JP2010525406A - 帯状画像片の間隔を調節することによる、特徴パターンの位置合わせ - Google Patents
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 428
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 125
- 238000003491 array Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 125
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 47
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 35
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 14
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 11
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 2
- 108091006146 Channels Proteins 0.000 description 145
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 62
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 47
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 230000008859 change Effects 0.000 description 11
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 10
- 230000006870 function Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 description 4
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 4
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 3
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 3
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000004807 localization Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 2
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000004883 computer application Methods 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007687 exposure technique Methods 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 1
- 238000001931 thermography Methods 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/025—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein by transferring ink from the master sheet
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
- G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
Description
他の従来技術のシステムは、画像を完了するために要する時間を削減するために並列に、数百の個々に変調されたビームを使用している。前述の「チャネル」を多数有する撮像ヘッドは容易に入手可能である。例えば、コダック・グラフィック・コミュニケーション・カナダ社(カナダ国ブリティッシュ・コロンビア州)によって製造されるSQUAREspot(登録商標)モデルの熱撮像ヘッドは、独立した数百のチャネルを有する。各チャネルは、25mWを越える電力を有し得る。撮像チャネル・アレイは、連続した画像を形成するよう近接して配置された一連の帯状画像片を書き込むよう制御することが可能である。
図9Cは、連係された動きはエッジ204及び206を備えた画像200Bの形成をもたらしているが、画像200Bのエッジ208及び210は位置合わせ領域47Eとなお、位置合わせされていないことを示す。図9Dは、撮像ヘッド26Cにおける種々のチャネルの起動タイミングが、位置合わせ領域47Eと位置が合わせられ、所望の画像200と特性がほぼ近い撮像領域200Cを生成するよう変えられる工程を示す。チャネルは、画像データに基づいて撮像ビームを発出するよう、又は発出しないよう起動される。しかし、撮像ビームを発出するか、又は発出しないようチャネルを起動させることが可能な実際の時間は、チャネルの起動タイミングを調節することによって進めるか、又は遅らせることが可能である。起動タイミングの変更を使用して、複数の撮像領域の位置を互いに異ならせることが可能である。起動タイミングの変更を使用して、撮像領域の位置及び非撮像領域の位置を互いに異ならせることが可能である。
