KR20100015942A - 이미지 형성 방법 및 프로그램 제품 - Google Patents

이미지 형성 방법 및 프로그램 제품 Download PDF

Info

Publication number
KR20100015942A
KR20100015942A KR1020097022410A KR20097022410A KR20100015942A KR 20100015942 A KR20100015942 A KR 20100015942A KR 1020097022410 A KR1020097022410 A KR 1020097022410A KR 20097022410 A KR20097022410 A KR 20097022410A KR 20100015942 A KR20100015942 A KR 20100015942A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
imaging
image
image formation
registration
formation method
Prior art date
Application number
KR1020097022410A
Other languages
English (en)
Inventor
그레그 페레그림
가이 서튼
Original Assignee
코닥 그래픽 커뮤니케이션즈 캐나다 캄파니
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코닥 그래픽 커뮤니케이션즈 캐나다 캄파니 filed Critical 코닥 그래픽 커뮤니케이션즈 캐나다 캄파니
Publication of KR20100015942A publication Critical patent/KR20100015942A/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/025—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein by transferring ink from the master sheet
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
    • B41J2/475—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material for heating selectively by radiation or ultrasonic waves
    • B41J2/4753—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material for heating selectively by radiation or ultrasonic waves using thermosensitive substrates, e.g. paper
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Studio Devices (AREA)

Abstract

미디어 상에 패턴을 이미징하는 방법이 제공된다. 이 방법의 단계는 개별 어드레스 지정가능 채널을 갖는 제 1 이미징 헤드를 동작시켜 스캔 경로를 따라 미디어 위에서 스캐닝하는 동안에 미디어 상에 제 1 이미지를 형성하는 단계를 포함한다. 개별 어드레스 지정가능 채널을 갖는 제 2 이미징 헤드가 동작하며, 그와 동시에 또는 다른 시간에 제 2 스캔 경로를 따라 미디어 위에서 스캐닝하는 동안 미디어 상에 제 2 이미지를 형성하도록 이미징 빔의 방향을 지정한다. 제 1 스캔 경로는 제 2 스캔 경로와 평행할 수도 있고 또는 평행하지 않을 수도 있으며, 제 1 이미지는 제 2 이미지에 정렬될 수도 있고 또는 정렬되지 않을 수도 있다는 것이 가능하다. 제 1 이미지는 제 2 이미지에 대해 스큐될 수도 있고 또는 스큐되지 않을 수도 있다.

Description

이미지 형성 방법 및 프로그램 제품{IMAGING A PLURALITY OF IMAGES USING A PLURALITY OF NON-PARALLEL SCAN PATHS}
본 발명은 피처를 형성하는 이미징 시스템 및 방법에 관한 것이다. 본 발명은 예컨대 전자 디스플레이용 컬러 필터를 제조하는 데에도 적용될 수 있다.
디스플레이 패널에 사용되는 컬러 필터는 일반적으로 다수의 컬러 피처를 포함하는 매트릭스를 포함한다. 컬러 피처는, 예컨대 적색, 녹색 및/또는 청색 컬러 피처의 패턴을 포함할 수 있다. 컬러 필터는 다른 컬러의 컬러 피처를 갖도록 제조될 수 있다. 컬러 피처는 다양한 적합한 구성들 중 임의의 것에 배열될 수 있다. 종래 기술의 스트라이프 구성은, 도 1a에 도시된 바와 같은 교호 적색, 녹색 및 청색 컬러 피처의 열(column)을 갖는다.
도 1a는 미디어 또는 수용 엘리먼트(receiver element)(18)의 전역에 걸쳐서 교호 열로 제각각 형성되는 다수의 적색, 녹색 및 청색 컬러 피처(12, 14, 16)를 구비한 종래 기술의 "스트라이프 구성" 컬러 필터(10)의 일부분을 도시하고 있다. 컬러 피처(12, 14, 16)는 매트릭스(20)의 일부분에 의해 약술된다. 열은 매트릭스 셀(34)(이하, 셀(34)이라 지칭됨)에 의해 개별적인 컬러 피처(12, 14, 16)로 세분되는 기다란 스트라이프로 이미징될 수 있다. 연관된 LCD 패널(도시되지 않음) 상의 TFT 트랜지스터는 매트릭스(20)의 영역(22)에 의해 마스킹될 수 있다.
레이저 유도 열 전사 프로세스는 디스플레이 제조, 특히 컬러 필터 제조 시의 사용을 위해 제안되고 있다. 레이저 유도 열 전자 프로세스가 컬러 필터를 생성하는 데 사용될 때, 수용 엘리먼트라고도 알려져 있는 컬러 필터 기판은 공여 엘리먼트로 오버레이되며, 이 공여 엘리먼트는 이후에 착색제를 공여 엘리먼트(donor element)로부터 수용 엘리먼트로 선택적으로 전사시키도록 이미지를 따라 노출(image-wise expose)된다. 바람직한 노출 방법은 레이저 빔과 같은 방사선 빔을 이용하여 수용 엘리먼트로의 착색제 전사를 유도하는 것이다. 다이오드 레이저는 특히 그들의 변조 용이성, 적은 비용 및 작은 크기로 인해 바람직하다.
레이저 유도 "열 전사" 프로세스는, 레이저 유도 "염료 전사(dye transfer)" 프로세서, 레이저 유도 "용해 전사(melt transfer)" 프로세서, 레이저 유도 "융제 전사(ablation transfer)" 프로세스 및 레이저 유도 "매스 전사(mass transfer)" 프로세스를 포함한다. 레이저 유도 열 전사 프로세스 동안에 전사되는 착색제는 적합한 염료계 또는 안료(pigment)계 조성물을 포함한다. 본 분야에 알려져 있는 바와 같이, 하나 이상의 바인더와 같은 추가 엘리먼트가 전사될 수 있다.
몇몇 일반적인 레이저 이미징 시스템은 제한된 수의 이미징 빔을 채용해 왔다. 다른 통상적인 시스템은 수백 개의 개별적으로 변조된 빔을 병렬로 채용하여, 이미지를 완성하는 데 걸리는 시간을 절약한다. 다수의 이러한 "채널"을 갖는 이 미징 헤드는 용이하게 이용 가능하다. 예를 들어, 캐나라 브리티시 콜롬비아 소재의 코닥 그래픽 통신 캐나라 법인에 의해 제조된 SQUAREspot® 모델 열 이미징 헤드는 수백 개의 독립적인 채널을 갖는다. 각각의 채널은 25 ㎽를 초과하는 파워를 가질 수 있다. 이미징 채널 어레이는, 연속 이미지를 형성하도록 가깝게 인접된 일련의 이미지 스왓(image swaths) 내에 이미지를 기록하도록 제어될 수 있다.
도 1a에 도시된 스트라이프 구성은 컬러 필터 피처의 일 예시적 구성을 예시하고 있다. 컬러 필터는 다른 구성을 가질 수 있다. 모자이크 구성은 각각의 컬러 피처가 "아일랜드"와 공통점이 있도록 양쪽 방향(예컨대, 열 및 행 방향)에서 교대하는 컬러 피처를 갖는다. 델타 구성(도시되지 않음)은 서로에 대해 삼각 관계로 배치되는 적색, 녹색 및 청색 컬러 피처의 그룹을 갖는다. 모자이크 및 델타 구성은, 예컨대 "아일랜드" 구성의 실례이다. 도 1b는 컬러 피처(12, 14, 16)가 열에 배치되고 열을 지나고 열을 따라 교대하는 모자이크 구성으로 배열된 종래 기술의 컬러 필터(10)의 일부분을 도시하고 있다. 다른 컬러 필터 구성도 본 분야에 알려져 있다.
컬러 피처(12, 14, 16) 각각은 매트릭스(20)의 인접 부분들이 오버랩될 수 있다. 컬러 엘리먼트를 갖는 오버랩 매트릭스(20)는 그 엘리먼트들 사이에서 백라이트의 누설을 감소시킬 수 있다. 도 1c는 컬러 피처(12, 14, 16)가 필터의 열을 따라서는 매트릭스(20)의 부분과 충분히 오버랩되지만 필터의 행을 따라서는 매트릭스(20)와 부분적으로 오버랩되는 컬러 스트라이프로부터 형성되는 통상적인 스트라이프 구성 컬러 필터를 개략적으로 도시하고 있다. 도 1d는 각각의 컬러 피 처(12, 14, 16)가 필터의 행 및 열 모두를 가로질러 매트릭스(20)와 부분적으로 제각각 오버랩되는 아일랜드인 통상적인 모자이크 구성 컬러 필터를 개략적으로 도시하고 있다. 컬러 필터와 같은 애플리케이션에서, 최종 생성물의 시각적 품질은 피처의 반복 패턴(예컨대, 컬러 피처 패턴)이 등록 서브영역의 반복 패턴(예컨대, 매트릭스)에 얼마나 정확하게 등록되었는가에 의존한다. 오등록은 희망하지 않는 컬러 조합을 형성할 수 있는 인접 컬러 피처들의 오버랩 및/또는 무색의 공극 형성에 이르게 할 수 있다.
매트릭스 오버랩은 컬러 피처가 매트릭스에 등록되어야 하는 정밀도를 감소시키는 데 도움이 될 수 있다. 그러나, 일반적으로는, 매트릭스가 오버랩될 수 있는 범위에 제한이 있다. 오버랩 수준(및 최종 등록)을 제한할 수 있는 인자는, 컬러 필터의 특정 구성, 매트릭스 라인의 폭, 매트릭스 라인의 거칠기, 백라이트 누설을 방지하는 데 요구되는 최소 오버랩, 및 포스트 어닐링 컬러 피처 감소량을 포함할 수 있으되, 이들로 제한되지는 않는다.
피처를 생성하기 위해 채용되는 특정 방법에 연관된 인자는 오버랩 수준을 제한할 수 있다. 예를 들어, 레이저 이미징 방법이 채용될 때, 레이저 이미저가 컬러 필터를 스캔할 수 있는 정확도는 획득된 최종 등록에 적용 가능할 것이다. 이미징 헤드의 이미징 채널과 연관된 어드레스 지정 가능성은 피처가 이미징될 수 있고 최종 등록에 대한 관계(bearing)를 가질 수 있는 해상도를 규정한다. 이미징 헤드의 스캔 경로에 대한 컬러 필터의 위치 지정도 또한 등록에 대한 관계를 가질 수 있다.
채용되는 레이저 이미징 프로세스도 또한 허용되는 오버랩 수준에 영향을 미칠 수 있다. 예를 들어, 레이저 유도 열 전사 프로세스에서 생성된 이미지의 영상 품질은 전형적으로 공여 엘리먼트로부터 수용 엘리먼트로 전달되는 이미지 형성 재료의 분량에 민감하다. 전달된 이미지 형성 재료의 분량은 전형적으로 공여 엘리먼트와 수용 엘리먼트 간의 간격에 민감하다. 상이한 컬러의 인접 피처들이 매트릭스의 부분들에 걸쳐 오버랩되는 경우, 공여 엘리먼트에서 수용 엘리먼트까지의 간격은 추가의 공여 엘리먼트의 후속 이미징 동안 추가적으로 변동될 것이며, 그에 따라 이들 추가 공여 엘리먼트에 의해 이미징되는 피처의 영상 품질에 영향을 미칠 수 있다. 이와 관련하여, 상이한 컬러의 인접 피처들은 매트릭스 부분에 걸쳐 오버랩되지 않는 것이 바람직하다. 이 요건은 반복 컬러 피처의 패턴과 매트릭스 셀의 반복 패턴 사이에서 요구되는 등록에 대해 추가의 등록 제약을 부과한다.
생산 처리량을 증가시키기 위해, 다수의 컬러 필터 디스플레이는 대개 범용 수용 엘리먼트(18) 상에 형성되고 이어서 레이저 유도 열 전사 기법을 사용하여 상이한 컬러 공여 엘리먼트에 의해 이미징되어 다수의 디스플레이를 이미징한다. 후-이미징, 범용 수용 엘리먼트(18)는 개별 컬러 필터 디스플레이를 형성하도록 분리된다. 매트릭스(20)가 레이저 유도 열 전사 기법에 의해 수용 엘리먼트(18) 상에 생성될 수 있지만, 매트릭스(20)는 전형적으로 표준 포토리소그래피 방법에 의해 생성된다. 포토리소그래피 기법은 전형적으로 기판 상에 패턴을 형성하기 위해 마스크를 조명하는 노출 장치를 이용한다. 노출될 시, 패턴은 현상되고 소정의 매개물이 패턴을 경유하여 기판으로 전달되어 매트릭스(20)와 같은 다양한 엔티티를 형 성한다.
그러나, 포토리소그래피는 큰 범용 기판이 노출되는 경우 비용일 많이 들 수 있는데 그 이유는 보다 큰 노출 유닛 및 마스크가 필요하기 때문이다. 이들 추가의 비용을 경감하기 위해, 스텝 및 반복 노출 장치를 이용하여 보다 작은 마스크가 이용된다. 다수의 보다 작은 마스크는 기판 위해 중첩되고 보다 작은 노출 유닛을 이용하여 스텝 및 반복 방식으로 이미징된다. 이들 기법은 단일 범용 기판 상에 다수의 매트릭스를 형성하는 비용을 절감할 수 있지만, 컬러 피처의 후속 형성 동안 추가의 문제점이 발생할 수 있다. 예를 들어, 다수의 마스크를 사용하게 되면 형성되는 다수의 후방 매트릭스 사이에 잘못된 등록의 정도가 변동될 수 있다. 다수의 매트릭스 간의 잘못된 등록은 범용 수신 요소 상에 배치된 대응하는 매트릭스에의 올바른 등록에서 다수의 반복 컬러 피처 패턴을 정확하게 이미징하는 것과 관련하여 추가의 도전을 야기한다.
예를 들어 범용 기판 상의 컬러 필터 내의 컬러 피처의 패턴과 같은 피처의 반복 패턴의 다수의 고품질 이미지의 구성을 가능하게 하는 효과적이고 실제적인 이미징 방법 및 시스템이 여전히 필요하다.
등록 서브-영역의 반복 패턴(예를 들어, 매트릭스 내의 셀의 패턴)에의 등록에서 피처의 반복 패턴(예를 들어, 컬러 필터 내의 컬러 요소의 패턴)의 구성을 가능하게 하는 이미징 방법 및 시스템이 여전히 필요하다.
본 발명은 예를 들어 컬러 필터용 매트릭스를 포함하는 기판과 같은 수용 엘리먼트 상에 다수의 이미지를 형성하는 방법을 포함한다. 제어기로 하여금 이 방법을 수행하게 하는 컴퓨터 프로그램이 생성될 수 있다.
생성된 이미지는 다양한 가능한 형상, 컬러 조합, 구성 및 간격의 반폭 피처 패턴을 포함할 수 있다. 예를 들어, 반복 피처 패턴은 연속적인 또는 불연속적인 스트라이프일 수 있다. 이미지는 하나 이상의 방향에서 상이한 컬러의 피처 패턴에 의해 서로 구별되는 일 컬러의 피처들의 패턴을 포함할 수 있는 반복 아일랜드 피처 패턴일 수 있다.
프로세스는 이미지 형성 재료를 공여 엘리먼트에서 수용 엘리먼트로 전달하는 단계를 포함할 수 있다. 이미지는 레이저 유도 염료 전사 프로세스 또는 레이저 유도 매스 전사 프로세스와 같은 레이저 유도 열 전사 프로세스를 통해, 또는 염료 및 접착제를 수용 엘리먼트에 전달함으로써 형성될 수 있다. 일 실시예에서, 패턴의 각 피처는 하프톤 스크린(halftone screen) 또는 확률 스크린(stochastic screen)에 의해 스크리닝된다. 수용 엘리먼트가 매트릭스를 포함하는 경우, 매트릭스는 레이저 유도 열 전사와는 다른 프로세스에 의해 구성될 수 있다.
본 방법은 스캔 경로를 따라 수용 엘리먼트 위에서 스캐닝하는 동안, 개별 어드레스 지정가능 채널을 포함하는 제 1 이미징 헤드를 동작시켜 수용 엘리먼트 상에 제 1 이미지를 형성하는 이미징 빔의 방향을 지정하는 단계를 포함한다. 제 2 스캔 경로를 따라 수용 엘리먼트 위에서 스캐닝하는 동안, 개별 어드레스 지정가능 채널을 구비한 제 2 이미징 헤드를 동시에 또는 다른 시간에 동작시켜 수용 엘리먼트 상에 제 2 이미지를 형성하는 이미징 빔의 방향을 지정하는 단계를 포함한다. 제 1 스캔 경로는 제 2 스캔 경로에 평행하지 않을 수 있고, 제 1 이미지는 제 2 이미지와 정렬되지 않을 수 있다. 제 1 이미지는 제 2 이미지에 대해 스큐(skew)될 수 있거나 그렇지 않을 수도 있다.
이미징 헤드 및 수용 엘리먼트는 이미징 헤드 또는 수용 엘리먼트 또는 이들 모두를 이동시킴으로서 서로에 대해 이동된다. 제 1 및 제 2 이미징 헤드의 상대 속도는 서로 동일할 수 있거나 또는 상이할 수도 있다. 채널은 개별 채널이 이미징하는 시기를 결정하는 기동 타이밍에 의해 제어된다. 각 이미징 헤드의 채널은 개별적으로 어드레스가능하기 때문에, 헤드 및 수용 엘리먼트의 상대적 이동이 발생하는 동안 임의의 주어진 시점에서 하나 또는 일부분은 활성화될 수 있는 한편, 다른 것들은 활성화되지 않을 수 있다.
제 1 이미징 헤드는 제 3 스캔 경로를 따라 스캐닝하면서 제 3 이미지를 수용 엘리먼트 상에 형성하도록 이미징 빔의 방향을 지정할 수 있다. 제 3 이미지는 제 1 이미지에 대해 정렬, 스큐 및/또는 평행할 수 있거나 또는 그렇지 않을 수도 있다.
수용 엘리먼트는 하나 이상의 등록 영역을 포함할 수 있다. 등록 영역에의 실제 등록 시에 이미지의 일부분을 이미징하기 위해 스캔 경로를 정렬하는 것이 바람직할 수 있으며, 이러한 정렬은 주 스캔 방향 및 서브-스캔 방향 모두를 따라 상대적 움직임을 야기함으로써 이루어질 수 있다. 개별 어드레스지정가능 채널의 일부분의 기동 타이밍에 대한 조절 또는 예를 들어 데이터의 절단에 의한 이미지 데이터의 수정은 등록 영역에의 실제 등록 시에 이미지를 형성하는데 사용될 수 있다.
본 발명의 실시예 및 애플리케이션은 첨부된 비제한적 도면에 의해 예시된다. 첨부된 도면은 본 발명의 개념을 예시하기 위한 것이며, 실제 비율로 되어 있지 않을 수도 있다.
도 1a는 종래 기술의 컬러 필터의 부분 평면도,
도 1b는 다른 종래 기술의 컬러 필터의 부분 평면도,
도 1c는 종래 기술의 컬러 필터 매트릭스에 따른 컬러 피처의 위치 지정을 나타내는 평면도,
도 1d는 다른 종래 기술의 컬러 필터 매트릭스에 따른 컬러 피처의 위치 지정을 나타내는 평면도,
도 2는 이미징 가능한 미디어 상에 피처 패턴을 이미징하는 멀티채널 헤드의 개략도,
도 3은 예시적인 종래 기술의 멀티채널 이미징 헤드 광학 시스템의 개략적인 부분 사시도,
도 4는 본 발명의 예시적인 실시예에서 사용되는 장치의 개략도,
도 5는 본 발명의 예시적인 실시예의 이미징 방법에 대한 흐름도,
도 6은 도 4에 도시된 장치의 개략적인 단면도,
도 7은 본 발명의 예시적인 실시예에서 사용되는 빔 파인더,
도 8은 도 7에 도시된 빔 파인더 상에서 방사선 빔의 방향을 지정함으로써 생성되는 강도 프로파일의 개략도,
도 9a는 수용체 엘리먼트의 개략도,
도 9b는 도 9a에 도시된 수용체 엘리먼트의 통상적인 이미징 개략도,
도 9c는 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 도 9a에 도시된 수용체 엘리먼트 상에 이미지를 형성하는 데 이용되는 단계의 개략도,
도 9d는 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 도 9a에 도시된 수용체 엘리먼트 상에 이미지를 형성하는 데 이용되는 단계의 개략도,
도 9e는 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 도 9a에 도시된 수용체 엘리먼트 상에 이미지를 형성하는 데 이용되는 단계의 개략도,
도 10a는 2개의 컬러 피처와 매트릭스 일부분 사이의 방향 지정도,
도 10b는 도 10a에 도시된 컬러 피처 패턴의 이미징 개략도,
도 10c는 도 10b에 도시된 여러 컬러 피처의 가능한 등록 영향을 나타낸 도면,
도 10d는 도 10b에 도시된 여러 컬러 피처의 가능한 등록 영향을 나타낸 도면,
도 10e는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 도 10a에 도시된 컬러 피처 패턴의 이미징 개략도,
도 11a는 등록 영역으로의 반복 피처 패턴의 희망하는 등록의 예시도,
도 11b는 도 11a에 도시된 피처 패턴의 통상적인 이미징 개략도,
도 11c는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 도 11a에 도시된 피처 패턴의 이미징 개략도,
도 12는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 도 11a에 도시된 피처 패턴의 편향 이미징 개략도,
도 13은 줌 메커니즘을 채용하는 본 발명의 실시예에 따른 도 11a에 도시된 피처 패턴의 이미징 개략도,
도 14는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 줌 메커니즘의 개략도이다.
다음 설명의 전반에는 특정한 세부 사항이 제시되어 당업자에게 보다 완전한 이해를 제공한다. 그러나, 잘 알려져 있는 엘리먼트는 진술 내용을 불필요하게 흐리지 않도록 상세히 도시되거나 설명되지 않았을 수 있다. 이에 따라, 설명 및 도면은 제한의 관점보다는 예시의 관점에서 간주되어야 한다.
도 2는 통상적으로 레이저 유도 열 전사 프로세스에서 스트라이프 피처(32)(이 실례에서는 적색)의 반복 피처 패턴(30)으로 패터닝된 컬러 필터 수용체 엘리먼트(18)의 일부분을 개략적으로 도시하고 있다. 이 프로세스에서, 스트라이프 피처(32)에 대응하는 영역은 공여 엘리먼트(24)로부터 수용 엘리먼트(18) 상으로의 성상 물질(image-forming material)(도시되지 않음)의 전사에 의해 수용 엘리 먼트(18) 상에서 이미징된다. 도 2에는 단지 명료성을 위해 공여 엘리먼트(24)가 수용 엘리먼트(18)보다 작은 것으로 도시되어 있다. 공여 엘리먼트(24)는 필요에 따라 수용 엘리먼트(18)의 하나 이상의 부분과 오버랩될 수 있다.
명료성을 위해, 단지 적색 스트라이프 피처(32)만이 도 2에 도시되어 있다. 필터(10)의 상이한 컬러 부분은 일반적으로 별도의 이미징 단계에서 이미징되는데, 각각의 이미징 단계는 이미징될 컬러에 적합한 상이한 컬러 공여 엘리먼트를 사용한다. 각각의 공여 엘리먼트(24)는 대응하는 이미징 단계의 완료 후에 제거된다. 컬러 피처가 전사된 후, 이미징된 컬러 피처는, 예컨대 어닐링 단계와 같은 하나 이상의 추가 프로세스 단계 처리되어, 이미징된 컬러 피처의 하나 이상의 물리적 속성(예컨대 경도)을 변경시킬 수 있다.
스트라이프 피처(32)가 패터닝되는 수용 엘리먼트(18)의 영역은 랜덤하게 선택되지 않는다. 오히려, 스트라이프 피처(32)는 수용 엘리먼트(18)와 연관된 등록 영역(35)(파선으로 도시됨)을 갖춘 실질적인 레지스터에 형성된다. 이 실례에서, 등록 영역(35)은 수용 엘리먼트(18) 상에 형성되는 매트릭스(20)를 포함한다. 매트릭스(20)는 반복적인 셀 등록 패턴(36)에 구성되는 다수의 셀(34)을 포함한다. 이 실례에서는 피처 패턴(30)이 "이상적으로" 등록 패턴(36)에 등록되고, 스트라이프 피처(32)의 일부는 메인 스캔 축(42)에 정렬되는 방향을 따라서는 매트릭스의 일부분과 완전히 오버랩되고 서브 스캔 방향(44)과 정렬되는 방향을 따라서는 매트릭스(20)의 다른 부분과 부분적으로 오버랩된다. 허용 가능한 양의 부분 오버랩은 피처 패턴(30)과 등록 패턴(36) 사이의 등록 정도를 부분적으로 정의한다.
성상 물질은 이미징 헤드(26)에 의해 방사된 이미징 빔(도시되지 않음)이 공여 엘리먼트(24)를 가로질러 스캐닝될 때 수용 엘리먼트(18) 상으로 이미지 방향 전사(image-wise transfer)된다. 이미징 헤드(26)는 개별적으로 어드레스지정가능 이미징 채널(40)의 어레이를 포함한다. 이미징 헤드(26)에 의해 생성된 이미징 빔은 메인 스캔 방향(42)으로 수용 엘리먼트(18) 위에서 스캐닝되는 한편 기록될 피처 패턴을 정하는 이미지 데이터에 따라 이미지 방향 변조된다. 채널의 그룹(48)은, 피처를 형성하도록 희망되는 활성 강도 레벨을 갖는 이미징 빔을 생성하도록 적절히 구동된다. 피처에 대응하지 않는 채널(40)은 대응하는 영역을 이미징하지 않도록 구동된다.
통상적인 레이저 기반 멀티채널 이미징 헤드에 의해 채용된 조명 시스템의 실례가 도 3에 개략적으로 도시되어 있다. 공간적 광 변조기 또는 광 밸브는 다수의 이미징 채널을 생성하는 데 사용된다. 예시된 실례에서, 선형 광 밸브 어레이(100)는 반도체 기판(102) 상에 제조되는 다수의 변형가능 밀러 엘리먼트(101)를 포함한다. 밀러 엘리먼트(101)는 개별적으로 어드레스 지정 가능하다. 밀러 엘리먼트(101)는, 예컨대 변형가능 밀러 마이크로-엘리먼트와 같은 마이크로전자기계시스템(micro-electro-mechanical system: MEMS) 엘리먼트일 수 있다. 레이저(104)는 원통 렌즈(108, 110)를 포함하는 왜상 빔 확장기(anamorphic beam expander)를 사용하여 광 밸브(100) 상에 조명 라인(106)을 생성할 수 있다. 조명 라인(106)은 각각의 밀러 엘리먼트(101)가 조명 라인(106)의 일부에 의해 조명되도록 다수의 엘리먼트(101)를 가로질러 횡방향으로 확산된다. Gelbart의 미국특허 제5,517,359호 에는 조명 라인 형성 방법이 개시되어 있다.
렌즈(112)는 일반적으로 엘리먼트(101)가 비기동 상태일 때 구경 조리개(aperture stop)(116) 내의 구경(114)을 통과하는 레이저 조명을 집중시킨다. 기동된 엘리먼트로부터의 광은 구경 조리개(116)에 의해 차단된다. 렌즈(118)는 이미지 스왓(image swath)을 형성하는 기판 영역 위에서 스캐닝될 수 있는 다수의 개별적으로 이미지 방향 변조된 빔(120)을 형성하도록 광 밸브(100)를 이미징한다. 각각의 빔(120)은 엘리먼트(101) 중 하나에 의해 제어된다. 각각의 엘리먼트(101)는 멀티채널 이미징 헤드의 채널을 제어한다.
각각의 빔은 대응하는 엘리먼트의 구동 상태에 따라 이미징 기판 상에서 "이미지 픽셀"을 이미징하거나 이미징하지 않도록 동작 가능하다. 즉, 이미지데이터에 따라 픽셀을 이미징할 필요가 있다면, 주어진 엘리먼트(101)는 기판 상에서 픽셀 이미지를 분리시키는 데 적합한 활성 강도 레벨로 대응하는 빔을 생성하도록 구동된다. 이미지 데이터에 따라 픽셀을 이미징할 필요가 없다면, 주어진 엘리먼트(101)는 이미징 빔을 생성하지 않도록 구동된다. 이미징 헤드 채널에 의해 방사된 이미징 빔은 대응하는 픽셀을 형성하도록 다양한 경로를 이동할 수 있다. 이미징 빔은 경로를 따라 편향될 수 있다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 픽셀은 기판 상의 단일 이미지 엘리먼트라고 지칭되며, 이는 어셈블리된 디스플레이 디바이스 상에 디스플레이되는 이미지의 일부분과 관련되는 워드 픽셀과는 구별되어 사용된다. 예를 들어, 본 발명이 컬러 디스플레이용 필터를 생성하는 데 이용된다면, 본 발명에 의해 생성된 픽셀은 인접 픽셀과 결합되어 디스플레이 디바이스 상 에 디스플레이되는 이미지의 단일 픽셀을 형성할 것이다.
도 2를 다시 참조하면, 수용 엘리먼트(18), 이미징 헤드(26) 또는 이들의 조합은 서로 대체되는 한편, 이미징 헤드(26)의 채널(40)은 이미지 데이터에 대한 응답으로 이미징된 스왓을 생성하도록 제어된다. 몇몇 경우, 이미징 헤드(26)의 이미지는 고정되고 수용 엘리먼트(18)는 이동한다. 다른 경우로는, 수용 엘리먼트(18)가 고정되고 이미징 헤드(26)가 이동한다.
이미징 헤드(26)의 채널(40)은 제 1 채널(46)에 의해 이미징된 제 1 픽셀과 최종 채널(45)에 의해 이미징된 최종 픽셀 사이의 거리와 관련된 폭을 갖는 스왓을 이미징할 수 있다. 수용 엘리먼트(18)는 일반적으로 단일 스왓 내에서 이미징되기에는 너무 크다. 따라서, 수용 엘리먼트(18) 상에 다양한 이미지를 완성하는 데에는 일반적으로 각 이미징 헤드(26)의 다중 스캔이 요구된다.
서브 스캔 방향(44)을 따르는 이미징 헤드(26)의 이동은 각 스왓의 이미징이 주요 스캔 방향(42)에서 완료된 후에 일어날 수 있다. 대안으로, 이미징 헤드(26)는 서브 스캔 방향(44)을 따라 수용 엘리먼트(18)에 관하여 공시적으로 병진될 수 있다. 드럼 타임 이미저를 이용하면, 주요 스캔 방향(42) 및 서브 스캔 방향(44) 모두로 이미징 헤드(26)를 동시에 이동시키고, 그에 따라 드럼 상에 나선형으로 확장되는 스왓 내에 이미지를 기록하는 것이 가능할 수 있다. 당업자라면, 희망 이미징 영역을 이미징하는 데 사용될 수 있는 수용 엘리먼트(18)와 이미징 헤드(26) 사이에는 수용 엘리먼트(18) 상의 다른 가능한 상대적 움직임 패턴이 존재한다는 것을 인지할 것이다.
수용 엘리먼트(18) 위로 이미징 헤드(26)를 이동시키도록 임의의 적합한 메커니즘이 적용될 수 있다. 플랫 베드 이미저(flat bed imagers)는 일반적으로 비교적 엄격한 수용 엘리먼트(18)를 이미징하는 데 사용되는데, 이는 디스플레이 패널을 제조하는 데 있어서 보편적인 것이다. 플랫 베드 이미저는 플랫 방향으로 수용 엘리먼트(18)를 보호하는 지지부를 구비하고 있다. Glebart의 미국특허 제6,957,773호에는 디스플레이 패널 이미징에 적합한 고속 플랫베드 이미저가 개시되어 있다. 대안으로, 플렉시블 수용 엘리먼트(18)는 스왓의 이미징에 영향을 미치는 "드럼 타입" 지지부의 외부 또는 내부 표면 중 어느 하나에 대해 보호될 수 있다. 기판이 충분히 얇고 지지부의 직경이 충분히 크다면, 유리와 같이, 일반적으로 견고한 것으로 생각되는 수용 엘리먼트조차도 드럼 기반 이미저 상에서 이미징될 수 있다.
도 2는 이미징 채널 그룹(48)과 전사된 패턴 사이의 "이상적" 대응성을 파선(41)으로 도시하고 있다. 스트라이프 피처(32)와 같은 피처는 일반적으로 서브 스캔 방향(44)이 이미징 채널(40)에 의해 이미징된 픽셀의 폭보다 더 큰 치수를 갖는다. 이러한 피처는 스캔 경로를 따라 채널을 스캐닝하면서 서브 스캔 방향(44)에서의 피처 폭을 스패닝하도록 채널 그룹을 턴 온시킴으로써 이미징될 수 있다. 채널 그룹(48)과 스트라이프 피처(32) 사이의 대응성은 이상적인데, 이는 이 실례에서 채널 그룹(48) 내의 채널이 매트릭스(20)에 정확하게 등록될 정확한 크기 및 주기성을 갖는 스트라이프 피처(32)를 형성하게 하는 이상적인 크기의 픽셀을 형성해야 할 것이기 때문이다. 도 2에 도시된 실례도 또한 이상적인데, 이는 이미지 피치 패턴(30)의 형성이란 셀(34)에 평행한 스캔 경로를 따라 헤드(26)와 수용 엘리먼트(18) 사이에 상대적인 움직임이 존재하는 동안에 발생하여 매트릭스(20)로의 실질적인 피처 패턴(30) 등록을 용이하게 하기 때문이다.
그러나, 이상적인 이미징 조건은 많은 상황에서 존재하지 않는다. 상이한 제조 물품은 상이한 등록 패턴 및 상이한 셀 크기를 가질 수 있다. 예를 들어, 컴퓨터 애플리케이션에 채용되는 매트릭스는 일반적으로 텔레비전 애플리케이션에 채용되는 매트릭스와는 상이한 셀 크기 및 주기성을 갖는다. 이러한 불일치는 범용 이미징 시스템을 갖는 상이한 제품 구성을 어드레스하기 어렵게 만들 수 있다. 멀티 채널 이미징 헤드의 스캔 경로를 따르는 등록 패턴의 어긋남(misorientation)은 또한 반복 피처 패턴을 반복 등록 패턴에 정확하게 등록시키는 것과 연관된 어려움을 증가시킬 수 있다. 추가 생산 처리 요구는 다수의 멀티 채널 이미징 헤드가 채용될 것을 요구하며, 그에 따라 부가적인 등록 요건이 추가로 생성된다.
도 4는 본 발명의 예시적인 실시예에서 사용되는 장치(50)를 개략적으로 도시하고 있다. 장치(50)는 수용 엘리먼트(18A) 상에 이미지를 형성하도록 동작 가능하다. 수용 엘리먼트(18A)는, 총괄하여 등록 영역(47)이라 지칭되고 파선으로 도시되어 있는 다수의 등록 영역(47A, 47B, 47C, 47D)을 포함한다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 각각의 등록 영역(47)은 매트릭스(20)를 포함한다. 각각의 매트릭스(20)는 다수의 셀(34)을 포함한다. 셀(34)은 도 1a에 도시된 바와 같은 사각형의 형상 또는 주어진 컬러 필터 구성에 의해 요구되는 임의의 다른 적합한 형상일 수 있다. 이 예시적인 실시예에서, 매트릭스(20)는 또한 다양한 등록 마크 를 포함할 수 있다. 이 실례에서, 등록 마크(21A, 21B, 21C)(총괄하여 등록 마크(21)라고 알려짐)는 각각의 등록 영역(47)과 연관된다. 등록 마크(21)는 다양한 등록 표시 또는 기준을 포함할 수 있지만 이들로 제한되는 것은 아니다. 등록 마크(21)는 등록 목적에 적합한 다양한 그래픽 형상(예컨대, 십자가)을 포함할 수 있고, 매트릭스(20) 자체를 생성하도록 채용되는 동일한 물질 및/또는 프로세스로부터 형성될 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 3개의 등록 피처(21)는 각각의 매트릭스(20)와 연관된다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 각각의 등록 영역(47)은 수용 엘리먼트(18A)에 대한 등록 영역의 방향을 정의하는 데 사용될 수 있는 다수의 등록 마크(21)를 포함한다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 등록 영역(47) 중 수 개의 등록 영역은 다른 등록 영역(47)에 대해 상이한 방향을 갖는다.
하나 이상의 수용 엘리먼트 상에 다수의 컬러 필터를 생성할 때, 서로에 대한 매트릭스(20)의 오정렬이 도 4에 도시된 바와 같이 발생할 수 있다. 전달 및 회전(즉, 스큐) 오정렬은 다양한 매트릭스들 사이에서 일어날 수 있다. 다양한 매트릭스(20)들 사이의 오정렬은 특히 스텝 및 반복 포토리소그래픽 기술이 채용될 때의 매트릭스 형성 중에 일어날 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 등록 영역(47A)은 등록 영역(47B)의 방향이 지정된 각도 θ2와는 상이한 각도 θ1로 방향이 지정된다. 등록 영역(47C, 47D)은 제각각 등록 영역(47A, 47B)으로부터 거리 Δ1 및 Δ2(Δ1과 Δ2는 서로 상이함)만큼 측방향으로 변위된다. 각도 θ1, θ2 및 변위 Δ1, Δ2는 명료성을 위해 강조된다. 본 발명의 다양한 예시적인 실시예 에서는 크기가 보다 작을 수도 있다. 예를 들어, 컬러 필터 애플리케이션에서, 수용 엘리먼트 상에 형성된 다수의 매트릭스들 사이의 오정렬은 일반적으로 마이크로라디안 및 마이크로 단위로 측정될 수 있다. 그렇다 하더라도, 다양한 등록 영역들 사이의 이러한 작은 오정렬조차도 등록 영역 내에 정의된 반복 패턴의 등록 서브 영역에 반복 피처 패턴을 정확하게 등록시키기 위한 노력에 방해가 될 수 있다.
본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 이미지는 레이저 유도 열 전사 프로세스에 의해 수용 엘리먼트(18A) 상에 형성된다. 수용 엘리먼트(18A)는 사전 결정된 영역의 캐리어(51) 상에 위치 지정되며, 캐리어(51)는 수용 엘리먼트(18A)가 캐리어(51) 내에서 대략적으로 정렬 및 위치 지정되게 하는 템플릿(52)을 포함한다. 템플릿(52)은 크기 면에서 수용 엘리먼트(18A)보다 약간 더 크다. 캐리어(51)는 주요 스캔 방향(42)에 정렬된 경로를 따라 수용 엘리먼트(18A)를 전달하도록 동작 가능하다. 다수의 멀티 채널 이미징 헤드(26A, 26B)(총괄하여 이미징 헤드(26)라고 알려짐)는 지지부(53) 상에 구성된다. 각각의 이미징 헤드(26)는 서브 스캔 방향(44)에 정렬된 경로를 따라 다른 이미징 헤드(26)와는 개별적으로 이동하도록 제어된다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 서브 스캔 방향(44)은 실질적으로 주요 스캔 방향(42)에 수직이다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 각각의 이미징 헤드(26)는 그들 각각의 이미징 헤드(26)에 따라 서브 스캔 방향(44)으로 정렬된 경로를 따라 움직이는 하나 이상의 비전 시스템(56)을 포함한다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 비전 시스템(56)은 CCD 카메라(57) 및 플래시(58)를 포함한다. CCD 카메라(57)는 수용 엘리먼트(18A)의 적합한 이미지를 캡쳐하도록 CCD 및 관련 광학 엘리먼트를 포함할 수 있다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 광학 엘리먼트는 마이크로스코프(61)를 포함한다. 본 발명의 이 예시적인 실시예엣, 공여 엘리먼트(24)(도 4에는 도시되지 않음)는 수용 엘리먼트 상에 대략적으로 위치 지정되고, 캐리어(51)는 주요 스캔 방향(42)으로 정렬된 경로를 따라 미디어 조립체를 전달한다. 이러한 움직임 동안, 이미징 헤드(26)는 다수의 방사선 빔으로 미디어 조립체를 스캔하여 공여 엘리먼트(4)로부터 수용 엘리먼트(18A)로의 성상 물질(도시되지 않음)의 전달이 수용 엘리먼트(18A) 상에 이미지를 형성하게 하도록 제어된다. 이미징 전자기기(84)는 각 이미징 헤드(26)의 이미징 채널의 기동을 제어하여 방사선 빔의 방출을 조정한다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 각각의 등록 영역(47)은 단일 이미징 헤드(26)에 의해 이미징되고 있지만, 각각의 등록 영역(47)은 다수의 이미징 헤드에 의해 이미징될 수 있고, 그에 따라 임의의 적합한 수의 이미징 헤드가 본 발명의 다른 실시예에서도 사용될 수 있음이 이해될 것이다.
임의의 적합한 프라임 발동기(prime mover), 전달 부재 및/또는 가이드 부재를 포함하는 하나 이상의 모션 시스템을 포함할 수 있는 모션 시스템(59)은 캐리어(51)의 움직임을 야기한다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 모션 시스템(59)은 또한 서브 스캔 방향(44)으로 정렬된 대응 경로를 따라 각 이미징 헤드(26A, 26B)의 독립적인 움직임을 제어한다. 당업자라면, 별도의 모션 시스템이 장치(50) 내에서 상이한 시스템을 동작하는 데 사용될 수 있음을 용이하게 인지할 것이다.
하나 이상의 제어기를 포함할 수 있는 제어기(60)는, 캐리어(48) 및 이미징 헤드(26)에 의해 사용되는 다양한 모션 시스템(59)을 포함하되 이들로 제한되는 것은 아닌 장치(50)의 하나 이상의 시스템을 제어하는 데 사용된다. 제어기(60)는 또한 수용 엘리먼트(18A) 및 공여 엘리먼트(24)의 로딩 및/또는 언로딩을 개시할 수 있는 미디어 핸들링 메커니즘을 제어할 수 있다. 제어기(60)는 또한 성상 데이터를 이미징 헤드(26)로 전달할 수 있고, 이 데이터에 따라 이미징 빔을 제어하여 이미징 빔을 방사시킬 수 있다. 제어기(60)는 또한 다양한 시스템(56)을 제어하는 데 사용될 수 있다. 이들 다양한 시스템은 다양한 제어 신호를 이용 및/또는 다양한 방법을 실행하여 제어될 수 있다. 제어기(60)는 적합한 소프트웨어를 실행하도록 구성될 수도 있고, 비제한적인 실례로서 액세스가능 메모리, 로직 회로기기, 드라이버, 증폭기, A/D 및 D/A 컨버터, 입력/출력포트 등을 포함하는 적합한 하드웨어와 함께 하나 이상의 프로세서를 포함할 수도 있다. 제어기(60)는 마이크로프로세서, 컴퓨터 내장 칩, 컴퓨터의 CPU 또는 임의의 다른 적합한 마이크로프로세서를 포함할 수 있으되, 이러한 것으로 제한되는 것은 아니다. 전술한 노출 시스템과 연관된 제어기(60)는 대응 물질 핸들링 시스템의 동작을 제어하는 동일한 제어기일 수도 있지만, 반드시 그러할 필요는 없다.
장치(50)는 각각의 등록 영역(47) 내에 이미지를 형성한다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 장치(50)는 다양한 컬러 필터 피처 패턴(도시되지 않음)을 형성한다. 각각의 컬러 필터 피처 패턴 자체 또는 이들의 조합 각각의 시각적 품질은 형성된 이미지와 등록 영역(47) 사이의 최종 등록에 의존한다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 각각의 컬러 필터의 시각적 품질은 대응 컬러 필터 매트릭스(20)로의 이미징된 컬러 피처 등록에 의존한다.
많은 인자가 이미징 등록에 영향을 미칠 수 있다. 예를 들어, 수용 엘리먼트가 유리로 제조된 경우, 섭씨 1도의 온도 증가는 수용 엘리먼트를 대략 10 마이크론 이상 팽창시킬 수 있다. 일반적인 매트릭스 라인 폭은 20 마이크론 이하일 수 있으며, 이러한 열 오등록(thermal mis-registration) 수준은 컬러리스 공극의 존재 또는 오버래핑 컬러 엘리먼트를 유발할 수 있는데, 이러한 두 가지 현상 모두는 최종 컬러 필터의 품질을 감소시킨다.
템플릿(52)에 대한 수용 엘리먼트(18A)의 위치는 이미징 등록에 영향을 미칠 수 있다. 템플릿(52)의 영역 내에서 수용 엘리먼트(18)를 로딩하는 데 자동화(예컨대, 로봇식 로더)가 이용될 수 있다 하더라도, 몇몇 수준의 등록 에러는 매우 발생하기 쉽다. 템플릿(52)으로의 수용 엘리먼트(18A) 오등록은 회전 오등록뿐 아니라 이동 오등록을 포함할 수 있다.
장치(50)가 각각의 등록 영역(47)을 이미징할 수 있기 전에, 각각의 등록 영역(47)의 방향은 이미징 방향(즉, 주요 스캔 방향(47) 및 서브 스캔 방향(44))을 참조하여 결정되어야 한다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 다양한 시스템(56)은 등록 영역(47)을 정확하게 위치시키는 데 사용된다.
도 5는 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 등록 영역(47)의 위치를 결정하고 등록 영역(47)과 정렬된 관계의 이미지를 형성하는 흐름도를 도시하고 있다. 도 5의 단계는 도시된 순서대로 수행될 필요가 없음이 이해될 것이다. 예를 들어, 피 치 및 기판 회전 정정은 이미징용 이미징 장치를 마련하기 전에 수행될 수 있다. 도 5의 흐름도는 도 4에 개략적으로 도시된 장치(50)를 참조하고 있지만, 예시된 프로세스에 사용하는 데에는 다른 장치도 적합하다는 것이 이해될 것이다. 프로세스는 등록 영역 정보(62)가 각각의 등록 영역(47)의 위치를 식별하는 제어기(60)에 제공되는 단계 300에서 시작한다. 등록 영역 정보(62)는, 수용 엘리먼트(18A) 상에 존재하는 등록 영역(47)의 개수, 각각의 등록 영역과 연관된 등록 마크(21)의 개수 및 유형, 그들 각 영역 내에서의 등록 마크(21)의 위치, 각 등록 영역들 간의 간격, 및 임의의 관련 매트릭스(20) 정보(예컨대, 매트릭스 셀들 간의 피치 간격)를 포함할 수 있지만, 이들로 제한되는 것은 아니다. 등록 영역 정보(62)는 임의의 적합한 데이터 형태로 제어기에 제공될 수 있다.
단계 320에서는 각 등록 영역(47)의 실제 위치가 결정된다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서는 각각의 등록 영역(47)과 연관된 각각의 등록 마크(21)에 대한 추적이 이루어진다. 제어기(60)는 등록 영역 정보(62)에 따라 모션 시스템(59) 및 비전 시스템(56)으로 신호를 제공하여 이러한 추적을 개시한다. 제어기(60)는 모션 시스템(59) 및 비전 시스템(56)으로부터 피드백 신호를 수신할 수 있다.
본 발명의 이 예시적인 실시예에서는 플래시(58) 및 CCD 카메라(57)가 모션 시스템(59)과 동기화된다. 예를 들어, 모션 시스템(59)이 주어진 마이크로스코프(64) 아래에 수용 엘리먼트(18A)를 위치 지정하는 경우에, 연관된 플래시(58)는 위치 지정 중에 CCD 카메라(57)가 이미지를 캡쳐한 특정 거리 동안에 조명 플래시 광을 생성하도록 트리거된다. 모션 시스템의 속도가 증가하면, 보다 밝은 광 플래 시가 트리거된다. 본 발명의 이러한 예시적인 실시예에서, 이미징 헤드(26) 및 그들의 연관된 비전 시스템(56)은 서브 스캔 방향(44)으로 정렬된 다양한 위치에 위치 지정된다. 모션 시스템(59)이 주요 스캔 방향(42)으로 정렬된 경로를 따라 수용 엘리먼트(18A)를 이동시키면, 각각의 비전 시스템(50)은 수용 엘리먼트(18A) 상의 특정한 결정된 위치에서 다수의 이미지 열로서 캡쳐한다. 이 프로세스는 "다이내믹 캡쳐(dynamic capture)"로 지칭된다.
일반적으로, 각 마이크로스코프(61)의 시야(field of view)가 작기 때문에, 장치(50)는 각각의 등록 영역(47)을 정의하는 등록 마크(21)에 대해 멀티이미지 추적을 수행해야 한다. 최소한 3개의 비선형 등록 마크(21)는 주요 스캔 방향(42) 및 서브 스캔 방향(44)과 관련된 기준 프레임 내에 각 등록 영역(47)의 위치를 정의하는 데 필요하다. 기하학적 위치선정 소프트웨어(예컨대, California Livermore 소재의 Adept Technologies사에 의해 배포되는 Adept Hexsight)는 등록 마크(21)가 각각의 캡쳐된 이미지에 나타나는지의 여부 및 이미지의 어느 곳에 나타나는지를 결정하는 데 사용된다. 이 소프트웨어로의 입력은 일반적으로 각각의 등록 마크(21)가 무엇처럼 보이는지 및 캡쳐된 이미지가 어떤 좌표에 있는지를 포함한다.
등록 영역 정보(62)에 따르면, 제어기(60)는 모션 시스템(59)이 서브 스캔 방향(44)으로 정렬된 다양한 임시 위치에서 각각의 이미징 헤드(26)를 독립적으로 배치하게 한다. 도 4에 도시된 바와 같이, 이미징 헤드(26A)는 등록 영역(47A, 47C)에 대해 임시 위치로 이동했다. 이미징 헤드(26B)는 등록 영역(47B, 47D)에 대해 임시 위치로 이동했다. 추적은 각 등록 영역(47)의 3개의 등록 마크 중 2개를 먼저 배치시킴으로써 신속 처리된다. 예를 들어, 각 등록 영역(47A, 47C)과 연관된 등록 마크(21A, 21B)는 사각형의 조사 추적지에 배치되며, 이 추적지에서 이미징 헤드(26A)는, 수용 엘리먼트(18A)가 주요 스캔 방향(42)으로 정렬된 경로를 따라 이동함에 따라 그것의 연관된 비전 시스템(50)이 이미지 열을 동적으로 캡쳐하는 제 1 서브 스캔 위치로 이동된다. 기하학적 위치선정 소프트웨어는 각 등록 영역(47A, 47B)과 연관된 등록 마크(21A, 21B) 중 임의의 것의 존재 및 위치를 결정하는 데 사용된다. 이들 등록 마크(21) 중 어느 것도 배치되지 않거나 또는 일부만이 배치되는 경우, 모션 시스템(59)은 이미징 헤드(26A)를 다음 서브 스캔 위치로 배치하고, 다른 열의 이미지는 동적으로 캡쳐 및 분석된다. 이 프로세스는 등록 영역(47A, 47B)에 대응하는 모든 등록 피처(21a, 21B)가 배치될 때까지 반복된다.
처음 2개의 등록 피처(21A, 21B)에 대해 도출된 위치 정보를 이용하면, 각 등록 영역(47A, 47C)에 대한 잔여 등록 피처(21C)의 위치가 결정된다. (다양한 등록 피처들 사이의 간격 정보를 포함하는) 등록 영역 정보(62) 및 등록 피처(21A, 21B)의 결정된 위치를 이용하면, 제어기(60)는 모션 시스템(59)으로 하여금 잔여 등록 피처(21C)가 어떠한 추적도 없는 CCD 카메라의 FOV 중심에 배치되는 추정 위치로 이미징 헤드(26)를 이동시키게 한다. 이 프로세스의 목적은 가급적 신속하게 잔여 등록 피처(21C)의 이미지를 캡쳐하는 것이다. 이와 관련하여, 시스템은 동적 캡쳐를 이용하여 CCD 카메라(50)의 단일 패스에 각 등록 영역(47A, 47C)의 잔여 등 록 피처(21C)를 캡쳐하고자 할 것이다. 등록 피처(21C)의 이미지는 이미징 헤드(26A) 및 그것의 대응 비번 시스템(56)을 추정 위치로 이동시키거나 다른 비전 시스템을 추정 위치로 이동시킴으로써 캡쳐될 수 있다.
가급적 신속하게 모든 등록 마크의 위치를 결정하는 것이 유리하다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 등록 영역(47A, 47C)에 대응하는 등록 마크(21)가 배치되는 한편 등록 영역(47B, 47D)에 대응하는 등록 마크(21)의 위치는 이미징 헤드(26B)와 연관된 비전 시스템(56)에 의해 결정된다.
본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 각 등록 피처(21)의 결정된 위치는 그들의 대응 등록 영역(47)의 위치 및 소재를 결정한다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서, 각 등록 영역의 위치 및 방향은 다른 방법에 의해 결정될 수 있다. 예를 들어, 비전 시스템(56)은 각각의 등록 영역(47) 내에서의 매트릭스(20)의 위치 및 방향을 결정하는 데 사용될 수 있다. 매트릭스(20)의 위치 및 방향의 결정은 매트릭스(20)의 일부분의 위치 및 방향을 결정하는 것을 포함할 수 있다. 매트릭스(20)의 일부분은 매트릭스(20)의 에지 및/또는 코너를 포함할 수 있다.
단계 310은 장치(50)에 대한 광학 교정 루틴(단계 310은 파선으로 도시됨)을 포함한다. 예를 들어, 각각의 이미징 헤드(26)에 의해 방출된 이미징 빔의 위치는 일반적으로 이미징 헤드(26)의 내부 및 외부 모두에서 온도 변화에 의해 영향을 받는다. 다양한 콤포넌트의 온도가 시간에 따라 변화하기 때문에, 방향 지정된 이미징 빔이 목적을 벗어날(wander) 수 있다. 이러한 현상은 "열적 드리프트(thermal drift)"라고 호칭된다. 교정 단계 310은 열적 드리프트를 조절할 수 있다.
각 등록 영역(47)의 위치 및 방향은 비전 시스템(50)의 사용에 따라 단계 320에서 결정되었다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 이 단계는 각 매트릭스(20)의 위치 및 방향을 정의한다. 최종 컬러 필터의 시각적 품질은 공여 엘리먼트(24)로부터 다양한 셀(34)에 의해 정의되는 특정 영역으로의 정확한 성상 물질 전달에 의존한다. 각 이미징 헤드(26)가 특정 영역을 정확하게 이미징할 수 있도록 각 이미징 헤드(26)를 어떻게 이동시킬지를 결정하기 위해, 이미징 빔들 사이의 위치 관계 및 CCD 카메라(57)의 FOV는 각각의 이미징 헤드(26)마다 결정되어야 한다. 당업자라면, 열적 드리프트가 그러한 위치 관계를 변경시킬 수 있음을 인지할 것이다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 그러한 위치 관계는 주요 스캔 방향(44) 및 서브 스캔 방향(42)에 관련된 기준 프레임을 기초로 하여 결정된다.
