KR20120094869A - 광학용 감압 점착 시트 - Google Patents

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KR20120094869A
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마사또 후지따
히로아끼 기시오까
히로아끼 후모또
마사또모 나쯔이
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 낮은 비유전율을 갖고, 가습에 의해 백탁화가 일어나지 않으며, 내부식성이 우수한 광학용 감압 점착 시트를 제공한다. 본 발명은 100 kHz의 주파수에서 비유전율이 4 이하이고, 60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장 후 수분율이 0.65 중량％ 이상인 감압 점착제층을 포함하는 광학용 감압 점착 시트에 관한 것이다. 광학용 감압 점착 시트는 바람직하게는 90％ 이상의 총 광투과율 및 3％ 이하의 헤이즈를 갖는다.

Description

광학용 감압 점착 시트 {OPTICAL PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE SHEET}
본 발명은 광학용 감압 점착 시트에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 광학 부재의 적층, 광학 제품의 제조 등에 사용되는 광학용 감압 점착 시트에 관한 것이다.
최근, 여러 분야에서, 액정 디스플레이(LCD)와 같은 표시 장치 또는 상기 표시 장치와 조합하여 사용되는 터치 패널과 같은 입력 장치가 널리 사용되고 있다. 표시 장치 또는 입력 장치의 제조에서, 투명한 감압 점착 시트 (감압 점착 테이프)가 광학 부재의 적층에 사용된다. 예를 들어, 투명한 감압 점착 시트는 터치 패널 및 다양한 표시 장치 또는 다른 광학 부재 (예를 들어, 보호판)를 적층시키는데 사용된다 (예를 들어, 특허문헌 1 내지 3 참조).
표시 장치 또는 입력 장치의 용도가 확대됨에 따라, 이러한 장치에 사용되는 감압 점착 시트는 다양한 환경하에 감압 점착 시트로서의 특성을 충분히 나타내도록 요구된다. 예를 들어, 방수 기능을 갖는 휴대 전화와 같이, 심지어 가습 조건하에서도 사용되는 제품에 사용된 감압 점착 시트에서는, 가습에 의해 백탁화가 일어나지 않아야 하고, 표시 장치 또는 입력 장치의 외관이 악화되지 않아야 하며, 표시 장치 또는 입력 장치에 설치된 화상 표시부(unit)의 시인성이 감소되지 않도록 요구된다.
예를 들어, 정전 용량 유형 터치 패널 (예를 들어, 커버 유리/감압 점착 시트/ITO 필름/PET 필름/감압 점착 시트/ITO 필름/PET 필름의 적층 구조를 갖는 정전 용량 유형 터치 패널)과 같이, 최근 박형화가 요구되는 제품에 사용되는 감압 점착 시트에서, 시트가 얇아도 시트가 소정의 정전 용량을 갖도록 낮은 비유전율이 요구된다.
표시 장치 또는 입력 장치에 사용되는 감압 점착 시트에서, 표시 장치 또는 입력 장치의 고장 또는 오작동을 유발시키지 않도록 하기 위하여, 그리고 표시 장치 또는 입력 장치의 외관을 악화시키지 않도록 하기 위하여, 피착체에 대하여 부식을 발생시키지 않는 것이 요구된다.
JP 2003-238915 A JP 2003-342542 A JP 2004-231723 A
따라서, 본 발명은 가습에 의해 백탁화가 일어나지 않는, 낮은 비유전율을 갖는 광학용 감압 점착 시트를 제공하기 위하여 노력하였다.
또한, 본 발명은 우수한 내부식성을 갖는 감압 점착 시트를 제공하기 위하여 노력하였다.
따라서, 본 발명자들은 상기 문제를 해결하기 위하여 연구하였다. 그 결과, 본 발명자들은 가습에 의해 백탁화가 일어나지 않는, 낮은 비유전율을 갖는 감압 점착 시트가, 비유전율이 작고, 60℃ 및 95％ RH의 환경하에서 120시간 동안 저장 후 수분율이 소정 값 이상인 감압 시트의 감압 점착제층을 사용함으로써 얻어질 수 있다는 것을 발견하였다. 본 발명은 이러한 발견을 기초로 이루어졌다.
즉, 본 발명은 100 kHz의 주파수에서 비유전율이 4 이하이고, 60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장 후 수분율이 0.65 중량％ 이상인 감압 점착제층을 포함하는 광학용 감압 점착 시트를 제공한다.
또한, 광학용 감압 점착 시트는 바람직하게는 90％ 이상의 총 광투과율 및 3％ 이하의 헤이즈를 갖는다.
또한, 광학용 감압 점착 시트에서, 감압 점착제층은 바람직하게는, 단량체 성분으로서, 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 아크릴레이트, 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 메타크릴레이트, 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트 및 질소-함유 단량체로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체를 포함하고 상기 단량체 성분의 비율이 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분의 총량(100 중량％)을 기준으로 60 중량％ 이상인 아크릴 중합체를 포함한다.
또한, 광학용 감압 점착 시트에서, 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트는 바람직하게는 시클로헥실 (메트)아크릴레이트 및 이소보르닐 (메트)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체이다.
또한, 광학용 감압 점착 시트에서, 질소-함유 단량체는 바람직하게는 (메트)아크릴로일 모르폴린 및 N-비닐피롤리돈으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체이다.
또한, 광학용 감압 점착 시트에서, 이온 크로마토그래프법에 의해 측정된, 100℃ 및 45분의 조건하에 순수로 추출된 아크릴산 이온 및 메타크릴산 이온의 총량은 바람직하게는 감압 점착제층의 단위 면적 당 300 ng/㎠ 이하이다.
또한, 본 발명은 100 kHz의 주파수에서 비유전율이 4 이하인 감압 점착제층을 포함하고, 이온 크로마토그래프법에 의해 측정된, 100℃ 및 45분의 조건하에 순수로 추출된 아크릴산 이온 및 메타크릴산 이온의 총량이 감압 점착제층의 단위 면적 당 300 ng/㎠ 이하인 광학용 감압 점착 시트를 제공한다.
본 발명의 광학용 감압 점착 시트는 상기 구성을 갖기 때문에, 광학용 감압 점착 시트는 낮은 비유전율을 가져서, 가습에 의해 백탁화가 일어나지 않는다.
도 1은 본 발명의 광학용 감압 점착 시트가 사용된 정전 용량 유형 터치 패널의 한 예를 도시한 개략도이다.
도 2는 내부식성의 평가에 사용된 저항 측정용 샘플을 나타내는 개략도(평면도)이다.
도 3은 내부식성의 평가에 사용된 저항 측정용 샘플을 나타내는 개략도 (도 2의 A-A 단면도)이다.
본 발명의 광학용 감압 점착 시트는, 100 kHz의 주파수에서 비유전율이 4 이하이고, 60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장 후 수분율이 0.65 중량％ 이상인 감압 점착제층을 적어도 포함한다. 또한, 이하, "100 kHz의 주파수에서 비유전율이 4 이하이고, 60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장 후 수분율이 0.65 중량％ 이상인 감압 점착제층"은 일부 경우에 "본 발명의 감압 점착제층"으로 칭해진다.
또한, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트에서, "감압 점착 시트"는 테이프 형상의 시트, 즉 "감압 점착 테이프"를 포함한다. 또한, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트에서 감압 점착제층의 표면은 일부 경우에 "감압 점착면"으로 칭해질 수 있다.
본 발명의 광학용 감압 점착 시트는, 시트의 양쪽 표면 상에 감압 점착면을 갖는 양면 감압 점착 시트 또는 시트의 단지 한 표면 상에만 감압 표면을 갖는 단면 감압 점착 시트일 수 있다. 이들 중, 2개의 부재의 적층의 관점에서, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트는 바람직하게는 양면 감압 점착 시트이다.
본 발명의 광학용 감압 점착 시트는 기재 (기재 층)를 갖지 않는 소위 "무기재(substrateless) 유형 감압 점착 시트" (이하, 일부 경우에 "무기재 감압 점착 시트"로 칭해짐), 또는 기재 유형 감압 점착 시트 (이하, 일부 경우에 "기재를 갖는 감압 점착 시트"로 칭해짐)일 수 있다. 본 발명의 광학용 감압 점착 시트가 무기재 유형 감압 점착 시트일 경우, 그의 구체적인 구성은, 예를 들어 본 발명의 감압 점착제층으로 이루어진 양면 감압 점착 시트, 본 발명의 감압 점착제층 및 본 발명의 감압 점착제층 이외의 감압 점착제층(이하, 일부 경우에 "그 밖의 감압 점착제층"으로도 칭해짐)을 포함하는 양면 감압 점착 시트일 수 있다. 본 발명의 광학용 감압 점착 시트가 기재를 갖는 감압 점착 시트일 경우, 그의 구체적인 구성은, 예를 들어 기재 및 기재의 한면 상에 본 발명의 감압 점착제층을 포함하는 단면 감압 점착 시트, 기재 및 기재의 양면 상에 본 발명의 감압 점착제층을 포함하는 양면 감압 점착 시트, 기재 및 기재의 한면 상에 본 발명의 감압 점착제층 및 기재의 다른 면 상에 그 밖의 감압 점착제층을 포함하는 양면 감압 점착 시트일 수 있다. 이들 중, 박형화 또는 투명성과 같은 광학 특성의 향상의 관점에서, 무기재 유형 감압 점착 시트가 바람직하며, 본 발명의 감압 점착제층으로 이루어진 양면 감압 점착 시트가 보다 바람직하다.
[본 발명의 감압 점착제층]
본 발명의 광학용 감압 점착 시트에서, 본 발명의 감압 점착제층은 필수적이며, 광학 부재의 적층에 사용하기에 적절하다.
본 발명의 감압 점착제층은 100 kHz의 주파수에서 4 이하, 바람직하게는 3.8 이하, 보다 바람직하게는 3.5 이하의 비유전율을 갖는다. 감압 점착제층의 비유전율이 4 초과일 경우, 층이 얇으며, 낮은 비유전율을 갖는 감압 점착제층을 얻기가 어렵다. 비유전율은 JIS K 6911에 따라 측정된다.
본 발명의 감압 점착제층에서, 60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장 후 수분율은 0.65 중량％ 이상 (예를 들어, 0.65 내지 5.0 중량％), 바람직하게는 0.65 내지 3.0 중량％, 보다 바람직하게는 0.75 내지 3.0 중량％이다.
가습에 의해 일어나는 감압 점착 시트의 백탁화는, 고온 및 고습 환경하에 감압 점착 시트를 놓음으로써, 감압 점착제층이 수분을 흡수하고, 흡수된 수분이 응결되는 것에 의해 일어나는 현상인 것으로 보인다. 본 발명의 광학용 감압 점착 시트에서, 본 발명의 감압 점착제층의 수분율 (60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장 후 수분율)은 0.65 중량％ 이상으로 조절된다. 따라서, 예를 들어, 감압 점착 시트가 사용되는 환경이 크게 변할 경우에도 (예를 들어, 고온 및 고습 환경에서 실온 환경으로의 변화), 흡수된 수분은 감압 점착제층의 높은 수분 흡수성으로 인해 쉽게 응결되지 않고, 그 결과 가습에 의해 일어나는 백탁화가 억제되는 것으로 추정된다.
감압 점착제층의 수분율은, 본 발명의 감압 점착제층을 60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장한 후, 실온 환경 (23℃ 및 50％ RH)하에 층을 취출한 직후 (예를 들어, 취출한지 약 0 내지 10분 후)에 측정함으로써 얻어진 값이다. 구체적으로, 60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장 후 본 발명의 감압 점착제층의 수분율은, 예를 들어 하기 "(수분율의 측정 방법)"의 부분에 개시된 방법에 의해 측정될 수 있다.
[수분율의 측정 방법]
(샘플의 제조 및 수분율의 측정)
감압 점착제층 약 0.2 g을 감압 점착 시트로부터 취하여 샘플로서 사용한다.
샘플을 60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장한 후, 샘플을 칭량한 다음, 하기 가열 기화 장치에 넣고, 150℃에서 가열할 때 발생된 기체를 하기 전기량 적정 수분 측정 장치의 적정 셀에 도입한다. 전기량 적정 수분 측정 장치에 의해, 하기 측정 조건하에 샘플의 수분량 (㎍)을 측정하고, 60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장 후 본 발명의 감압 점착제층 1 g 당 수분량을 얻고, 감압 점착제층의 수분율(중량％)을 계산한다. 측정 횟수(n 수)는 제한되지 않지만, 2회가 바람직하다.