プロッタ精度は、色特徴226及び228を撮像するために使用される撮像システムの精度を表す。この精度は、ビーム探索器精度、撮像ビームのドリフト、形成される画像のエッジの粗さ、及び撮像中の撮像ヘッド26Dの配置に関連付けられた機械的な反復可能性によって影響を受け得る。プロッタ精度の一般的な値の範囲は、+/−2.5ミクロンであり得る。
撮像反復可能性は、その意図された位置において色要素226及び228を位置特定することの反復可能性を表す。撮像反復可能性は、形成される画像のエッジの粗さ、ビーム・ドリフト、撮像中の撮像ヘッド26Dの配置に関連付けられた機械的な反復可能性によって影響を受け得る。最小ギャップ(MG)を5ミクロンにするための、撮像反復可能性の一般的な値の範囲は、+/−2.5ミクロンである。
アドレス指定可能性は、撮像ヘッド26Dによって撮像される画素サイズ特性を表す。この特定のケースでは、アドレス指定可能性は、主走査方向における画素サイズ特性(すなわち、主走査アドレス指定可能性)を表す。主走査アドレス指定可能性は、撮像ビームを誘導するにつれ、撮像チャネル40の露光タイミングを調節することによって変えることが可能である。特定の撮像ビームが媒体と相互作用する時間の長さを変えることにより、媒体が露光される速度が変わり、それにより、走査方向に沿って画素のサイズが変わる。この場合、チャネル40の露光タイミングは、動きシステム59に関連付けられた主走査符号化器に対して調節することが可能である。ディジタル合成位相ロック・ループは、主走査符号化器を使用して撮像タイミングを制御するために使用することが可能である。ループにおけるパラメータの調節は、主走査のアドレス指定可能性の厳密な制御をもたらし、走査方向に沿って撮像画素のサイズを変えるために使用することが可能である。本発明の種々の例示的な実施例では、走査方向に沿った画素のサイズを種々の理由で調節する。例えば、各セルにおける着色剤の一貫した配置を確実にするためにマトリクス20の各セル34における走査方向に沿って整数の数の画素を撮像することが好ましい。位置における如何なる体系的変動も、バンディングなどの画像アーチファクトをもたらし得る。画素のサイズは、位置合わせサブ領域のパターンとほぼ位置合わせされて特徴パターンを形成するよう調節することが可能である。それぞれが一様にマトリクス部分230に重なってMRO及びMGの要件を容易にするためにほぼ走査方向に沿って種々の特徴のサイズを適切に合わせることが好ましい。特徴パターンの間隔が、走査方向に沿ったマトリクス・セル34の間隔に一致するように、走査方向に沿って種々の特徴のサイズを適切に合わせることが好ましい。本発明の種々の例示的な実施例では、走査方向に沿った画素のサイズは、主走査の分解能を変えることにより、変える。カラー・フィルタなどのアプリケーションでは、約5ミクロン以下の主走査アドレス指定可能性が望ましい。本発明の一部の例示的な実施例では、主走査アドレス指定可能性は、位置合わせサブ領域のパターンに応じて調節される。本発明の一部の例示的な実施例では、主走査アドレス指定可能性は、非整数値を有するよう調節される。
上記一般的な値を使用することにより、最小マトリクス線幅(W)は18ミクロン(すなわち、5ミクロン+(2×4ミクロン)+5ミクロン)であると推定することが可能である。一部の従来のカラー・フィルタは、約20乃至24ミクロンのマトリクス線幅を有する。前述の従来の値よりも小さなマトリクス線幅を備えたカラー・フィルタを生成することが望ましい。
Claims (40)
- 反復するサブ領域パターンを備えた位置合わせ領域に、反復する特徴パターンを位置合わせされた関係で撮像する方法であって、
前記反復するサブ領域パターンの間隔を求める工程と、
個々にアドレス指定可能なチャネル・アレイを備えた撮像ヘッドを動作させて、媒体上に帯状画像片を形成するよう撮像ビームを誘導する工程と、
前記媒体上に前記帯状画像片を形成しながら、前記反復する特徴パターンを撮像するよう、前記個々にアドレス指定可能なチャネルを制御する工程と、
前記帯状画像片に略垂直の方向において、前記反復するサブ領域パターンの間隔にほぼ等しくなるよう、前記反復する特徴パターンの間隔を調節する工程と
を含む方法。 - 請求項1記載の方法であって、前記反復するサブ領域パターンの間隔にほぼ等しくなるよう前記反復する特徴パターンの間隔を調節するよう前記帯状画像片のサイズを調節する工程を含む方法。
- 反復するサブ領域パターンを備えた位置合わせ領域に、反復する特徴パターンを位置合わせされた関係で、画素によって撮像する方法であって、
前記反復するサブ領域パターンの間隔を求める工程と、
前記画素のサイズを調節する工程と、
個々にアドレス指定可能なチャネル・アレイを備えた撮像ヘッドを動作させて、媒体上に帯状画像片を形成するよう撮像ビームを誘導する工程であって、前記撮像ビームそれぞれは、前記媒体上に前記画素を撮像するよう動作可能である工程と、
前記媒体上に前記帯状画像片を形成しながら、前記反復する特徴パターンを撮像するよう、前記個々にアドレス指定可能なチャネルを制御する工程と、
前記帯状画像片に略垂直の方向において、前記反復するサブ領域パターンの間隔にほぼ等しくなるよう、前記反復する特徴パターンの間隔を調節する工程と
を含む方法。 - 請求項1記載の方法であって、前記反復するサブ領域パターンの間隔にほぼ等しくなるよう前記反復する特徴パターンの間隔を調節するよう前記撮像ビームのサイズを調節する工程を含む方法。
- 請求項3記載の方法であって、前記反復するサブ領域パターンの間隔にほぼ等しくなるよう前記反復する特徴パターンの間隔を調節する工程は、前記反復するサブ領域パターンに対して前記個々にアドレス指定可能なチャネル・アレイを回転させる工程を含む方法。
- 請求項1記載の方法であって、前記撮像ビームは走査経路に沿って走査され、前記反復するサブ領域パターンは前記走査経路に対して曲がっており、
前記反復するサブ領域パターンの間隔を求める工程は、前記反復するサブ領域パターンの有効間隔を求める工程を含み、