본 발명의 예시적인 실시예에서, 위치 관계는 빔 파인더(64)를 사용하여 결정된다. 도 6은 장치(50)(본 발명의 이 예시적인 실시예에서는 다수의 빔 파인더(즉, 빔 파인더(64A, 64B))의 부분 단면도를 개략적으로 도시하고 있다. 단일 빔 파인더(64)가 사용될 수 있다 하더라도, 다수의 빔 파인더(64)는 다수의 이미징 헤드(26)의 교정을 시간 효율적인 방식으로 허용한다. 빔 파인더(64A, 64B)는 수용 엘리먼트(18A)(도시되지 않음)를 지지하는 데 사용되는 캐리어(51)의 아래에 배치된다.
도 7은 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 빔 파인더(64)를 도시하고 있다. 빔 파인더(64)는, 서브 스캔 위치 타겟(68), 카메라 타겟(69) 및 주요 스캔 위치 타겟(70)을 포함하는 영역을 정의하는 마스크(66)를 포함한다. 마스크(66)는 포토 리소그래픽 기술에 의해 생성될 수 있다. 본 발명의 예시적인 실시예에서, 서브 스캔 위치 타겟(68)은 서브 스캔 방향(44)에 대해 가로 방향으로 정렬된 하나 이상의 영역(71)(이 실례에서는 1개)을 포함하며, 메인 스캔 위치 타겟(70)은 서브 스캔 방향(44)에 대해 사전 결정된 각도로 정렬된 하나 이상의 영역(72)(즉, 이 실례에서는 1개)을 포함한다. 광다이오드(도시되지 않음)는 영역(71, 72)의 부근에 배치되며, 방사선에 의해 이미징될 때 다양한 신호를 방출하도록 응답한다. 카메라 타겟(69)은 하나 이상의 영역(73)(이 실례에서는 1개)을 포함한다. 광원(도시되지 않음)은 영역(73)의 부근에 배치된다. 제어기(60)는 광원을 기동시켜 영역(73)을 조명하도록 동작 가능하다. 서브 스캔 위치 타겟(68), 카메라 타겟(69) 및 주요 스캔 위치 타겟(70)의 위치는 서로에 대해 정확하게 결정된다.
각각의 이미징 헤드(26)에 대해, 그것의 이미징 빔 및 그것의 연관 CCD 카메라(57)의 FOV 사이의 위치 관계는 빔 파인더(64)의 부근에서 이미징 헤드(26)와 캐리어(51) 사이의 상대적 움직임을 설정함으로써 결정된다. 도 6 및 도 7을 참조하면, 각각의 이미징 헤드(26)는 서브 스캔 방향(44)에 따라 정렬된 각각의 경로(76A 또는 76B)를 따라 이동하며, 하나 이상의 이미징 빔(도시되지 않음)을 이용하여 연관된 빔 파인더를 이미징한다. 하나 이상의 이미징 빔이 각각의 빔 파인더를 가로질러 이동할 때, 서브 스캔 위치 타겟(68) 및 주요 스캔 위치 타겟(70)의 부근에 위치하는 광다이오드가 샘플링된다. 하나 이상의 이미징 빔이 서브 스캔 위치 타겟(68)을 가로질러 이동할 때, 샘플링된 광다이오드로부터의 신호는 하나 이상의 빔의 서브스캔 위치에 대응하는 제 1 피크(74)에 의해 정의되는 강도 레벨을 가질 것이다. 하나 이상의 이미징 빔이 주요 스캔 위치 타겟(70)을 가로질러 이동할 때, 샘플링된 광다이오드로부터의 신호는 하나 이상의 빔의 주요 스캔 위치에 대응하는 제 2 피크(75)에 의해 정의되는 강도 레벨을 가질 것이다. 제 1 피크(74) 및 제 2 피크(75)의 실례는 도 8에 개략적으로 도시되어 있다.
도 8은 강도 평탄역(intensity plateau)(77)을 포함하는 제 1 피크(74)를 개략적으로 도시하고 있다. 강도 평탄역의 시작 및 끝은 서브 스캔 지점(78, 79)에 의해 제각각 정의된다. 서브 스캔 지점(78)은 이미징 헤드(26)의 서브 스캔 위치에 대응하되, 이미징 헤드(26)의 하나 이상의 이미징 빔에 의해 방출된 모든 방사선은 서브 스캔 위치 타겟(68)과 연관된 광다이오드에 의해 먼저 캡쳐된다. 서브 스캔 지점(79)은 이미징 헤드(26)의 서브 스캔 위치에 대응하되, 이미징 헤드(26)의 하나 이상의 이미징 빔에 의해 방출되는 모든 방사선은 서브 스캔 위치 타겟(68)과 연관된 광다이오드에 의해 마지막으로 캡처된다. 모션 시스템(59)의 서브 스캔 인코더에 의해 제공되는 신호는 제어기(60)에 의해 사용되어, 하나 이상의 이미징 빔의 서브 스캔 위치를 정확하게 결정하게 한다.
도 8은 강도 평탄역(80)을 포함하는 제 2 피크(75)를 개략적으로 도시하고 있다. 강도 평탄역의 시작 및 끝은 서브 스캔 지점(81, 82)에 의해 제각각 정의된다. 서브 스캔 지점(81)은 이미징 헤드(26)의 서브 스캔 위치에 대응하되, 이미징 헤드(26)의 하나 이상의 이미징 빔에 의해 방출되는 모든 방사선은 주요 스캔 위치 타겟(70)과 연관된 광다이오드에 의해 먼저 캡쳐된다. 서브 스캔 지점(82)은 이미징 헤드(26)의 서브 스캔 위치에 대응하되, 이미징 헤드(26)의 하나 이상의 이미징 빔에 의해 방출되는 모든 방사선은 주요 스캔 위치 타겟(70)과 연관된 광다이오드에 의해 마지막으로 캡쳐된다. 제어기(60)는 이들 서브 스캔 위치를 나타내는 모션 시스템(59)의 서브 스캔 인코더에 의해 제공되는 신호를 분석하고, 제 1 피크(74)와 제 2 피크(80) 사이의 거리(83)를 결정한다. 거리(83)는 하나 이상의 이미징 빔이 주요 스캔 위치 타겟(70)을 가로지른 주요 스캔 위치의 함수에 따라 변화한다. 거리(83)를 직사각형 형상의 영역(71)과 평행 사변형 형상의 영역(72) 사이의 변화 간격에 비교함으로써, 제어기(60)는 하나 이상의 이미징 빔의 주요 스캔 위치를 결정할 수 있다.
하나 이상의 이미징 빔의 서브 스캔 및 주요 스캔 위치가 결정된 후, 제어기(60)는 카메라 타겟(69)을 조명한다. CCD 카메라(57) 및 마이크로스코프(61)는 카메라 타겟(69)의 위치를 선정하는 데 사용되며, 모션 시스템(59)의 서브 스캔 및 주요 스캔 인코더에 의해 제공되는 신호는 제어기(60)에 의해 사용되어 그 위치에서 CCD 카메라의 위치를 정확하게 결정하게 한다. 제어기(60)는 이미징 빔과 각 이미징 헤드(26)의 CCD 카메라 사이의 위치 관계를 설정할 수 있다.
장치(50) 내의 다양한 추가 콤포넌트의 기계적 정렬은 완벽하지 않다. 예를 들어, 지지 구조물이 완전히 올바른 위치에 있지 않을 수도 있고, 위치 인코더가 완전히 정확한 것은 아니다. 이러한 결함 및 그 밖의 결함을 보상하기 위해, 교정 단계 310이 그들을 설명할 수 있다. 결함은 측정될 수 있고, 측정 위치로부터 실제 위치로의 2차 매트릭스 오프셋을 포함하는 디바이스 정정 맵은 각각의 이미징 헤드(26)마다 결정될 수 있다.
도 5를 다시 참조하면, 단계 330은 이미징용 장치(50)를 마련한다. 각각의 등록 영역(47)의 위치 및 방향은 단계 320에서 결정되었다. 단계 330에서는 하나 이상의 "변위 정정 맵"이 각각의 이미징 헤드(26)마다 제어기(60)에 의해 생성된다. 변위 정정 맵은 그들이 디바이스 부정확성 대신에 템플릿(52) 내에서의 수용 엘리먼트(18A)의 변위 및 등록 영역(47)과 연관된 임의의 스큐를 보상한다는 점을 제외하면 디바이스 정정 맵과 유사하다. 제어기(60)는 디바이스 정정 맵 및 변위 정정 맵을 결합시켜 각각의 이미징 헤드(26)에 대해 최종 정정 맵 세트를 생성하는 데 사용된다.
각각의 최종 정정 맵 세트는 각각의 이미징 헤드(26)가 겪는 움직임의 전체 2차원 상대적 범위를 커버한다. 본 발명의 예시적인 실시예에서, 최종 정정 맵 세트는 서브 스캔 정정 맵 및 주요 스캔 정정 맵을 포함한다. 서브 스캔 정정 맵은 제어기(60)에 의해 모션 시스템(59)에게 전달되어 각각의 이미징 헤드(26)마다 좌표 지정된 움직임 경로를 정의하는 정보를 포함할 수 있다. 주요 스캔 정정 맵은 이미징 전자기기(84)로 전송되어 이미징 헤드(26)에 의해 방출된 이미징 빔에 대한 다양한 타이밍 지연을 설정한다.
도 9a는 등록 영역(47E)(파선으로 도시됨)을 포함하는 수용 엘리먼트(18B)를 개략적으로 도시하고 있다. 등록 영역(47E)은 주요 스캔 방향(42) 및 서브 스캔 방향(44)에 대해 스큐된다(즉, 스큐의 양은 명료성을 위해 과장되었다). 멀티 채널 이미징 헤드(26C)(본 명세서에서는 이미징 헤드(26C)라고 지칭됨)는 서브 스캔 방향(44)으로 정렬된 경로를 따라서 이동 가능하고, 수용 엘리먼트(18B)는 주요 스 캔 방향(42)으로 정렬된 경로를 따라서 이동 가능하다. 이 경우, 이미지(200)는 등록 영역(47E)(등록 영역(47E)은 명료성을 위해 이미지(200)보다 더 크게 도시됨)을 갖는 레지스터 내의 수용 엘리먼트(18B) 상에 형성되는 것이 바람직하다. 이 경우, 이미지는 그것의 에지가 등록 영역(47E)의 대응하는 에지와 평행할 때 등록 영역(47E)을 갖는 레지스터 내에 있다.
도 9b는 수용 엘리먼트(18B)의 통상적인 이미징을 도시하고 있다. 이 경우, 이미징 헤드(26C)는 다수의 이미지 스왓(202)을 생성함으로써 수용 엘리먼트(18B)를 이미징한다. 이미지(200)를 나타내는 이미지 정보 데이터(218)는 제어기(60)에 의해 이미징 헤드(26C)로 제공된다. 각각의 스왓은 이미징 헤드(26C0의 스캔 동안에 형성된다. 이 경우, 각각의 스왓(202)은 이미징 헤드(26)를 고정된 서브 스캔 위치에 유지시키면서 주요 스캔 방향(42)으로 정렬된 경로를 따라 수용 엘리먼트(18B)를 스캐닝함으로써 형성된다. 서브 스캔 방향(44)으로 정렬된 경로 상에서의 이미징 헤드(26C)의 이동은 연속으로 이미징된 스왓(202) 사이에서 이루어진다. 각각의 스캔 동안, 이미징된 스왓(202)에 대응하는 이미징의 일부분은 수용 엘리먼트(18B) 상에서 형성된다. 그러나, 이러한 이미징 방법은 등록 영역(47E)을 갖는 레지스터 내에 있지 않은 이미지(200A)를 형성하게 되며, 이러한 결과는 이미징된 수용 엘리먼트(18B0의 시각 품질을 감소시킬 수 있다.
도 9c 및 도 9d는 등록 영역(47E)으로의 실제 등록 시에 이미지를 형성하는 데 사용되는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 일련의 단계를 도시하고 있다. 도 9c를 참조하면, 이미징 헤드(26C) 및 수용 엘리먼트(18B)는 각각의 스캔 동안에 동 기화된 방법으로 이동한다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 서브 스캔 이동은 이전에 언급된 정정 맵에 따른 주요 스캔 이동에 따라 좌표 지정된다. 제어기(60)는 서브 스캔 축 서보의 타겟 위치가 정정 맵에 실시간으로 직접 예속되도록 모션 시스템(59)(도시되지 않음)을 제어함으로써 이 좌표 지정된 움직임을 달성하는 데 정정 맵을 사용한다. 주요 스캔 움직임이 설정되면, 요구되는 동기화된 서브 스캔 움직임이 정정 맵 및 방향 지정된 스왓(202A)에 의해 정의된다. 스캔 동안에 좌표지정 움직임을 채용하면, 이미지(200B)가 형성된다. 이미지(200B)는 등록 영역(47E)의 일부분을 갖는 레지스터 내에 있는 에지(204, 206)를 따라 형성된다. 좌표 지정 움직임은 연속적이고 평활한 에지(204, 206)를 형성하는 데 이용될 수 있으며, 이는 형성된 이미지의 일부분을 등록 영역의 일부분에 정확히 등록하기 쉽게 할 수 있다.
도 9c는, 좌표 지정 움직임이 에지(204, 206)를 갖는 이미지(200B)를 형성하는 동안에는 이미지(200B)의 에지(208, 210)가 여전히 등록 영역(47E)을 갖는 레지스터 내에 있지 않음을 도시하고 있다. 도 9d는 이미징 헤드(26C)내의 다양한 채널에 대한 기동 타이밍이 변경되어, 등록 영역(47E)을 갖는 레지스터 내에 있고 특성 희망 이미지(200)에서 실질적으로 가까운 이미징 영역(200C)을 생성하는 단계를 도시하고 있다. 채널은 이미지 데이터에 기초하여 이미징 빔을 방출하기도 하고 방출하지 않기도 하도록 기동된다. 그러나, 채널이 이미징 빔을 방출하거나 방출하지 않도록 기동될 수 있는 실제 시간은 채널의 기동 타이밍을 조절함으로써 선행되거나 지연될 수 있다. 변화하는 기동 타이밍은 서로에 대해 다수의 이미징 영역 의 위치를 변화시키는 데 이용될 수 있다. 변화하는 기동 타이밍은 서로에 대해 이미징된 영역 및 이미징되지 않은 영역의 위치를 변화시키는 데 이용될 수 있다.
이미지(200B)(파선으로 도시됨)는 기동 타이밍 변화에 대한 기준으로서 도 9d에 도시되어 있다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서는 기동 타이밍(화살표(312)로 개략적으로 표현됨)이 변화하고, 그에 따라 레지스터 영역(47E)을 갖는 레지스터 내에 실질적으로 존재하는 에지(214, 216)를 갖는 이미지(200C)를 형성하게 한다. 에지(214, 216)는 사실상 톱니 형상이지만, 등록 영역(47E)의 대응 부분에 정렬된다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 톱니 형상 에지 프로파일에서의 스텝 크기는 대응하는 영역의 이미징과 연관된 기동 타이밍 지연의 양과 관련된다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서는 이미징 채널 기동 타이밍이 선행될 수 있다. 제어기(60) 및 이미징 전자기기(84)(도 9에는 도시되지 않음)는 교정 맵에 따라 다양한 이미징 채널의 기동 타이밍을 변경한다. 각 스왓의 이미징 동안에 사용되는 모든 이미징 채널 또는 그들 중의 일부의 기동 타이밍이 변경될 수 있다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서는 각각의 스왓을 이미징하도록 채용되는 모든 채널에는 모든 스왓에 대해 균일한 지연이 부여된다.
본 발명의 다른 예시적인 실시예에서, 이미지 정보 데이터는 등록 영역(47E)을 갖는 레지스터 내에 있으며 희망하는 이미지(200)에 대해 실질적으로 가까운 영역을 생성 및 이미징하도록 수정된다. 도 9e에 개략적으로 도시된 바와 같이, 이미지 정보 데이터(218)는 "이미지 셰어링(shearing)"이라 호칭되는 프로세스에서 셰어링된 이미지 데이터(220)를 생성하도록 수정된다. 셰어링된 이미지 데이 터(220)는 이미징 헤드(26C)에 의해 이미징될 때 실질적으로 등록 영역(47E)을 갖는 레지스터 내에 있는 에지(222, 224)를 갖는 이미지(200D)를 형성하는 수정된 래스터 파일(raster file)을 포함한다. 에지(222, 224)는 사실상 톱니 형상이다. 기동 타이밍 변화가 각 톱니의 상승 고도를 나타내는 본 발명의 실시예와는 달리, 이 실시예에서의 각 톱니 스텝의 상승부(225)는 수정된 데이터 파일에 대한 응답으로 이미징 헤드(26C)에 의해 이미징된 픽셀(223)의 크기와 관련된다.
도 9c 및 도 9d는 등록 영역으로의 실질적인 등록 시에 이미지를 형성하도록 좌표지정 움직임 및 채널 기동 타이밍 변화를 채용하는 단계를 도시하고 있다. 도 9b 및 도 9e는 등록 영역으로의 실질적인 등록 시에 이미지를 형성하도록 좌표 지정 움직임 및 셰어링 이미지를 채용하는 단계를 도시하고 있다. 도 4를 다시 참조하면, 다수의 등록 영역(47)이 도시되어 있으며, 이들 영역 중 여러 개는 서로 상이한 방향을 갖는다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 각각의 등록 영역(47)은 각각의 등록 영역을 이미징할 이미징 헤드(26)에 대응하는 서브 스캔 및 주요 스캔 정정 맵에 표시된다. 등록 정보(62)에 정의된 공칭 등록 영역 좌표와 결합하여 각 등록 마크(21) 세트의 결정된 방향 및 변위 좌표는 그 특정 등록 영역(47)에 대한 회전, 스케일 및 시프트를 정의한다.
도 4에 대응하는 본 발명의 예시적인 실시예에서, 상이한 좌표 지정 움직임 및 이미징 채널 기동 시퀀스가 각각의 이미징 헤드(26)마다 채용되어 대응하는 등록 영역(47)으로의 실질적인 등록 시에 이미지를 형성하게 한다. 예를 들어, 등록 영역(47A)이 각도 θ1만큼 스큐되고 등록 영역(47B)이 상이한 영역 θ2만큼 스큐되 므로, 이미징 헤드(26A)는 등록 영역(47B)으로의 등록 시의 이미지 형성 동안 이미징 헤드(26B)에 의해 채용되는 세트와는 상이한 세트의 좌표 지정 움직임 파라미터 및 채널 타이밍 동기화를 갖는 등록 영역(47A)으로의 등록 시에 이미지를 형성할 것이다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 각각의 이미징 헤드(26A, 26B)는 각각의 이미징 헤드가 이미징하고 있는 동안에 서브 스캔 방향을 따라 상이한 속도를 가질 수 있다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서 상이한 멀티 채널 이미징 헤드는 각각의 헤드가 이미징하고 있는 동안에 주요 스캔 방향을 따라 상이한 속도를 가질 수 있다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서, 상이한 멀티 채널 이미징 헤드는 각각의 이미징 헤드가 이미징하고 있는 동안에 주요 스캔 및 서브 스캔 방향을 따라 상이한 속도를 가질 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예에서, 각 이미징 헤드(26A, 26B)에서의 다양한 채널의 기동 타이밍은 각각의 이미징 헤드가 이미징하고 있는 동안의 상이한 시각에 발생할 것이다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서, 상이한 수의 채널의 기동 타이밍은 각각의 이미징 헤드(26A, 26B)마다 상이하다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서, 상이한 그룹의 채널의 동기화 타이밍은 각각의 이미징 헤드(26A, 26B)마다 상이하다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서, 이미징 헤드(26A) 내의 다양한 채널의 기동 타이밍이 지연될 수 있는 한편 이미징 헤드(26B) 내의 다양한 채널의 기동 타이밍이 선행될 수 있다.
도 4를 다시 참조하면, 이미징 헤드(26A)는 또한 등록 영역(47A) 위로 스캐닝하는 한편 등록 영역(47C)을 갖는 레지스터에 이미지를 형성하는 데에도 요구된 다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 등록 영역(47C)은 스큐된 방향을 취하는 것이 아니라 거리 Δ1만큼 서브 스캔 방향(44)으로 시프트된다. 이미징 헤드(26A)가 좌표 지정 움직임을 겪어 등록 영역(47C)을 갖는 레지스터에 이미지를 형성할 필요가 없다 하더라도, 이미징 헤드(26A)는 등록 영역(47A, 47C) 사이의 영역에서 좌표 지정 움직임을 겪을 수 있다. 연속적으로 형성된 이미지들 사이의 좌표 지정 움직임의 이용은 이미징 헤드가 연속 이미지의 이미징 동안에 적절히 위치 지정되게 할 수 있다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서, 다수의 이미지는 수용 엘리먼트 위로의 멀티 채널 이미징 헤드의 스캔 동안에 형성된다. 각각의 이미지는 서로 상이하게 정렬되고, 이미징 헤드는 상이한 좌표 지정 움직임 및 이미징 채널 기동 시퀀스를 채용하는 한편 스캔 경로를 따라 각각의 이미지를 이미징한다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서는 다수의 이미지가 수용 엘리먼트 위로의 멀티 채널 이미징 헤드의 스캔 동안에 대응하는 수의 등록 영역으로의 등록 시에 형성된다. 각각의 등록 영역은 서로 상이하게 정렬되며, 이미징 헤드는 그것의 대응하는 등록 영역으로의 등록 시에 각각의 이미지를 이미징하는 한편 상이한 좌표 지정 움직임 및 이미징 채널 기동 시퀀스를 채용한다.
독립적인 좌표 지정 움직임 및 이미징 채널 기동 시퀀스가 다수의 이미징 헤드를 포함하는 이미징 시스템의 각 이미징 헤드에 의해 채용될 때, 각각의 이미징 헤드는 서로와는 상이하게 정렬되는 대응 이미지를 형성하는 데 사용될 수 있다. 이들 대응 이미지는 하나 이상의 수용 엘리먼트 상에 형성될 수 있다. 상이한 좌표 지정 움직임 및 이미징 채널 타이밍 시퀀스가 다수의 이미징 헤드를 포함하는 이미징 시스템의 각 이미징 헤드에 의해 채용될 때, 각각의 이미징 헤드는 서로 상이한 방향을 갖는 등록 영역에 실질적으로 등록되는 대응 이미지를 형성하는 데 사용될 수 있다. 독립적인 좌표 지정 움직임 및 이미징 채널 기동 시퀀스를 채용하는 멀티 이미징 헤드 시스템은 유리하게도 생산성을 증가시킬 수 있다.
본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 멀티 채널 이미징 헤드 내의 다양한 채널에 대한 기동 타이밍은 등록 영역의 대응 부분에 이미지의 다양한 부분을 정렬시키도록 변경된다. 기동 타이밍을 변화시키는 한 가지 방법은 스왓 단위로 피처를 이미징하는 데 이미징 채널의 기동 타이밍을 조정하는 것을 포함한다. 즉, 단일의 균등 조절은 임의의 주어진 스왓에 채용된 모든 활성 이미징 채널의 기동 타이밍에 대해 이루어진다. 다른 스왓에서, 다른 단일의 균등 조절은 그러한 스왓 각각에 채용되는 모든 활성 이미징 채널의 기동 타이밍에 대해 이루어진다. 이러한 방식으로, 이러한 형태의 스큐 정정은 일반적으로 정정이 정수의 스왓의 관점에서 이루어지는 톱니 정정을 야기한다.
도 4에 대응하는 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서, 상이한 좌표 지정 움직임 및 셰어링된 이미지 데이터(220)는 각각의 이미징 헤드(26)를 위해 채용되어, 대응 등록 영역(47)으로의 실질적인 등록 시에 이미지를 형성한다. 등록 영역(47A)이 각도 θ1에 의해 스큐되고 등록 영역(47B)이 상이한 각도 θ2에 의해 스큐되므로, 이미징 헤드(26A)는 등록 영역(47B)으로의 등록 시의 이미지 형성 동안에 이미징 헤드(26B)에 의해 채용되는 세트와는 상이한 세트의 좌표 지정 움직임 파라미터 및 셰어링된 이미지 데이터를 이용하여 등록 영역(47A)으로의 등록 시에 이미지를 형성할 것이다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 상이한 멀티 채널 이미징 헤드는 각각의 헤드가 이미징하고 있는 동안 서브 스캔 방향을 따라 상이한 속도를 가질 수 있다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서, 상이한 멀티 채널 이미징 헤드는 각각의 헤드가 이미징하고 있는 동안 주요 스캔 방향을 따라 상이한 속도를 가질 수 있다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서, 상이한 멀티 채널 이미징 헤드는 각각의 이미징 헤드가 이미징하고 있는 동안 주요 스캔 및 서브 스캔 방향을 따라 상이한 속도를 가질 수 있다.
몇몇 수요 애플리케이션(예컨대, 컬러 필터의 레이저 유도 이미징)에 대해, 스왓 단위 기동 타이밍 조절 또는 셰어링된 이미지 데이터를 등록 서브 영역의 반복 패턴과 실질적인 정렬 상태에 있는 반복 피처 패턴을 형성하지 않을 수 있다. 컬러 필터와 같은 애플리케이션에서, 최종 제품의 시각적 품질은 반복 피처 패턴(예컨대, 컬러 필터 엘리먼트의 패턴)은 등록 서브 영역의 반복 패턴(예컨대, 매트릭스)에 등록되는 정확도에 의존한다. 피처 크기가 감소함에 따라, 이것은 특히 반복 피처 패턴이 형성될 때 이행하기가 더욱 더 어려워진다. 등록은 아일랜드 피처의 반복 패턴이 이미징될 때 더욱 복잡해지는데, 이는 일반적으로 서브 스캔 방향(44) 및 주요 스캔 방향(42) 모두에서의 등록이 요구되기 때문이다. 등록은 또한 멀티 채널 이미징 헤드 내의 이미징 채널의 개수가 제품 처리량을 개선하도록 증가하기 때문에 이미지 스왓이 크기 면에서 증가할 때 악영향을 받을 수 있다.
도 10a는 매트릭스의 일부분(230)과 2개의 컬러 피처(226, 228) 사이의 방향을 도시하고 있다. 각각의 컬러 피처(226, 228)는 그들이 매트릭스(20)에 등록되 도록 이미징 헤드(26D)에 의해 이미징될 아일랜드 피처이다. 이미징 헤드(26D)는 개별 어드레스지정가능 채널(40)의 어레이(227A)를 포함한다. 이미징 헤드(26D)는 채널(40)의 1차원 또는 2차원 어레이(227A)를 포함할 수 있다. 이 예시된 경우에서, 이미징 헤드(26D)는 서브 스캔 방향(44)으로 정된 축(231)을 갖는 1차원 어레이(227A)를 포함한다. 이미징 헤드(26D)는 수용 엘리먼트(18C) 위에서의 스캐닝 동안에 각각의 컬러 피처를 이미징한다. 컬러 피처(226, 228)는 주어진 스캔에 동안 동시에 또는 개별 스캔 시에 별도로 이미징될 수 있음이 이해될 것이다. 이 경우, 컬러 피처(226, 228)는 서로 오버랩하는 일 없이 매트릭스(230)를 오버랩할 필요가 있다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 각각의 컬러 피처(226, 228)는 다수의 이미징 채널(40)에 의해 이미징된다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 각각의 컬러 피처(226, 228)는 다수의 연속 이미징 채널(40)에 의해 이미징된다.
컬러 피처(226, 228)가 서로 오버랩하는 일 없이 매트릭스의 일부분(230)을 정렬시키도록 컬러 피처(226, 228)를 이미징할 때에는 다양한 인자들이 고려되어야 한다. 예를 들어, 각각의 컬러 피처(226, 228)는 그들이 컬러 필터의 희망하는 품질 특성을 달성할 소정의 양만큼 매트릭스의 일부분(230)을 오버랩하도록 이미징되어야 한다. 각각의 컬러 피처(226, 228)를 이미징하기 위해 최소로 요구되는 오버랩은 다음의 수학식으로부터 추정될 수 있다.
(1) 최소 요구 오버랩(MRO) = 플로터 정확도 + 매트릭스 반복성 + 절대 최소 오버랩
플로터 정확도는 컬러 피처(226, 228)를 이미징하는 데 사용되는 이미징 시 스템의 정확도를 나타낸다. 이 정확도는 이미징 동안 이미징 헤드(26D)의 위치 지정과 연관된 기계적 반복성, 빔 파인더 정확도, 이미징 빔 드리프트, 및 형성되는 이미지의 에지 거칠기에 의한 영향을 받는다. 플로터 정확에 대한 일반적인 값은 +/- 2.5 마이크론의 범위에 있을 수 있다.
매트릭스 반복성은 수용 엘리먼트(18)에 대한 매트릭스 부분의 위치에서의 변화량을 나타낸다. 매트릭스 반복성의 일반적인 값은 +/- 0.5 마이크론이다.
절대 최소 오버랩은 컬러 피처가 희망하는 품질 특성을 달성하도록 요구되는 절대 최소 오버랩을 나타낸다. 절대 최소 오버랩에 대한 일반적인 값은 1 마이크론이다.
상기 일반 값에 기초한 최소 요구 오버랩(MRO)은 대략 4 마이크론인 것으로 추정될 수 있다.
다른 인자는 2개의 컬러 피처(226, 228)가 서로 오버랩되지 않도록 그들 사이의 최소 갭 요건을 포함할 수 있다. 최소 갭 요건은 특히 컬러 피처(226, 228)가 별도의 스캔 동안에 이미징될 때 이미징 반복성에 의한 영향을 받을 수 있다. 최소 갭 요건은 다음의 수학식에 의해 추정될 수 있다.
(2) 최소 갭(MG) = 2 X 이미징 반복성
이미징 반복성은 컬러 엘리먼트(226, 228)의 의도된 위치로의 그들의 위치 지정 반복성을 나타낸다. 이미징 반복성은 이미징 동안에 이미징 헤드(26D)의 위치 지정과 연관된 기계적 반복성, 빔 드리프트, 및 형성되는 이미지의 에지 거칠기에 의한 영향을 받을 수 있다. 이미징 반복성에 대한 일반적인 값은 5 마이크론의 최소 갭(MG)을 제공하는 +/- 2.5 마이크론이다.
다른 인자는 이미징 헤드(26D0의 어드레스 지정 가능성을 포함할 수 있다. 각각의 이미징된 컬러 피처(226, 228)의 크기를 제어하는 능력은 픽셀 크기의 함수이다. 예를 들어, 각 컬러 피처(226, 228)의 크기를 1 픽셀만큼 변화시키는 것은, 사실상, 각 피처의 에지 위치가 매트릭스의 일부분(230)의 대응 에지에 대해 1/2 픽셀만큼 변화한다는 것을 의미한다. 최소 갭(MG)과 최소 요구 오버랩(MRO) 사이의 오차의 절반의 픽셀은 이들 요건 모두가 충족될 수 있음을 보증하기 위해 요구된다. 오드레스 지정 가능성 요건은 다음의 수학식으로부터 추정될 수 있다.
(3) 어드레스 지정 가능성 = 매트릭스 라인 폭 - 2X 최소 요구 오버랩(MRO) - 최소 갭(MG)
어드레스 지정 가능성은 이미징 헤드(26D)에 의해 이미징된 픽셀 크기 특성을 나타낸다. 이러한 특정 경우에 있어서, 어드레스 지정 가능성은 주요 스캔 방향(즉, 주요 스캔 어드레스 지정 가능성)의 픽셀 크기 특성을 지칭한다. 주요 스캔 어드레스 지정 가능성은 이미징 채널(40)이 이미징 빔의 방향을 지시할 때 그들의 노출 타이밍을 조절함으로써 변화될 수 있다. 주어진 이미징 빔이 미디어와 상호 작용하는 시간 길이를 변화시키면, 미디어가 노출되어 스캐닝 방향을 따라 픽셀의 크기를 변화시키는 레이트가 변경된다. 이 경우, 채널(40)의 노출 타이밍은 모션 시스템(59)과 연관된 주요 스캔 인코더에 대해 상대적으로 조절될 수 있다. 디지털 방식으로 합성된 PLL은 주요 스캔 인코더를 사용하여 이미징 타이밍을 제어하는 데 사용될 수 있다. 루프 내의 파라미터 조절은 주요 스캔 어드레스 지정 가능 성을 정확히 제어하고 스캔 방향을 따라 이미징된 픽셀의 크기를 변화시키는 데 이용될 수 있다. 본 발명의 다양한 예시적인 실시예에서, 스캔 방향을 따르는 픽셀의 크기는 다양한 이유로 조절된다. 예를 들어, 매트릭스(20)의 각 셀(34) 내에서의 스캔 방향을 따라 정수 배의 픽셀을 이미징하여 각 셀 내의 착색제의 일관된 위치 지정을 보증하는 것이 바람직하다. 임의의 시스템적인 위치 변경은 밴딩(banding)과 같은 이미지 아티팩트를 생성할 수 있다. 픽셀의 크기는 등록 서브 영역의 패턴에 실질적으로 정렬 상태인 피처 패턴을 형성하도록 조절될 수 있다. 다양한 피처가 스캔 방향을 따라 적절히 크기 조정되어 제각각 매트릭스 일부분(230)과 고르게 오버랩됨으로써, MRO 및 MG 요건을 용이하게 하는 것이 바람직하다. 다양한 피처가 스캔 방향을 따라 적절히 크기 조정되어 피처 패턴의 피치가 스캔 방향을 따라 매트릭스 셀(34)의 피치와 매칭되는 것이 바람직하다. 본 발명의 다양한 예시적인 실시예에서, 스캔 방향을 따르는 픽셀의 크기는 주요 스캔 해상도를 변화시킴으로써 변화된다. 컬러 필터와 같은 애플리케이션에서는 대략 5 마이크론 이하의 주요 스캔 어드레스 지정 가능성이 바람직하다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 멀티 스캔 어드레스 지정 가능성은 등록 서브 영역의 패턴에 따라 조절된다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 주요 스캔 어드레스 지정 가능성은 정수가 아닌 값을 갖도록 조절된다.
매트릭스 라인 폭은 매트릭스 일부분(230)의 크기 특성이다. 이 실례에서, 이것은 매트릭스 일부분(230)의 크기 W에 대응한다.
수학식(1), (2) 및 (3)을 구성할 수도 있고, 최소 매트릭스 라인 폭을 다음 과 같이 추정할 수도 있다.
(4) 매트릭스 라인 폭(W) = 어드레스 지정 가능성 + 2X 최소 오버랩 + 최소 갭
전술한 일반적인 값을 이용함으로써, 최소 매트릭스 라인 폭(W)은 18 마이크론(즉, 5 마이크론 + (2 X 4 마이크론) + 5 마이크론)으로 추정될 수 있다. 몇몇 통상적인 컬러 필터는 20 내지 24 마이크론 정도의 매트릭스 라인 폭을 갖는다. 이들 통상적인 값보다 더 작은 매트릭스 라인 폭을 갖는 컬러 필터를 생성하는 것이 바람직하다.
도 10a는 컬러 피처(226, 228)가 채널 어레이(227A)의 축(21)에 정렬되는 에지(232, 234)를 따라 이미징되도록 매트릭스(20)에 대해 위치 지정된다. 에지(232, 234)는 서로 오버랩되지 않으며, 매트릭스 일부분(230)으로의 등록 시에 형성된다.
도 10b는 매트릭스(20)가 이미징 헤드(26D)의 채널 어레이(227A)의 축(231)에 대해 각도 θ3만큼 회전한 경우를 도시하고 있다. 컬러 피처(226)와 같은 컬러 피처는 매트릭스(20)에 형성될 패턴의 일부를 형성한다. 이 경우, 다수의 컬러 피처(226) 및 컬러 피처(228)는 이미징 헤드(27D)의 각각의 스캔 동안에 좌표 지정 움직임 기술을 이용하여 이미징된다. 이미징된 스왓(234A)은 제 1 스캔 동안에 생성되고 이미지 스왓(234B)은 제 2 스캔 동안 생성된다. 이 경우, 각각의 스왓은 대략 4.5㎜ 폭인 스왓을 생성하기 위한 5 마이크론의 어드레스 지정 가능성을 갖는 대략 900개(정확한 수가 도시되지는 않음) 이미징 채널의 어레이에 의해 이미징된 다. 각각의 컬러 피처(226, 228)는 20개의 이미징 채널에 의해 이미징되고, 15개 컬러 피처(226)의 행(컬러 피처(226(A) 내지 226(O))로 도시됨)이 각각의 스캔 동안에 형성되도록 패턴 내에 규칙적으로 구성된다. 컬러 피처(228)는 유사한 방식으로 구성 및 이미징된다(컬러 피처(228(A) 내지 228(O))로 도시됨). 컬러 피처(228)는 컬러 피처(226)와 상이한 컬러를 포함하며, 일반적으로 컬러 피처(226)와는 상이한 스캔 시에 이미징된다. 명료성을 위해, 컬러 피처(226(A) 내지 226(O), 228(A) 내지 228(O)) 및 매트릭스 셀(34)은 모두 도시되지 않았다. 이 경우, 각각의 컬러 피처(226, 228)는 3개의 셀(34)에 대응하는 피치에 따라 반복된다.
이 경우, 매트릭스(20)는 이미징 시스템 내에서 수용 엘리먼트(18C)의 일반적인 위치 변화에 대응하는 1 밀리라디언인 각도 θ3만큼 이미징 헤드(26D)에 대해 회전한다(도 10b, 도 10c, 도 10d 및 도 10e는 명료성을 위해 과장된 각도 θ3을 도시하고 있다). 이러한 회전 에러를 보상하기 위해, 각각의 스왓(234B)을 생성하는 데 사용되는 모든 채널(40)의 기동 타이밍은 스왓(234A)의 형성과 관련하여 변화된다. 4.5 마이크론인 오프셋(229)은 2개의 이미징 스왓(234A, 234B) 사이에 형성되어 1 밀리라디언 회전을 보상한다. 그러나, 이와 같이 명백히 중요치 않은 오프셋조차 많은 문제점을 야기할 수 있다. 예를 들어, 매트릭스(20)와 이미징된 컬러 피처(226(A), 228(B)) 사이의 등록은 스왓-스왓 기동 타이밍 변화에 의한 영향을 많이 받는 것은 아니지만, 매트릭스(20)와 컬러 피처(226(O), 228(O))와 같은 컬러 피처 사이의 등록은 최종 오프셋에 의한 영향을 받을 수 있다.
도 10c 및 도 10d는 컬러 피처(226(O), 228(O))와 같은 피처와 연관된 가능한 등록 영향을 개략적으로 도시하고 있다. 도 10c에서는, 최소 요구 오버랩이 각각의 컬러 피처(226(O), 228(O))에서 여전히 실질적으로 유지되도록 스왓-스왓 기동 타이밍이 지연되었다. 그러나, 컬러 피처(226(A), 226(B))와 다리, 스왓-스왓 기동 타이밍 변화는 이미징된 피처(226(O), 228(O))가 전체 오프셋 4.5 마이크론과 실질적으로 동일한 양만큼 변위되게 하였다. 컬러 피처(226(O), 228(O))의 부분(236, 238)은 최소 갭 영역에서 영향을 미치며, 그들이 희망하지 않는 조건에서 서로 오버랩할 기회를 증가시켰다(컬러 피처(226(O), 228(O))는 영역(235) 내에서 서로 오버랩되는 것으로 도시됨). 이 경우, 매트릭스 일부분(230)의 폭 W는 18 마이크론이었고, 피처들 사이의 최소 갭은 5 마이크론이었으며, 최소 요구 오버랩은 4 마이크론이었다. 또한, 각도 θ3이 명료성을 위해 과장되어 있고, 도 10b에 도시된 것과 동일하지 않을 수도 있음이 이해될 것이다.
최소 갭이 도 10d에 도시된 바와 같이 유지되도록 채널(40)의 기동 타이밍을 지연시킴으로써 최소 갭 영역에서의 영향을 피하고자 할 수 있다. 그러나, 이 부분(236, 238)은 최소 요구 오버랩 영역에서 영향을 미치며, 이미징 영역(240)이 매트릭스 일부분(230)과 이미징된 컬러 피처 사이에 발생할 수 있는 기회를 증가시킨다. 또한, 각도 θ3은 명료성을 위해 과장되었으며, 실제로, 부분(236, 238)은 대부분이 도 10c 및 도 10d에 도시된 예시적인 웨지 형상보다 직사각형 형상의 것을 포함할 것이라는 것이 이해될 것이다. 명백히, 증가된 처리량 요건은 보다 많은 수의 이미징 채널을 갖는 이미징 헤드를 요구하므로, 다양한 컬러 피처와 매트릭스 사이의 오등록은 스왓 폭이 증가함에 따라 증가할 수 있다.
도 10e는 도 10b의 수용 엘리먼트(18C) 상의 피처(226, 228)의 패턴의 이미징을 도시하고 있지만, 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 이미징된 것이다. 매트릭스(20)는 또한 이미징 헤드(26D)에 대하여 각도 θ3만큼 회전된다. 이 실시예에서, 매트릭스(20)는 채널 어레이(227A)의 축(231)에 대하여 각도 θ3만큼 회전된다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 각 컬러 피처(226, 228)의 일부분은 이미징 헤드(26D)의 각각의 스캔 동안에 좌표 지정 움직임 기술을 이용하여 이미징된다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서는 컬러 피처(226, 228)의 일부분이 다른 기술에 의해 이미징될 수 있다. 이미징된 스왓(234C)은 제 1 스캔 동안 생성되고, 이미징 스왓(234D)은 제 2 스캔 동안 생성된다. 각각의 컬러 피처(226, 228)는 20개의 이미징 채널(40)에 의해 이미징된다. 각각의 컬러 피처(226, 228)는 여러 행의 15개 컬러 피처(226)(컬러 피처(226(A) 내지 226(O))로 도시됨) 및 여러 행의 컬러 피처(228)(컬러 피처(228(A) 내지 228(O))로 도시됨)를 포함하는 패턴에 규칙적으로 구성된다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 컬러 피처(226, 228)의 각 패턴은 이미징 헤드(26E)의 스캔 동안에 이미징된다. 컬러 피처(228)는 컬러 피처(226)와는 상이한 컬러를 포함하며, 일반적으로는 컬러 피처(226)와 상이한 스캔 시에 이미징된다. 또한, 컬러 피처(226(A) 내지 226(O)) 및 컬러 피처(228(A) 내지 228(O)) 중 어느 것도 명료성을 위해 도시되지 않았다.
매트릭스(20)는 1 밀리라디언인 각도 θ3(θ3은 명료성을 위해 과장됨)만큼 이미징 헤드(26D)에 대해 회전된다. 이러한 회전 에러를 보상하고 매트릭스(20)와 각각의 컬러 피처(226, 228) 사이의 희망하는 회전을 유지시키기 위해, 채널 어레이 내의 다양한 채널 서브그룹(241)의 기동 타이밍이 변화된다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 채널 서브그룹(241)은 각각 20개의 이미징 채널로 구성된다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서, 채널 서브그룹(241)은 상이한 수의 이미징 채널(40)로 구성될 수 있다. 1 밀리라디언 회전이 전체 스왓에 걸쳐서 4.5마이크론의 총 보상을 요구하므로, 각각의 채널 서브그룹(241)은 채널 서브그룹(241) 내의 채널 수와 동일한 부분을 보상한다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 각각의 채널 서브그룹의 기동 타이밍은 각각의 대응하는 이미징 스왓 부분이 (20/900) X 4.5 마이크론 또는 0.1 마이크론과 동일한 오프셋(247)만큼 서로 오프셋되도록 조절된다. 오프셋(247)은 이미징과 연관된 스캔 방향으로 정렬된다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 스캔 방향은 채용된 좌표 지정 움직임 기술과 관련된다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서, 스캔 방향은 주요 스캔 방향(42)으로 정렬될 수 있다. 다양한 채널 서브그룹(241) 내의 다양한 채널은 이미징 영역을 형성하도록 기동된다. 다양한 채널 서브그룹(241) 내의 다양한 채널은 이미징되지 않은 영역을 형성하도록 기동된다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 각각의 컬러 피처가 주어진 스캔 동안 채널 서브그룹(241)에 의해 이미징되므로, 컬러 피처 자체는 0.1 마이크론의 배수와 동일한 양만큼 서로 오프셋될 것이다. 이러한 방법으로, 각각의 컬러 피처(226(A) 내지 226(O)) 및 컬러 피처(228(A) 내지 228(O))는 0.1 마이크론보다 더 많이 매트릭스(20)에 오정렬되지는 않을 것이다. 이러한 적은 오프셋 양은 매트릭스(20)가 이미징 헤드(26D)에 대하여 회전 방향으로 스큐된다 하 더라도 이전에 정의된 최소 요구 오버랩 및 최소 갭 요건에 의해 부과되는 제약에 영향을 미치지 않을 것이다. 유리하게도, 이것은 보다 얇은 라인을 갖는 매트릭스를 포함하는 수용 엘리먼트의 이미징을 용이하게 한다.
채널 서브그룹(241)의 기동 타이밍을 조절하여 0.1 마이크론 정도로 낮은 오프셋을 생성하는 것은, 이미징 시스템의 생산성을 손상시키지 않고 용이하게 달성된다. 예를 들어, 1초당 2미터에 달하는 스캔 속도를 위해, 0.1 마이크론 오프셋은 현재 기동 전자기기에 의해 용이하게 달성 가능한 50 나노초의 기동 타이밍 지연에 대응할 것이다. 8 나노초 해상도의 기동 타이밍 지연은 본 발명에 의해 이용되고 있다. 몇몇 애플리케이션의 경우, 전체적인 회전 스큐의 정도에 따라 셰어링 이미지 데이터가 이미징된 컬러 피처와 매트릭스 사이에 요구되는 등록 정도를 제공하지 않을 수도 있다. 셰어링 이미지 데이터는 각각의 비트가 이미징되거나 이미징되지 않은 픽셀에 대응하는 비트 맵 파일을 생성한다. 이에 따라, 셰어링 이미지 데이터는 이미징 시스템의 어드레스 지정 가능성에 기초하여 이미징 오프셋을 야기할 수 있다. 이전의 실례에서는 5 마이크론의 개별적인 채널 어드레스 지정 가능성이 이용되었고, 이 값에 기초한 최종 오프셋은 매트릭스(20)와 이미징된 컬러 피처(226, 228)사이의 요구되는 등록을 제공하지 않을 것이다. 다양한 채널의 기동 타이밍을 조절하는 것은 이미지 픽셀의 특성 크기보다 작은 오프셋의 형성을 허용한다.
등록 서브 영역의 패턴은 등록 서브 영역의 다양한 공간적 구성을 포함한다. 인접한 등록 서브 영역은 등록 서브 영역 패턴 내에서 하나 이상의 방향으로 반복 된다. 이하에서 사용되는 바와 같이, 무엇인가가 등록 서브 영역 패턴에 평행하게 설명되지 않을 때, 그것은 인접한 등록 서브 영역이 등록 서브 영역 패턴 내에서 반복되는 방향에 의해 정의된 라인에 평행하지 않는 것으로 지칭된다. 인접한 등록 서브 영역은 등록 서브 영역 패턴 내에서 하나 이상의 방향으로 반복될 수 있다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 등록 서브 영역 패턴에 평행하지 않는 것은 인접한 등록 서브 영역이 등록 서브 영역 패턴의 행을 따라 반복되는 방향의 라인에 평행하지 않는 것을 포함할 수 있다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 등록 서브 영역 패턴에 평행하지 않는 것은 인접한 등록 서브 영역이 등록 서브 영역 패턴의 열을 따라 반복되지 않는 방향의 라인에 평행하지 않는 것을 포함할 수 있다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 등록 서브 영역 패턴은 채널 어레이의 축(예컨대, 축(231))에 평행하지 않다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 등록 서브 영역 패턴은 이미징 헤드(26D)에 의해 수용 엘리먼트(18C) 상으로 지정된 이미징 빔의 스캔 방향에 평행하지 않다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 상대적인 움직임은 등록 서브 영역 패턴에 평행하지 않은 제 1 방향을 따라 이미징 헤드(26D)와 수용 엘리먼트(18D) 사이에 설정된다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 다수의 이미징 채널(40)은 등록 서브 영역 패턴에 평행하지 않은 이미징 라인(예컨대, 도 12의 이미징 라인(243))을 형성하도록 기동된다.
본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 다수의 피처의 멤버는 대응하는 채널 서브그룹에 의해 이미징 헤드(26D)의 개별 스캔 동안 이미징된다. 다수의 피처는 인터리빙 방식으로 이미징될 수 있다. 예를 들어, 제 1 및 제 2 피처는 하나 이상 의 채널 서브그룹 내의 채널을 기동시킴으로써 제 1 스캔 동안 이미징될 수 있고, 제 3 피처는 추가 채널 서브그룹 내의 채널을 기동시킴으로써 제 2 스캔 동안 제 1 컬러 피처와 제 2 컬러 피처 사이에서 이미징된다. 이러한 채널 서브그룹의 적어도 하나의 멤버의 기동 타이밍은 그러한 채널 서브그룹의 다른 멤버의 기동 타이밍과는 상이하다.
본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 다양한 채널 서브그룹의 기동 타이밍은 그러한 채널 서브그룹 내의 다양한 채널이 이미징 빔의 방향을 지정하도록 기동되는지의 여부와 무관하게 제어된다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 채널 서브그룹은 이미징 빔의 방향을 지정하도록 기동되는 하나 이상의 채널에 대응하도록 선택된다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 제 1 채널 서브그룹은 이미징 빔의 방향을 지정하도록 기동되는 하나 이상의 채널에 대응하도록 선택되고, 제 2 채널 서브그룹은 이미징 빔의 방향을 지정하지 않도록 제어되는 하나 이상의 채널에 대응하도록 선택된다.
본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 기동 타이밍은 다수의 채널 서브그룹의 각각의 멤버마다 상이하며, 이 때 채널 서브그룹 중 적어도 하나는 채널 서브그룹의 다른 멤버와는 상이한 수의 채널로 구성된다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 제 1 채널 서브그룹은 제 2 채널 서브그룹에서의 이미징 빔의 방향을 지정하도록 기동되는 채널의 수와는 상이한 수의 채널이 이미징 빔의 방향을 지정하도록 기동된다.
본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 피처의 제 1 부분은 제 1 채널 서브그 룹 내의 다양한 채널을 기동시킴으로써 이미징되고, 피처의 제 2 부분은 제 2 채널 서브그룹 내의 다양한 채널을 기동시킴으로써 이미징되며, 이 때 제 1 채널 서브그룹의 기동 타이밍은 제 2 채널 서브그룹의 기동 타이밍과는 상이하다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 피처의 제 1 및 제 2 부분은 서로로부터 제 1 및 제 2 에지 부분을 오프셋시키도록 제어될 수 있다. 제 1 및 제 2 채널 서브그룹의 기동 타이밍은 제 1 및 제 2 에지 부분을 서로 오프셋시키도록 제어될 수 있다. 컬러 필터 피처의 레이저 유도 열 전사와 같은 애플리케이션에서, 그러한 오프셋은 레이저 유도 열 전사 프로세스의 성상 물질 전사 특성과 에지 부분들 사이의 오프셋의 작은 크기로 인해 보기 쉽지 않을 수도 있다. 그러나, 이러한 에지 부분은 오프셋 방식으로 이미징된다는 것이 이해될 것이다.
각각의 채널 서브그룹에 대해 선택된 채널의 수는 채널 서브그룹의 스위칭 해상도와 관련된 이미징 속도에 의존할 수 있다. 각각의 채널 서브그룹에 대해 선택된 채널의 수는 이미징된 피처 패턴과 이미징 채널 어레이 사이에 요구되는 회전 정도에 의존할 수 있다. 예를 들어, 다수의 이미징 채널로 구성되는 채널 서브그룹을 채용하는 본 발명의 다양한 예시적인 실시예는 이미징 채널 어레이에 1 밀리라디언 정도로 회전되는 매트릭스 상으로 컬러 필터 피처를 이미징하는 데 사용될 수 있다. 이 회전 각도는 보다 큰 크기(예컨대, 10도)까지 증가하므로, 단일 픽셀로 구성되는 서브그룹을 채용하는 본 발명의 실시예가 보다 적절할 것이다.
다시 도 5를 참조하면, 단계 340은 피치 및 기판 회전 정정을 포함한다. 등록 영역은 그 영역에 대해 형성되는 이미지에 대해 요구되는 경계를 나타낸다. 몇 몇 경우, 등록 영역은 이미징된 반복 피처 패턴이 등록되어야 하는 반복 서브 영역 패턴(예컨대, 매트릭스)을 포함한다. 도 11a는 반복 서브 영역 패턴으로 구성되는 등록 영역(47F)으로의 반복 피처 패턴의 희망 등록의 실례를 도시하고 있다. 이 실례에서, 등록 영역(47F)은 다수의 매트릭스 셀(34)로 구성되는 매트릭스(20)를 포함한다. 다양한 피처는 다수의 단계에서 일반적으로 매트릭스 셀에 대해 형성된다. 이 경우, 적색 피처(12A), 녹색 피처(14A) 및 청색 피처(16A)가 수용 엘리먼트(18D) 상에 형성되는 것이 바람직하다. 각각의 적색 피처(12A), 녹색 피처(14A) 및 청색 피처(16A)는 바람직하지 않은 백라이팅 효과를 회피하기 위해 매트릭스(20)의 일부분과 오버랩되는 것이 바람직하다. 각각의 적색 피처(12A), 녹색 피처(14A) 및 청색 피처(16A)는 그들 자신과 오버랩되는 일 없이 매트릭스(20)의 일부분과 오버랩될 것이다. 이에 따라, 이 실례에서는, 적색 피처(12A), 녹색 피처(14A) 및 청색 피처(16A)의 각 반복 패턴의 피치 "Pf"가 반복 서브 영역 패턴(즉, 매트릭스 셀(34))의 피치 "Pr"과 실질적으로 동일한 것이 바람직하다.
도 11b는 통상적인 이미징 기술을 이용하여 도 11a에 도시된 수용 엘리먼트(18D)를 이미징하는 어려움을 개략적으로 도시하고 있다. 도 11b는 대응하는 매트릭스 셀(34)을 갖는 레지스터에 희망하는 적색 피처(12A)를 이미징하고자 하는 통상적인 이미징 프로세스를 개략적으로 도시하고 있다. 녹색 피처(14A) 및 청색 피처(16A)는 명료성을 위해 생략되었다. 이미징 헤드(26E)는 적색 피처(12A)의 희망 패턴에 대응하는 적색 피처(12B)의 반복 패턴을 형성한다. 이미징 헤드(26E)는 서브 스캔 축(44)으로 정렬된 경로를 따라 이동가능하며, 이미징 빔을 방출 수 있는 개별 어드레스 지정가능 채널(40)의 어레이(227B)를 포함한다. 채널 어레이(227B)는 1차원 어레이 또는 2차원 어레이를 포함할 수 있다. 이 예시적인 경우에, 이미징 헤드(26E)는 일반적인 방향을 이용하며, 이 때 어레이(27B)의 축(231)은 실질적으로 매트릭스 셀(34)의 패턴에 평행하다. 도 11b에 도시된 바와 같이, 채널 어레이(227B)는 적색 피처(12B)가 이미징되는 매트릭스 셀(34)의 피치 Pr과 동일한 초기 피치 "Pi"를 갖는 적색 피처(12A)의 반복 패턴을 이미징할 수 없는 어드레스 지정 가능성을 갖는다. 각각의 이미징된 적색 피처(12B)의 크기 및 위치를 제어할 수 있는 능력은 픽셀 크기의 기능이다. 이미징 헤드(26E)에 의해 생성되는 이미징 빔은 적색 피처(12A)의 희망 패턴을 생성할 수 없음 크기의 픽셀을 생성한다. 이미징된 적색 피처(12B)는 변화하는 양만큼 대응 셀(34)에 오버랩된다. 이 경우, 적색 피처(12B) 중 일부 피처의 셀 오버랩 양은 그들 적색 피처(12B)가 전술한 문제를 포함하는 다양한 문제를 야기할 수 있는 다른 공여 엘리먼트와 함께 이미징되는 다른 피처에 의해 오버랩될 지점까지 증가하였다. 다수의 적색 피처(12B)가 주어진 스왓 내에서 이미징되는 몇몇 경우, 그들 적색 피처(12B) 중 일부는 함께 매트릭스 라인과 오버랩되지 못할 수도 있고, 희망하지 않는 이미징되지 않은 영역(242)을 생성하지 못할 수도 있다.
도 11c는 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 도 11a에 도시된 수용 엘리먼트(18D)의 이미징을 개략적으로 도시하고 있다. 도 11c는 희망하는 적색 피처(12A)에 관련된 이미징 프로세스만을 도시하고 있다. 적색 피처(14A) 및 청색 피처(16A)는 명료성을 위해 생략되었다. 적색 피처(14A) 및 청색 피처(16A)의 패턴은 본 발명의 이러한 예시적인 실시예 또는 다른 예시적인 실시예에 따라 이미징될 수 있다. 적색 피처(12C)는 도 11b에 도시된 통상적인 이미징 기술에서 사용되었던 이미징 헤드(26E)를 이용하여 이미징된다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 이미징 헤드(26E)는 매트릭스(20)에 대하여 회전된다. 이 실시예에서, 이미징 헤드(26E)는 서브 스캔 방향(44)으로부터 어레이(227B)의 축(231)으로 측정되는 각도 θ4만큼 회전된다. 각도 θ4는 회전된 이미징 헤드(26E)에 의해 생성된 이미징 스왓의 크기가 조정되어 적색 피처(12C)의 패턴으로 하여금 매트릭스 셀(34)의 피치 Pr과 동일한 피치 Pf로 이미징되게 하는 이미징 빔을 생성하도록 선택된다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 각각의 적색 피처(12C)들 사이의 피치 거리는 이미징 헤드(26E)의 회전에 의해 조절되어 이미징된 적색 피처(12C)들 사이의 간격을 조절하게 한다. 이미징 헤드(26E)의 회전은 또한 이미징 픽셀의 크기가 변화되게 한다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 픽셀의 크기는 이미징 헤드(26E)에 의해 형성된 이미지 스왓에 대체로 수직인 방향으로 변경된다. 픽셀 크기의 변화는 서브 스캔 방향(42)을 따라 주목될 수 있다. 픽셀 크기 변화는 이미징된 적색 피처의 크기가 적색 피처(12A)의 타겟 크기로부터 약간 변화하게 할 수 있다. 각각의 이미징된 적색 피처(12C) 및 타겟 적색 피처(12A) 사이의 크기 변화는 이미징 채널(40) 어레이의 고유한 서브 스캔 어드레스 지정 가능성에 의한 영향을 받는다. 이 실시예에서, 본 발명을 구현하기 위해, 충분한 수의 채널이 충분한 수의 조절된 픽셀 크기를 갖는 각각의 피처를 이미징하도록 선택된다. 컬러 필터 이미징과 같 은 애플리케이션에서, 각각의 컬러 피처는 일반적으로 이들 변화를 수용할 수 있는 소정 범위 내에서 매트릭스를 오버랩하도록 허용될 것이다. 이미징 채널(40) 어레이의 매트릭스(20)에 대한 각도 θ4 만큼의 회전은 적색 피처(12C)의 반복 패턴의 피치가 매트릭스 셀(34)의 피치와 일치하게 하여, 모든 이미징된 적색 피처(12C)와 매트릭스(20) 사이에 일관된 수준의 오버랩을 보증한다. 본 발명의 실시예는 또한 유사한 방식으로 다른 피처의 반복 패턴을 이미징하는 데에도 사용될 수 있다.
도 11c에 도시된 본 발명의 실시예에서는 이미징 헤드(26E)가 서브 스캔 방향(44)에 평행한 초기 위치로부터 회전되었지만, 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서는 이미징 헤드(26E)가 반드시 그러한 것은 아닌 초기 위치로부터 적절한 각도만큼 회전된다.
도 12는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 수용 엘리먼트(18D)의 이미징을 개략적으로 도시하고 있다. 수용 엘리먼트(18D)는 그것이 주요 스캔 방향(42)에 대해 각도 ρ만큼 스큐된다는 점을 제외하면 도 11에 도시된 것과 동일하다. 도 12는 적색 피처(12A)의 이미징에 관련된 이미징 프로세스만을 도시하고 있다. 녹색 피처(14A) 및 청색 피처(16A)는 명료성을 위해 생략되었다. 이미징 헤드(26E)의 개별 어드레스 지정 가능 채널(40)의 어레이(227B)는 적색 피처(12D)를 형성하는 데 사용되는 스캐닝 이미징 라인(243)을 형성하는 이미징 빔의 방향을 지정하도록 기동된다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 이미징 헤드(26E)는 서브 스캔 방향(44)에 실질적으로 평행한 경로를 따라 이동 가능하다. 상대적인 움직임은 주요 스캔 방향(42)으로 정렬된 방향으로 이미징 헤드(26E)와 수용 엘리먼트(18B0 사 이에 설정된다. 이미징 채널(40)의 어레이(227B)는 스캔 경로를 따라 스캐닝하면서 이미징 빔을 방출하도록 제어된다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 채널 어레이는 매트릭스(20)에 대해 회전되어 적색 피처(12D)의 패턴이 매트릭스 셀(34)의 유효 피치 Preff와 동일한 유효 피치 Pfeff로 이미징되게 한다. 도 12에 도시된 바와 같이, 채널 어레이(227B)는 각도 θ5만큼 회전되는데, 이 각도는 이 실시예에서 서브 스캔 방향(44)으로부터 어레이(227B)의 축(231)까지 측정된다. 채널 어레이(227B)의 요구되는 회전의 양은 매트릭스(20)와 채널 어레이(227B) 사이의 스큐의 초기 양에 의존한다. 초기 스큐는 유효 피치 Preff를 생성하도록 매트릭스 셀의 고유 피치 Pr을 변경시킨다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 유효 피치 Preff는 이미징 라인(243)에 평행한 방향을 따라 결정된다.
본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 매트릭스(20)는 스큐된다. 적색 피처(12D)의 반복 패턴도 또한 스큐 방식으로 이미징된다. 본 발명의 다양한 예시적인 실시예는 이미징 헤드(26E)에 의해 방출되는 이미징 빔을 제어하여 이미징된 픽셀의 계단형 구성을 갖는 각 피처의 에지를 이미징함으로써 스큐 방식으로 이미징할 수 있다. 피처의 스큐 에지를 이미징하는 다른 방법은 좌표 지정 움직임을 이용하는 것이다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 채널 어레이(227B)는 스캔 경로를 따라 이미징 빔의 방향을 지정하도록 동작 가능하며, 매트릭스(20)는 스캔 경로에 대하여 스큐된다. 이 스큐는 매트릭스 셀의 고유 피치 Pr를 변경하여 유효 피치 Preff를 생성하고, 피처의 패턴은 유효 피치 Preff와 동일한 유효 피치 Preff로 이미징된다. 피처의 패턴은 이 스큐를 설명하기 위해 채널 어레이(227A)를 회 전시킴으로써 이미징될 수 있다. 도 13은 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따라 도 11에 도시된 수용 엘리먼트(18D)의 이미징을 개략적으로 도시하고 있다. 도 13은 적색 피처(12A)의 이미징에 관련된 이미징 프로세스만을 도시하고 있다. 녹색 피처(14A) 및 청색 피처(16A)는 명료성을 위해 생략되었다. 적색 피처(12E)는 이미징 헤드(26F)로 이미징된다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 이미징 헤드(26F)는 줌 메커니즘(250)을 포함한다. 줌 메커니즘(250)은 적색 피처(12E)가 이미징되는 매트릭스 셀(34)의 피치 Pr과 동일한 피치 Pf로 적색 피처(12E)의 패턴이 이미징되도록 이미징 헤드(26F)에 의해 방출된 이미징 빔의 크기를 조절한다. 줌 메커니즘(250)은 이들 빔에 의해 이미징된 픽셀의 크기를 조절하도록 이미징 빔의 크기를 조절할 수 있다. 매트릭스가 이미징 헤드(26F)의 스캔 경로에 대해 스큐되는 경우, 줌 메커니즘(250)은 적색 피처(12E)의 패턴이 매트릭스 셀의 유효 피치 Preff와 동일한 유효 피치로 이미징되게 하도록 동작될 수 있다.
도 14는 본 발명의 예시적인 실시예에 채용된 줌 시스템(250)을 개략적으로 도시하고 있다. 줌 시스템(250)은 고정 필드 광학 콤포넌트(252), 2개 이상의 이동 줌 광학 소자(254), 구경 조리개(256), 고정 필드 콤포넌트(258) 및 이동 포커스 광학 콤포넌트(260)를 포함한다. 본 발명의 이 예시적인 실시예에서, 구경 조리개(256)는 이동 줌 광학 콤포넌트와 고정 필드 광학 콤포넌트(252) 사이에 위치된다. 줌 메커니즘(250)은 줌 조절 범위를 통해 피사체 평면(262) 및 이미지 평면(264)의 위치를 유지시킨다. 이동 줌 광학 콤포넌트(254)의 위치는 광학 시스템의 확대도를 설정하는 스케쥴에 따라 이동된다. 각각의 다양한 광학 콤포넌트는 하나 이상의 광학 엘리먼트로 구성된다. 광학 엘리먼트 중 하나 이상은 왜상(anamorphic)일 수 있다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예는 다른 줌 메커니즘을 사용할 수 있다.
등록 서브 영역의 패턴(예컨대, 매트릭스)의 피치는 직접 측정에 의한 것을 포함하는 다양한 방법으로 결정될 수 있다. 예를 들어, 빔 파인더는 등록 서브 영역의 패턴의 고유 피치 또는 유효 피치를 결정하는 데 사용될 수 있다. 이미징 픽셀의 크기, 이미징 빔 및/또는 이미징된 스왓은 또한 측정에 의해 결정될 수 있으며, 반복 피처 패턴의 피치를 등록 서브 영역의 반복 피치 패턴에 매칭시키도록 도움을 주는 데 사용될 수 있다.
픽셀 크기는 본 발명의 하나 이상의 예시적인 실시예에 따라 조절될 수 있다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 제 1 방향의 픽셀 크기는 제 2 방향의 픽셀 크기와는 상이하게 변경된다. 제 2 방향은 제 1 방향과는 실질적으로 수직일 수 있다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 서브 스캔 방향의 픽셀 크기는 주요 스캔 방향의 픽셀 크기와는 상이하게 변경된다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 픽셀의 크기 특성은 상이한 방향으로 상이한 크기를 갖도록 조절된다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 픽셀의 특성은 상이한 방법에 의해 상이한 방법으로 조절된다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 픽셀 크기는 제 2 방향의 픽셀 크기와는 무관하게 제 1 방향으로 조절된다. 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에서, 서브 스캔 방향의 픽셀 크기는 주요 스캔 방향의 픽셀 크기와는 무관하게 조절된다.
일단 다양한 등록 영역의 방향이 알려지면, 반복 피처 패턴은 도 5의 단계 350에 따라 등록 영역을 갖는 레지스터에서 이미징된다. 이미징은 상이한 방법으로 달성될 수 있다. 예를 들어, 도 4의 이미징 장치(50)를 참조하면, 이미징은 등록 계산으로부터 계산되는 바와 같이, 서브 스캔 방향(44)을 따라 제어기(60)로부터 검색되는 시작 위치에 각각의 이미징 헤드(26A, 26B)를 배치함으로써 수행된다. 수용 엘리먼트(18A)는 주요 스캔 방향(42)을 따라 제어기(60)에 의해 제공되는 시작 위치에 배치된다. 이 시작 위치는 이미징 속도를 가속화시키는 데 요구되는 거리를 고려한다. 장치(50)는 수용 엘리먼트(18A)를 이미징 속도까지 가속화시킨다. 이것은 이미징 헤드(26A, 26B) 아래의 정확한 위치에 정확한 속도로 수용 엘리먼트(18A)를 이동시킨다. 수용 엘리먼트(18A)가 이동됨과 동시에, 각각의 이미징 헤드(26A, 26B)는 좌표 지정 방식으로 서브 스캔 방향(42)을 따라 이동된다. 이미징 헤드(26A, 26B)는 수용 엘리먼트(18A)를 향해 이미징 빔을 방출하여 다양한 이미징 스왓을 형성하도록 제어된다. 각각의 이미징 헤드(26A, 26B)가 상이한 등록 영역(47) 위에서 이미징하고 있다면, 각 이미징 헤드에 대한 속도 및 기동 타이밍은 다른 것과는 무관하다. 이미징 헤드(26A, 26B)가 그들의 각 스왓을 완성하면 그들의 주요 스캔 움직임이 유지되고, 그와 동시에 이미징 헤드(26)는 서브 스캔 방향을 따라 일부 스왓 폭 또는 모든 스왓 폭만큼 이동된다. 이미징 장치는 주요 스캔 움직임의 양쪽 방향으로 수용 엘리먼트(18A)를 이미징할 수 있다. 본 발명의 다른 예시적인 실시예는 다른 이미징 방법을 포함할 수 있다.
이미징 헤드(26)는 개별 어드레스 지정가능 채널(40)을 갖는 임의의 적합한 멀티 채널 이미징 헤드를 포함할 수 있으며, 각각의 채널은 제어될 수 있는 강도 또는 파워를 갖는 이미징 빔을 생성할 수 있다. 임의의 적합한 메커니즘이 이미징 빔을 생성하는 데 사용될 수 있다. 이미징 빔은 임의의 적합한 방법으로 구성될 수 있다.
본 발명의 몇몇 실시예는 적외선 레이저를 채용한다. 830㎚의 파장으로 대략 50 W의 총 파워 출력을 갖는 150 ㎛ 이미터를 채용한 적외선 다이오드 레이저 어레이가 본 발명에서 계속해서 사용되었다. 시각적 광 레이저를 포함하는 다른 레이저도 본 발명을 구현하는 데 사용될 수 있다. 채용된 레이저 소스의 선택은 이미징될 미디어의 속성에 의해 동기를 부여받을 수 있다.
도 4에 도시된 바와 같이, 피처 패턴(30)을 나타내는 데이터(63)는 제어기(60)에 입력된다. 제한 없이, 피처 패턴(30)은 컬러 필터의 일부분을 형성하는 컬러 피처 패턴을 나타낼 수 있다.
본 발명의 다양한 예시적인 실시예는 성상 물질이 수용 엘리먼트에 전사되는 레이저 유도 열 전사 처리를 기초로 설명되었다. 본 발명의 다른 실시예에서는 다른 이미징 방법 및 미디어를 이용할 수도 있다. 이미지는, 본 발명의 범주를 벗어나지 않고 다른 방법으로 미디어 상에 형성될 수 있다. 예컨대, 미디어는 이미지 수정 가능한 표면을 포함할 수 있으며, 여기서 수정 가능한 표면의 특성 혹은 특징은, 이미지를 형성하도록 이미징 빔이 조사될 때 변경된다. 이미징 빔은 미디어의 표면을 용제해서 이미지를 형성하는데 사용될 수 있다. 당업자라면 다른 이미징 방법이 용이하게 사용될 수 있다는 것을 이해할 것이다.
프로그램 제품(67)은 장치(50)에 의해 요구되는 다양한 방식을 수행하도록 제어기(60)에 의해 사용될 수 있다. 한 가지 기능은 이미징 헤드(26)가 등록 서브 영역의 하나 이상의 반복 등록 패턴(36)에 피처(30)의 하나 이상의 반복 패턴을 등록하게 하는 제어 파라미터를 설정하는 것을 포함한다. 프로그램 제품(67)은, 컴퓨터 프로세서에 의해 수행될 때, 컴퓨터 프로세서로 하여금 본 명세서에서 설명된 방법을 수행하게 하는 인스트럭션을 포함하는 컴퓨터-판독가능 신호의 세트를 전달하는 임의의 미디어를 포함할 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 프로그램 제품(67)은 다양한 형태 중 임의의 것일 수 있다. 프로그램 제품(67)은 예컨대, 플로피 디스켓 및 하드디스크 드라이브를 포함하는 자기 저장 미디어, CD ROM, DVD를 포함하는 광 데이터 저장 미디어 및 ROM, 플래시 RAM을 포함하는 전자 데이터 저장 미디어 등을 포함하는 물리적 미디어를 포함할 수 있다. 인스트럭션은 미디어 상에서 선택적으로 압축 및/또는 암호화될 수 있다.
본 명세서에서 설명된 방법의 경우, 피처(30)의 반복 패턴은 또한 아일랜드 피처의 반복 패턴을 포함할 수 있다. 그러나, 본 발명은 직사각형 형상의 아일랜드 피처를 이미징하는 것으로 한정되는 것은 아니다.
피처는 하프톤 스크리닝 데이터를 포함한 이미지 데이터에 따라서 이미징될 수 있다. 하프톤 이미징 시에, 피처는 엘리먼트가 알려진 하프톤 도트의 패턴을 포함한다. 하프톤 도트의 크기는 이미징되는 피처에 요구되는 휘도 혹은 암도(darkness)에 따라서 달라진다. 각각의 하프톤 도트는 이미징 헤드(26)에 의해 이미징되는 픽셀보다 크고 전형적으로 복수의 이미징 채널에 의해 이미징되는 픽셀 의 매트릭스로 이루어진다. 하프톤 도트는, 전형적으로 단위 길이 당 하프톤 도트의 수로 정의되는 선택된 스크린 규칙 및 전형적으로 하프톤 도트의 방향이 지정되는 각도에 의해 형성되는 선택된 스크린 각으로 이미징된다. 본 발명의 실시예에서, 피처(70)는, 이 피처를 이미징하도록 선택된 대응 하프톤 스크린 데이터에 따른 스크린 강도를 갖고 이미징될 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에서, 피처는, 동일한 크기 도트의 다양한 공간 주파수로 이루어진 확률 스크린(stochastic screen)을 이용해서 이미징될 수 있다. 본 발명의 또 다른 실시예에서, 하프톤 스크린과 확률 스크린이 결합된 스크린(통상적으로 '하이브리드' 스크린이라고 함)을 이용해서 비-연속 피처가 이미징될 수 있다.
피처의 패턴이 디스플레이의 컬러 피처의 패턴을 기초로 설명되었다. 본 발명의 일부 실시예에서, 피처는 LCD 디스플레이의 일부가 될 수 있다. 본 발명의 다른 실시예에서, 피처는 유기 발광 다이오드(OLED) 디스플레이의 일부가 될 수 있다. OLED 디스플레이는 다른 구성을 포함할 수 있다. 예컨대, LCD 디스플레이와 유사한 방식으로, 다른 컬러 피처가 백색 OLED 소스와 관련되어 사용되는 컬러 필터 내에 형성될 수도 있다. 다른 방안으로, 디스플레이 내의 다른 컬러 조명 소스가 본 발명의 다양한 실시예에 따라서 다양한 OLED 물질로 형성될 수 있다. 이들 실시예에서, OLED 기반 조명원은 자체적으로 착색 광의 발광을 제어하지만, 이 때 반드시 수동형 컬러 필터를 필요로 하는 것은 아니다. OLED 물질은 적절한 미디어로 전사될 수 있다. OLED 물질은 레이저 유도 열 전사 기법을 이용해서 수용체 소 자로 전사될 수 있다.
본 발명이 디스플레이 및 전자 장치 제조의 애플리케이션을 예로 해서 설명되었지만, 여기 설명된 방법은 LOC(lab-on-a-chip) 제조를 위한 생물 의학적인 이미징에 사용되는 패턴을 포함한, 피처의 임의의 패턴을 이미징하는 데에도 직접 적용할 수 있다. LOC 장치는 피처의 여러 가지 반복 패턴을 포함할 수 있다. 본 발명은, 의학, 인쇄 및 전자 기기 제조 기법과 같은 다른 기법에도 적용될 수 있다.
예시적인 실시예는 본 발명을 단지 예시적인 것으로, 위에 설명된 실시예의 많은 변형예가 본 발명의 범주를 벗어나지 않고 당업자에 의해서 고안될 수 있다는 것을 이해할 것이다.

