JP4532200B2 - 描画装置 - Google Patents
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Description
x1=Px+Pe×Ne ・・・・(1)
y1=Py ・・・・(2)
XZl+1> X ≧ XZl ・・・・(3)
ただし、XZl、XZl+1は、パターンエリアZlmのX方向に沿った両端点の位置座標を示す(図8参照)。(3)式を満たさないと判断されると、ステップS205へ進み、“l”に1がインクリメントされる。そして、(3)式を満たすまでステップS204、S205が繰り返し実行される。(3)式を満たすと判断された場合、ステップS206へ進む。
YZm+1> Y ≧ YZm ・・・・(4)
ただし、YZm、YZm+1は、パターンエリアZlmのY方向に沿った両端点の位置座標を示す。(4)式を満たさないと判断されると、ステップS207へ進み、“m”に1がインクリメントされる。そして、(4)式を満たすまでステップS206、S207が繰り返し実行される。(4)式を満たすと判断された場合、ステップS208へ進む。
15 CCDカメラ
18 描画テーブル
20 露光ユニット
21 半導体レーザ(光源)
22 DMD(光変調ユニット)
32 システムコントロール回路
34 DMD制御部
39 画像処理部
46 X方向駆動機構
48 Y方向駆動機構
MP パターン(要素パターン)
GD グリッド
Zlm パターンエリア
Xij マイクロミラー(光変調素子)
SB1〜SB5 走査バンド
EA 露光エリア
Claims (7)
- 要素パターンが多面取りされた基板へ描画可能な描画装置であって、
光源と、
複数の光変調素子が規則的に配列され、前記光源からの光を前記基板へ投影する光変調ユニットと、
前記光変調ユニットによる露光エリアを、前記基板に規定される複数の走査バンドに沿って相対移動させながら走査させる走査手段と、
前記要素パターンにマッチングする配列パターンのパターンデータに基づき、各走査バンドに応じたバンド描画データを、各光変調素子の配列に対応するラスタデータとして生成する描画データ処理手段と、
前記バンド描画データに基づいて、前記複数の光変調素子をそれぞれ独立制御する描画手段と、
描画処理前に、前記要素パターンのサイズに合わせてグリットを規定し、当該グリットで囲まれる各パターンエリアに対する前記要素パターンの描画位置ずれを検出する位置ずれ検出手段と、
描画処理前に、前記要素パターンにマッチングさせてパターニングするため、前記描画位置ずれから前記要素パターンに対するアライメント補正値を前記パターンエリアごとに算出する補正値算出手段とを備え、
前記描画データ処理手段が、前記露光エリアを走査させて描画処理する間、露光時の前記露光エリアの相対位置における各光変調素子の描画データがいずれのパターンエリアに属するかを判断し、パターンエリア毎に分別される各光変調素子の描画データを、対応するパターンエリアのアライメント補正値に基づいて補正することを特徴とする描画装置。 - 前記描画データ処理手段が、多重露光処理を実行するため、露光エリアの走査方向幅に比べて短い露光ピッチに合わせて、バンド描画データを生成することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記パターンデータがベクタデータであり、
前記描画データ処理手段が、ベクタデータからバンド描画データを生成することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。 - 前記位置ずれ検出手段が、前記各パターンエリアの要素パターンの描画位置ずれとして、回転ずれと、前記グリットに沿ったシフトずれの少なくともいずれか1つを検出することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 基板に多面取りされた要素パターンにマッチングする配列パターンのパターンデータに基づき、各走査バンドに応じたバンド描画データを、各光変調素子の配列に対応するラスタデータとして生成する描画データ処理手段と、
描画処理前に、前記要素パターンのサイズに合わせてグリットを規定し、当該グリットで囲まれる各パターンエリアに対する前記要素パターンの描画位置ずれを検出する位置ずれ検出手段と、
描画処理前に、前記要素パターンにマッチングさせてパターニングするため、前記描画位置ずれから前記要素パターンに対するアライメント補正値を前記パターンエリアごとに算出する補正値算出手段とを備え、
前記描画データ処理手段が、前記露光エリアを走査させて描画処理する間、露光時の前記露光エリアの相対位置における各光変調素子の描画データがいずれのパターンエリアに属するかを判断し、パターンエリア毎に分別される各光変調素子の描画データを、対応するパターンエリアのアライメント補正値に基づいて補正することを特徴とする描画データ処理装置。 - 光源と、
複数の光変調素子が規則的に配列され、前記光源からの光を基板へ投影する光変調ユニットと、
前記光変調ユニットによる露光エリアを、前記基板に規定される複数の走査バンドに沿って相対移動させながら走査させる走査手段と、
要素パターンを繰り返し形成した配列パターンのパターンデータに基づき、各走査バンドに応じたバンド描画データを、各光変調素子の配列に対応するラスタデータとして生成する描画データ処理手段と、
前記バンド描画データに基づいて、前記複数の光変調素子をそれぞれ独立制御する描画手段と、
描画処理前に、前記要素パターンのサイズに合わせてグリットを規定し、当該グリットで囲まれる各パターンエリアにおける描画位置ずれを検出する位置ずれ検出手段と、
描画処理前に、前記描画位置ずれから前記各パターンエリアに対するアライメント補正値をパターンエリアごとに算出する補正値算出手段とを備え、
前記描画データ処理手段が、前記露光エリアを走査させて描画処理する間、露光時の前記露光エリアの相対位置における各光変調素子の描画データがいずれのパターンエリアに属するかを判断し、パターンエリア毎に分別される各光変調素子の描画データを、対応するパターンエリアのアライメント補正値に基づいて補正することを特徴とする描画装置。 - 要素パターンを繰り返し形成した配列パターンのパターンデータに基づき、各走査バンドに応じたバンド描画データを、各光変調素子の配列に対応するラスタデータとして生成する描画データ処理手段と、
描画処理前に、前記要素パターンのサイズに合わせてグリットを規定し、当該グリットで囲まれる各パターンエリアにおける描画位置ずれを検出する位置ずれ検出手段と、
描画処理前に、前記描画位置ずれから前記各パターンエリアに対するアライメント補正値をパターンエリアごとに算出する補正値算出手段とを備え、
前記描画データ処理手段が、前記露光エリアを走査させて描画処理する間、露光時の前記露光エリアの相対位置における各光変調素子の描画データがいずれのパターンエリアに属するかを判断し、パターンエリア毎に分別される各光変調素子の描画データを、対応するパターンエリアのアライメント補正値に基づいて補正することを特徴とする描画データ処理装置。
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