前記反復するサブ領域パターンの間隔に等しくなるよう前記撮像された反復する特徴パターンの間隔を調節する工程は、前記反復するサブ領域パターンの有効間隔にほぼ等しくなるよう前記撮像された反復する特徴パターンの有効間隔を調節する工程を含む方法。 - 請求項1記載の方法であって、前記反復するサブ領域パターンは前記個々にアドレス指定可能なチャネル・アレイの軸に対して曲がっており、
前記反復するサブ領域パターンの間隔を求める工程は、前記反復するサブ領域パターンの有効間隔を求める工程を含み、
前記反復するサブ領域パターンの間隔に等しくなるよう前記反復する特徴パターンの間隔を調節する工程は、前記反復するサブ領域パターンの有効間隔にほぼ等しくなるよう前記反復する特徴パターンの有効間隔を調節する工程を含む方法。 - 請求項1記載の方法であって、前記撮像ヘッドは、撮像線を形成するよう撮像ビームを誘導するよう複数のチャネルを制御するよう動作可能であり、前記反復するサブ領域パターンは前記撮像線に対して曲がっており、
前記反復するサブ領域パターンの間隔を求める工程は、前記撮像線に平行の方向に沿って前記サブ領域の有効間隔を求める工程を含み、
前記反復するサブ領域パターンの間隔にほぼ等しくなるよう前記反復する特徴パターンの間隔を調節する工程は、前記反復するサブ領域パターンの有効間隔にほぼ等しくなるよう前記撮像された反復する特徴パターンの有効間隔を調節する工程を含む方法。 - 請求項1記載の方法であって、前記反復するサブ領域パターンの間隔にほぼ等しくなるよう前記反復する特徴パターンの間隔を調節する工程は、前記帯状画像片のサイズをズーム機構によって変える工程を含む方法。
- 請求項4記載の方法であって、前記撮像ビームのサイズをズーム機構によって調節する工程を含む方法。
- 請求項1記載の方法であって、前記反復するサブ領域パターンの間隔を求める工程は、前記反復する位置合わせ領域パターンの間隔を測定する工程を含む方法。
- 請求項1記載の方法であって、前記帯状画像片の幅を測定する工程を含む方法。
- 請求項5記載の方法であって、前記撮像ヘッドは、撮像線を形成するよう撮像ビームを誘導するよう複数のチャネルを制御するよう動作可能であり、前記反復するサブ領域パターンは前記撮像線に対して特定の角度だけ、曲がっており、前記方法は、前記角度を補償するよう撮像ヘッドを更に回転させる工程を含む方法。
- 請求項3記載の方法であって、前記反復する特徴パターンは、カラー・フィルタの、反復する色特徴パターンを含み、前記位置合わせ領域はマトリクスを含む方法。
- 請求項14記載の方法であって、前記カラー・フィルタは、複数の色特徴パターンを含み、色特徴パターンはそれぞれ、特定の色に対応し、前記方法は、前記色特徴パターンそれぞれを別個に撮像する工程を含む方法。
- 請求項1記載の方法であって、前記反復する特徴パターンを撮像する工程は、レーザ誘起された熱転写処理において前記反復する特徴パターンを撮像する工程を含む方法。
- 請求項16記載の方法であって、前記レーザ誘起された熱転写処理はレーザ誘起された転染処理を含む方法。
- 請求項16記載の方法であって、前記レーザ誘起された熱転写処理はレーザ誘起された物質移動処理を含む方法。
- 請求項1記載の方法であって、前記反復する特徴パターンを撮像する工程は、ドナー素子から受取器素子に画像形成材料を転写する工程を含む方法。
- 請求項1記載の方法であって、前記反復する特徴パターンを撮像する工程は、着色剤及び結合剤を前記媒体に転写する工程を含む方法。
- 請求項3記載の方法であって、前記反復する特徴パターンを撮像する工程は、反復する島の特徴のパターンを撮像する工程を含む方法。
- 請求項21記載の方法であって、前記反復する島の特徴のパターンは、第1の色の特徴のうちの第1の複数の特徴を含み、前記第1の複数の特徴のうちの一部の特徴は、前記第1の色の一部の他の特徴と、別の色の特徴により、分離される方法。
- 請求項21記載の方法であって、前記反復する島の特徴のパターンは、第1の色の特徴のうちの第1の複数の特徴を含み、前記第1の複数の特徴のうちの一部の特徴は、前記第1の色の一部の他の特徴と、第1の方向において別の色の特徴により、分離される方法。
- 請求項21記載の方法であって、前記反復する島の特徴のパターンは、第1の色の特徴のうちの第1の複数の特徴を含み、前記第1の複数の特徴のうちの一部の特徴は、前記第1の色の一部の他の特徴と、第1の方向において、かつ、前記第1の方向に垂直の第2の方向において、前記第1の色とは別の色の特徴により、分離される方法。
- コントローラによって実行されると、
反復するサブ領域パターンの間隔を求める機能と、媒体上に帯状画像片を形成するよう撮像ビームを誘導するよう、個々にアドレス指定可能なチャネル・アレイを備えた撮像ヘッドを動作させる機能と、
前記反復する特徴パターンを撮像するよう前記帯状画像片を前記媒体上に形成しながら、前記個々にアドレス指定可能なチャネルを制御する機能と、
前記帯状画像片に略垂直の方向において、前記媒体上の反復するサブ領域パターンの間隔にほぼ等しくなるよう前記反復する特徴パターンの間隔を調節する機能と
を前記コントローラに行わせる命令を備えたコンピュータ読み取り可能な信号の組を収容するプログラム・プロダクト。 - 請求項1記載の方法であって、前記反復するサブ領域パターンはマトリクスを備え、前記反復する特徴パターンは色特徴パターンを備える方法。
- 請求項26記載の方法であって、前記色特徴パターンは、カラー・フィルタの一部分を形成する方法。
- 請求項26記載の方法であって、前記色特徴パターンは、着色照射源のパターンを形成する方法。
- 請求項28記載の方法であって、前記着色照射源はOLED材料を備える方法。
- 請求項3記載の方法であって、前記帯状片に略垂直の方向において、前記反復するサブ領域パターンの間隔にほぼ等しくなるよう前記反復する特徴パターンの間隔を調節する工程は、前記画素のサイズを調節する工程を含む方法。
