JP6633925B2 - 露光装置および露光方法 - Google Patents
露光装置および露光方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6633925B2 JP6633925B2 JP2016016310A JP2016016310A JP6633925B2 JP 6633925 B2 JP6633925 B2 JP 6633925B2 JP 2016016310 A JP2016016310 A JP 2016016310A JP 2016016310 A JP2016016310 A JP 2016016310A JP 6633925 B2 JP6633925 B2 JP 6633925B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- area
- plane
- light
- light modulation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 50
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 30
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 12
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 240000004050 Pentaglottis sempervirens Species 0.000 description 2
- 235000004522 Pentaglottis sempervirens Nutrition 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
as=m×CS (mは素数)
・・・・・(1)
aH=r×CS×H/W
・・・・・(2)
ax=Xpos+r×CS
ay=Ypos+c×CS
・・・・・(3)
aH−T/2<h<aH+T/2
・・・・・(4)
2B=T/tanβ
・・・・・(5)
2B=T×cosα/tanβ
・・・・(6)
これに基づいて、投影エリア位置座標、およびセル配列位置などが補正される。
12 ステージ
15 ステージ駆動機構(走査部)
20 露光ヘッド
22 DMD(光変調素子アレイ)
23 投影光学系
23A コリメートプリズム
23B 結像光学系
23C コリメートプリズム
24 画面生成部
25 マスク生成部
30 コントローラ(露光制御部、走査部)
ES 焦点面
T 焦点深度
W 露光対象物
Claims (8)
- 複数の光変調素子を2次元配列させた光変調素子アレイと、
前記光変調素子アレイからのパターン光を、被描画体の露光対象面に投影する投影光学系と、
露光エリアを前記被描画体に対して相対的に移動させる走査部と、
露光エリアの位置に応じたパターンデータに基づいて前記光変調素子アレイを露光制御する露光制御部とを備え、
前記投影光学系が、前記被描画体の相対移動方向に沿った走査平面に対し傾斜する焦点面にパターン光を結像させ、
前記露光制御部が、露光動作時、露光対象面の中で焦点深度の範囲にある合焦エリアに対し、パターンデータに基づいた光変調素子の制御を行い、
前記投影光学系が、パターン光の主光線を走査平面に対して略垂直な光で焦点面に入射させることを特徴とする露光装置。 - 前記露光制御部が、前記被描画体の露光対象面高さ分布データと、焦点面の走査平面に対する傾斜角度に基づき、合焦エリアに応じた光変調素子に対し、パターンデータに基づく露光制御を行うことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記露光制御部が、合焦エリア以外のエリアに応じた光変調素子に対し、マスクデータを設定することを特徴とする請求項1乃至2のいずれかに記載の露光装置。
- 前記投影光学系が、以下の関係式を満たすように焦点面を形成することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の露光装置。
T<H
ただし、Tは投影光学系の焦点深度、Hは露光エリアを走査平面の垂線に投影したときの距離である。 - 前記投影光学系が、走査平面の法線と焦点面の法線とのなす角が走査平面の法線と主光線とのなす角より大きくなる範囲で、主光線を焦点面に対して入射させることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の露光装置。
- 焦点面が平面であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の露光装置。
- 前記投影光学系が、コリメートプリズムを有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の露光装置。
- 複数の光変調素子を2次元配列させた光変調素子アレイからのパターン光を、被描画体の露光対象面に投影し、
露光エリアを前記被描画体に対して相対的に移動させ、
露光エリアの位置に応じたパターンデータに基づいて前記光変調素子アレイを露光制御する露光方法であって、
前記被描画体の相対移動方向に沿った走査平面に対し傾斜する焦点面にパターン光を結像させ、
露光動作時、露光対象面の中で焦点深度の範囲にある合焦エリアに対し、パターンデータに基づいた光変調素子の制御を行う露光方法であって、
パターン光の主光線を走査平面に対して略垂直な光で焦点面に入射させることを特徴とする露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016016310A JP6633925B2 (ja) | 2016-01-29 | 2016-01-29 | 露光装置および露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016016310A JP6633925B2 (ja) | 2016-01-29 | 2016-01-29 | 露光装置および露光方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017134356A JP2017134356A (ja) | 2017-08-03 |
JP6633925B2 true JP6633925B2 (ja) | 2020-01-22 |
Family
ID=59503755
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016016310A Active JP6633925B2 (ja) | 2016-01-29 | 2016-01-29 | 露光装置および露光方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6633925B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1050593A (ja) * | 1996-08-02 | 1998-02-20 | Canon Inc | 投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法 |
US5854872A (en) * | 1996-10-08 | 1998-12-29 | Clio Technologies, Inc. | Divergent angle rotator system and method for collimating light beams |
JP2006513568A (ja) * | 2003-01-09 | 2006-04-20 | 株式会社山武 | 曲面を有する半導体の露光装置及び露光方法 |
JP4258401B2 (ja) * | 2004-02-24 | 2009-04-30 | アイシン精機株式会社 | 凹凸面の表面欠陥検査装置 |
JP2006098719A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
JP4923254B2 (ja) * | 2005-09-21 | 2012-04-25 | 国立大学法人東北大学 | 露光方法 |
-
2016
- 2016-01-29 JP JP2016016310A patent/JP6633925B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017134356A (ja) | 2017-08-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4753625B2 (ja) | パターン描画装置およびブロック数決定方法 | |
JP4201178B2 (ja) | 画像記録装置 | |
CN110325918B (zh) | 直接成像曝光装置以及直接成像曝光方法 | |
JP5339671B2 (ja) | 描画システム | |
JP5133841B2 (ja) | スライス画像生成方法および造形装置 | |
EP1449636B1 (en) | Photo-fabrication apparatus | |
TW200400421A (en) | Pattern writing apparatus and pattern writing method | |
US20190011885A1 (en) | Apparatus and method for generating an optical pattern from image points in an image plane | |
CN110456612A (zh) | 一种高效率投影光刻成像系统及曝光方法 | |
US20120050705A1 (en) | Photolithography system | |
JP2007140166A (ja) | 直接露光装置および照度調整方法 | |
KR101446484B1 (ko) | 묘화 시스템 | |
CN103270453B (zh) | 十字形写入策略 | |
JP2007078764A (ja) | 露光装置および露光方法 | |
KR102439363B1 (ko) | 노광 장치용 노광 헤드 및 노광 장치용 투영 광학계 | |
JP4532200B2 (ja) | 描画装置 | |
TW200540577A (en) | Pattern writing apparatus and pattern writing method | |
JP6633925B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
JP5209946B2 (ja) | 焦点位置検出方法および描画装置 | |
JP5357617B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2018051970A (ja) | 三次元造形装置、三次元物体製造方法および三次元造形プログラム | |
JP4801931B2 (ja) | 描画装置 | |
JP4652155B2 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
CN113448176B (zh) | 曝光装置和曝光方法 | |
JP2009137230A (ja) | 光造形装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181113 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190808 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190827 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191017 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191203 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191213 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6633925 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |