디지털 이미징 시스템 (100) (도 1 에 도시) 을 제어하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 그후, 옵션적으로, 블록 (1304) 은 레이저 소스의 강도 레벨을 어닐링에 적합한 레벨까지 조정하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 이런 레벨은 레이저 전력을 증가시키거나 또는 감소시킴으로써, 또는 예를 들어, 레이저 소스에 발생되는 래디에이션을 제어하도록 배치된 변조기와 연관되는 감쇠 레벨에서 조정함으로써, 제공될 수도 있다. 컨디셔닝이 동일한 레이저 강도 또는 전력 레벨에서 일어나는 실시형태들에서, 블록 (1304) 은 생략될 수도 있다.

프로세스 (1300) 는 블록 (1306) 에서 시작하며, 이 블록 (1306) 은 가변 메모리 (306) 의 스토어 (356) 에 저장된 디지털 마스크 정보를 판독하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다. 상이한 칼라들의 모든 칼라 필터 엘리먼트들의 어닐링이 동시에 어닐링되는 실시형태들에서, 칼라 필터 엘리먼트들의 각각과 연관되는 별개의 디지털 마스크들은, 모든 칼라들에 대해 결합된 디지털 마스크를 제공하기 위해 프로세싱을 추가로 필요로 할 것이다. 블록 (1308) 은 그후 퇴적 로케이션들에서 필터 엘리먼트 재료의 컨디셔닝을 일으키도록, 디지털 이미징 시스템을 제어하기 위해서, 포트들 (142, 144, 및 146) 에서 제어 신호들을 발생하도록 마이크로프로세서 (302) 에게 지시한다.

일 실시형태에서는, 필터 엘리먼트들의 퇴적에 사용되는 동일한 레이저 소스가 또한 필터 엘리먼트들을 컨디셔닝을 위한 선택적 노출을 수행하는데 사용된다. 다른 실시형태들에서는, 상이한 파장을 갖는 상이한 레이저 소스가 필터 엘리먼트들을 컨디셔닝하기 위한 선택적 노출을 수행하는데 사용될 수도 있다.

상기 실시형태들은 직접 디스플레이 기판의 픽셀들 상에, 또는 유리 또는 비-유리 기판 상에, 칼라 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법들 및 연관되는 장치를 제공한다. 필터 엘리먼트들 상의 직접 퇴적은 퇴적 동안 수행됨으로써 추가적인 정렬 스텝이 제거되는 하나의 연관되는 이점을 갖는다. 더욱이, 필터 엘리먼트를 운반하는 추가적인 유리 층이 최종적인 디스플레이 제품으로부터 제거되며, 이에 따라서 디스플레이 제품의 중량을 감소시킨다. 직접 퇴적 실시형태들은 또한 투과된 또는 반사되는 광의 더 적은 산란 (scattering) 을 일반적으로 야기하며, 잠재적으로 더 나은 칼라 디스플레이 성능을 제공한다.

특정의 본 발명의 실시형태들이 설명되고 도시되었지만, 이런 실시형태들은 단지 본 발명의 예시로 간주되어야 하며, 첨부된 청구범위에 따라서 해석되는 본 발명을 제한하는 것으로 간주되어서는 안된다.

Claims (76)

1. 복수의 퇴적 로케이션들에 필터 재료를 선택적으로 퇴적하도록 동작가능한 디지털 이미징 시스템을 이용하여 적어도 하나의 디스플레이 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법으로서,
   상기 적어도 하나의 디스플레이 기판과 연관되는 복수의 픽셀들의 배열을 정의하는 방위 정보를 수신하는 단계;
   픽셀 상에 필터 엘리먼트를 형성하기 위해 필터 재료를 수용할 픽셀들을 상기 복수의 픽셀들에서 식별하는 단계;
   상기 픽셀 내에서 상기 필터 엘리먼트의 배치와 연관되는 정렬 기준을 만족하도록, 상기 방위 정보에 따라서 상기 식별된 픽셀들의 각각 내에서 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계; 및
   상기 선택된 퇴적 로케이션들에서 상기 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 상기 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
2. 제 1 항에 있어서,
   각각의 식별된 픽셀은 연관된 범위들을 가지며 상기 필터 엘리먼트는 상기 범위들 내에서 위치되고,
   상기 정렬 기준은 상기 범위들에 대한 상기 필터 엘리먼트의 배치에서의 허용된 편차를 나타내는 임계값을 포함하며,
   상기 선택하는 단계는,
   후속 식별된 픽셀들에서 상기 범위들에 대해 상기 필터 엘리먼트의 순차적으로 시프트된 배치를 야기하는 한편 상기 순차적으로 시프트된 배치가 상기 임계값 내에서 유지되고;
   상기 순차적으로 시프트된 배치가 상기 임계값을 초과할 때 상기 필터 엘리먼트의 배치가 상기 임계값 내에서 시프트되도록, 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계를 포함하는,
   필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
3. 제 2 항에 있어서,
   상기 필터 엘리먼트의 배치가 상기 임계값 내에서 시프트백되도록 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계는,
   적어도 인접한 퇴적 로케이션들 사이의 간격 만큼 상기 범위들에 대해 시프트된 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
4. 제 2 항에 있어서,
   상기 임계값에 무작위 변경을 도입하는 단계를 더 포함하며,
   상기 무작위 변경은 후속 픽셀들에서 상기 필터 엘리먼트들의 상기 순차적으로 시프트된 배치로 인해 필터 엘리먼트 배치에서 일어나는 규칙적인 패턴들을 교란하도록 동작가능한, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
5. 제 2 항에 있어서,
   상기 픽셀들을 식별하는 단계는 복수의 착색된 필터 재료들 중 하나를 수용할 픽셀들을 상기 복수의 픽셀들에서 식별하는 단계를 포함하며,
   상기 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계는, 후속 픽셀들에서 상기 필터 엘리먼트들의 상기 순차적으로 시프트된 배치로 인해 필터 엘리먼트 배치에서 일어나는 규칙적인 패턴들을 교란하기 위해, 상기 필터 엘리먼트의 배치가 상기 복수의 착색된 필터 재료들의 각각 사이에서 변경되도록 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
6. 제 1 항에 있어서,
   상기 퇴적 로케이션들은,
   상기 디스플레이 기판들의 제 1 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 1 퇴적 로케이션들; 및
   상기 디스플레이 기판들의 제 2 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 2 퇴적 로케이션들로서, 상기 제 2 퇴적 로케이션들은 상기 제 1 퇴적 로케이션들보다 더 가깝게 이격되는, 상기 제 2 퇴적 로케이션을 포함하고;
   각각의 식별된 픽셀은 상기 제 1 축의 방향에서 연관된 제 1 축 범위들 및 상기 제 2 축의 방향에서 연관된 제 2 축 범위들을 가지며,
   상기 제 1 및 제 2 축 범위들은 상기 필터 엘리먼트가 배치되는 영역을 한정하며;
   상기 선택하는 단계는,
   상기 필터 엘리먼트와 상기 제 1 축 범위들 사이에 증가된 간격을 제공하도록 상기 제 1 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계; 및
   상기 필터 엘리먼트와 상기 제 2 축 범위들 사이에 감소된 간격을 제공하도록 상기 제 2 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계를 포함하고, 상기 제 1 퇴적 로케이션 및 제 2 퇴적 로케이션의 선택이 상기 필터 엘리먼트와 연관되는 커버리지 기준을 함께 만족하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
7. 제 6 항에 있어서,
   상기 선택하는 단계는 상기 필터 엘리먼트의 배치에 무작위 변경을 도입하는 단계를 더 포함하며,
   상기 무작위 변경은 상기 선택으로 인해 필터 엘리먼트 배치에서 일어나는 규칙적인 패턴들을 교란하도록 동작가능한, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
8. 제 7 항에 있어서,
   상기 필터 엘리먼트의 배치에 무작위 변경을 도입하는 단계는 상기 제 1 축 방향에서의 상기 증가된 간격이 후속 식별된 픽셀들 사이에서 무작위로 변하도록, 상기 제 1 퇴적 로케이션들의 선택에 무작위 변경을 도입하는 단계를 포함하며,
   상기 제 2 퇴적 로케이션들의 선택은 상기 필터 엘리먼트와 연관되는 커버리지 기준을 만족하도록 제 2 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
9. 제 6 항에 있어서,
   상기 제 1 퇴적 로케이션들은 복수의 개별적으로 작동가능한 채널들 중 작동하는 채널들과 연관되며,
   상기 개별적으로 작동가능한 채널들은 제 1 축을 따라서 일반적으로 정렬되며, 상기 채널들과 연관되는 선택된 별개의 퇴적 로케이션들에서 상기 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 동작가능하게 구성되는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
10. 제 9 항에 있어서,
    상기 개별적으로 작동가능한 채널들은,
    복수의 개별적으로 작동가능한 레이저 빔들을 발생하도록 동작가능하게 구성된 레이저 래디에이션 소스로서, 상기 레이저 빔들은 필터 재료 도너 시트로부터 상기 적어도 하나의 디스플레이 기판 상으로 필터 엘리먼트 재료의 퇴적을 야기하도록 선택적으로 동작가능한, 상기 레이저 래디에이션 소스; 및
    필터 엘리먼트 재료를 상기 적어도 하나의 디스플레이 기판 상으로 퇴적하는 복수의 잉크 젯 노즐들 중 하나에 의해 제공되는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
11. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 2 퇴적 로케이션들은,
    상기 제 2 축과 일반적으로 정렬된 방향에서 상기 디스플레이 기판들과 상기 디지털 이미징 시스템 사이에 상대적인 변위를 일으킴으로써, 상기 제 2 축을 따라서 연장하는 스와쓰(swath)에 배치된 선택된 퇴적 로케이션들에 상기 필터 재료의 퇴적을 용이하게 하는 것과 연관되는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
12. 제 1 항에 있어서,
    상기 선택하는 단계는 상기 필터 엘리먼트의 배치에 무작위 변경을 도입하는 단계를 더 포함하며,
    상기 무작위 변경은 인접한 퇴적 로케이션들 사이의 간격으로 인해 각각의 디스플레이 기판 상에서 상기 식별된 픽셀들에서의 필터 엘리먼트 배치에서 일어나는 규칙적인 패턴들을 교란하도록 동작가능한, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
13. 제 1 항에 있어서,
    상기 픽셀들을 식별하는 단계는,
    각각의 칼라의 최종적인 필터 엘리먼트들을 각각의 디스플레이 기판을 가로질러 무작위로 분산시키기 위해 복수의 착색된 필터 재료들 중 하나를 수용할 픽셀들을 상기 복수의 픽셀들에서 무작위로 식별하는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
14. 제 1 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 디스플레이 기판은 적어도 2개의 디스플레이 기판들을 포함하며,
    상기 퇴적 로케이션들은 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들의 제 1 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 1 퇴적 로케이션들 및 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들의 제 2 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 2 퇴적 로케이션들을 포함하며,
    상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들은 상기 제 2 축을 따라서 연속하여 배치되며,
    상기 방위 정보를 수신하는 단계는 상기 제 1 및 제 2 축들에 대해 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들의 각각과 연관되는 상기 복수의 픽셀들의 상기 배열을 정의하는 정보를 수신하는 단계를 포함하며,
    상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 적어도 하나에 대해 상기 제 1 축의 방향에서 상기 복수의 픽셀들과 연관되는 오프셋을 계산하는 단계; 및
    상기 퇴적 로케이션들의 상기 선택에 의해 보상될 수 없는 상기 오프셋의 잔여 부분을 결정하는 단계를 더 포함하고;
    상기 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계는,
    상기 제 2 축의 방향에서 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들과 상기 디지털 이미징 시스템 사이에 상대적인 변위를 일으키는 단계; 및
    상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 상기 적어도 하나 상에 상기 필터 재료의 퇴적을 위한 상기 디지털 이미징 시스템을 위치시키기 위해, 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들에 대해 상기 제 1 축의 방향에서 상기 적어도 하나의 디스플레이 기판과 연관되는 상기 오프셋의 상기 잔여 부분만큼, 상기 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 하는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
15. 제 14 항에 있어서,
    상기 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 하는 단계는, 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들 사이에서 이동하는 동안 상기 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 하는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
16. 제 14 항에 있어서,
    상기 제 2 축의 상기 방향에서 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들과 상기 디지털 이미징 시스템 사이에 상대적인 변위를 일으키는 단계는, 제 1 패스에서 상기 제 2 축과 정렬된 제 1 방향으로 상대적인 변위들을 일으키는 것과, 제 2 패스에서 상기 제 1 방향에 반대인 제 2 방향으로 상대적인 변위들을 일으키는 것 사이에 교번하는 단계를 포함하며,
    상기 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계는,
    상기 제 1 패스 상에서 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중의 제 1 디스플레이 기판 상에, 및 상기 제 2 패스 상에서 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중의 제 2 디스플레이 기판 상에, 상기 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 상기 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계를 포함하며,
    상기 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 하는 단계는,
    상기 제 1 패스와 상기 제 2 패스 사이에서 방향을 변경하는 동안 상기 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 하는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
17. 제 16 항에 있어서,
    상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들은 상기 제 2 축을 따라서 연속하여 배치된 2개보다 많은 디스플레이 기판들을 포함하며,
    상기 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계는,
    상기 제 1 패스 상에서 상기 2개보다 많은 디스플레이 기판들 중 교번하는 디스플레이 기판들 상에, 및 상기 제 2 패스 상에서 상기 2개보다 많은 디스플레이 기판들 중 나머지 디스플레이 기판들 상에, 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 상기 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계를 포함하며,
    상기 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 하는 단계는,
    상기 제 1 패스에서 상기 디스플레이 기판들 중 상기 교번하는 디스플레이 기판들의 적어도 하나 또는 상기 제 2 패스 동안 상기 디스플레이 기판들 중 상기 나머지 디스플레이 기판들 사이에 배치되는 동안 상기 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 하는 단계를 더 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
18. 제 1 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 디스플레이 기판은 상기 디지털 이미징 시스템의 기판 탑재 표면 상에 개별적으로 배치되며,
    상기 방위 정보를 수신하는 단계는 상기 디스플레이 기판들의 각각 상에 인디시아(indicia)를 로케이트함으로써 상기 방위 정보를 발생하는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
19. 제 18 항에 있어서,
    상기 인디시아를 디스플레이하기 위해 상기 적어도 하나의 디스플레이 기판 상의 선택된 픽셀들이 구동되도록 하는 단계를 더 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
20. 제 1 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 디스플레이 기판은 적어도 하나의 공통 기판 층을 갖는 복수의 디스플레이 기판들을 포함하며,
    상기 방위 정보를 수신하는 단계는 상기 적어도 하나의 공통 기판 층 상에 인디시아를 로케이트함으로써 상기 방위 정보를 발생하는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
21. 제 18 항에 있어서,
    상기 인디시아를 로케이트하는 단계는,
    상기 인디시아를 소유하는 상기 적어도 하나의 디스플레이 기판의 부분을 나타내는 이미지 데이터를 캡쳐하도록 상기 이미징 시스템과 연관되는 카메라가 위치되도록 하는 단계를 포함하며,
    상기 인디시아의 상대적인 로케이션을 결정하기 위해 상기 이미지 데이터를 프로세싱하는 단계를 더 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
22. 제 1 항에 있어서,
    상기 퇴적 로케이션들은 상기 디스플레이 기판들의 제 1 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 1 퇴적 로케이션들 및 상기 디스플레이 기판들의 제 2 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 2 퇴적 로케이션들을 포함하며,
    상기 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계는,
    제 1 패스에서 상기 제 2 축과 정렬된 제 1 방향으로 상대적인 변위들을 일으키는 것과, 제 2 패스에서 상기 제 1 방향과 반대인 방향으로 상대적인 변위들을 일으키는 것을 교번하는 단계;
    상기 제 1 패스 동안 제 1 복수의 상기 선택된 퇴적 로케이션들에서 상기 필터 재료의 퇴적을 일으키는 단계; 및
    상기 제 2 패스 동안 제 2 복수의 상기 선택된 퇴적 로케이션들에서 상기 필터 재료의 퇴적을 일으키는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
23. 제 22 항에 있어서,
    상기 제 1 복수의 상기 선택된 퇴적 로케이션들은 상기 제 1 축을 따라서 교번하는 선택된 퇴적 로케이션들을 포함하며,
    상기 제 2 복수의 상기 선택된 퇴적 로케이션들은 상기 제 1 축을 따라서 나머지 선택된 퇴적 로케이션들을 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
24. 제 23 항에 있어서,
    상기 제 1 축의 방향에서 상기 제 1 패스와 상기 제 2 패스 사이에 상기 이미징 시스템을 변위하는 단계를 더 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
25. 제 1 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 기재된 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법을 실행하도록 제어기 프로세서 회로에게 지시하는 코드들로 인코딩된, 컴퓨터 판독가능 매체.
26. 제 1 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 기재된 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법에 따라서 형성된 필터 엘리먼트들을 갖는, 디스플레이 장치.
27. 적어도 하나의 디스플레이 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하기 위해 복수의 퇴적 로케이션들에 필터 재료를 선택적으로 퇴적하도록 동작가능한 디지털 이미징 시스템으로서,
    상기 디지털 이미징 시스템은,
    상기 적어도 하나의 디스플레이 기판과 연관되는 복수의 픽셀들의 배열을 정의하는 방위 정보를 수신하고;
    픽셀 상에 필터 엘리먼트를 형성하기 위해 필터 재료를 수용할 픽셀들을 상기 복수의 픽셀들에서 식별하고;
    상기 픽셀 내에서 상기 필터 엘리먼트의 배치와 연관되는 정렬 기준을 만족하도록, 상기 방위 정보에 따라서 상기 식별된 픽셀들의 각각 내에서 퇴적 로케이션들을 선택하고;
    상기 선택된 퇴적 로케이션들에서 상기 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 상기 디지털 이미징 시스템을 제어하도록 동작가능하게 구성되는 제어기를 포함하는, 디지털 이미징 시스템.
28. 제 27 항에 있어서,
    각각의 식별된 픽셀은 연관된 범위들을 가지며 상기 필터 엘리먼트는 상기 범위들 내에서 위치되고,
    상기 정렬 기준은 상기 범위들에 대한 상기 필터 엘리먼트의 배치에서의 허용된 편차를 나타내는 임계값을 포함하며,
    상기 제어기는,
    후속 식별된 픽셀들에서 상기 범위들에 대해 상기 필터 엘리먼트의 순차적으로 시프트된 배치가, 상기 순차적으로 시프트된 배치가 상기 임계값 내에서 유지되는 동안, 일어나게 하고;
    상기 순차적으로 시프트된 배치가 상기 임계값을 초과할 때 상기 필터 엘리먼트의 배치가 상기 임계값 내에서 시프트되게, 퇴적 로케이션들을 선택하도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
29. 제 28 항에 있어서,
    상기 제어기는, 적어도 인접한 퇴적 로케이션들 사이의 간격 만큼 상기 범위들에 대해 시프트된 퇴적 로케이션들을 선택함으로써, 상기 필터 엘리먼트의 배치가 시프트백되게 퇴적 로케이션들을 선택하도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
30. 제 28 항에 있어서,
    상기 제어기는 상기 임계값에 무작위 변경을 도입하도록 동작가능하게 구성되며,
    상기 무작위 변경은 후속 픽셀들에서 상기 필터 엘리먼트들의 상기 순차적으로 시프트된 배치로 인해 필터 엘리먼트 배치에서 일어나는 규칙적인 패턴들을 교란하도록 동작가능한, 디지털 이미징 시스템.
31. 제 28 항에 있어서,
    상기 제어기는,
    복수의 착색된 필터 재료들 중 하나를 수용할 픽셀들을 상기 복수의 픽셀들에서 식별함으로써 픽셀들을 식별하고,
    후속 픽셀들에서의 상기 필터 엘리먼트들의 상기 순차적으로 시프트된 배치로 인해 필터 엘리먼트 배치에서 일어나는 규칙적인 패턴들을 교란하기 위해, 상기 필터 엘리먼트의 배치가 상기 복수의 착색된 필터 재료들의 각각 사이에서 변경되도록 퇴적 로케이션들을 선택함으로써, 상기 퇴적 로케이션들을 선택하도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
32. 제 27 항에 있어서,
    상기 퇴적 로케이션들은,
    상기 디스플레이 기판들의 제 1 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 1 퇴적 로케이션들; 및
    상기 디스플레이 기판들의 제 2 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 2 퇴적 로케이션들로서, 상기 제 2 퇴적 로케이션들은 상기 제 1 퇴적 로케이션들보다 더 가깝게 이격되는, 상기 제 2 퇴적 로케이션들을 포함하며;
    각각의 식별된 픽셀은 상기 제 1 축의 방향에서 연관된 제 1 축 범위들 및 상기 제 2 축의 방향에서 연관된 제 2 축 범위들을 가지며,
    상기 제 1 및 제 2 축 범위들은 상기 필터 엘리먼트가 배치되는 영역을 한정하며;
    상기 제어기는,
    상기 필터 엘리먼트와 상기 제 1 축 범위들 사이에 증가된 간격을 제공하도록 상기 제 1 퇴적 로케이션들을 선택하고;
    상기 필터 엘리먼트와 상기 제 2 축 범위들 사이에 감소된 간격을 제공하도록 상기 제 2 퇴적 로케이션들을 선택하여, 상기 제 1 퇴적 로케이션 및 제 2 퇴적 로케이션의 선택이 상기 필터 엘리먼트와 연관되는 커버리지 기준을 함께 만족하 도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
33. 제 32 항에 있어서,
    상기 제어기는 상기 필터 엘리먼트의 배치에 무작위 변경을 도입하도록 동작가능하게 구성되며,
    상기 무작위 변경은 상기 선택으로 인해 필터 엘리먼트 배치에서 일어나는 규칙적인 패턴들을 교란하도록 동작가능한, 디지털 이미징 시스템.
34. 제 33 항에 있어서,
    상기 제어기는,
    상기 제 1 축 방향에서의 상기 증가된 간격이 후속 식별된 픽셀들 사이에서 무작위로 변하도록, 상기 제 1 퇴적 로케이션들의 선택에 무작위 변경을 도입함으로써, 상기 필터 엘리먼트의 배치에 상기 무작위 변경을 도입하도록 동작가능하게 구성되며,
    상기 제어기는 상기 필터 엘리먼트와 연관되는 커버리지 기준을 만족하도록 제 2 퇴적 로케이션들을 선택함으로써, 상기 제 2 퇴적 로케이션들을 선택하도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
35. 제 32 항에 있어서,
    상기 디지털 이미징 시스템은 복수의 개별적으로 작동가능한 채널들을 포함하며,
    상기 개별적으로 작동가능한 채널들은 제 1 축을 따라서 일반적으로 정렬되며,
    상기 제어기는 상기 개별적으로 작동가능한 채널들과 연관되는 선택된 별개의 퇴적 로케이션들에서 상기 필터 재료의 퇴적을 일으키도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
36. 제 35 항에 있어서,
    상기 디지털 이미징 시스템은,
    복수의 개별적으로 작동가능한 레이저 빔들을 발생하도록 동작가능하게 구성된 레이저 래디에이션 소스로서, 상기 제어기는 필터 재료 도너 시트로부터 상기 적어도 하나의 디스플레이 기판 상으로 필터 엘리먼트 재료의 퇴적을 일으키기 위해 상기 복수의 구동가능한 레이저 빔들 중 레이저 빔들을 선택적으로 구동하도록 동작가능하게 구성되는, 상기 레이저 래디에이션 소스; 및
    상기 적어도 하나의 디스플레이 기판 상으로 필터 엘리먼트 재료를 퇴적하는 복수의 잉크 젯 노즐들 중 하나를 포함하는, 디지털 이미징 시스템.
37. 제 32 항에 있어서,
    상기 제 2 퇴적 로케이션들은 상기 제 2 축과 일반적으로 정렬된 방향에서 상기 디스플레이 기판들과 상기 디지털 이미징 시스템 사이에 상대적인 변위를 일으킴으로써 상기 제 2 축을 따라서 연장하는 스와쓰에 배치된 선택된 퇴적 로케이션들에서 상기 필터 재료의 퇴적을 용이하게 하는 것과 연관되는, 디지털 이미징 시스템.
38. 제 27 항에 있어서,
    상기 제어기는 상기 필터 엘리먼트의 배치에 무작위 변경을 도입하도록 동작가능하게 구성되며,
    상기 무작위 변경은 인접한 퇴적 로케이션들 사이의 간격으로 인해 각각의 디스플레이 기판 상에서 상기 식별된 픽셀들에서의 필터 엘리먼트 배치에서 일어나는 규칙적인 패턴들을 교란하도록 동작가능한, 디지털 이미징 시스템.
39. 제 27 항에 있어서,
    상기 제어기는 각각의 칼라의 최종적인 필터 엘리먼트들이 각각의 디스플레이 기판을 가로질러 무작위로 분산되도록 복수의 착색된 필터 재료들 중 하나를 수용할 픽셀들을 상기 복수의 픽셀들에서 무작위로 식별함으로써 상기 픽셀들을 식별하도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
40. 제 27 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 디스플레이 기판은 적어도 2개의 디스플레이 기판들을 포함하며,
    상기 퇴적 로케이션들은 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들의 제 1 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 1 퇴적 로케이션들 및 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들의 제 2 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 2 퇴적 로케이션들을 포함하며,
    상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들은 상기 제 2 축을 따라서 연속하여 배치되며,
    상기 제어기는 상기 제 1 및 제 2 축들에 대해 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들의 각각과 연관되는 상기 복수의 픽셀들의 상기 배열을 정의하는 정보를 수신함으로써 상기 방위 정보를 수신하도록 동작가능하게 구성되며,
    상기 제어기는,
    상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 적어도 하나에 대해 상기 제 1 축의 방향에서 상기 복수의 픽셀들과 연관되는 오프셋을 계산하고;
    상기 퇴적 로케이션들의 상기 선택에 의해 보상될 수 없는 상기 오프셋의 잔여 부분을 결정하고;
    상기 제 2 축의 방향에서 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들과 상기 디지털 이미징 시스템 사이에 상대적인 변위를 일으키고;
    상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 상기 적어도 하나 상에 상기 필터 재료의 퇴적을 위한 상기 디지털 이미징 시스템을 위치시키기 위해, 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들에 대해 상기 제 1 축의 방향에서 상기 적어도 하나의 디스플레이 기판과 연관되는 상기 오프셋의 상기 잔여 부분만큼 상기 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 추가로 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
41. 제 40 항에 있어서,
    상기 제어기는 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들 사이에서 이동하는 동안 상기 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 함으로써, 상기 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
42. 제 40 항에 있어서,
    상기 제어기는 제 1 패스에서 상기 제 2 축과 정렬된 제 1 방향으로 상대적인 변위들을 일으키는 것과, 제 2 패스에서 상기 제 1 방향에 반대인 제 2 방향으로 상대적인 변위들을 일으키는 것 사이에 교번함으로써, 상기 제 2 축의 상기 방향에서 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들과 상기 디지털 이미징 시스템 사이에 상대적인 변위를 일으키도록 동작가능하게 구성되며,
    상기 디지털 이미징 시스템은 상기 제 1 패스 상에서 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 제 1 디스플레이 기판 상에, 및 상기 제 2 패스 상에서 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 제 2 디스플레이 기판 상에, 상기 필터 재료의 퇴적이 일어나게, 상기 디지털 이미징 시스템을 제어하도록 동작가능하게 구성되며,
    상기 제어기는 상기 제 1 패스와 상기 제 2 패스 사이에서 방향을 변경하는 동안 상기 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 함으로써 상기 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
43. 제 42 항에 있어서,
    상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들은 상기 제 2 축을 따라서 연속하여 배치된 2개보다 많은 디스플레이 기판들을 포함하며,
    상기 제어기는 상기 제 1 패스 상에서 상기 2개보다 많은 디스플레이 기판들 중 교번하는 디스플레이 기판들 상에, 및 상기 제 2 패스 상에서 상기 2개보다 많은 디스플레이 기판들 중 나머지 디스플레이 기판들 상에, 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 동작가능하게 구성되며,
    상기 제어기는 상기 제 1 패스에서 상기 디스플레이 기판들 중 상기 교번하는 디스플레이 기판들의 적어도 하나 또는 상기 제 2 패스 동안 상기 디스플레이 기판들 중 상기 나머지 디스플레이 기판들 사이에 배치되는 동안 상기 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
44. 제 27 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 디스플레이 기판은 상기 디지털 이미징 시스템의 기판 탑재 표면 상에 개별적으로 배치되며,
    상기 제어기는 상기 디스플레이 기판들의 각각 상에 인디시아를 로케이트함으로써 상기 방위 정보를 발생하도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
45. 제 44 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 디스플레이 기판은 상기 인디시아를 디스플레이하도록 상기 적어도 하나의 디스플레이 기판 상에서 선택된 픽셀들이 구동되도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
46. 제 27 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 디스플레이 기판은 적어도 하나의 공통 기판 층을 갖는 복수의 디스플레이 기판들을 포함하며,
    상기 제어기는 상기 적어도 하나의 공통 기판 층 상에 인디시아를 로케이트함으로써 상기 방위 정보를 발생하도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
47. 제 44 항에 있어서,
    상기 제어기는, 상기 인디시아를 소유하는 상기 적어도 하나의 디스플레이 기판의 부분을 나타내는 이미지 데이터를 캡쳐하고 상기 이미지 데이터를 프로세싱하여 상기 인디시아의 상대적인 로케이션을 결정하도록, 상기 이미징 시스템과 연관되는 카메라가 위치되게 함으로써, 상기 인디시아를 로케이트하도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
48. 제 27 항에 있어서,
    상기 퇴적 로케이션들은 상기 디스플레이 기판들의 제 1 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 1 퇴적 로케이션들 및 상기 디스플레이 기판들의 제 2 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 2 퇴적 로케이션들을 포함하며,
    상기 제어기는,
    제 1 패스에서 상기 제 2 축과 정렬된 제 1 방향으로 상대적인 변위들을 일으키는 것과, 제 2 패스에서 상기 제 1 방향과 반대인 방향으로 상대적인 변위들을 일으키는 것 사이에 교번하고;
    상기 제 1 패스 동안 제 1 복수의 상기 선택된 퇴적 로케이션들에서 상기 필터 재료의 퇴적을 일으키고;
    상기 제 2 패스 동안 제 2 복수의 상기 선택된 퇴적 로케이션들에서 상기 필터 재료의 퇴적을 일으킴으로써, 상기 디지털 이미징 시스템을 제어하도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
49. 제 48 항에 있어서,
    상기 제 1 복수의 상기 선택된 퇴적 로케이션들은 상기 제 1 축을 따라서 교번하는 선택된 퇴적 로케이션들을 포함하며,
    상기 제 2 복수의 상기 선택된 퇴적 로케이션들은 상기 제 1 축을 따라서 나머지 선택된 퇴적 로케이션들을 포함하는, 디지털 이미징 시스템.
50. 제 49 항에 있어서,
    상기 제어기는 상기 제 1 축의 방향에서 상기 제 1 패스와 상기 제 2 패스 사이에 상기 이미징 시스템을 배치하도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
51. 복수의 퇴적 로케이션들에 필터 재료를 선택적으로 퇴적하도록 동작가능한 디지털 이미징 시스템을 이용하여 적어도 2개의 디스플레이 기판들 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법으로서,
    상기 퇴적 로케이션들은 상기 디스플레이 기판들의 제 1 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 1 퇴적 로케이션들 및 상기 디스플레이 기판들의 제 2 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 2 퇴적 로케이션들을 포함하며,
    상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들은 상기 제 2 축을 따라서 연속하여 배치되며,
    상기 방법은,
    상기 제 1 및 제 2 축들에 대한 상기 디스플레이 기판들의 각각과 연관되는 복수의 픽셀들의 배열을 정의하는 방위 정보를 수신하는 단계;
    픽셀 상에 필터 엘리먼트를 형성하기 위해 필터 재료를 수용할 픽셀들을 상기 복수의 픽셀들에서 식별하는 단계;
    상기 픽셀 내에서 상기 필터 엘리먼트의 배치와 연관되는 정렬 기준을 만족하도록, 상기 방위 정보에 따라서 상기 식별된 픽셀들의 각각 내에서 퇴적 로케이션들을 선택하는 단계;
    상기 디스플레이 기판들의 적어도 하나에 대해 상기 제 1 축의 방향에서 상기 복수의 픽셀들과 연관되는 오프셋을 계산하는 단계;
    상기 퇴적 로케이션들의 상기 선택에 의해 보상될 수 없는 상기 오프셋의 잔여 부분을 결정하는 단계;
    제 1 패스에서 상기 제 2 축과 정렬된 제 1 방향에서, 및 제 2 패스에서 상기 제 1 방향에 반대인 제 2 방향에서, 상기 디스플레이 기판들과 상기 디지털 이미징 시스템 사이에 각각의 상대적인 변위들을 일으키고; 상기 제 1 패스 동안 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 교번하는 디스플레이 기판들 상에 필터 재료의 퇴적을 일으키고 상기 제 2 패스 상에서 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 나머지 디스플레이 기판들 상에 필터 재료의 퇴적을 일으키고; 그리고 상기 제 1 패스에서 상기 디스플레이 기판들 중 상기 교번하는 디스플레이 기판들의 적어도 하나 또는 상기 제 2 패스 동안 상기 디스플레이 기판들 중 상기 나머지 디스플레이 기판들 사이에 배치되는 동안, 상기 오프셋의 상기 잔여 부분만큼 상기 디스플레이 기판들에 대해 상기 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 함으로써, 상기 선택된 퇴적 로케이션들에서 상기 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 상기 디지털 이미징 시스템을 제어하는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
52. 복수의 퇴적 로케이션들에 필터 재료를 선택적으로 퇴적함으로써 적어도 2개의 디스플레이 기판들 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 디지털 이미징 시스템으로서,
    상기 퇴적 로케이션들은 상기 디스플레이 기판들의 제 1 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 1 퇴적 로케이션들 및 상기 디스플레이 기판들의 제 2 축을 따라서 일반적으로 정렬된 제 2 퇴적 로케이션들을 포함하며,
    상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들은 상기 제 2 축을 따라서 연속하여 배치되며,
    상기 디지털 이미징 시스템은,
    상기 제 1 및 제 2 축들에 대한 상기 디스플레이 기판들의 각각과 연관되는 복수의 픽셀들의 배열을 정의하는 방위 정보를 수신하고;
    픽셀 상에 필터 엘리먼트를 형성하기 위해 필터 재료를 수용할 픽셀들을 상기 복수의 픽셀들에서 식별하고;
    상기 픽셀 내에서 상기 필터 엘리먼트의 배치와 연관되는 정렬 기준을 만족하도록, 상기 방위 정보에 따라서 상기 식별된 픽셀들의 각각 내에서 퇴적 로케이션들을 선택하고;
    상기 디스플레이 기판들의 적어도 하나에 대해 상기 제 1 축의 방향에서 상기 복수의 픽셀들과 연관되는 오프셋을 계산하고;
    상기 퇴적 로케이션들의 상기 선택에 의해 보상될 수 없는 상기 오프셋의 잔여 부분을 결정하고;
    제 1 패스에서 상기 제 2 축과 정렬된 제 1 방향에서, 및 제 2 패스에서 상기 제 1 방향에 반대인 제 2 방향에서, 상기 디스플레이 기판들과 상기 디지털 이미징 시스템 사이에 각각의 상대적인 변위들을 일으키고; 상기 제 1 패스 동안 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 교번하는 디스플레이 기판들 상에 필터 재료의 퇴적을 일으키고 상기 제 2 패스 상에서 상기 적어도 2개의 디스플레이 기판들 중 나머지 디스플레이 기판들 상에 필터 재료의 퇴적을 일으키고; 그리고 상기 제 1 패스에서 상기 디스플레이 기판들 중 상기 교번하는 디스플레이 기판들의 적어도 하나 또는 상기 제 2 패스 동안 상기 디스플레이 기판들 중 상기 나머지 디스플레이 기판들 사이에 배치되는 동안, 상기 오프셋의 상기 잔여 부분만큼 상기 디스플레이 기판들에 대해 상기 디지털 이미징 시스템이 재위치되도록 함으로써, 상기 선택된 퇴적 로케이션들에서 상기 필터 재료의 퇴적이 일어나게 상기 디지털 이미징 시스템을 제어하도록 동작가능하게 구성되는 제어기를 포함하는, 디지털 이미징 시스템.
53. 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법으로서,
    상기 기판은 이후 디스플레이를 형성하기 위해 디스플레이 기판에 정렬되며,
    상기 방법은,
    상기 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하기 위해 필터 재료를 수용하는 로케이션들을 선택하는 단계;
    상기 필터 엘리먼트들의 배치에 무작위 변경을 도입하는 단계; 및
    상기 선택된 로케이션들에 필터 엘리먼트들을 형성하는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
54. 제 53 항에 기재된 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법을 실행하도록 제어기 프로세서 회로에게 지시하는 코드들로 인코딩된, 컴퓨터 판독가능 매체.
55. 제 53 항에 기재된 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법에 따라서 형성된 필터 엘리먼트들을 갖는, 디스플레이 장치.
56. 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 시스템으로서,
    상기 기판은 이후 디스플레이를 형성하기 위해 디스플레이 기판에 정렬되며,
    상기 시스템은,
    상기 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하기 위해 필터 재료를 수용하는 로케이션들을 선택하고;
    상기 필터 엘리먼트들의 배치에 무작위 변경을 도입하고;
    상기 선택된 로케이션들에 상기 시스템이 필터 엘리먼트들을 형성하도록 동작가능하게 구성된 제어기를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 시스템.
57. 디스플레이 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법으로서,
    상기 디스플레이 기판과 연관되는 복수의 픽셀들 상에 상기 필터 엘리먼트들을 형성하기 위해 필터 재료를 선택적으로 퇴적하는 단계; 및
    상기 퇴적된 필터 재료를 컨디셔닝하기 위해, 상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션 (thermal laser radiation) 에 선택적으로 노출시키는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
58. 제 57 항에 있어서,
    상기 선택적으로 퇴적하는 단계는 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스로부터 래디에이션을 수신하는 것에 응답하여 도너로부터 상기 디스플레이 기판으로 필터 재료가 전사되도록 하는 단계를 포함하고,
    상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계는 상기 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스에 의해 상기 퇴적된 필터 재료를 래디에이션에 노출시키는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
59. 제 58 항에 있어서,
    상기 도너로부터 상기 디스플레이 기판으로 필터 재료가 전사되도록 하는 단계는 복수의 도너들에 대해 상기 도너로부터 상기 디스플레이 기판으로 필터 재료가 전사되도록 하는 단계를 포함하며,
    상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계는 상기 복수의 도너들의 각각으로부터의 재료의 전사의 완료 시 상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
60. 제 57 항에 있어서,
    상기 필터 재료를 선택적으로 퇴적하는 단계는 상기 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스를 제어하는 단계를 포함하며,
    상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계는 상기 디스플레이 기판을 상기 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스에 의해 발생된 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
61. 제 57 항에 있어서,
    상기 필터 재료를 선택적으로 퇴적하는 단계는 상기 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 제 1 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스를 제어하는 단계를 포함하며,
    상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계는 상기 디스플레이 기판을 제 2 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스에 의해 발생된 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
62. 제 60 항에 있어서,
    상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 선택적으로 노출시키기 전에, 상기 레이저 소스와 연관되는 동작 강도를 변경하는 단계를 더 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
63. 제 57 항에 있어서,
    상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 노출시키는 단계는 상기 퇴적된 필터 재료를 가진 디스플레이 기판의 부분들을 열적 레이저 래디에이션에 선택적으로 노출시키는 단계를 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
64. 제 63 항에 있어서,
    상기 필터 엘리먼트들은 칼라 필터 엘리먼트들을 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
65. 제 64 항에 있어서,
    상기 칼라 필터 엘리먼트들은 반사형 디스플레이 기판 상의 칼라 필터 엘리먼트들을 포함하는, 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법.
66. 제 57 항 내지 제 65 항 중 어느 한 항에 기재된 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법을 실행하도록 제어기 프로세서 회로에게 지시하는 코드들로 인코딩된, 컴퓨터 판독가능 매체.
67. 제 57 항 내지 제 65 항 중 어느 한 항에 기재된 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법에 따라서 형성된 필터 엘리먼트들을 갖는, 디스플레이 장치.
68. 디스플레이 기판 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 디지털 이미징 시스템으로서,
    상기 디지털 이미징 시스템은,
    상기 디지털 이미징 시스템으로 하여금,
    상기 디스플레이 기판과 연관되는 복수의 픽셀들 상에 상기 필터 엘리먼트들을 형성하기 위해 필터 재료를 선택적으로 퇴적하게 하고;
    상기 퇴적된 필터 재료를 컨디셔닝하기 위해 상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 선택적으로 노출시키게 하도록
    동작가능하게 구성된 제어기를 포함하는, 디지털 이미징 시스템.
69. 제 68 항에 있어서,
    상기 제어기는, 상기 디지털 이미징 시스템이 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스로부터 래디에이션을 수신하는 것에 응답하여 도너로부터 상기 디스플레이 기판으로 필터 재료가 전사되도록 함으로써 필터 재료를 선택적으로 퇴적하도록 동작가능하게 구성되며,
    상기 제어기는, 상기 디지털 이미징 시스템이, 상기 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스에 의해 상기 퇴적된 필터 재료를 래디에이션에 노출시킴으로써, 상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 선택적으로 노출시키도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
70. 제 69 항에 있어서,
    상기 제어기는, 상기 디지털 이미징 시스템으로 하여금, 복수의 도너들에 대해 상기 도너로부터 상기 디스플레이 기판으로 필터 재료가 전사되도록 함으로써, 상기 도너로부터 상기 디스플레이 기판으로 필터 재료가 전사되게 하도록 동작가능하게 구성되며,
    상기 제어기는, 상기 디지털 이미징 시스템으로 하여금, 상기 복수의 도너들의 각각으로부터의 재료의 전사의 완료 시 상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 선택적으로 노출시킴으로써, 상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 선택적으로 노출시키게 하도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
71. 제 68 항에 있어서,
    상기 제어기는, 상기 디지털 이미징 시스템으로 하여금, 상기 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스를 제어함으로써 필터 재료를 선택적으로 퇴적하게 하고, 그리고 상기 디스플레이 기판을 상기 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스에 의해 발생된 열적 레이저 래디에이션에 노출시킴으로써, 상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 선택적으로 노출시키게 하도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
72. 제 68 항에 있어서,
    상기 제어기는,
    상기 디지털 이미징 시스템으로 하여금,
    상기 필터 재료의 퇴적을 야기하도록 제 1 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스를 제어함으로써 필터 재료를 선택적으로 퇴적하게 하고,
    상기 디스플레이 기판을 제 2 이미지 방식으로 제어가능한 레이저 소스에 의해 발생된 열적 레이저 래디에이션에 노출시킴으로써 상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 선택적으로 노출시키게 하도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
73. 제 71 항에 있어서,
    상기 제어기는, 상기 디지털 이미징 시스템으로 하여금, 상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 선택적으로 노출시키기 전에, 상기 레이저 소스와 연관되는 동작 강도를 변경하게 하도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
74. 제 68 항에 있어서,
    상기 제어기는, 상기 디지털 이미징 시스템으로 하여금, 상기 퇴적된 필터 재료를 가진 디스플레이 기판의 부분들을 열적 레이저 래디에이션에 선택적으로 노출시킴으로써 상기 퇴적된 필터 재료를 열적 레이저 래디에이션에 노출시키게 하도록 동작가능하게 구성되는, 디지털 이미징 시스템.
75. 제 74 항에 있어서,
    상기 필터 엘리먼트들은 칼라 필터 엘리먼트들을 포함하는, 디지털 이미징 시스템.
76. 제 75 항에 있어서,
    상기 칼라 필터 엘리먼트들은 반사형 디스플레이 기판 상의 칼라 필터 엘리먼트들을 포함하는, 디지털 이미징 시스템.

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