- 請求項3記載の方法であって、前記画素のサイズを調節する工程は、前記帯状画像片に略垂直の方向において、前記画素のサイズを調節する工程を含む方法。
- 請求項3記載の方法であって、前記画素のサイズを調節する工程は、主走査方向における前記画素のサイズと無関係にサブ走査方向における前記画素のサイズを調節する工程を含む方法。
- 請求項3記載の方法であって、前記画素のサイズを調節する工程は、主走査方向における前記画素のサイズと違ったふうにサブ走査方向における前記画素のサイズを調節する工程を含む方法。
- 請求項3記載の方法であって、前記画素のサイズを調節する工程は、第2の方向に沿った前記画素のサイズと無関係に第1の方向に沿った前記画素のサイズを調節する工程を含む方法。
- 請求項3記載の方法であって、前記画素のサイズを調節する工程は、第2の方向に沿った前記画素のサイズとは違ったふうに第1の方向に沿った前記画素のサイズを調節する工程を含み、前記第2の方向は、前記第1の方向に対してほぼ垂直である方法。
- 請求項3記載の方法であって、前記画素のサイズを調節する工程により、第2の方向に沿ったサイズとは異なる、第1の方向に沿ったサイズを備えた画素が形成され、前記第2の方向は前記第1の方向に対してほぼ垂直である方法。
- 請求項3記載の方法であって、前記画素のサイズを調節する工程は、前記反復するサブ領域パターンに対して、前記個々にアドレス指定可能なチャネル・アレイを回転させる工程を含む方法。
- 請求項3記載の方法であって、前記画素のサイズをズーム機構によって調節する工程を含む方法。
- 請求項8記載の方法であって、前記媒体上の前記撮像線を走査することにより、特徴を撮像する工程を含む方法。
- コントローラによって実行されると、
個々にアドレス指定可能なチャネル・アレイを備えた撮像ヘッドを動作させて、媒体上に帯状画像片を形成するよう撮像ビームを誘導する機能であって、前記撮像ビームそれぞれは、前記媒体上に画素を撮像するよう動作可能である機能と、
前記媒体上に前記帯状画像片を形成しながら、前記反復する特徴パターンを撮像するよう、前記個々にアドレス指定可能なチャネルを制御する機能と、
前記帯状画像片にほぼ垂直な方向において前記反復するサブ領域パターンの間隔にほぼ等しくなるよう、前記反復する特徴パターンの間隔を調節するよう前記画素のサイズを調節する機能と
を前記コントローラに行わせる命令を備えたコンピュータ読み取り可能な信号の組を収容するプログラム・プロダクト。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/IB2007/001090 WO2008132528A1 (en) | 2007-04-26 | 2007-04-26 | Registering patterns of features by adjusting the pitch of image swaths |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010525406A true JP2010525406A (ja) | 2010-07-22 |
Family
ID=39925239
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010504873A Pending JP2010525406A (ja) | 2007-04-26 | 2007-04-26 | 帯状画像片の間隔を調節することによる、特徴パターンの位置合わせ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8619109B2 (ja) |
JP (1) | JP2010525406A (ja) |
KR (1) | KR20100015937A (ja) |
WO (1) | WO2008132528A1 (ja) |
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US8305648B2 (en) * | 2009-05-29 | 2012-11-06 | Eastman Kodak Company | Adjusting the calibration of an imaging system |
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- 2007-04-26 US US12/596,842 patent/US8619109B2/en active Active
- 2007-04-26 JP JP2010504873A patent/JP2010525406A/ja active Pending
- 2007-04-26 KR KR1020097022403A patent/KR20100015937A/ko not_active Application Discontinuation
- 2007-04-26 WO PCT/IB2007/001090 patent/WO2008132528A1/en active Application Filing
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Also Published As
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---|---|
US8619109B2 (en) | 2013-12-31 |
KR20100015937A (ko) | 2010-02-12 |
US20100084541A1 (en) | 2010-04-08 |
WO2008132528A1 (en) | 2008-11-06 |
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