(분석 장치)
가열 기화 장치: 미쯔비시 케미칼 코포레이션(Mitsubishi Chemical Corp.)에 의해 제조된 "VA-06형"
전기량 적정 수분 측정 장치: 미쯔비시 케미칼 코포레이션에 의해 제조된 "CA-06형"
(측정 조건)
방법: 가열 기화법/150℃ 가열
애노드(Anode) 용액: 아쿠아마이크론(Aquamicron) AKX
캐소드(Cathode) 용액: 아쿠아마이크론 CXU
가시광 파장 영역에서 (JIS K7361에 따른) 본 발명의 감압 점착제층의 총 광투과율은 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트의 투명성 향상의 관점에서 바람직하게는 90％ 이상, 보다 바람직하게는 91％ 이상이다. 본 발명의 감압 점착제층의 헤이즈(JIS K7136에 따름)는 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트의 투명성 향상의 관점에서 바람직하게는 3％ 이하, 보다 바람직하게는 1.0％ 이하이다.
본 발명의 감압 점착제층은, 100 kHz의 주파수에서 비유전율 및 60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장 후 수분율이 상기 범위내에 존재하기만 하면, 특별히 제한되지 않는다. 본 발명의 감압 점착제층의 형성을 위한 감압 점착제의 종류는 특별히 제한되지 않지만, 그의 예로는, 예를 들어 아크릴 감압 점착제, 고무계 감압 점착제, 비닐알킬에테르계 감압 점착제, 규소계 감압 점착제, 폴리에스테르계 감압 점착제, 폴리아미드계 감압 점착제, 우레탄계 감압 점착제, 불소계 감압 점착제 및 에폭시계 감압 점착제를 들 수 있다. 이러한 감압 점착제는 단독으로 또는 그의 2종 이상의 조합으로 사용될 수 있다.
본 발명의 감압 점착제층의 형성을 위한 감압 점착제는 임의의 유형의 감압 점착제일 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 감압 점착제층의 형성을 위한 감압 점착제의 예는 에멀젼형 감압 점착제, 용매형 (용액형) 감압 점착제, 활성 에너지선 경화성 감압 점착제 및 고온 용융형 감압 점착제를 포함한다. 그 중, 본 발명의 감압 점착제층의 형성을 위한 감압 점착제로서, 생산성의 관점에서 용매형 감압 점착제 또는 활성 에너지선 경화성 감압 점착제가 바람직하다.
본 발명의 감압 점착제층의 형성을 위한 감압 점착제 중에서, 내후성, 비용 및 감압 점착제의 디자인성의 관점에서 아크릴 감압 점착제가 바람직하다. 즉, 본 발명의 감압 점착제층은 바람직하게는 주요 성분으로서 아크릴 중합체를 포함하는 아크릴 감압 점착제층이다. 본 발명의 감압 점착제층 중 아크릴 중합체의 함량은 특별히 제한되지 않지만, 감압 점착제층의 총량(100 중량％)을 기준으로 바람직하게는 85 중량％ 이상 (예를 들어, 85 중량％ 내지 100 중량％), 보다 바람직하게는 90 중량％ 이상 (예를 들어, 90 중량％ 내지 100 중량％), 보다 더 바람직하게는 95 중량％ 이상 (예를 들어, 95 중량％ 내지 100 중량％)이다.
아크릴 감압 점착제층 (본 발명의 감압 점착제층)은 아크릴 감압 점착제 조성물로부터 형성된다. 아크릴 감압 점착제 조성물은 특별히 제한되지 않지만, 그의 조성물의 예로는 필수 성분으로서 아크릴 중합체를 포함하는 아크릴 감압 점착제 조성물, 또는 필수 성분으로서 아크릴 중합체를 구성하는 단량체의 혼합물 (일부 경우에 "단량체 혼합물"로 칭해짐) 또는 그의 부분 중합 생성물을 포함하는 아크릴 감압 점착제 조성물을 들 수 있다. 전자의 아크릴 감압 점착제 조성물로서, 그의 예로는 소위 용매형 감압 점착제 조성물을 들 수 있다. 후자의 아크릴 감압 점착제 조성물로서, 그의 예로는 소위 활성 에너지선 경화성 감압 점착제 조성물을 들 수 있다. 상기 감압 점착제 조성물은 필요할 경우, 첨가제를 포함할 수 있다.
"감압 점착제 조성물"은 "감압 점착제층의 형성을 위한 조성물"의 의미를 포함한다. "단량체 혼합물"은 중합체를 구성하는 단량체 성분으로 이루어진 혼합물을 의미한다. "부분 중합 생성물"은 단량체 혼합물의 성분들 중 1개 또는 2개 또는 그 이상의 성분이 부분적으로 중합된 조성물을 의미한다.
아크릴 중합체는 필수 단량체 성분으로서 아크릴 단량체로 이루어진(그로부터 형성된) 중합체이다. 아크릴 중합체는 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 단량체 성분으로서 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 (메트)아크릴레이트 및 극성기-함유 단량체를 적어도 포함하는 중합체이다. 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분은 다른 공중합성 단량체(들)를 포함할 수 있다. "(메트)아크릴"은 "아크릴" 및/또는 "메타크릴" ("아크릴" 및 "메타크릴" 중 어느 하나 또는 둘다)을 의미하며, 동일한 것이 하기에 적용된다.
선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 (메트)아크릴레이트는, 예를 들어 1 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 알킬 에스테르 (메트)아크릴레이트, 예컨대 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 프로필 (메트)아크릴레이트, 이소프로필 (메트)아크릴레이트, n-부틸 (메트)아크릴레이트, 이소부틸 (메트)아크릴레이트, s-부틸 (메트)아크릴레이트, t-부틸 (메트)아크릴레이트, 펜틸 (메트)아크릴레이트, 이소펜틸 (메트)아크릴레이트, 헥실 (메트)아크릴레이트, 헵틸 (메트)아크릴레이트, 옥틸 (메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메트)아크릴레이트, 이소옥틸 (메트)아크릴레이트, 노닐 (메트)아크릴레이트, 이소노닐 (메트)아크릴레이트, 데실 (메트)아크릴레이트, 이소데실 (메트)아크릴레이트, 운데실 (메트)아크릴레이트, 도데실 (메트)아크릴레이트, 트리데실 (메트)아크릴레이트, 테트라데실 (메트)아크릴레이트, 펜타데실 (메트)아크릴레이트, 헥사데실 (메트)아크릴레이트, 헵타데실 (메트)아크릴레이트, 옥타데실 (메트)아크릴레이트, 노나데실 (메트)아크릴레이트 및 에이코실 (메트)아크릴레이트를 포함할 수 있다. 알킬 에스테르 (메트)아크릴레이트는 단독으로 또는 그의 2종 이상의 조합으로 사용될 수 있다.
극성기-함유 단량체로서, 그의 예로는 히드록실기-함유 단량체, 예컨대 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 3-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메트)아크릴레이트, 6-히드록시헥실 (메트)아크릴레이트, 비닐 알코올 및 알릴 알코올; 질소-함유 단량체; 에폭시기-함유 단량체, 예컨대 글리시딜 (메트)아크릴레이트 및 메틸 글리시딜 (메트)아크릴레이트; 술포네이트기-함유 단량체, 예컨대 소듐 비닐술포네이트; 포스페이트기-함유 단량체, 예컨대 2-히드록시에틸아크릴로일 포스페이트를 들 수 있다. 극성기-함유 단량체는 단독으로 또는 그의 2종 이상의 조합으로 사용될 수 있다.
질소-함유 단량체로서, 그의 예로는 아미드기-함유 단량체, 예컨대 (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸 (메트)아크릴아미드, N-메틸올 (메트)아크릴아미드, N-메톡시메틸 (메트)아크릴아미드, N-부톡시메틸 (메트)아크릴아미드 및 N-히드록시에틸 (메트)아크릴아미드; 질소-함유 헤테로 고리를 함유하는 단량체, 예컨대 질소-함유 헤테로 고리 및 N-비닐기를 갖는 단량체(질소-함유 헤테로 고리를 함유하는 비닐계 단량체) (예를 들어, N-비닐-2-피롤리돈, N-비닐-2-피페리돈, N-비닐-2-카프로락탐, N-비닐피페라진, N-비닐피롤 및 N-비닐이미다졸) 또는 질소-함유 헤테로 고리 및 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체 (질소-함유 헤테로 고리를 함유하는 (메트)아크릴 단량체) (예를 들어, (메트)아크릴로일 모르폴린); 아미노기-함유 단량체, 예컨대 아미노에틸 (메트)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트 및 t-부틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트; 시아노기-함유 단량체, 예컨대 아크릴로니트릴 및 메타크릴로니트릴; 이미드기-함유 단량체, 예컨대 시클로헥실말레이미드 및 이소프로필말레이미드; 이소시아네이트기-함유 단량체, 예컨대 2-메타크릴로일옥시에틸 이소시아네이트를 들 수 있다.
기타 공중합성 단량체로서, 다관능성 단량체가 사용될 수 있다. 다관능성 단량체로서, 그의 예로는 헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 부탄디올 디(메트)아크릴레이트, (폴리)에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, (폴리)프로필렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄 트리(메트)아크릴레이트, 알릴 (메트)아크릴레이트, 비닐 (메트)아크릴레이트, 디비닐벤젠, 에폭시아크릴레이트, 폴리에스테르 아크릴레이트 및 우레탄 아크릴레이트를 들 수 있다.
다관능성 단량체 이외의 기타 공중합성 단량체로서, 그의 예로는 상기한 알킬에스테르 (메트)아크릴레이트, 극성기-함유 단량체 및 관능성 단량체 이외의 (메트)아크릴레이트, 예컨대 지환족 탄화수소기를 갖는 (메트)아크릴레이트, 예컨대 시클로펜틸 (메트)아크릴레이트, 시클로헥실 (메트)아크릴레이트 및 이소보르닐 (메트)아크릴레이트, 및 방향족 탄화수소기를 갖는 (메트)아크릴레이트, 예컨대 페닐(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트 및 벤질(메트)아크릴레이트; 비닐 에스테르, 예컨대 비닐 아세테이트 및 비닐 프로피오네이트; 방향족 비닐 화합물, 예컨대 스티렌 및 비닐 톨루엔; 올레핀 또는 디엔, 예컨대 에틸렌, 부타디엔, 이소프렌 및 이소부틸렌; 비닐 에테르, 예컨대 비닐알킬 에테르; 및 비닐 클로라이드를 들 수 있다.
기타 공중합성 단량체, 예컨대 다관능성 단량체 또는 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트는 단독으로 또는 그의 2종 이상의 조합으로 사용될 수 있다.
아크릴 감압 점착제층은, 감압 점착제층의 비유전율이 감소될 수 있고, 감압 점착제층의 Tg (유리 전이 온도)가 감압 점착제층의 Tg를 제어함으로써 감소될 수 있고, 감압 점착제층의 단차 흡수성이 감압 점착제층을 구성하는 전체 단량체 성분에 대한 필수 단량체 성분의 비를 증가시킴으로써 증가될 수 있다는 점에서, 바람직하게는 필수 단량체 성분으로서, 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 아크릴레이트, 특히 2-에틸헥실 아크릴레이트 (2-EHA) 및 이소옥틸 아크릴레이트 (IOA)를 포함하는 아크릴 중합체를 포함한다.
아크릴 감압 점착제층은, 감압 점착제층의 비유전율이 감소될 수 있고, 감압 점착제층의 내구성이 향상될 수 있다는 점에서, 바람직하게는 필수 단량체 성분으로서, 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 (메트)아크릴레이트, 특히 메틸 메타크릴레이트 (MMA)를 포함하는 아크릴 중합체를 포함한다. 아크릴 감압 점착제층이, 필수 단량체 성분으로서 메틸 메타크릴레이트 (MMA)를 포함하는 아크릴 중합체를 포함할 경우, 폴리메틸 메타크릴레이트 수지 (PMMA)에 대한 점착성이 더 향상될 수 있다.
아크릴 감압 점착제층은, 감압 점착제층의 비유전율이 감소될 수 있다는 점에서, 보다 바람직하게는 필수 단량체 성분으로서, 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 아크릴레이트 및 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 메타크릴레이트를 포함하는 아크릴 중합체를 포함한다.
아크릴 감압 점착제층은, 감압 점착제층의 비유전율이 감소될 수 있고, 감압 점착제층의 응집력을 향상시켜 피착체에 대한 감압 점착제층의 점착성을 증가시킬 수 있고, 가습에 의해 일어나는 감압 점착제층의 백탁화가 더 억제될 수 있다는 점에서, 바람직하게는 필수 단량체 성분으로서, 질소-함유 단량체 (바람직하게는, 질소-함유 헤테로 고리를 함유하는 단량체, 보다 바람직하게는, (메트)아크릴로일 모르폴린 및 N-비닐피롤리돈으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체)를 포함하는 아크릴 중합체를 포함한다.
아크릴 감압 점착제층은, 감압 점착제층의 비유전율이 감소될 수 있고, 감압 점착제층의 Tg가 증가되어 감압 점착제층의 내구성을 향상시킬 수 있다는 점에서, 바람직하게는 필수 단량체 성분으로서, 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트, 특히 시클로헥실 (메트)아크릴레이트 및 이소보르닐 (메트)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체를 포함하는 아크릴 중합체를 포함한다.
특히, 아크릴 감압 점착제층은, 낮은 비유전율을 갖는 감압 점착제층이 얻어진다는 점에서, 바람직하게는 필수 단량체 성분으로서, 질소-함유 단량체 및 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체를 포함하는 아크릴 중합체를 포함한다.
아크릴 감압 점착제층은, 감압 점착제층의 비유전율이 감소된다는 점에서, 바람직하게는 단량체 성분으로서, 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 아크릴레이트, 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 메타크릴레이트, 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트 및 질소-함유 단량체로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체를, 중합체를 구성하는 단량체 성분의 총량(100 중량％)을 기준으로 60 중량％ 이상 (바람직하게는, 70 중량％ 이상)의 양으로 포함하는 아크릴 중합체를 포함한다.
아크릴 감압 점착제층은, 감압 점착제층의 수분율이 증가되어 가습에 의해 일어나는 감압 점착제층의 백탁화가 더 억제될 수 있다는 점에서, 바람직하게는 히드록실기-함유 단량체 (특히, 히드록실기-함유 에스테르 (메트)아크릴레이트)를 포함한다.
히드록실기-함유 단량체 (특히, 히드록실기-함유 (메트)아크릴레이트)의 함량은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분의 총량(100 중량％)을 기준으로 바람직하게는 10 내지 25 중량％, 보다 바람직하게는 10 내지 22 중량％, 보다 바람직하게는 12 내지 22 중량％이다. 함량을 10 중량％ 이상으로 설정함으로써, 감압 점착제층의 수분율이 증가되고, 백탁화가 억제된다. 한편, 함량을 25 중량％ 이하로 설정함으로써, 고습하에 수분율이 지나치게 증가하는 것이 방지되고, 정상 상태 및 고습하에서 유전율 변화가 지나치게 증가하는 것이 방지될 수 있다. 정상 상태 및 고습하에 유전율이 지나치게 증가될 경우, 예를 들어 터치 패널의 동작 불량이 생기기 쉬워질 수 있다.
아크릴 감압 점착제층에 포함된 아크릴 중합체에서, 단량체 성분으로서 카르복실기-함유 단량체 (특히, (메트)아크릴산)는 극히 소량으로 사용되거나 사용되지 않는 것이 바람직하다. 이것은 부식 유발의 원인인 미반응 카르복실기-함유 단량체 (특히, 미반응 (메트)아크릴산)가, 형성되는 감압 점착제층 상에 잔류하는 것이 방지되어야 하기 때문이다. 구체적으로, 예를 들어, 카르복실기-함유 단량체의 함량은 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분의 총량(100 중량％)을 기준으로 바람직하게는 5 중량％ 미만 (예를 들어, 0 중량％ 이상 5 중량％ 미만), 보다 바람직하게는 2 중량％ 이하 (예를 들어, 0 중량％ 내지 2 중량％), 보다 더 바람직하게는 0.5 중량％ 이하 (예를 들어, 0 중량％ 내지 0.5 중량％)이다. 함량을 5 중량％ 미만으로 설정함으로써, 금속 박막 또는 금속 산화물 박막의 내부식성이 향상된다.
카르복실기-함유 단량체로서, 그의 예로는 (메트)아크릴산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 및 이소크로톤산을 들 수 있다. 또한, 카르복실기-함유 단량체의 산 무수물 (예를 들어, 산 무수물-함유 단량체, 예컨대 말레산 무수물 및 이타콘산 무수물)이 카르복실기-함유 단량체로서 포함된다. 카르복실기-함유 단량체는 단독으로 또는 그의 2종 이상의 조합으로 사용될 수 있다.
감압 점착 시트의 감압 점착제층으로서, 낮은 비유전율 및 높은 수분율을 갖는 아크릴 감압 점착제층이 얻어진다는 점에서, 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분의 적절한 양태는, 예를 들어 하기 양태를 포함할 수 있다.
(a) 단량체 성분으로서, 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 아크릴레이트; 질소-함유 단량체 및 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체; 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 메타크릴레이트; 및 히드록실기-함유 단량체를 적어도 포함하고, 여기서 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분의 총량(100 중량％)을 기준으로, 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 아크릴레이트의 함량은 45 중량％ 내지 55 중량％이고, 질소기-함유 단량체 및 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체의 총 함량은 10 중량％ 내지 25 중량％이고, 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 메타크릴레이트의 함량은 15 중량％ 내지 25 중량％이고, 히드록실기-함유 단량체의 함량은 10 중량％ 내지 25 중량％인 양태.
(b) 단량체 성분으로서, 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 아크릴레이트; 및 질소-함유 단량체 및 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체; 및 히드록실기-함유 단량체를 적어도 포함하고, 여기서 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분의 총량(100 중량％)을 기준으로, 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 아크릴레이트의 함량은 45 중량％ 내지 55 중량％이고, 질소-함유 단량체 및 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체의 총 함량은 20 중량％ 내지 45 중량％이고, 히드록실기-함유 단량체의 함량은 5부 내지 10 중량％인 양태.
양태 (a)는 하기 양태 (a1) 및 (a2)를 포함한다.
(a1) 단량체 성분으로서, 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 아크릴레이트, 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트, 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 메타크릴레이트 및 히드록실기-함유 단량체를 적어도 포함하고, 여기서 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분의 총량(100 중량％)을 기준으로, 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 아크릴레이트의 함량은 45 중량％ 내지 55 중량％이고, 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트의 함량은 10 중량％ 내지 25 중량％이고, 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 메타크릴레이트의 함량은 15 중량％ 내지 25 중량％이고, 히드록실기-함유 단량체의 함량은 10 중량％ 내지 25 중량％인 양태.
양태 (a1)에서, 질소-함유 단량체는 단량체 성분으로서 포함되지 않는다.
(a2) 단량체 성분으로서, 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 아크릴레이트, 질소-함유 단량체, 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 메타크릴레이트 및 히드록실기-함유 단량체를 적어도 포함하고, 여기서 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분의 총량(100 중량％)을 기준으로, 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 아크릴레이트의 함량은 45 중량％ 내지 55 중량％이고, 질소-함유 단량체의 함량은 10 중량％ 내지 25 중량％이고, 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 메타크릴레이트의 함량은 15 중량％ 내지 25 중량％이고, 히드록실기-함유 단량체의 함량은 10 중량％ 내지 25 중량％인 양태.
양태 (a2)에서, 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트는 단량체 성분으로서 포함되지 않는다.
양태 (b)는, 아크릴 중합체가 하기 활성 에너지선 중합법을 사용하여 얻어질 경우에 적합하다.
(메트)아크릴산은 상기 양태 중 어느 것에서 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분으로서 사용되지 않으며, 따라서 미반응 (메트)아크릴산은 형성되는 감압 점착제층에 실질적으로 존재하지 않는다. 따라서, 상기 양태에서, 금속 박막 또는 금속 전극 및 CNT (탄소 나노튜브) 필름의 내부식성은 우수하다.
아크릴 중합체는 공지된/일반적인 중합법을 사용하여 단량체 성분을 중합함으로써 얻어진다. 아크릴 중합체의 중합법으로서, 그의 예로는 용액 중합법, 유화 중합법, 벌크 중합법 및 활성 에너지선 조사에 의한 중합법 (활성 에너지선 중합법)을 들 수 있다. 상기 방법 중, 생산성의 관점에서 용액 중합법 및 활성 에너지선 중합법이 바람직하다.
활성 에너지선 중합 (광중합)에서 조사되는 활성 에너지선은, 예를 들어 알파선, 베타선, 감마선, 중성자선 및 전리 방사선, 예컨대 전자선 또는 UV일 수 있다. 특히 UV가 바람직하다. 활성 에너지선의 조사 에너지, 조사 시간 및 조사 방법은, 단량체 성분이 광중합 개시제를 활성화시킴으로써 반응될 수 있는 한 특별히 제한되지 않는다.
용액 중합에서, 거기에 사용되는 용매는 특별히 제한되지 않지만, 다양한 종류의 일반적인 용매가 사용될 수 있다. 이러한 용매의 예로는 유기 용매, 예컨대 에스테르, 예컨대 에틸 아세테이트 및 n-부틸 아세테이트; 방향족 탄화수소, 예컨대 톨루엔 및 벤젠; 지방족 탄화수소, 예컨대 n-헥산 및 n-헵탄; 지환족 탄화수소, 예컨대 시클로헥산 및 메틸시클로헥산; 및 케톤, 예컨대 메틸에틸케톤 및 메틸이소부틸케톤을 들 수 있다. 용매는 단독으로 또는 그의 2종 이상의 조합으로 사용될 수 있다.
아크릴 중합체가 얻어질 경우, 단량체 성분의 중합에서 중합 반응의 종류에 따라 중합 개시제, 예컨대 광중합 개시제 (광개시제) 및 열 중합 개시제가 사용되는 것이 바람직하다. 중합 개시제는 단독으로 또는 그의 2종 이상의 조합으로 사용될 수 있다.
광중합 개시제로는, 예를 들어 벤조인 에테르 광중합 개시제, 아세토페논 광중합 개시제, α-케톨 광중합 개시제, 방향족 술포닐 클로라이드 광중합 개시제, 광활성 옥심 광중합 개시제, 벤조인 광중합 개시제, 벤질 광중합 개시제, 벤조페논 광중합 개시제, 케탈 광중합 개시제 및 티오크산톤 광중합 개시제를 들 수 있으나, 이에 특별히 제한되는 것은 아니다. 사용되는 광중합 개시제의 함량은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분의 총량 100 중량부를 기준으로 바람직하게는 0.01 내지 0.2 중량부, 보다 바람직하게는 0.05 내지 0.15 중량부이다.
벤조인 에테르 광중합 개시제로서, 그의 예로는 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 프로필 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 및 아니솔 메틸 에테르를 들 수 있다. 아세토페논 광중합 개시제로서, 그의 예로는 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 4-페녹시디클로로아세토페논 및 4-(t-부틸)디클로로아세토페논을 들 수 있다. α-케톨 광중합 개시제로서, 그의 예로는 2-메틸-2-히드록시프로피오페논 및 1-[4-(2-히드록시에틸)페닐]-2-메틸프로판-1-온을 들 수 있다. 방향족 술포닐 클로라이드 광중합 개시제로서, 그의 예로는 2-나프탈렌술포닐 클로라이드를 들 수 있다. 광활성 옥심 광중합 개시제로서, 그의 예로는 1-페닐-1,1-프로판디온-2-(o-에톡시카르보닐)-옥심을 들 수 있다. 벤조인 광중합 개시제로서, 그의 예로는 벤조인을 들 수 있다. 벤질 광중합 개시제로서, 그의 예로는 벤질을 들 수 있다. 벤조페논 광중합 개시제로서, 그의 예로는 벤조페논, 벤조일벤조에이트, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, 폴리비닐벤조페논 및 α-히드록시시클로헥실 페닐 케톤을 들 수 있다. 케탈 광중합 개시제로서, 그의 예로는 벤질 디메틸 케탈을 들 수 있다. 티오크산톤 광중합 개시제로서, 그의 예로는 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 이소프로필티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤 및 도데실티오크산톤을 들 수 있다.
아크릴 중합체가 용액 중합에 의해 제조될 경우 사용되는 중합 개시제 (열 중합 개시제)는, 예를 들어 아조 개시제, 과산화물 중합 개시제 (예를 들어, 디벤조일 퍼옥시드 및 tert-부틸 퍼말레에이트) 및 산화환원 중합 개시제일 수 있다. 개시제 중에서, JP 2002-69411 A호에 개시된 아조 개시제가 특히 바람직하다.
아조 개시제로서, 그의 예로는 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 (이하, 일부 경우에 AIBN으로 칭해짐), 2,2'-아조비스-2-메틸부티로니트릴 (이하, 일부 경우에 AMBN으로 칭해짐), 디메틸 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트) 및 4,4'-아조비스-4-시아노발레르산을 들 수 있다.
열 중합 개시제의 함량은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 사용되는 아조 개시제의 함량은 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분의 총량 100 중량부를 기준으로 바람직하게는 0.05 내지 0.5 중량부, 보다 바람직하게는 0.1 내지 0.3 중량부이다.
본 발명의 감압 점착제층의 형성을 위한 조성물 (감압 점착제 조성물), 특히 아크릴 감압 점착제 조성물에서, 필요할 경우, 첨가제, 예컨대 가교제, 가교 촉진제, 실란 커플링제, 점착성 부여 수지 (로진 유도체, 폴리테르펜 수지, 석유 수지 및 유용성 페놀), 노화 방지제, 충전제, 착색제 (염료 또는 안료), UV 흡수제, 산화방지제, 사슬 전달제, 가소제, 연화제, 계면활성제 및 정전기 방지제가, 본 발명의 특성을 손상시키지 않는 한 사용될 수 있다. 본 발명의 감압 점착제층이 형성될 때, 다양한 일반적인 용매가 사용될 수 있다. 용매는 특별히 제한되지 않으며, 그의 예로는 상기한 바와 같은 용액 중합법에 사용되는 임의의 용매를 들 수 있다. 첨가제는 단독으로 또는 그의 2종 이상의 조합으로 사용될 수 있다.
가교제가 감압 점착제 조성물에 포함될 경우, 가교 구조는, 형성되는 감압 점착제층 중 베이스 중합체에 의해 얻어질 수 있고, 따라서 감압 점착제층의 겔 분율이 조절될 수 있다. 예를 들어, 가교제가 아크릴 감압 점착제 조성물에 포함될 경우, 겔 분율은, 형성되는 아크릴 감압 점착제층 중 아크릴 중합체의 가교에 의해 조절된다. 예를 들어, 감압 점착제층의 겔 분율 (용매 불용성 물질)이 40 중량％ 내지 95 중량％ 범위로 조절될 경우, 감압 점착제층의 내구성이 향상된다.
가교제는 특별히 제한되지 않지만, 그의 예로는 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 멜라민계 가교제, 과산화물계 가교제, 우레아계 가교제, 금속 알콕시드계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제, 금속염계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제 및 아민계 가교제를 들 수 있다. 가교제는 단독으로 또는 그의 2종 이상의 조합으로 사용될 수 있다. 가교제 중에서, 가교제는 내구성 향상의 관점에서, 바람직하게는 이소시아네이트계 가교제 또는 에폭시계 가교제, 보다 바람직하게는 이소시아네이트계 가교제이다.
이소시아네이트계 가교제 (다관능성 이소시아네이트 화합물)로서, 그의 예로는 저급 지방족 폴리이소시아네이트, 예컨대 1,2-에틸렌 디이소시아네이트, 1,4-부틸렌디이소시아네이트 및 1,6-헥사메틸렌 디이소시아네이트; 지환족 폴리이소시아네이트, 예컨대 시클로펜틸렌 디이소시아네이트, 시클로헥실렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 수소화 톨릴렌 디이소시아네이트 및 수소화 크실렌 디이소시아네이트; 및 방향족 폴리이소시아네이트, 예컨대 2,4-톨릴렌 디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌 디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트 및 크실릴렌 디이소시아네이트를 들 수 있다. 이소시아네이트계 가교제는, 예를 들어 시판품, 예컨대 트리메틸올프로판/톨릴렌 디이소시아네이트 부가물 (닛본 폴리우레탄 인더스트리 컴파니, 리미티드(Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) 제조, 상품명 "코로네이트(CORONATE) L"), 트리메틸올프로판/헥사메틸렌 디이소시아네이트 부가물 (닛본 폴리우레탄 인더스트리 컴파니, 리미티드 제조, 상품명 "코로네이트 HL"), 트리메틸올프로판/크실릴렌 디이소시아네이트 부가물 (미쯔이 케미칼즈 컴파니, 리미티드(Mitsui Chemicals Co., Ltd.) 제조, 상품명 "다께네이트(TAKENATE) D110N")일 수 있다.
에폭시계 가교제 (다관능성 에폭시 화합물)로서, 그의 예로는 N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-크실렌디아민, 디글리시딜 아닐린, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산, 1,6-헥산디올 디글리시딜 에테르, 네오펜틸 글리콜 디글리시딜 에테르, 에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 프로필렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 폴리에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 폴리프로필렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 소르비톨 폴리글리시딜 에테르, 글리세롤 폴리글리시딜 에테르, 펜타에리트리톨 폴리글리시딜 에테르, 폴리글리세롤 폴리글리시딜 에테르, 소르비탄 폴리글리시딜 에테르, 트리메틸올프로판 폴리글리시딜 에테르, 아디프산 디글리시딜 에스테르, o-프탈산 디글리시딜 에스테르, 트리글리시딜-트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트, 레조르신 디글리시딜 에테르, 비스페놀-S-디글리시딜 에테르 및 분자 중에 적어도 2개의 에폭시기를 갖는 에폭시계 수지를 들 수 있다. 에폭시계 가교제는, 예를 들어 시판품, 예컨대 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드(Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.)에 의해 제조된 상품명 "테트라드(TETRAD) C"일 수 있다.
감압 점착제 조성물 중 가교제의 함량은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분의 총량(100 중량부)을 기준으로 바람직하게는 0.001 내지 10 중량부, 보다 바람직하게는 0.01 내지 5 중량부이다. 함량을 0.001 중량부 이상으로 설정함으로써, 내구성이 향성된다. 한편, 함량을 10 중량부 이하로 설정함으로써, 단차 흡수성이 향상된다.
가교 반응을 촉진시키기 위한 목적을 위하여 가교 촉진제 (가교 보조제)가 감압 점착제 조성물에 포함될 수 있다. 가교 촉진제는 특별히 제한되지 않지만, 복수의 히드록실기를 함유하는 아민계 화합물을 사용하는 것이 바람직할 수 있다. 복수의 히드록실기를 함유하는 아민계 화합물은, 상기 화합물이 분자 중에 2개 이상의 히드록실기(알코올성 히드록실기)를 갖는 아민계 화합물이기만 하면 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, JP 2009-079203 A호에 개시된 복수의 히드록실기를 함유하는 아민계 화합물을 사용하는 것이 바람직할 수 있다. 복수의 히드록실기를 함유하는 아민계 화합물이 사용될 경우, 가교 속도가 촉진되어 생산성이 향상된다. 아민계 화합물은 시판품, 예컨대 상품명 "EDP-300", "EDP-450", "EDP-1100" 및 "플루로닉(Pluronic)"(아데까 코포레이션(ADEKA Corp.) 제조)일 수 있다.
감압 점착제 조성물 중 가교 촉진제의 함량은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 아크릴 감압 점착제 조성물 중 복수의 히드록실기를 함유하는 아민계 화합물의 함량은, 가교 속도를 촉진시켜 에이징 시간을 감소시킴으로써 생산성을 향상시키는 관점에서, 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분의 총량(100 중량부)을 기준으로 바람직하게는 0.01 중량부 내지 5.0 중량부, 보다 바람직하게는 0.05 중량부 내지 1.0 중량부이다.
감압 점착제 조성물 (특히, 아크릴 감압 점착제 조성물)은 유리에 대한 점착성(특히, 고온 및 고습 환경하에서 유리에 대한 점착 신뢰성)을 향상시키기 위한 목적을 위하여 실란 커플링제를 포함할 수 있다. 실란 커플링제는 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-아미노프로필트리메톡시실란 및 N-페닐아미노프로필트리메톡시실란이 예시된다. 그 중, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란이 바람직하다. 실란 커플링제로서, 예를 들어 시판품, 예컨대 상품명 "KBM-403" (신에쯔 케미칼 컴파니, 리미티드(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 제조)이 사용될 수 있다. 실란 커플링제는 단독으로 또는 그의 2종 이상의 조합으로 사용될 수 있다.
감압 점착제 조성물 중 실란 커플링제의 함량은 특별히 제한되지 않는다. 그러나, 예를 들어 아크릴 감압 점착제 조성물에서 그의 함량은, 유리에 대한 점착 신뢰성의 향상의 관점에서, 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분의 총량(100 중량부)을 기준으로 바람직하게는 0.01 내지 1 중량부, 보다 바람직하게는 0.03 내지 0.5 중량부이다.
본 발명의 감압 점착제층의 형성 방법은 특별히 제한되지 않지만, 감압 점착제층을 형성하기 위한 공지된 일반적인 방법이 사용될 수 있다. 예를 들어, 하기 방법 (1) 내지 (3)이 사용될 수 있다.
(1) 단량체 혼합물 또는 그의 부분 중합 생성물 및 필요할 경우, 첨가제, 예컨대 광중합 개시제를 포함하는 감압 점착제 조성물을 기재 또는 세퍼레이터(separator) 상에 도포(코팅)하고, 거기에 활성 에너지선(특히, UV)을 조사하는 것을 포함하는 감압 점착제층의 형성 방법.
(2) 중합체 (베이스 중합체), 용매 및 필요할 경우, 첨가제를 포함하는 감압 점착제 조성물 (용액)을 기재 또는 세퍼레이터 상에 도포(코팅)하고, 조성물을 건조 및/또는 경화시키는 것을 포함하는 감압 점착제층의 형성 방법.
(3) 상기 (1)에서 형성된 감압 점착제층을 더 건조시킨다.
상기 방법에서, 필요할 경우, 가열/건조 공정이 사용될 수 있다.
본 발명의 감압층의 형성 방법에서, 코팅은 공지된 코팅법에 의해 수행될 수 있다. 예를 들어, 일반적인 코터, 예컨대 그라비어 롤 코터, 리버스 롤 코터, 키스 롤 코터, 딥 롤 코터, 바 코터, 나이프 코터, 분무 코터, 콤마 코터 및 다이렉트 코터가 사용될 수 있다.
본 발명의 감압 점착제층의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 10 ㎛ 내지 500 ㎛, 보다 바람직하게는 10 ㎛ 내지 350 ㎛이다. 감압 점착제층은 단일층 구조 또는 적층 구조일 수 있다.
[그 밖의 감압 점착제층]
본 발명의 광학용 감압 점착 시트는 본 발명의 감압 점착제층 이외의 감압 점착제층(그 밖의 감압 점착제층)을 포함할 수 있으며, 그 밖의 감압 점착제층은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 그의 예로는 공지된 감압 점착제, 예컨대 우레탄계 감압 점착제, 아크릴 감압 점착제, 고무계 감압 점착제, 규소계 감압 점착제, 폴리에스테르계 감압 점착제, 폴리아미드계 감압 점착제, 에폭시계 감압 점착제, 비닐 알킬 에테르계 감압 점착제 및 불소계 감압 점착제로 형성된 공지된/일반적인 감압 점착제층을 들 수 있다. 그 밖의 감압 점착제층은 공지된 2종 이상의 감압 점착제의 조합물인 감압 점착제에 의해 형성될 수 있다.
[기재]
본 발명의 광학용 감압 점착 시트는 기재를 갖는 감압 점착 시트일 수 있다. 기재는 특별히 제한되지 않지만, 다양한 필름(예를 들어, 하기 기재되는 광학 필름), 예컨대 플라스틱 필름, 반사 방지 (AR) 필름, 편광판 및 위상차 필름일 수 있다. 플라스틱 필름의 물질은, 예를 들어 플라스틱 물질, 예컨대 폴리에스테르 수지, 예컨대 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET); 아크릴 수지, 예컨대 폴리메틸 메타크릴레이트 (PMMA); 폴리카르보네이트; 트리아세틸 셀룰로스 (TAC); 폴리술폰; 폴리아릴레이트; 폴리이미드; 폴리비닐 클로라이드; 폴리비닐 아세테이트; 폴리에틸렌; 폴리프로필렌; 에틸렌 프로필렌 공중합체; 및 시클릭 올레핀 중합체, 예컨대 상품명 "아르톤(ARTON) (시클릭 올레핀 중합체; 제이에스알(JSR) 제조)", 상품명 "제오노르(ZEONOR) (시클릭 올레핀 중합체; 닛본 제온 컴파니, 리미티드(Nippon Zeon Co., Ltd.) 제조)"일 수 있다. 플라스틱 물질은 단독으로 또는 그의 2종 이상의 조합으로 사용될 수 있다. "기재"는, 감압 점착 시트가 피착체(예컨대, 광학 부재)에 사용(적층)될 경우, 감압 점착제층과 함께 피착체에 적층되는 부분이다. 감압 점착 시트의 사용(적층)시 박리되는 세퍼레이터(박리 라이너)는 "기재"에 포함되지 않는다.
그 중, 기재는 바람직하게는 투명한 기재이다. 가시광 파장 영역에서의 기재의 총 광투과율(JIS K7361에 따름)은 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 85％ 이상, 보다 바람직하게는 88％ 이상이다. 기재의 헤이즈(JIS K7136에 따름)는 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 1.5％ 이하, 보다 바람직하게는 1.0％ 이하이다. 투명한 기재는 PET 필름 또는 비배향 필름, 예컨대 상품명 "아르톤" 및 상품명 "제오노아"일 수 있다.
기재의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 바람직하게는 12 내지 75 ㎛이다. 기재는 단일층 또는 다층 형상일 수 있다. 기재의 표면 상에, 예를 들어 공지된/일반적인 표면 처리, 예컨대 물리적 처리, 예컨대 코로나 방전 처리 및 플라즈마 처리 및 화학적 처리, 예컨대 베이스코트 처리가 적절히 수행될 수 있다.
[광학용 감압 점착 시트]
본 발명의 광학용 감압 점착 시트는 적어도 하나의 본 발명의 감압 점착제층을 갖는다. 본 발명의 광학용 감압 점착 시트는 본 발명의 감압 점착제층으로 이루어진 무기재 유형 감압 점착 시트인 것이 바람직하다.
이온 크로마토그래프법에 의해 측정되는, 100℃ 및 45분의 조건하에 순수를 사용하여 본 발명의 광학용 감압 점착 시트로부터 추출되는 아크릴산 이온 및 메타크릴산 이온의 총량(추출된 (메트)아크릴산 이온의 양)은 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트가 150 ㎛ 이상의 두께를 가질 경우, 본 발명의 감압 점착제층의 단위 면적 당 바람직하게는 300 ng/㎠ 이하 (예를 들어, 0 ng/㎠ 내지 300 ng/㎠), 보다 바람직하게는 0 ng/㎠ 내지 150 ng/㎠, 보다 더 바람직하게는 0 ng/㎠ 내지 100 ng/㎠이다. 본 발명의 광학용 감압 점착 시트가 100 ㎛ 이상 150 ㎛ 미만의 두께를 가질 경우, 그 양은 본 발명의 감압 점착제층의 단위 면적 당 바람직하게는 100 ng/㎠ 이하 (예를 들어, 0 ng/㎠ 내지 100 ng/㎠), 보다 바람직하게는 0 ng/㎠ 내지 80 ng/㎠이다. 본 발명의 광학용 감압 점착 시트가 75 ㎛ 이상 100 ㎛ 미만의 두께를 가질 경우, 그 양은 본 발명의 감압 점착제층의 단위 면적 당 바람직하게는 80 ng/㎠ 이하 (예를 들어, 0 ng/㎠ 내지 80 ng/㎠), 보다 바람직하게는 0 ng/㎠ 내지 50 ng/㎠이다. 본 발명의 광학용 감압 점착 시트가 75 ㎛ 미만의 두께를 가질 경우, 그 양은 본 발명의 감압 점착제층의 단위 면적 당 바람직하게는 20 ng/㎠ 이하 (예를 들어, 0 ng/㎠ 내지 20 ng/㎠), 보다 바람직하게는 0 ng/㎠ 내지 17 ng/㎠, 보다 더 보다 바람직하게는 0 ng/㎠ 내지 15 ng/㎠이다.
추출된 (메트)아크릴산 이온의 양은, 감압 점착 시트가 가습 환경하에 놓일 때 감압 점착제층으로부터 수분에 의한 아크릴산 이온 및 메타크릴산 이온의 해리의 용이함의 정도를 나타낸다. 추출된 (메트)아크릴산 이온의 양을 20 ng/㎠ 이하로 설정함으로써, 시트가 금속 박막에 적층된 상태에서 가습 환경과 같은 수분의 조건하에 저장되더라도, 금속 박막이 거의 부식되지 않고, 따라서 내부식성이 향상된다. 본 발명의 광학용 감압 점착 시트에서, 피착체가 거의 부식되지 않는 특성은 일부 경우에 "내부식성" 또는 "부식 방지 특성"으로 칭해진다.
"이온 크로마토그래프법에 의해 측정되는, 100℃ 및 45분의 조건하에 순수를 사용하여 본 발명의 감압 점착 시트로부터 추출된 아크릴산 이온 및 메타크릴산 이온의 총량"은 하기 방법을 사용하여 측정될 수 있다.
먼저, 감압 점착 시트를 적절한 크기로 절단하고, 세퍼레이터가 제공된 경우, 세퍼레이트를 박리시키고, 감압 점착면을 노출시켜 샘플로 사용한다. 양면 감압 점착 시트의 경우, PET 필름 (25 내지 50 ㎛의 두께)을 다른 감압 점착면에 적층시킴으로써, 단지 하나의 감압 점착면만을 노출시킨다. 이 경우, 금속 박막에 적층된 감압 점착면(본 발명의 감압 점착 시트의 경우, 본 발명의 감압 점착제층측의 표면)이 노출된다. 샘플의 크기(감압 점착면의 노출 면적)는 바람직하게는 100 ㎠이다.
이어서, 샘플을 100℃의 온도를 갖는 순수에 넣은 후, 45분 동안 비등시키고, 아크릴산 이온 및 메타크릴산 이온의 비등 추출을 수행한다.
이어서, 얻어진 추출 용액 중 아크릴산 이온 및 메타크릴산 이온의 총량(단위: ng)을 이온 크로마토그래프법(이온 크로마토그래피)을 사용하여 측정하고, 샘플의 감압 점착면(노출된 감압 점착면)의 단위 면적 당 아크릴산 이온 및 메타크릴산 이온의 총량(단위: ng/㎠)을 계산한다. 이온 크로마토그래프법(이온 크로마토그래피)의 측정 조건은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 하기 조건이 예시된다.
(이온 크로마토그래피의 측정 조건)
분석 장치: DX-320, 디오넥스 컴파니, 리미티드(DIONEX Co., Ltd.) 제조
분리 컬럼: Ion Pac AS15 (4 mm × 250 mm)
가드 컬럼: Ion Pac AG15 (4 mm × 50 mm)
제거 시스템: ASRS-ULTRA (외부 방식, 100 mA)
검출기: 전기 전도성 검출기
용리액: 7 mM KOH (0 내지 20분)
45 mM KOH (20 내지 30분)
(용리액 발생기 EG40이 사용됨)
용리액의 유속: 1.0 ml/분
샘플의 주입량: 250 ㎕
감압 점착 시트로부터 수분에 의해 해리된 (메트)아크릴산 이온은 일반적으로 감압 점착제층에 존재하는 (메트)아크릴산으로부터 기인한다. 그 이유는 (메트)아크릴산 이온이 고온 및 고습 환경하에서 수분으로 인해 금속 박막을 침투하여 전도를 방해함으로써, 금속 박막의 저항의 증가(금속 박막의 부식)를 일으키기 때문인 것으로 추정된다. 일반적으로, 감압 점착 시트의 점착성을 향상시키기 위한 목적을 위하여 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분으로서 다량(예를 들어, 10 중량％ 이상)의 (메트)아크릴산 (특히, 아크릴산)이 사용될 경우, 미반응 (메트)아크릴산이 감압 점착제층에 쉽게 잔류하여 감압 점착 시트로부터 수분에 의해 해리된 (메트)아크릴산 이온이 또한 증가된다. 한편, 본 발명에서는, 감압 점착제층을 형성할 때 건조를 충분히 수행하고, 아크릴 중합체의 중합 시간을 증가시키거나, 단량체 성분으로서 사용된 (메트)아크릴산의 양을 감소시킴으로써 감압 점착제층에 잔류하는 (메트)아크릴산이 감소될 경우, 감압 점착 시트로부터 수분에 의해 해리된 (메트)아크릴산 이온이 적어서, 피착체로서 금속 박막의 부식 또는 그에 의해 야기되는 저항의 증가가 억제된다.
가시광 파장 영역에서 본 발명의 광학용 감압 점착 시트의 총 광투과율(JIS K7361에 따름)은 특별히 제한되지 않지만, 감압 점착 시트가 사용된 광학 제품 또는 광학 부재의 투명성 또는 외관에 불리한 영향을 미치는 것을 방지한다는 점에서, 바람직하게는 90％ 이상, 보다 바람직하게는 91％ 이상이다. 감압 점착 시트의 총 광투과율은, 예를 들어 감압 점착 시트를 슬라이드 유리 (예를 들어, 91.8％의 총 광투과율 및 0.4％의 헤이즈)에 적층시킴으로써, 헤이즈 계측기 (무라까미 컬러 리서치 래버러터리 컴파니, 리미티드(Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.) 제조, 상품명 "HM-150")를 사용하여 측정될 수 있다.
본 발명의 광학용 감압 점착 시트의 헤이즈(JIS K7136에 따름)는 특별히 제한되지 않지만, 감압 점착 시트가 사용된 광학 제품 또는 광학 부재의 투명성 또는 외관에 불리한 영향을 미치는 것을 방지한다는 점에서, 바람직하게는 3％ 이하, 보다 바람직하게는 1％ 이하이다. 감압 점착 시트의 헤이즈는, 예를 들어 감압 점착 시트를 슬라이드 유리 (예를 들어, 91.8％의 총 광투과율 및 0.4％의 헤이즈)에 적층시킴으로써, 헤이즈 계측기 (무라까미 컬러 리서치 래버러터리 컴파니, 리미티드 제조, 상품명 "HM-150")를 사용하여 측정될 수 있다.
본 발명의 광학용 감압 점착 시트의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 10 ㎛ 내지 500 ㎛, 보다 바람직하게는 10 ㎛ 내지 350 ㎛이다.
본 발명의 광학용 감압 점착 시트의 감압 점착면은 사용될 때까지 세퍼레이터 (박리 라이너)에 의해 보호될 수 있다. 본 발명의 광학용 감압 점착 시트가 양면 감압 점착 시트일 경우, 각각의 감압 점착면을 각각 세퍼레이터를 사용하여 보호하거나, 양면이 박리면인 하나의 세퍼레이터를 사용하여 표면을 롤 형태로 권취시키는 방식으로 보호할 수 있다. 세퍼레이터는 감압 점착제층의 보호재로서 사용되고, 감압 점착제층이 피착체에 적층될 때 박리된다. 본 발명의 광학용 감압 점착 시트가 무기재 감압 점착 시트일 경우, 세퍼레이터는 감압 점착제층의 지지체로서 기능한다. 세퍼레이터는 본 발명의 광학용 감압 점착 시트에 제공되지 않을 수 있다.
세퍼레이터는 특별히 제한되지 않지만, 임의의 공지된 박리지 등이 예시된다. 또한, 그의 예로는 박리 처리 층을 갖는 세퍼레이터, 불소 중합체로 이루어진 저 점착성 기재 또는 비극성 중합체로 이루어진 저 점착성 기재를 또한 들 수 있다. 박리 처리 층을 갖는 세퍼레이터로서, 그의 예로는 표면이 박리제, 예컨대 규소형, 장쇄 알킬형, 불소형 및 몰리브덴 술피드로 처리된 플라스틱 필름 또는 종이를 들 수 있다. 불소 중합체로 이루어진 저 점착성 기재 중 불소계 중합체로서, 그의 예로는 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리클로로트리플루오로에틸렌, 폴리비닐 플루오라이드, 폴리비닐리덴 플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌-헥사플루오로프로필렌 공중합체 및 클로로플루오로에틸렌-비닐리덴 플루오라이드 공중합체를 들 수 있다. 비극성 중합체로서, 그의 예로는 올레핀계 수지 (예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등)를 들 수 있다. 세퍼레이터는 공지된/일반적인 방법을 사용하여 형성될 수 있다. 세퍼레이터의 두께는 특별히 제한되지 않는다.
본 발명의 광학용 감압 점착 시트의 제조 방법은 특별히 제한되지 않지만, 공지된/일반적인 방법이 사용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 감압 점착제층으로 이루어진 무기재 유형 감압 점착 시트는, 본 발명의 감압 점착제층을 세퍼레이터 상에 형성함으로써 제조된다. 기재의 적어도 한 표면 상에 본 발명의 감압 점착제층을 갖는 기재를 갖는 감압 점착 시트는, 본 발명의 감압 점착제층을 기재 상에 형성하거나, 별도로 제조된 본 발명의 감압 점착제층을 기재 상에 전사함으로써 제조된다.
본 발명의 광학용 감압 점착 시트는 본 발명의 감압 점착제층을 갖기 때문에, 시트는 낮은 비유전율을 갖는다. 이러한 이유로, 하기 수학식 1로부터, 목적하는 정전 용량을 유지하면서 전체 두께는 감소될 수 있다. 따라서, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트는 박형화가 요구되는 광학 제품, 예컨대 정전 용량 유형 터치 패널에 적절히 사용된다.
<수학식 1>
Figure pat00001
C: 정전 용량
ε0: 진공 유전율
εS: 비유전율
S: 면적
L: 두께
본 발명의 광학용 감압 점착 시트는 본 발명의 감압 점착제층을 갖기 때문에, 가습에 의해 백탁화가 일어나지 않는다. 이러한 이유로, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트는, 감압 점착 시트를 사용한 제품의 화상 표시부의 시인성 또는 외관의 악화를 방지할 수 있다.
본 발명의 광학용 감압 점착 시트는 우수한 내부식성을 갖는다. 피착체에 대한 점착성 또는 발포체 또는 박리를 생성하지 않는 특성(내발포 박리성)이 우수하기 때문에, 점착 신뢰성이 우수하다.
본 발명의 광학용 감압 점착 시트는, 광학 부재의 적층 또는 광학 제품의 제조에 사용된다. 본 발명의 광학용 감압 점착 시트가 이러한 목적을 위해 사용될 경우, 제품의 시인성 또는 외관에 방해가 될 수 있는 기포 또는 부유의 발생 및 백탁화와 같은 현상이 억제되므로, 우수한 외관을 갖는 제품을 얻을 수 있다.
본 발명의 광학용 감압 점착 시트는 광학 제품에 사용되는 광학 부재의 적층에 바람직하게 사용된다. 광학 부재는 광학 특성 (예를 들어, 편광성, 광굴절성, 광 산란성, 광 반사성, 광 투과성, 광 흡수성, 광 회절성, 광 회전성 및 시인성)을 갖는 부재를 의미한다. 광학 부재는, 광학 부재가 광학 특성을 갖는 것이면 특별히 제한되지 않으며, 그의 예로는 편광판, 파장판, 위상차판, 광학 보상 필름, 휘도 향상 필름, 도광판, 반사 필름, 반사 방지 필름, 투명한 전도성 필름 (예를 들어, ITO 필름), 의장 필름, 장식 필름, 표면 보호 필름, 프리즘, 렌즈, 컬러 필터, 투명한 기재, 및 이들이 적층된 부재(일부 경우에, 총괄하여 "광학 필름"으로 칭해짐)를 들 수 있다. "판" 및 "필름" 각각은 판 형상, 필름 형상 및 시트 형상을 포함하며, 예를 들어, "편광 필름"은 "편광판" 및 "편광 시트"를 포함한다. 예를 들어, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트를 사용하여 광학 필름을 적층하거나, 본 발명의 무기재 유형 광학용 감압 점착 시트를 광학 필름의 적어도 한 표면에 적층하여, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트를 갖는 광학 필름을 얻을 수 있다.
특히, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트가 양면 감압 점착 시트일 경우, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트를 다양한 광학 필름의 적어도 한 표면에 부착하고, 그것을 적층시킴으로써, 광학 필름의 적어도 한 표면 상에 본 발명의 감압 점착제층을 포함하는 감압 점착형 광학 필름(본 발명의 광학용 감압 점착 시트를 포함하는 광학 필름)을 얻을 수 있다. 감압 점착형 광학 필름에 사용되는 본 발명의 광학용 감압 점착 시트 (양면 감압 점착 시트)는 무기재 감압 점착 시트 또는 기재를 갖는 감압 점착 시트일 수 있다.
광학 부재를 구성하는 물질은 특별히 제한되지 않지만, 그의 예로는, 예를 들어 플라스틱 물질, 예컨대 아크릴 수지 (특히, 폴리메틸 메타크릴레이트 수지 (PMMA)), 폴리카르보네이트 수지 및 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 유리 및 금속 (금속 산화물 포함)을 들 수 있다.
본 발명의 광학용 감압 점착 시트는, 표시 장치 (화상 표시 장치), 예컨대 액정 표시 장치, 유기 EL (전계 발광) 표시 장치, PDP (플라즈마 디스플레이 패널) 및 전자 종이를 제조할 때 바람직하게 사용된다. 또한, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트는 입력 장치, 예컨대 터치 패널을 제조할 때 바람직하게 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트를 포함하는 광학 부재 (예를 들어, 광학 필름)을 사용하여 표시 장치를 제조하거나, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트를 사용하여 표시 장치를 제조함으로써, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트를 포함하는 표시 장치를 얻을 수 있다.
추출된 (메트)아크릴산 이온의 양이 소정 범위내에서 조절될 경우, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트는 우수한 내부식성을 나타낼 수 있고, 특히 금속 박막 또는 금속 전극 및 CNT (탄소 나노튜브) 필름에 적층시키기 위한 목적을 위하여 바람직하게 사용된다. 금속 박막은 금속, 금속 산화물 또는 이들의 혼합물로 형성된 박막일 수 있으며, 특별히 제한되지 않는다. 그러나, 그의 예로는 ITO (산화인듐주석), ZnO, SnO 및 CTO (산화카드뮴주석)의 박막을 들 수 있다. 금속 박막의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 100 Å 내지 2,000 Å이다. 금속 박막, 예컨대 ITO는, 예를 들어 PET 필름 상에 형성되며, 투명한 전도성 필름으로 사용된다. 본 발명의 감압 점착 시트를 금속 박막에 적층시킬 경우, 본 발명의 감압 점착제층측의 표면을 금속 박막에 적층되는 측 상의 감압 점착면으로 사용하는 것이 바람직하다.
금속 전극은, 전극이 금속, 금속 산화물 또는 이들의 혼합물이면 특별히 제한되지 않지만, 그의 예로는 ITO, 은 또는 구리로 형성된 전극을 들 수 있다.
본 발명의 광학용 감압 점착 시트의 구체적인 사용 용도의 한 예로서, 터치 패널의 제조에 사용되는 터치 패널용 감압 점착 시트가 존재할 수 있다. 예를 들어, 정전 용량 유형 터치 패널을 제조할 경우, 금속 박막, 예컨대 ITO가 형성된 투명한 전도성 필름, 폴리메틸 메타크릴레이트 수지 (PMMA)판, 하드 코트(hard coat) 필름, 유리 렌즈 등이 본 발명의 광학용 감압 점착 시트를 통해 적층되는 데 사용될 수 있다. 터치 패널은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 휴대 전화, 타블렛 컴퓨터 및 휴대 정보 단말기에 사용된다.
보다 구체적인 예로서, 본 발명의 광학용 감압 점착 시트가 사용되는 정전 용량 유형 터치 패널의 한 예가 도 1에 도시되어 있다. 도 1에서, 참조 번호 1은 정전 용량 유형 터치 패널을 나타내고, 참조 번호 11은 장식 패널을 나타내고, 참조 번호 12는 광학용 감압 점착 시트를 나타내고, 참조 번호 13은 ITO 필름을 나타내고, 참조 번호 14는 하드 코트 필름을 나타낸다. 장식 패널(11)은 바람직하게는 유리판 또는 투명한 아크릴 판 (PMMA 판)이다. ITO 필름(13)에서, ITO 필름은 유리판 또는 투명한 플라스틱 필름 (특히, PET 필름) 상에 형성되는 것이 바람직하다. 하드 코트 필름(14)에서, 하드 코트 처리는 투명한 플라스틱 필름, 예컨대 PET 필름 상에서 수행되는 것이 바람직하다.
본 발명의 광학용 감압 점착 시트가 정전 용량 유형 터치 패널(1)에 사용되기 때문에, 그의 두께는 얇아질 수 있고, 따라서 동작 안정성이 우수하다. 외관 또는 시인성이 양호하고, 고온 환경 또는 고온 및 고습 환경하에서도 백탁화가 일어나지 않는다.
이하, 본 발명은 실시예를 기초로 보다 상세하게 기술될 것이지만, 본 발명은 실시예에 제한되지 않는다. 하기 기재 및 표 2에서 "다께네이트 D110N"(고형분: 75 중량％)의 혼합량은 "다께네이트 D110N"의 고형분 환산의 혼합량(중량부)으로 나타내었다.
(실시예 1)
단량체 성분으로서 2-에틸헥실 아크릴레이트 (2EHA) 46 중량부, N-비닐-2-피롤리돈 (NVP) 15 중량부, 메틸 메타크릴레이트 (MMA) 18 중량부 및 2-히드록시에틸 아크릴레이트 (HEA) 21 중량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 (AIBN) 0.2 중량부 및 중합 용매로서 에틸 아세테이트 122 중량부 및 톨루엔 40.7 중량부를 분리가능한 플라스크에 넣은 후, 질소 기체를 도입하면서 1시간 동안 교반하였다. 이로써, 중합계 중 산소를 제거한 후, 계를 65℃로 가열한 다음, 10시간 동안 반응시킨 후, 에틸 아세테이트를 첨가하여 36 중량％의 고형물 농도를 갖는 아크릴 중합체 용액을 얻었다.
아크릴 중합체 용액 중 아크릴 중합체 100 중량부를 기준으로, 가교제로서 이소시아네이트계 가교제 (미쯔이 케미칼즈, 인코포레이티드 제조, 상품명 "다께네이트 D110N") 0.3 중량부를 첨가하고, 그것을 혼합함으로써 감압 점착제 조성물 (용액)을 제조하였다.
이어서, 감압 점착제 조성물 (용액)을 50 ㎛의 두께를 갖는 PET 세퍼레이터(테이진 듀폰 필름즈 재팬 리미티드(Teijin DuPont Films Japan Limited) 제조, 상품명 "푸렉스(Purex) A43")의 박리 처리 표면 상에 건조 후 두께가 50 ㎛이도록 도포한 후, 130℃에서 3분 동안 가열 및 건조시켜 감압 점착제층을 형성함으로써, 감압 점착 시트 (무기재 양면 감압 점착 시트)를 얻었다.
(실시예 2)
단량체 성분으로서 2-에틸헥실 아크릴레이트 (2EHA) 46 중량부, N-비닐-2-피롤리돈 (NVP) 15 중량부, 메틸 메타크릴레이트 (MMA) 24 중량부 및 2-히드록시에틸 아크릴레이트 (HEA) 21 중량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 (AIBN) 0.2 중량부 및 중합 용매로서 에틸 아세테이트 163 중량부를 분리가능한 플라스크에 넣은 후, 질소 기체를 도입하면서 1시간 동안 교반하였다. 이로써, 중합계 중 산소를 제거한 후, 계를 65℃로 가열한 다음, 7시간 동안 반응시킨 후, 에틸 아세테이트를 첨가하여 36 중량％의 고형물 농도를 갖는 아크릴 중합체 용액을 얻었다.
아크릴 중합체 용액 중 아크릴 중합체 100 중량부를 기준으로, 가교제로서 이소시아네이트계 가교제 (미쯔이 케미칼즈, 인코포레이티드 제조, 상품명 "다께네이트 D110N") 0.3 중량부를 첨가하고, 그것을 혼합함으로써 감압 점착제 조성물 (용액)을 제조하였다.
이어서, 감압 점착제 조성물 (용액)로부터 실시예 1과 동일한 방식으로 감압 점착 시트 (무기재 양면 감압 점착 시트)를 얻었다.
(실시예 3)
단량체 성분으로서 2-에틸헥실 아크릴레이트 (2EHA) 55 중량부, N-비닐-2-피롤리돈 (NVP) 20 중량부, 메틸 메타크릴레이트 (MMA) 12 중량부 및 2-히드록시에틸 아크릴레이트 (HEA) 13 중량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 (AIBN) 0.2 중량부 및 중합 용매로서 에틸 아세테이트 122 중량부 및 톨루엔 40.7 중량부를 분리가능한 플라스크에 넣은 후, 질소 기체를 도입하면서 1시간 동안 교반하였다. 이로써, 중합계 중 산소를 제거한 후, 계를 65℃로 가열한 다음, 10시간 동안 반응시킨 후, 에틸 아세테이트를 첨가하여 36 중량％의 고형물 농도를 갖는 아크릴 중합체 용액을 얻었다.
아크릴 중합체 용액 중 아크릴 중합체 100 중량부를 기준으로, 가교제로서 이소시아네이트계 가교제 (미쯔이 케미칼즈, 인코포레이티드 제조, 상품명 "다께네이트 D110N") 0.3 중량부를 첨가하고, 그것을 혼합함으로써 감압 점착제 조성물 (용액)을 제조하였다.
이어서, 감압 점착제 조성물 (용액)로부터 실시예 1과 동일한 방식으로 감압 점착 시트 (무기재 양면 감압 점착 시트)를 얻었다.
(실시예 4)
단량체 성분으로서 2-에틸헥실 아크릴레이트 (2EHA) 52 중량부, N-비닐-2-피롤리돈 (NVP) 20 중량부, 메틸 메타크릴레이트 (MMA) 15 중량부 및 2-히드록시에틸 아크릴레이트 (HEA) 13 중량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 (AIBN) 0.2 중량부 및 중합 용매로서 에틸 아세테이트 122 중량부 및 톨루엔 40.7 중량부를 분리가능한 플라스크에 넣은 후, 질소 기체를 도입하면서 1시간 동안 교반하였다. 이로써, 중합계 중 산소를 제거한 후, 계를 65℃로 가열한 다음, 10시간 동안 반응시킨 후, 에틸 아세테이트를 첨가하여 36 중량％의 고형물 농도를 갖는 아크릴 중합체 용액을 얻었다.
아크릴 중합체 용액 중 아크릴 중합체 100 중량부를 기준으로, 가교제로서 이소시아네이트계 가교제 (미쯔이 케미칼즈, 인코포레이티드 제조, 상품명 "다께네이트 D110N") 0.3 중량부를 첨가하고, 그것을 혼합함으로써 감압 점착제 조성물 (용액)을 제조하였다.
이어서, 감압 점착제 조성물 (용액)로부터 실시예 1과 동일한 방식으로 감압 점착 시트 (무기재 양면 감압 점착 시트)를 얻었다.
(비교예 1)
단량체 성분으로서 부틸 아크릴레이트 (BA) 42 중량부, 에틸 아크릴레이트 (EA) 13 중량부, 메틸 메타크릴레이트 (MMA) 15 중량부 및 4-히드록시부틸 아크릴레이트 (4HBA) 30 중량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 (AIBN) 0.2 중량부 및 중합 용매로서 에틸 아세테이트 70 중량부 및 톨루엔 75 중량부를 분리가능한 플라스크에 넣은 후, 질소 기체를 도입하면서 1시간 동안 교반하였다. 이로써, 중합계 중 산소를 제거한 후, 계를 65℃로 가열한 다음, 10시간 동안 반응시킨 후, 에틸 아세테이트를 첨가하여 36 중량％의 고형물 농도를 갖는 아크릴 중합체 용액을 얻었다.
아크릴 중합체 용액 중 아크릴 중합체 100 중량부를 기준으로, 가교제로서 이소시아네이트계 가교제 (미쯔이 케미칼즈, 인코포레이티드 제조, 상품명 "다께네이트 D110N") 0.3 중량부를 첨가하고, 그것을 혼합함으로써 감압 점착제 조성물 (용액)을 제조하였다.
이어서, 감압 점착제 조성물 (용액)로부터 실시예 1과 동일한 방식으로 감압 점착 시트 (무기재 양면 감압 점착 시트)를 얻었다.
(비교예 2)
단량체 성분으로서 2-에틸헥실 아크릴레이트 (2EHA) 27 중량부, 에틸 아크릴레이트 (EA) 23 중량부, 메틸 메타크릴레이트 (MMA) 15 중량부 및 4-히드록시부틸 아크릴레이트 (4HBA) 35 중량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 (AIBN) 0.2 중량부 및 중합 용매로서 에틸 아세테이트 70 중량부 및 톨루엔 75 중량부를 분리가능한 플라스크에 넣은 후, 질소 기체를 도입하면서 1시간 동안 교반하였다. 이로써, 중합계 중 산소를 제거한 후, 계를 65℃로 가열한 다음, 10시간 동안 반응시킨 후, 에틸 아세테이트를 첨가하여 36 중량％의 고형물 농도를 갖는 아크릴 중합체 용액을 얻었다.
아크릴 중합체 용액 중 아크릴 중합체 100 중량부를 기준으로, 가교제로서 이소시아네이트계 가교제 (미쯔이 케미칼즈, 인코포레이티드 제조, 상품명 "다께네이트 D110N") 0.3 중량부를 첨가하고, 그것을 혼합함으로써 감압 점착제 조성물 (용액)을 제조하였다.
이어서, 감압 점착제 조성물 (용액)로부터 실시예 1과 동일한 방식으로 감압 점착 시트 (무기재 양면 감압 점착 시트)를 얻었다.
(비교예 3)
단량체 성분으로서 부틸 아크릴레이트 (BA) 45 중량부, 에틸 아크릴레이트 (EA) 15 중량부, 메틸 메타크릴레이트 (MMA) 15 중량부 및 4-히드록시부틸 아크릴레이트 (4HBA) 25 중량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 (AIBN) 0.2 중량부 및 중합 용매로서 에틸 아세테이트 95 중량부 및 톨루엔 50 중량부를 분리가능한 플라스크에 넣은 후, 질소 기체를 도입하면서 1시간 동안 교반하였다. 이로써, 중합계 중 산소를 제거한 후, 계를 65℃로 가열한 다음, 10시간 동안 반응시킨 후, 에틸 아세테이트를 첨가하여 36 중량％의 고형물 농도를 갖는 아크릴 중합체 용액을 얻었다.
아크릴 중합체 용액 중 아크릴 중합체 100 중량부를 기준으로, 가교제로서 이소시아네이트계 가교제 (미쯔이 케미칼즈, 인코포레이티드 제조, 상품명 "다께네이트 D110N") 0.3 중량부를 첨가하고, 그것을 혼합함으로써 감압 점착제 조성물 (용액)을 제조하였다.
이어서, 감압 점착제 조성물 (용액)로부터 실시예 1과 동일한 방식으로 감압 점착 시트 (무기재 양면 감압 점착 시트)를 얻었다.
(비교예 4)
부틸 아크릴레이트 (BA) 67 중량부, 시클로헥실 아크릴레이트 (CHA) 14 중량부, 4-히드록시부틸 아크릴레이트 (4HBA) 27 중량부, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 (HEA) 9 중량부, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐-1-온 (상품명 "이르가큐어(IRGACURE) 651", 바스프 재팬 컴파니, 리미티드(BASF Japan Co., Ltd.) 제조) 0.05 중량부 및 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤 (상품명 "이르가큐어 184", 바스프 재팬 컴파니, 리미티드 제조) 0.05 중량부를 4목 플라스크에 넣은 후, 혼합물을 질소 분위기하에 UV에 노출시켜 부분적으로 광중합시켜 10％의 중합률을 갖는 부분 중합 생성물 (단량체 시럽)을 얻었다.
고형분 환산으로 이소시아네이트 화합물 (상품명 "코로네이트 L", 닛본 폴리우레탄 인더스트리 컴파니, 리미티드 제조, 고형분 75 중량％) 0.1 중량부를 부분 중합 생성물 100 중량부에 첨가한 후, 그것을 균일하게 혼합하여 광중합성 조성물을 얻었다.
이러한 광중합성 조성물을 박리 라이너 (세퍼레이터) (상품명 "MRF38", 미쯔비시 플라스틱스 인코포레이티드 제조, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름의 한면이 박리 처리된 유형, 38 ㎛의 두께)의 박리 처리 표면 상에 도포하여 코트 층을 형성한 후, 동일한 박리 라이너를 코트 층 상에 형성하였다.
이어서, 블랙 라이트에 의해 5 mW/㎠의 강도를 갖는 UV를 조사하고, 광의 강도가 3600 mJ/㎠가 될 때까지 중합을 수행하여 감압 점착 시트 (무기재 양면 감압 점착 시트, 감압 점착제층의 두께: 175 ㎛)를 제조하였다.
하기 측정 또는 평가를 실시예 및 비교예에서 얻어진 감압 점착 시트에 대하여 수행하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
(1) 비유전율
100 kHz의 주파수에서 감압 점착제층의 비유전율을 JIS K 6911에 따라 하기 조건하에 측정하였다.
측정 방법: 용량법 (장치: 애질런트 테크롤로지즈(Agilent Technologies) 4294A 프레시젼 임피던스 분석기(Precision Impedance Analyzer))
전극 구성: 12.1 mm의 직경 및 0.5 mm의 두께를 갖는 알루미늄판
대향 전극: 3 oz 구리판
측정 환경: 23±1℃, 52±1％ RH
(2) 수분율
실시예 및 비교예에서 수득된 양면 감압 점착 시트를 폭 1 cm × 길이 2 cm (면적: 2 ㎠)의 크기로 절단하였다. 이어서, 박리 라이너를 그로부터 박리하고, 알루미늄 호일을 한 감압 점착면을 노출된 상태로 두면서 다른 감압 점착면에 적층시켜 샘플 ("감압 점착제층/알루미늄 호일"의 층 구조를 가짐)을 제조하였다. 샘플에 적층된 알루미늄 호일의 중량을 호일을 감압 점착 시트에 적층시키기 전에 미리 측정하였다.
샘플을 챔버의 내부 조건이 60℃ 및 95％ RH로 조절된 항온항습기에 넣은 다음, 120시간 동안 저장하였다. 그 후, 샘플을 항온항습기로부터 취하고, 샘플의 중량을 측정하였다. 이어서, 샘플을 하기 가열 기화 장치에 넣고, 150℃에서 10분 동안 가열하여 발생된 기체를 하기 전기량 적정 수분 측정 장치의 적정 셀에 도입한 후, 기체의 수분량(㎍)을 측정하여 60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장 후 감압 점착제층의 수분량(㎍)을 측정하였다. 60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장 후 감압 점착제층의 수분율(중량％)을 하기 수학식을 사용하여 계산하였다. 평균값은 측정 횟수(n 수)를 2회로 설정함으로써 계산되었다.
"감압 점착제층의 수분율(중량％)" ="60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장 후 감압 점착제층의 수분량(㎍)"/("60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장 후 샘플의 중량(㎍)"-"알루미늄 호일의 중량(㎍)")×100
(분석 장치)
전기량 적정 수분 측정 장치: 미쯔비시 케미칼 코포레이션에 의해 제조된 "CA-06형"
가열 기화 장치: 미쯔비시 케미칼 코포레이션에 의해 제조된 "VA-06형"
(측정 조건)
방법: 가열 기화법/150℃ 가열
애노드 용액: 아쿠아마이크론 AKX
캐소드 용액: 아쿠아마이크론 CXU
(3) 총 광투과율 및 헤이즈
실시예 및 비교예에서 얻어진 양면 감압 점착 시트의 박리 라이너를 박리하고, 유리판(슬라이드 유리, 로트 번호 "S-1111 ", 마쯔나미 글래스 인더스트리, 리미티드(Matsunami Glass Ind., Ltd.), 1.3 mm의 두께, 0.1％의 헤이즈 및 연마 연부)을 한 감압 점착면이 노출된 상태로 두면서 다른 감압 점착면에 적층시켜 샘플 ("감압 점착제층/유리판"의 층 구조를 가짐)을 제조하였다.
샘플과 관련하여, 총 광투과율 및 헤이즈를 헤이즈 계측기 (장치명 "HM-150", 무라까미 컬러 리서치 래버러터리 컴파니, 리미티드 제조)에 의해 측정하였다. 또한, 헤이즈(％)를 "확산 투과율/총 광투과율 × 100"의 식에 의해 얻었다.
(4) 추출된 (메트)아크릴산 이온의 양
PET 필름 (도레이 인더스트리즈 인코포레이티드(Toray Industries Inc.) 제조, "루미르로르(LUMIRROR) S10", 25 ㎛의 두께)을 실시예 및 비교예에서 얻어진 양면 감압 점착 시트의 한면의 감압 점착면에 적층시킨 후, 폭 10 cm × 길이 10 cm의 크기를 갖는 시트 조각으로 절단하였다. 그 후, 박리 라이너를 박리하여 그의 단지 한면의 감압 점착면만이 노출된 샘플을 제조하였다(감압 점착면의 노출 면적: 100 ㎠).
이어서, 샘플을 100℃의 온도에서 순수 (50 ml)에 넣은 후, 45분 동안 비등시키고, 비등 추출을 수행하여 추출 용액을 얻었다.
이어서, 이온 크로마토그래프법(이온 크로마토그래피)을 사용하여 얻어진 추출 용액 중 아크릴산 이온 및 메타크릴산 이온의 총량 (단위: ng)을 측정하고, 샘플의 감압 점착면 (노출된 감압 점착면)의 단위 면적 당 아크릴산 이온 및 메타크릴산 이온의 총량 (추출된 (메트)아크릴산 이온의 양, 단위: ng/㎠)을 계산하였다. 추출된 (메트)아크릴산 이온의 양이 검출 한계(검출 한계: 2.5 ng) 미만일 경우, 표 1에서 "ND"로 기재하였다.
[이온 크로마토그래프법의 측정 조건]
분석 장치: DX-320, 디오넥스 컴파니, 리미티드 제조
분리 컬럼: Ion Pac AS15 (4 mm × 250 mm)
가드 컬럼: Ion Pac AG15 (4 mm × 50 mm)
제거 시스템: ASRS-ULTRA (외부 방식, 100 mA)
검출기: 전기 전도성 검출기
용리액: 7 mM KOH (0분 내지 20분)
45 mM KOH (20분 내지 30분)
(용리액 발생기 EG40이 사용됨)
용리액의 유속: 1.0 ml/분
샘플의 주입량: 250 ㎕
(5) 가습 탁도 (가습에 의한 백탁화의 존재/부재)
실시예 및 비교예에서 얻어진 양면 감압 점착 시트로부터 박리 라이너를 박리하고, 양면 감압 점착 시트의 한면의 감압 점착면을 유리판(슬라이드 유리, 로트 번호 "S-1111", 마쯔나미 글래스 인더스트리, 리미티드, 1.3 mm의 두께, 0.1％의 헤이즈 및 연마 연부)에 적층시키고, 그의 다른 면의 감압 점착면을 전도성 PET 필름 (상품명 "일레크리스타(ELECRYSTA) V270L-THMP", 닛또 덴꼬 코포레이션(Nitto Denko Corp.) 제조)의 ITO 필름-형성 표면에 적층시켜 "슬라이드 유리/양면 감압 점착 시트 (감압 점착제층)/전도성 PET 필름"의 층 구조를 갖는 샘플을 제조하였다. 샘플의 헤이즈를 헤이즈 계측기 (상품명 "HM-150", 무라까미 컬러 리서치 래버러터리 제조)를 사용하여 23℃ 및 50％ RH의 환경하에 측정하고, 수득된 헤이즈 데이터를 "초기 헤이즈"로 사용하였다.
이어서, 샘플을 60℃ 및 95％ RH의 환경하에 (습열 환경하에) 120시간 동안 저장하였다. 그 후, 샘플을 그로부터 23℃ 및 50％ RH의 환경하에 취하고, 하기 헤이즈를 측정하였다: 샘플을 그로부터 취한 직후의 헤이즈("헤이즈 (직후)"로 칭해짐); 샘플을 그로부터 23℃ 및 50％ RH의 환경하에 취한 지 30분이 지난 후의 헤이즈 ("헤이즈 (30분 후)"로 칭해짐); 샘플을 그로부터 23℃ 및 50％ RH의 환경하에 취한 지 1시간이 지난 후의 헤이즈 ("헤이즈 (1시간 후)"로 칭해짐); 및 샘플을 그로부터 23℃ 및 50％ RH의 환경하에 취한 지 2시간이 지난 후의 헤이즈 ("헤이즈 (2시간 후)"로 칭해짐). "초기 헤이즈"에 대한 "헤이즈 (직후)"의 증가 폭[=(헤이즈 (직후))-(초기 헤이즈)], "초기 헤이즈"에 대한 "헤이즈 (30분 후)"의 증가 폭[= (헤이즈 (30분 후))-(초기 헤이즈)], "초기 헤이즈"에 대한 "헤이즈 (1시간 후)"의 증가 폭[=(헤이즈 (1시간 후))-(초기 헤이즈)] 및 "초기 헤이즈"에 대한 "헤이즈 (2시간 후)"의 증가 폭[=(헤이즈 (2시간 후))-(초기 헤이즈)]을 각각 계산하고, 모두 5.0％ (％포인트) 미만일 경우, "A" (가습에 의해 백탁화가 일어나지 않음)로 평가하고, 어느 하나가 5.0％ (％포인트) 이상일 경우, "B" (가습에 의해 백탁화가 일어남)로 평가하였다. 결과를 표 1에서 "가습 탁도"의 컬럼에 나타내었다.
(6) 내부식성 (ITO 저항 값의 변화)
PET 필름 (도레이 인더스트리즈 인코포레이티드 제조, 상품명 "루미르로르 S-10 #25", 25 ㎛의 두께)을 실시예 및 비교예에서 얻어진 양면 감압 점착 시트의 한면의 감압 점착 표면에 적층시킨 후, 폭 20 mm × 길이 50 mm의 크기를 갖는 시트 조각으로 절단하여 샘플로 사용하였다.
도 2 및 3에 나타낸 바와 같이, 은 페이스트를 전도성 PET 필름(22) (닛또 덴꼬 코포레이션 제조, 상품명 "일레크리스타 P-400 LTNMP") (크기: 길이 70 mm × 폭 25 mm)의 양단부 상에 15 mm의 폭으로 코팅한 후, 박리 라이너를 박리한 샘플(21)의 감압 점착면을 그의 전도성 표면(ITO 필름-형성 표면(22a)측)에 적층시켜 적층체(샘플(21)과 전도성 PET 필름(22)의 적층체)(저항 측정용 샘플)를 제조하였다. 적층체를 23℃의 환경하에 24시간 동안 정치시킨 후, 각각 60℃ 및 95％ RH의 환경 및 80℃의 환경하에 250시간 동안 정치시킨 후, "적층 직후의 저항 값"에 대한 "적층체를 60℃ 및 95％ RH에서 250시간 동안 정치시킨 후 저항 값"의 비율(％) [=(적층체를 60℃ 및 95％ RH에서 250시간 동안 정치시킨 후 저항 값)/(적층 직후의 저항 값)×100(％)] 및 "적층 직후의 저항 값"에 대한 "적층체를 80℃에서 250시간 동안 정치시킨 후 저항 값"의 비율(％) [=(적층체를 80℃에서 250시간 동안 정치시킨 후 저항 값)/(적층 직후의 저항 값)×100(％)]을 각각 측정하였다. 히오끼 일렉트릭 컴파니, 리미티드(Hioki Electric Co., Ltd.)에 의해 제조된 "3540 밀리옴 하이테스터(Miliohm Hightester)"를 사용하여 적층체의 양단부의 은 페이스트 코팅된 부분(22b)에 전극을 부착시켜 저항 값을 측정하였다.
"적층 직후의 저항 값"에 대한 "적층체를 60℃ 및 95％ RH에서 250시간 동안 정치시킨 후 저항 값"의 비율 및 "부착 직후의 저항 값"에 대한 "적층체를 80℃에서 250시간 동안 정치시킨 후 저항 값"의 비율 모두가 120％ 미만일 경우, 부식성은 "양호함"으로 평가되고, 상기 비율 중 어느 하나가 120％ 이상일 경우, 내부식성은 "불량함"으로 평가되었다. 결과를 표 1에서 "내부식성"의 컬럼에 나타내었다.
동일한 시험을 블랭크로서 감압 점착 시트를 적층시키지 않은 전도성 PET 필름만을 사용하여 수행하였으며, 그 결과, "적층체를 250시간 동안 정치시키기 전 저항 값"에 대한 "적층체를 250시간 동안 정치시킨 후 저항 값"의 비율이 각각 80℃에서 110％ 및 60℃ 및 95％ RH에서 120％였다.
<표 1>
Figure pat00002
본 발명은 그의 구체적인 실시양태를 참조로 상세하게 기술되었지만, 본 발명의 취지 및 범위를 벗어남없이 다양한 변화 및 변경이 이루어질 수 있다는 것은 당업자에게 명백할 것이다.
본 출원은 2011년 2월 17일에 출원된 일본 특허 출원 제2011-032493호를 바탕으로 하며, 그의 전체 주제는 본원에 참고로 포함된다.
본 발명은 다음의 광학용 감압 점착 시트를 제공한다.
(1) 100 kHz의 주파수에서 비유전율이 4 이하이고, 60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장 후 수분율이 0.65 중량％ 이상인 감압 점착제층을 포함하는 광학용 감압 점착 시트.
(2) 제1항에 있어서, 90％ 이상의 총 광투과율 및 3％ 이하의 헤이즈를 갖는 광학용 감압 점착 시트.
(3) 제1항 또는 제2항에 있어서, 감압 점착제층이, 단량체 성분으로서, 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 아크릴레이트, 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 메타크릴레이트, 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트 및 질소-함유 단량체로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체를 포함하며 상기 단량체 성분의 비율이 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분의 총량(100 중량％)을 기준으로 60 중량％ 이상인 아크릴 중합체를 포함하는 광학용 감압 점착 시트.
(4) 제3항에 있어서, 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트가 시클로헥실 (메트)아크릴레이트 및 이소보르닐 (메트)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체인 광학용 감압 점착 시트.
(5) 제3항 또는 제4항에 있어서, 질소-함유 단량체가 (메트)아크릴로일 모르폴린 및 N-비닐피롤리돈으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체인 광학용 감압 점착 시트.
(6) 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 이온 크로마토그래프법에 의해 측정되는, 100℃ 및 45분의 조건하에 순수로 추출된 아크릴산 이온 및 메타크릴산 이온의 총량이 감압 점착제층의 단위 면적 당 300 ng/㎠ 이하인 광학용 감압 점착 시트.
(7) 100 kHz의 주파수에서 비유전율이 4 이하인 감압 점착제층을 포함하고, 이온 크로마토그래프법에 의해 측정되는, 100℃ 및 45분의 조건하에 순수로 추출된 아크릴산 이온 및 메타크릴산 이온의 총량이 감압 점착제층의 단위 면적 당 300 ng/㎠ 이하인 광학용 감압 점착 시트.
참조 번호 및 기호에 대한 설명
1: 정전 용량 유형 터치 패널
11: 장식 패널
12: 광학용 감압 점착 시트
13: ITO 필름
14: 하드 코트 필름
21: 샘플
21a: PET 필름
21b: 감압 점착 시트 (양면 감압 점착 시트)
22: 전도성 PET 필름
22a: 전도성 PET 필름의 ITO-필름 형성 표면
22b: 전도성 PET 필름의 은 페이스트 코팅된 부분

Claims (7)

100 kHz의 주파수에서 비유전율이 4 이하이고, 60℃ 및 95％ RH의 환경하에 120시간 동안 저장 후 수분율이 0.65 중량％ 이상인 감압 점착제층을 포함하는, 광학용 감압 점착 시트.
제1항에 있어서, 90％ 이상의 총 광투과율 및 3％ 이하의 헤이즈를 갖는, 광학용 감압 점착 시트.
제1항 또는 제2항에 있어서, 감압 점착제층이, 단량체 성분으로서, 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 아크릴레이트, 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 알킬 에스테르 메타크릴레이트, 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트 및 질소-함유 단량체로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체를 포함하며 상기 단량체 성분의 비율이 아크릴 중합체를 구성하는 단량체 성분의 총량(100 중량％)을 기준으로 60 중량％ 이상인 아크릴 중합체를 포함하는, 광학용 감압 점착 시트.
제3항에 있어서, 지환족 탄화수소기를 갖는 에스테르 (메트)아크릴레이트가 시클로헥실 (메트)아크릴레이트 및 이소보르닐 (메트)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체인, 광학용 감압 점착 시트.
제3항에 있어서, 질소-함유 단량체가 (메트)아크릴로일 모르폴린 및 N-비닐피롤리돈으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 단량체인, 광학용 감압 점착 시트.
제1항 또는 제2항에 있어서, 이온 크로마토그래프법에 의해 측정되는, 100℃ 및 45분의 조건하에 순수로 추출된 아크릴산 이온 및 메타크릴산 이온의 총량이 감압 점착제층의 단위 면적 당 300 ng/㎠ 이하인, 광학용 감압 점착 시트.
100 kHz의 주파수에서 비유전율이 4 이하인 감압 점착제층을 포함하고, 이온 크로마토그래프법에 의해 측정되는, 100℃ 및 45분의 조건하에 순수로 추출된 아크릴산 이온 및 메타크릴산 이온의 총량이 감압 점착제층의 단위 면적 당 300 ng/㎠ 이하인, 광학용 감압 점착 시트.
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