Claims (48)

  1. 다수의 이미지를 미디어 상에 형성하는 방법으로서,
    제 1 스캔 경로를 따라 미디어 위에서 스캐닝하는 동안, 제 1 다수의 개별 어드레스 지정가능 채널을 포함하는 제 1 이미징 헤드를 동작시켜 상기 미디어 상에 제 1 이미지를 형성하는 이미징 빔의 방향을 지정하는 단계와,
    제 2 스캔 경로를 따라 미디어 위에서 스캐닝하는 동안, 제 2 다수의 개별 어드레스 지정가능 채널을 포함하는 제 2 이미징 헤드를 동작시켜 상기 미디어 상에 제 2 이미지를 형성하는 이미징 빔의 방향을 지정하는 단계를 포함하되,
    상기 제 1 스캔 경로는 상기 제 2 스캔 경로에 평행하지 않고,
    상기 제 1 이미지는 상기 제 2 이미지와 정렬되지 않는
    이미지 형성 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 이미지는 상기 제 2 이미지에 대해 스큐(skew)되는
    이미지 형성 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 이미징 헤드를 동작시켜 상기 미디어를 이미징하면서 상기 제 1 이미징 헤드를 동작시켜 상기 미디어를 이지징하는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 이미징 헤드가 상기 미디어를 이미징하는 동안, 상기 제 1 이미징 헤드와 상기 미디어 사이에 제 1 상대적 속도를 설정하는 단계와,
    상기 제 2 이미징 헤드가 상기 미디어를 이미징하는 동안, 상기 제 2 이미징 헤드와 상기 미디어 사이에 상기 제 1 상대적 속도와는 상이한 제 2 상대적 속도를 설정하는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 이미징 헤드가 상기 미디어를 이미징하는 동안에 제 1 속도로 상기 제 1 이미징 헤드를 이동시키는 단계와,
    상기 제 2 이미징 헤드가 상기 미디어를 이미징하는 동안에 상기 제 1 속도와는 상이한 제 2 속도로 상기 제 2 이미징 헤드를 이동시키는 단계를 포함하는
    이미징 형성 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    이미징 빔의 방향을 지정하도록 상기 제 2 다수의 이미징 채널 중 일부를 기동시키면서 이미징 빔의 방향을 지정하도록 상기 1 다수의 이미징 채널 중 일부를 기동시키는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    제 1 및 제 2 이미징 헤드 각각의 채널은 기동 타이밍에 의해 제어되고,
    상기 방법은 상기 제 1 다수의 개별 어드레스 지정가능 채널 및 상기 제 2 다수의 개별 어드레스 지정가능 채널 중 적어도 하나에 속하는 채널 중 일부 채널의 기동 타이밍을 변화시키는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 이미징 헤드 각각의 채널은 기동 타이밍에 의해 제어되고,
    상기 방법은 상기 제 1 다수의 개별 어드레스 지정가능 채널 및 상기 제 2 다수의 개별 어드레스 지정가능 채널 각각의 기동 타이밍을 변화시키는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 이미징 헤드 각각의 채널은 기동 타이밍에 의해 제어되고,
    상기 방법은
    상기 제 1 다수의 개별 어드레스 지정가능 채널의 일부분에 대한 기동 타이밍을 제 1 기간만큼 지연시키는 단계와,
    상기 제 2 다수의 개별 어드레스 지정가능 채널의 일부분에 대한 기동 타이밍을 상기 제 1 기간과는 상이한 제 2 기간만큼 지연시키는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 이미징 헤드 각각의 채널은 기동 타이밍에 의해 제어되고,
    상기 방법은
    상기 제 1 다수의 개별 어드레스 가능 채널의 일부분에 대한 기동 타이밍을 제 1 기간만큼 선행시키는 단계와,
    상기 제 2 다수의 개별 어드레스 지정가능 채널의 일부분에 대한 기동 타이밍을 상기 제 1 기간과는 상이한 제 2 기간만큼 선행시키는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 이미징 헤드 각각의 채널은 기동 타이밍에 의해 제어되고,
    상기 방법은
    상기 제 1 다수의 개별 어드레스 지정가능 채널의 일부분에 대한 기동 타이밍을 선택시키는 단계와,
    상기 제 2 다수의 채널의 일부분에 대한 기동 타이밍을 지연시키는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 이미징 헤드 각각의 채널은 기동 타이밍에 의해 제어되 고,
    상기 방법은
    상기 제 1 다수의 개별 어드레스 지정가능 채널 중 제 1 채널 그룹의 기동 타이밍을 변화시키는 단계와,
    상기 제 2 다수의 개별 어드레스 지정가능 채널 중 상기 제 1 그룹 내의 채널 수와는 상이한 수의 채널을 갖는 제 2 채널 그룹의 기동 타이밍을 변화시키는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 이미징 헤드를 동작시켜 상기 제 3 스캔 경로를 따라 상기 미디어 위로 스캐닝하면서 상기 제 1 이미지와 정렬되지 않는 제 3 이미지를 상기 미디어 상에 형성하는 이미징 빔의 방향을 지정하는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 제 3 이미지는 상기 제 1 이미지에 대해 스큐되는
    이미지 형성 방법.
  15. 제 13 항에 있어서,
    상기 제 3 스캔 경로는 상기 제 1 스캔 경로에 평행하지 않은
    이미지 형성 방법.
  16. 제 13 항에 있어서,
    상기 제 1 이미지와 상기 제 3 이미지 사이의 경로를 따라 상기 제 1 이미징 헤드와 상기 미디어 사이에 상대적인 움직임을 설정하는 단계를 포함하되,
    상기 경로는 상기 제 1 스캔 경로 및 상기 제 3 스캔 경로 중 적어도 하나와 평행하지 않는
    이미지 형성 방법.
  17. 제 1 항에 있어서,
    상기 미디어는 하나 이상의 등록 영역을 포함하고,
    상기 방법은 상기 제 1 스캔 경로를 정렬하여 제 1 등록 영역으로의 실제 등록 시에 상기 제 1 이미지의 일부분을 형성하는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  18. 제 1 항에 있어서,
    상기 미디어는 하나 이상의 등록 영역을 포함하고,
    상기 방법은, 주요 스캔 방향 및 서브 스캔 방향 모두를 따라 상대적인 움직임을 야기함으로써 제 1 등록 영역으로의 실제 등록 시에 상기 제 1 이미지의 일부분을 이미징하는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  19. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 2 스캔 경로를 정렬하여 제 2 등록 영역으로의 실제 등록 시에 상기 제 2 이미지의 일부분을 형성하는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  20. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 이미징 헤드 각각의 채널은 동기화 타이밍에 의해 제어되고,
    상기 방법은 상기 제 1 다수의 개별 어드레스 지정가능 채널의 일부분에 대한 기동 타이밍을 변화시켜 상기 제 1 등록 영역으로의 실제 등록 시에 상기 제 1 이미지의 추가 부분을 형성하는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  21. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 다수의 이미징 채널에 제공되느 이미지 데이터에 따라 상기 제 1 다수의 이미징 채널을 기동시키는 단계를 더 포함하되,
    상기 방법은 상기 제 1 등록 영역으로의 실제 등록 시에 상기 제 1 이미지의 추가 부분을 형성하도록 상기 이미지 데이터를 수정하는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  22. 제 21 항에 있어서,
    상기 이미지 데이터를 수정하는 단계는 상기 제 1 등록 영역의 방위와 일치하도록 상기 이미지 데이터를 셰어링하는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  23. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 이미지는 상기 제 1 스캔 방향에 대해 수직인 방향으로 피처의 패 턴이 반복되는 반복 피처 패턴을 포함하는
    이미지 형성 방법.
  24. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 이미지는 피처 패턴을 포함하되,
    상기 피처는 상기 제 1 스캔 경로에 적어도 수직인 방향으로 서로에게 공간적으로 분리되는
    이미지 형성 방법.
  25. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 이미지는 상기 제 1 스캔 경로에 평행한 방향으로 확장되는 스트라이프를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  26. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 이미지는 상기 제 1 스캔 경로에 평행한 방향으로 불연속인 스트라이프를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  27. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 등록 영역은 매트릭스를 포함하고,
    상기 제 1 이미지는 컬러 필터의 일부분을 형성하는 컬러 피처 패턴을 포함하는
    이미지 형성 방법.
  28. 제 27 항에 있어서,
    상기 컬러 필터는 주어진 컬러에 각각이 대응하는 다수의 컬러 피처 패턴을 포함하되,
    상기 방법은 각각의 상기 패턴을 개별적으로 이미징하는
    이미지 형성 방법.
  29. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 이미지를 형성하고 상기 제 2 이미지를 형성하는 단계는 레이저 유도 열 전사 프로세스에서 상기 제 1 이미지 및 상기 제 2 이미지를 이미징하능 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  30. 제 29 항에 있어서,
    상기 레이저 유도 열 전사 프로세스는 레이저 유도 염료 전사 프로세를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  31. 제 29 항에 있어서,
    상기 레이저 유도 열 전사 프로세스는 레이저 유도 매스 전사 프로세스를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  32. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 이미지를 형성하고 상기 제 2 이미지를 형성하는 단계는 공여 엘리먼트로부터 상기 미디어로 성상 물질을 전달하는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  33. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 이미지를 형성하고 상기 제 2 이미지를 형성하는 단계는 착색제(colorant) 및 바인더를 상기 미디어에 전달하는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  34. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 이미지는 반복 아일랜드 피처 패턴을 포함하는
    이미지 형성 방법.
  35. 제 34 항에 있어서,
    상기 등록 영역은 반복 등록 서브 영역 패턴을 포함하고,
    상기 방법은 반복 아일랜드 피처 패턴을 상기 반복 등록 서브 영역 패턴에 등록하는 단계를 더 포함하는
    이미지 형성 방법.
  36. 제 34 항에 있어서,
    상기 반복 아일랜드 피처 패턴은 제 1 다수의 제 1 컬러 피처를 포함하되,
    상기 제 1 다수의 피처 중의 각 피처는 상이한 컬러의 피처에 의해 상기 제 1 컬러의 다른 컬러와는 상이한
    이미지 형성 방법.
  37. 제 34 항에 있어서,
    상기 반복 아일랜드 피처 패턴은 제 1 다수의 제 1 컬러 피처를 포함하되,
    상기 제 1 다수의 피처 중의 일부 피처는 상기 제 1 컬러의 다른 일부 피처로부터 상이한 컬러의 피처만큼 제 1 방향으로 이격되는
    이미지 형성 방법.
  38. 제 37 항에 있어서,
    상기 제 1 방향은 상기 제 1 스캔 경로와 평행한
    이미지 형성 방법.
  39. 제 34 항에 있어서,
    상기 반복 아일랜드 피처 패턴은 제 1 다수의 제 1 컬러 피처를 포함하되,
    상기 제 1 다수의 피처 중 일부 일처는 상기 제 1 컬러와는 상이한 컬러의 피처만큼 상기 제 1 컬러의 다른 일부 피처로부터 제 1 방향 및 상기 제 1 방향에 수직인 제 2 방향으로 이격되는
    이미지 형성 방법.
  40. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 스캔 경로는 직선인
    이미지 형성 방법.
  41. 제 29 항에 있어서,
    상기 미디어는 레이저 유도 열 전사 프로세스가 아닌 방법으로부터 생성된 매트릭스를 포함하는 하나 이상의 등록 영역을 포함하는
    이미지 형성 방법.
  42. 제 24 항에 있어서,
    패턴의 각 피처는 하프톤 스크린(halftone screen) 또는 확률 스크린(stochastic screen) 중 하나로 스크리닝되는
    이미지 형성 방법.
  43. 인스트럭션을 포함하는 컴퓨터 판독가능 신호의 세트를 실행하는 프로그램 제품으로서,
    상기 인스트럭션은, 제어기에 의해 실행될 때, 상기 제어기로 하여금,
    제 1 스캔 경로를 따라 미디어 위에서 스캐닝하는 동안, 제 1 다수의 개별 어드레스 지정가능 채널을 포함하는 제 1 이미징 헤드를 동작시켜 상기 미디어 상에 제 1 이미지를 형성하는 이미징 빔의 방향을 지정하고,
    제 2 스캔 경로를 따라 미디어 위에서 스캐닝하는 동안, 제 2 다수의 개별 어드레스 지정가능 채널을 포함하는 제 2 이미징 헤드를 동작시켜 상기 미디어 상에 제 2 이미지를 형성하는 이미징 빔의 방향을 지정하게 하되,
    상기 제 1 스캔 경로는 상기 제 2 스캔 경로에 평행하지 않고,
    상기 제 1 이미지는 상기 제 2 이미지와 정렬되지 않는
    프로그램 제품.
  44. 제 1 항에 있어서,
    상기 미디어는 등록 서브 영역 패턴을 포함하고,
    상기 다수의 이미지는 하나 이상의 피처 패턴을 포함하며,
    상기 방법은 상기 등록 서브 영역 패턴에 상기 하나 이상의 피처 패턴을 등록하는 단계를 포함하는
    이미지 형성 방법.
  45. 제 44 항에 있어서,
    상기 등록 서브 영역 패턴은 매트릭스를 포함하고,
    상기 하나 이상의 피처 패턴은 컬러 피처 패턴을 포함하는
    이미지 형성 방법.
  46. 제 45 항에 있어서,
    상기 컬러 피처 패턴은 컬러 필터의 일부분을 형성하는
    이미지 형성 방법.
  47. 제 45 항에 있어서,
    상기 컬러 피처 패턴은 유색 조명 소스의 패턴을 형성한느
    이미지 형성 방법.
  48. 제 47 항에 있어서,
    상기 유색 조명 소스는 OLED 물질을 포함하는
    이미지 형성 방법.
KR1020097022410A 2007-04-26 2007-04-26 이미지 형성 방법 및 프로그램 제품 KR20100015942A (ko)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/IB2007/001089 WO2008132527A1 (en) 2007-04-26 2007-04-26 Imaging a plurality of images using a plurality of non-parallel scan paths

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20100015942A true KR20100015942A (ko) 2010-02-12

Family

ID=39925238

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020097022410A KR20100015942A (ko) 2007-04-26 2007-04-26 이미지 형성 방법 및 프로그램 제품

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8330782B2 (ko)
JP (1) JP5107420B2 (ko)
KR (1) KR20100015942A (ko)
TW (1) TW200904654A (ko)
WO (1) WO2008132527A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140139400A (ko) * 2010-07-26 2014-12-05 이 잉크 코포레이션 디스플레이 기판들 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법, 장치, 및 시스템

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8259354B2 (en) * 2009-05-07 2012-09-04 Eastman Kodak Company Calibration of a recording apparatus
IL198719A0 (en) * 2009-05-12 2010-02-17 Orbotech Ltd Optical imaging system
US8305648B2 (en) * 2009-05-29 2012-11-06 Eastman Kodak Company Adjusting the calibration of an imaging system
KR102253995B1 (ko) 2013-03-12 2021-05-18 마이크로닉 아베 기계적으로 생성된 정렬 표식 방법 및 정렬 시스템
WO2014140047A2 (en) 2013-03-12 2014-09-18 Micronic Mydata AB Method and device for writing photomasks with reduced mura errors
CN108776406B (zh) * 2018-05-29 2021-06-01 武汉华星光电技术有限公司 一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5980061A (ja) * 1982-10-29 1984-05-09 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 画像走査記録方法及び装置
US5517359A (en) * 1995-01-23 1996-05-14 Gelbart; Daniel Apparatus for imaging light from a laser diode onto a multi-channel linear light valve
US5808655A (en) * 1995-05-12 1998-09-15 Eastman Kodak Company Interleaving thermal printing with discontiguous dye-transfer tracks on an individual multiple-source printhead pass
US6643049B2 (en) * 2001-02-01 2003-11-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Compact imaging head and high speed multi-head laser imaging assembly and method
JP2002351086A (ja) * 2001-03-22 2002-12-04 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置
JP2003080604A (ja) * 2001-09-10 2003-03-19 Fuji Photo Film Co Ltd 積層造形装置
EP1437226B1 (en) * 2001-10-12 2018-02-28 SCREEN Holdings Co., Ltd. Image recording apparatus
JP4355170B2 (ja) * 2002-05-17 2009-10-28 コダック グラフィック コミュニケーションズ カナダ カンパニー 高速フラットベッドスキャナ
US7256811B2 (en) * 2002-10-25 2007-08-14 Kodak Graphic Communications Canada Company Method and apparatus for imaging with multiple exposure heads
JP2004212682A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録方法
TW200537259A (en) * 2004-01-28 2005-11-16 Du Pont Method for imaging regular patterns
JP4532200B2 (ja) * 2004-08-10 2010-08-25 株式会社オーク製作所 描画装置
JP2010525407A (ja) * 2007-04-26 2010-07-22 コダック グラフィック コミュニケーションズ カナダ カンパニー 複数の走査による特徴の撮像
WO2008132528A1 (en) * 2007-04-26 2008-11-06 Kodak Graphic Communications Canada Company Registering patterns of features by adjusting the pitch of image swaths
US20100238260A1 (en) * 2007-09-25 2010-09-23 Weinkam Daniel R Bidirectional imaging with varying intensities
CN102105309B (zh) * 2007-09-25 2014-08-13 加拿大柯达图形通信公司 采用变化速度的双向成像方法
US8436882B2 (en) * 2008-01-30 2013-05-07 Kodak Graphic Communications Canada Company Imaging features with skewed edges
US20100309280A1 (en) * 2008-01-30 2010-12-09 Greg Peregrym Imaging patterns of features with varying resolutions
US8493624B2 (en) * 2009-08-19 2013-07-23 Eastman Kodak Company Determination of optimum merge line locations

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140139400A (ko) * 2010-07-26 2014-12-05 이 잉크 코포레이션 디스플레이 기판들 상에 필터 엘리먼트들을 형성하는 방법, 장치, 및 시스템

Also Published As

Publication number Publication date
JP5107420B2 (ja) 2012-12-26
US8330782B2 (en) 2012-12-11
US20100118107A1 (en) 2010-05-13
TW200904654A (en) 2009-02-01
JP2010527458A (ja) 2010-08-12
WO2008132527A1 (en) 2008-11-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20100015937A (ko) 이미징 방법 및 프로그램 제품
EP2237963B1 (en) Imaging patterns of features with skewed edges
KR20100015942A (ko) 이미지 형성 방법 및 프로그램 제품
US8436882B2 (en) Imaging features with skewed edges
JP5449323B2 (ja) 色フィルタ層整列
KR20090024205A (ko) 다수의 이미지화 헤드를 사용하여 이미지를 형성하는 방법
EP2193034B1 (en) Bidirectional imaging with varying speeds
US20100309280A1 (en) Imaging patterns of features with varying resolutions
KR20100015935A (ko) 복수의 스캔으로 피쳐를 이미징하는 방법
WO2008132526A1 (en) Imaging a plurality of images by varying activation timing of imaging channels

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid