KR20120027275A - 물 중의 제노바이오틱스를 제거하는 방법 및 정제 장치 - Google Patents

물 중의 제노바이오틱스를 제거하는 방법 및 정제 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20120027275A
KR20120027275A KR1020117028375A KR20117028375A KR20120027275A KR 20120027275 A KR20120027275 A KR 20120027275A KR 1020117028375 A KR1020117028375 A KR 1020117028375A KR 20117028375 A KR20117028375 A KR 20117028375A KR 20120027275 A KR20120027275 A KR 20120027275A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
water
photochemical reactor
reactor unit
xenobiotics
unit
Prior art date
Application number
KR1020117028375A
Other languages
English (en)
Inventor
에스테르 올리베로스
안드레 브라운
마리-테레세 마우레테
플로렌스 베노이트마르퀴
약퀘스 데부이레
Original Assignee
로이라
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 로이라 filed Critical 로이라
Publication of KR20120027275A publication Critical patent/KR20120027275A/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/14—Ultrafiltration; Microfiltration
    • B01D61/18—Apparatus therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
    • C02F1/444—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by ultrafiltration or microfiltration
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/467—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction
    • C02F1/4672—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction by electrooxydation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/727—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation using pure oxygen or oxygen rich gas
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/74—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with air
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F3/00—Biological treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F3/02—Aerobic processes
    • C02F3/12—Activated sludge processes
    • C02F3/1236—Particular type of activated sludge installations
    • C02F3/1268—Membrane bioreactor systems
    • C02F3/1273—Submerged membrane bioreactors
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2313/00—Details relating to membrane modules or apparatus
    • B01D2313/18—Specific valves
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/722—Oxidation by peroxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00—Nature of the contaminant
    • C02F2101/30—Organic compounds
    • C02F2101/305—Endocrine disruptive agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00—Nature of the contaminant
    • C02F2101/30—Organic compounds
    • C02F2101/306—Pesticides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00—Nature of the contaminant
    • C02F2101/30—Organic compounds
    • C02F2101/34—Organic compounds containing oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00—Nature of the contaminant
    • C02F2101/30—Organic compounds
    • C02F2101/38—Organic compounds containing nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/32—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from the food or foodstuff industry, e.g. brewery waste waters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/34—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32
    • C02F2103/343—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32 from the pharmaceutical industry, e.g. containing antibiotics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/322—Lamp arrangement
    • C02F2201/3223—Single elongated lamp located on the central axis of a turbular reactor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/322—Lamp arrangement
    • C02F2201/3225—Lamps immersed in an open channel, containing the liquid to be treated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/322—Lamp arrangement
    • C02F2201/3227—Units with two or more lamps
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/324—Lamp cleaning installations, e.g. brushes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/40—Liquid flow rate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/42—Liquid level
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2301/00—General aspects of water treatment
    • C02F2301/08—Multistage treatments, e.g. repetition of the same process step under different conditions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2305/00—Use of specific compounds during water treatment
    • C02F2305/02—Specific form of oxidant
    • C02F2305/023—Reactive oxygen species, singlet oxygen, OH radical

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Biodiversity & Conservation Biology (AREA)
  • Microbiology (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)

Abstract

본 발명은 물에 존재하는 제노바이오틱을 광화학적으로 제거하는 방법을 수행하기에 적합한 정제 장치에 관한 것이다. 정제 장치는 오염된 물을 위한 적어도 하나의 주입구(2') 및 정제된 물을 위한 하나의 배출구(2'')를 갖는 광화학 반응기 유닛(2)을 포함하며, 상기 광화학 반응기 유닛은 상기 주입구(2')에서 상기 배출구(2'')로 물이 연속적으로 흐르기 위한 흐름 경로를 제공하고, 상기 광화학 반응기 유닛은 100 내지 280 nm의 파장을 갖는 자외 복사선을 제공하는 복사원 모듈(6)과 함께 구비된다. 정제 장치는 한외 여과를 수행하도록 설계된 적어도 하나의 막 여과 유닛(1)을 포함하고, 상기 막 여과 유닛은 상기 광화학 반응기 유닛(2)의 상류에 주입구(2')를 통해 연결되고, 공기 또는 이산소를 물에 공급하기 위한 적어도 하나의 장치는 광화학 반응기 유닛(2)에 포함된다. 나아가, 본 발명의 장치를 사용하는 정제 방법이 제공된다.

Description

물 중의 제노바이오틱스를 제거하는 방법 및 정제 장치{PURIFYING DEVICE AND METHOD FOR ELIMINATION OF XENOBIOTICS IN WATER}
본 발명은 물 처리 분야, 구체적으로 화학적 및 생물학적 활성 화합물, 즉 제노바이오틱스를 제거하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
물의 정화제는 지구상에서 가장 중요한 사안이다. 많은 수의 기술이 화합물을 분해, 변형 또는 제거하기 위하여 개발되어 왔다. 그래서, WO/1999/055622는 액체로부터 강산화제를 제거하는 장치 및 방법을 개시하며, 상기 장치는 조사 유닛과 이어서 연수기 유닛일 수 있는 처리 유닛, 금속 산화 환원 매질 또는 이들의 혼합물을 갖는 반응 용기로 구성된다. 조사 유닛에서, 185 내지 254 nm의 UV 광이 사용된다.
EP 1 160 203에서는, 120 내지 210 nm의 진공 UV 복사선으로 물을 광분해함으로써 그리고 이산소의 전기화학적 생산에 의해 수용액 중의 유기 화합물을 분해하는 방법 및 장치를 설명하며, 이산소의 전기화학적 생산은 용액의 조사된 부분에서 이루어진다.
US 2006/0124556 A1 역시, 액체 정제를 위한 장치 및 방법을 개시한다. 상기 장치는 복수의 여과 유닛을 포함하며, 상기 여과 유닛은 100 내지 300 nm의 광을 생산하는 레이저 광분해 챔버와 함께 연속적으로 배치된다. 상기 다단계 장치 및 방법은 미생물과 방향족 환 구조물을 죽이도록 설계되며; 이는 최종 수요자 응용을 위해 설계된 것 같다.
나아가, 문헌[Sosnin 등, "Applicaiont of Capacitive and barrier discharge excimer lamps in photoscience", Journal of Photochem. and Photobiol. C: Photochem. Rev., 7, 2006, p. 145-163]은 수성 상에서 유기 기질을 산화 및 무기물화 하기 위한 엑시머 램프에 의해 생산된 자외 복사선 및 진공 자외 복사선의 사용을 설명한다. 실험실 규모의 장치는 저장소 및 광반응기 사이에서 재순환하는 물을 갖는 흐름-통과(flow-through) 광화학 반응기와 함께 개시된다.
당해 분야의 기술을 고려할 때, 제노바이오틱을 갖는 오염된 물을 공업적 규모로 정제하는 신뢰할 만한 수단을 제공하는 것이 여전히 필요하다.
본 발명의 목적은 물 중의 제노바이오틱스를 제거하는 방법 및 정제 장치를 제공하는 것이다.
본 과제는 청구항 1의 특징을 갖는 정제 장치에 의해 달성된다.
오염수로부터 제노바이오틱을 상당히 제거하는 것은 청구항 11의 특징을 갖는 방법에 의해 달성된다.
상기 정제 장치의 추가적인 실시예 및 본 발명에 따른 방법은 종속항에 개시된다.
본 발명은 물로부터, 특히 폐수 및 음료수의 가공으로부터 제노바이오틱을 제거하는 장치 및 방법을 제공하는 것이다. "제노바이오틱"은 리터당 마이크로 내지 펨토그램의 농도를 갖는 제노바이오틱 오염물질, 특히 제조업 그리고 약 제조시의 소비에서 뿐만 아니라 제노바이오틱을 생산 및 사용하는 임의의 다른 공급원으로부터 초래되는 것을 의미한다.
본 발명의 제 1 실시예에서, 제노바이오틱을 광화학적으로 제거하기 위한 정제 장치가 제공된다. 정제 장치는 공업적 규모의 응용에 맞게 사용될 수 있다.
정제 장치는 제노바이오틱 오염수를 위한 하나 이상의 주입구 및 정제된 물을 위한 하나 이상의 배출구를 갖는 광화학 반응기 유닛을 포함하며, 주입구에서 배출구까지 제공되는 물이 연속적으로 흐르게 하기 위한 흐름 경로를 갖는다. 광화학 반응기 유닛은 100 내지 280 nm의 자외 복사선을 생산하는 복사원(radiation source) 모듈 장치를 구비한다. 나아가, 상기 정제 장치는 하나 이상의 막 여과 유닛을 포함하며, 상기 막 여과 유닛은 상기 광화학 반응기 유닛의 상류에 연결된다. 상기 막 여과 유닛은 한외 여과를 수행하도록 설계되어서, 차후에 광화학 처리를 받을 물 스트림에 함유된 미립자 물질 및 용매화된 고분자(macromolecules)를 유리하게 수집한다. 물 스트림으로부터 미립자 및 고분자 물질을 제거하는 것은 물의 높은 투과도를 야기하고 오염 물질 분해 효율을 증가시킨다.
산화 분해 공정을 유리하게 돕고 제노바이오틱의 전체 무기물화를 달성하기 위해서, 정제 장치는 이산소(dioxygen), 바람직하게는 공기를 광화학 반응기 유닛 안으로 공급하는 적어도 하나의 장치를 부가적으로 구비한다. 일반적으로, 정제된 압축 공기 또는 이산소는 압축 방식으로 제공될 것이다. 하지만 이산소는 전기분해에 의해 당소(in situ)에서 제공될 수도 있다.
전제 장치는 물 레벨 조절 시스템 또는 조절 시스템을 통한 물 흐름을 더 포함할 수 있으며, 상기 물 레벨 조절 시스템은 광화학 반응기 및 막 여과 유닛 사이에서 처리되는 물의 상이한 흐름 속도의 균형을 맞추는 중간 저장소와 함께 결합되는 것이 바람직하다.
복사원 모듈은 모듈의 전기 주입구 및 복사선 배출구를 작동시키고 제어하는데에 사용될 수도 있는 전기 전원 공급부에 연결된다.
한외 여과를 수행하기 위해, 본 발명에 따른 정제 장치의 실시예로 구성된 막 여과 유닛은 0.07 내지 0.25μm의 기공 크기를 갖는 막을 갖지며, 평균적으로 0.12μm의 기공 크기를 가진다. 막 여과 유닛은 십자류 여과(cross-flow filtration) 또는 전량 여과(dead-end filtration)를 수행하도록 설치되며 -두 가지 여과법 모두 당해 분야의 기술자에게 잘 알려짐- 막을 통과하는 여과수는 광화학 반응기 유닛 안으로 들어간다. 바람직하게, 정제 장치의 막은 여과될 매질의 화학적 특성에 대응되는 친수성 막이다.
본 발명의 다른 실시예는 광화학 반응기 안에 사용된 복사원 모듈과 관련이 있고 주입구와 배출구 사이에 제공되는 물 흐름 경로 또는 물 흐름 각각에 관하여 평행 또는 횡단 방향으로 배치된다.
복사원 모듈은 복사원을 둘러싸는 적어도 하나의 봉합(enveloping) 튜브를 포함할 수 있으며, 상기 봉합 튜브는 자외 복사선 방출을 적어도 부분적으로 투과시킨다. 바람직하게, 봉합체 튜브의 물질은 단단하며, 화학적으로 불활성인 합성 석영이고, 또한 200 nm 미만의 파장을 투과시킨다.
나아가, 본 발명의 실시예에 따른 정제 장치는 복사원 모듈, 특히 복사선 효율의 손실을 막기 위하여 봉합 튜브를 기계적으로 및/또는 화학적으로 세척하기 위한 세척 수단을 포함할 수 있다. 세척 방법은 수동적으로 수행될 수 있거나, 시간 또는 투과도 측정으로부터 발생되는 신호를 미리 조정해 놓은 후에 자동적으로 작동될 수 있다.
폐수의 부피 흐름 및 광화학 반응기 유닛 설계에 따라서, 복수의 복사원 모듈은 상기 광화학 반응기 유닛 안에서 직렬 및/또는 병렬로 작동될 수 있다. 일반적으로, 복사원 모듈의 유형은 100 내지 280 nm의 파장을 갖는 소정의 방출 스펙트럼 발광에 따라 선택된다. 적절한 자외선 복사원은 185 nm 및 254 nm의 자외선 복사선을 두드러지게 방출하는 수은 저 압력 램프이다.
다량의 오염수를 처리하기 위하여, 정제 장치는 복수의 광화학 반응기 유닛과 적합한 갯수의 막 여과 유닛을 각각 포함할 수 있으며, 상기 막 여과 유닛은 처리될 물의 특성 및/또는 흐름 상태에 따라서 직렬 또는 병렬로 배치될 수 있다. 일반적으로, 막 여과 유닛은 각각의 광화학 반응기 유닛의 상류에 설치된다.
나아가, 정제 장치는 제노바이오틱의 분해를 향상시키기 위하여 과산화 수소를 광화학 반응기 유닛 안에 첨가하는 적어도 하나의 장치를 포함할 수 있다: 조사 단계 과정에서 과산화 수소를 첨가하는 것은 특히 190 nm 보다 큰 파장에서 히드록실 라디칼의 향상된 생성을 초래하는 반면에, 100 내지 190 nm의 파장에서는 히드록실 라디칼이 물 분자의 광분해 및/또는 균형분해에 의해 생성된다. 히드록실 라디칼은 제노바이오틱과 함께 상이한 라디칼 반응을 개시하며, 상기 제공된 이산소(공기 중의 또는 순수하게)와 함께 제노바이오틱의 산화 분해 및 궁극적인 무기물화를 초래한다.
본 발명의 실시예에 따른 장치 및 본원에서 설명된 방법을 사용하여 처리되고 제거된 제노바이오틱은 상대적 저 분자량의 외인성 분자이며; 이러한 제노바이오틱은 약물 조성물로부터의 결과이거나, 물 또는 공기 오염물질 안에 또는 식품 첨가물, 의약품, 및 다른 공급원에 포함될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 물 안의 제노바이오틱을 제거하는 방법은 상기 설명된 정제 장치를 사용한다. 상기 방법은 두 개의 단계만을 수행하는 것을 일반적으로 요구하는 간단한 과정이다: 물을 여과하는 단계 및 소정의 파장길이로 여과수를 조사하는 단계.
첫 번째로, 상기 한외 여과 단계를 수행하기 위하여 오염수의 연속적 흐름은 막 여과 유닛 안으로 넣어줌으로써, 물로부터 현탁되고 용매화된 고분자 물질을 제거하는 것이다. 그 다음으로, 정제된 물 -"여과수"- 은 광화학 반응기 유닛 안으로 이동되고, 100 내지 280 nm 파장의 자외선 복사선으로 조사되며, 상기 제노바이오틱은 광유도된 히드록실 라디칼 생산에 의해 분해된다. 제공되는 공기 또는 이산소의 존재 하에서, 산화 분해는 상기 제노바이오틱의 무기물화를 초래할 수 있다.
정제된 물의 연속적 흐름은 정제 장치로부터 이제 방출될 수 있다.
바람직하게는, 오염수를 넣어주는 단계, 여과하는 단계, 산화 방법을 통해 제노바이오틱을 제거하기 위하여 여과된 물을 조사하는 단계, 그 후에 조사된 물을 방출하는 단계를 포함하는 본 발명에 따른 방법은 연속적 공정으로 수행될 수 있다. 이러한 목적을 위해서는, 몇몇의 광화학 반응기 유닛이 병렬 또는 직렬로 사용될 수 있다. 배치 단위(batch-wise) 또는 준-연속적 공정이 가능하지만, 연속적 물 흐름이 하나 또는 몇몇의 광화학 반응기 유닛을 통해 재순환함으로써 자외선 복사선으로 반복적 조사되는 것이 요구된다.
본 발명 및 본 발명의 목적은 이어지는 많은 실시예 및 도면과 함께 발명의 상세한 설명을 읽음으로써 더 잘 이해될 것이다.
도 1은 개방 채널로 설계된 광화학 반응기 유닛을 개략적으로 묘사한 것을 보여준다.
도 2는 십자류 여과 유닛 및 광화학 반응기 유닛을 가지는 본 발명의 실시예에 따른 정제 장치의 개략적 묘사를 보여준다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 정제 장치에 포함될 수 있는 적합한 광화학 반응기 유닛(2)의 다른 유형을 보여준다. 광화학 반응기 유닛(2)의 상류, 물 안의 제노바이오틱를 광화학적으로 제거하기 위한 정제 장치는 도 2에서 도시되는 막 여과 유닛(1)에 연결된다. 본 발명의 실시예에 따른 장치는 대규모의 폐수 처리 또는 음료수의 가공에 적합하다.
도 2에 도시된 막 여과 유닛은 오염수 유입(화살표 A로 표시됨)을 위한 주입구(3)를 갖는다. 현탁된 미립자 또는 용매화된 고분자 물질은 막 여과 유닛(1)의 막(5)을 따라 흐르는 농축물 흐름(A')으로 농축되거나 축적되며, 상기 막은 0.07 내지 0.25μm 크기의 기공을 갖는 친수성 막이며, 평균적으로 0.12μm 크기의 기공을 갖는다. 일반적인 정밀여과(microfiltration) 막의 기공 크기는 0.1 내지 10μm이고, 한외 여과 막의 일반적인 기공 크기는 0.1μm 미만이기 때문에, 본 발명의 정제 장치에서 사용된 막(5)은 정밀 및 한외 여과 사이의 기공 크기를 보인다. 도 2에서 도시된 십자류 여과는 필터 케이트(filter cake)가 쌓이지 않는다는 점에서 막의 파울링(fouling)을 방지한다.
흐름 조건에 따라서, 막 여과 유닛 안으로의 복수의 주입구가 제공될 수 있다.
일반적으로, 정밀여과는 마이크론 크기의 여과 장치로서 역할하는 미소공성 막을 통과하는 유체로부터 오염물질을 제거하는 여과 방법이다. 정밀여과는 압력을 사용하거나 사용하지 않고 수행될 수 있다. 여과 장치 막은 다공성이어서 물, 단일 종(monovalent species), 용매화된 유기 물질, 작은 콜로이드 및 바이러스의 통로이지만, 입자, 침전물, 조류 또는 큰 박테리아를 통과시키기 않는다. 폐기물 처리에 한외 여과를 채용하는 것은 연속적 여과 공정에서 목표 고분자를 분리하고 농축시키는 역할을 한다. 사용된 막의 분자량 컷 오프(MWCO)에 따라서, 고분자는 여과수로 이동되거나, 분리되어 농축물에 농축될 수 있다.
도 2에서, 막(5)은 농축물(A')이 이동하는 주입구(3)에서 배출구(7)로의 유체 경로에 관하여 평행한 방향으로 배치되어, 십자류 여과를 제공한다. 십자류 여과는 막(5) 상에서 파울링을 방지한다. 분리된 현탁되고 용매화된 고분자 물질은 농축물(A')(화살표 참조)로 농축되는 반면에, 용해된 오염물질로 가득찬 여과수(화살표 B로 표시됨)는 주입구(2')를 통해서 광화학 반응기 유닛(2) 안으로 주입된다.
막 상의 필터 케이크의 형성은 전량 여과(dead-end filtration)가 수행되고 막 여과 유닛의 불연속적인 작동을 야기하는 정기적인 제거가 요구되는 경우에도 발생되지 않을 수 있다. 그러므로, 물이 막 여과 유닛 중 하나를 통해 연속적으로 흐르며 다른 하나의 막 여과 유닛은 유지되는 것을 보장하기 위하여, 폐기물 주입구 및 광화학 반응기 유닛의 하류에 번갈아서 연결된 적어도 두 개의 막 여과 유닛을 제공하는 것이 유리하다.
정제 장치의 광화학 반응기 유닛(2)은 도 2에서 점선으로 표시된 하나의 복사원 모듈(6)과 함께 구비될 수 있다. 대안적으로, 도 1에서 도시된 바와 같이 하나 이상의 복사원 모듈(6)을 구비할 수 있으며, 상기 4개의 복사원 모듈(6)(점선)은 상호간에 평행하게 배치되고 반응기 안에서 주 흐름 경로(B')와 나란히 배치되며, 상기 흐름 경로(B')는 막 여과 유닛(1)의 여과수(B) 배출구와 연결된다. 각각의 복사원 모듈(6)은 100 내지 280 nm 파장의 자외선 복사선을 방출하는 복사원을 포함한다.
도 1 및 도 2에서 광화학 반응기 유닛(2) 내의 복사원 모듈(6)은 물 흐름 경로(B')과 나란히 놓인다. 다른 광화학 반응기 유닛은 주어진 주 흐름 경로에 수직하여 위치된 복사원 모듈을 함유할 수 있다. 다른 경우로, 하나 이상의 복사원 모듈은 광화학 반응기 내에 사용되며, 상기 복사원 모듈은 평행 또는 횡단방향인 단일 방향성으로 배치될 수 있거나, 상기 복사원 모듈은 십자-패턴을 형성하여 조사된 반응기 부피의 균일한 조도를 달성하도록 배열될 수 있다.
복사원 모듈의 복사원은 적어도 하나의 봉합 튜브에 의해 둘러싸일 수 있다. 이런 봉합 튜브는 광화학적으로 유도되는 분해 방법에 요구되는 파장을 갖는 복사선을 적어도 부분적으로 투과시킨다. 그러므로, 봉합 튜브의 물질은 바람직하게는 석영으로 구성되며, 진공 하에서 200 nm 미만의 자외 복사선을 투과시키는 합성 석영이 바람직하다.
봉합 튜브의 좋은 투과도를 유지하기 위하여, 봉합 튜브를 세척하는 수단이 제공될 수 있다. 세척은 기계적 및/또는 화학적으로 수행될 수 있으며, 세척 수단은 수동적으로 또는 자동화 방식으로 편리하게 작동될 수 있다.
광화학 반응기 유닛은 광화합 반응기 유닛의 설계와 요구되는 흐름 조건에 따라서 직렬 및/또는 병렬로 연결될 수 있는 복수의 복사원을 함유할 수 있다. 몇몇의 광화학 반응기 유닛은 처리될 폐수의 플럭스, 분해되는 오염물질의 종류 및 농도에 따라서 직렬 및/또는 병렬로 연결될 수 있다. 복사원은 상이한 방출 스펙트럼을 갖는 다른 유형일 수 있거나, 동일한 방출 스펙트럼을 갖는 모두 동일한 유형일 수 있다.
바람직한 복사원은 185 nm 및 254 nm 파장에서 가장 두드러진 방출선을 방출 스펙트럼에서 보이는 수은 저압 램프이다. 합성 석영으로 이루어진 봉합 튜브는 185 nm 및 254 nm의 복사선 모두를 투과시키지만, 천연 석영으로 이루어진 봉합 튜브는 오직 254 nm의 복사선만을 투과시킨다.
다른 적합한 복사원은 이미 언급된 범위의 파장을 갖는 광을 생산하는 엑시머 램프(excimer lamp)이며, 특히 적합한 공급원은 진공 자외 복사원, 예를 들어 172 nm에서 최대 방출을 보이는 Xe 엑시머 램프, 193 nm 및 175 nm에서 각각 최대 방출을 보이는 ArF 및 ArCl 엑시머 램프이다. 상기 파장 범위에서 복사선을 방출하기에 적합한 다른 복사원은 UV-C 복사원을 포함하며, 예를 들어 222 nm에서 최대 파장으로 보이는 KrCl 엑시머 램프가 있다.
구입가능한 광범위한 동력, 규모 및 기하학의 복사원 및 램프에 대하여, 물에 185 nm의 진공 자외 복사선을 조사하는 기술, 가능하게는 254 nm의 자외-C 복사선과 함께 조사하는 기술에 기초하여 제노바이오틱을 분해하고 제거하는 것은 모든 물 처리 시설 규모에 대하여 유리하게 시행될 수 있다.
물 레벨 조절 시스템은 도 1의 개방 채널 설계를 갖는 광화학 반응기 유닛(2)에서 특히 유용할 수 있다.
당해 분야의 통상의 기술자에게 알려진 바와 같이, 복사원 모듈은 복사원 또는 복사원 모듈을 작동시키고 제어하는 수단을 포함하는 전기 동력 장치와 연결되는 경우에 작동된다.
산화 방법을 돕고 제노바이오틱의 전체 무기물화를 달성하기 위하여, 정제 장치는 압축 공기 또는 이산소를 광화학 반응기 유닛, 특히 복사원 모듈을 둘러싸는 조사된 영역에 공급하기 위해 적어도 하나의 장치와 함께 구비된다. 당소에서 이산소의 생산은 조사된 영역에서 적합한 방식으로 배치된 전극을 사용하여 전기화학적으로 달성될 수 있다.
큰 부피의 폐수 흐름을 다루기 위해서, 복수의 막 여과 유닛은 직렬 및/또는 병렬로 배치될 수 있으며, 이어서 복수의 광화학 유닛이 배치되며, 이때 큰 규모의 부피를 갖는 폐수 흐름을 위한 주요 주입구는 막 여과 유닛에 공급하는 몇몇의 하부흐름(subflows)으로 흐름을 나누는 흐름 분리장치(flow splitter)와 연결될 수 있다. 따라서 여과수 합류 장치는 설계될 수 있다.
과산화 수소를 광화학 유닛 안으로 공급하기 위한 적어도 하나의 장치의 배치는 190 nm보다 큰 파장에서 과산화 수소가 균일 분해함으로써 추가의 히드록실 라디칼을 생성하며, 이때 물의 광화학적 균일 분해는 발생하지 않는다. 따라서, 수은 저 압력 램프의 방출된 복사선은 185 nm에서 물의 균일 분해에 의해 히드록실 라디칼의 생성을 야기하고 254 nm에서 과산화 수소의 균일 분해에 의해 히드록실 라디칼의 생성을 야기한다.
히드록실 라디칼은 제노바이오틱과 함께 상이한 라디칼 반응을 개시하며, 이산소와 함께 제노바이오틱의 분해 및 무기물화를 초래한다. 이러한 히드록실 라디칼 개시 반응의 반응 경로는 당해 분야에 알려져 있다.
정제 방법은 오염수의 연속적 흐름을 현탁되고 용매화된 고분자 물질을 제거하기 위한 막 여과 유닛을 통과시킨 후에 100 내지 280 nm 파장의 자외 복사선으로 여과수(상대적으로 저 분자량을 갖는 용해된 오염 물질을 함유)를 조사하는 단계를 포함한다. 조사 단계는 광화학 반응기 유닛에서 이루어지고 제노바이오틱의 제거를 개시하는 히드록실 라디칼을 생산한다.
압축 공기 또는 이산소를 광화학 단계에 공급하는 것은 제노바이오틱의 분해 및 무기물화를 향상시키고, 따라서 제노바이오틱은 제거된다. 조사 후에, 정제된 물(화살표 C로 표시됨, 도 2 참조)은 광화학 반응기 유닛으로부타 하나 이상의 배출구(2'')를 통해 배출될 수 있다.
정제 장치 및 방법은 제노바이오틱 및 전체 유기탄소를 임의의 종류의 오염수로부터 제거하기에 적합하다. 바람직하게는, 방법은 연속적으로 수행될 수 있다. 반면에, 공정은 연속적으로 또는 준-연속적으로 수행될 수 있다는 것을 인식해야 할 것이다: 준-연속적 작동에 있어서, 물은 반복적으로 조사 단계를 겪는다.
이어지는 실시예는 제노바이오틱의 광화학적 유도 분해 단계를 더 명확하게 설명한다. 실시예는 설명의 목적으로만 주어지는 것이고, 본 발명의 범위를 제한하기 위한 것이 아니다.
합성 석영 튜브 안에 배치된 복사원으로 수은 저 압력 램프를 갖는 정제 장치에서 디클로르보스(dichlorvos)의 분해(유기포스포릭 살충제).
디클로르보스는 접촉, 섭취 또는 흡입 후에 곤충에 대해 효과적인 외인성 살충제에 속하며, 예를 들어 이는 가사일 및 농업에서 사용된다. 이 분자는 산성 pH의 수성환경에서 더 안정하고, 이 분자의 가수분해 속도는 pH와 온도의 증가와 함께 증가하여 디메틸-인산과 디클로로-아세트알데히드의 형성을 초래한다.
350 ml의 물 중의 10-3 mol/l의 디클로르보스 초기 농도는 UV-C 복사선과 함께 진공 자외 복사선에 노출시킨 후(배치(batch) 공정, 합성 석영 튜브 안에 저 압력 수은 램프(40W)) 50분 이내에 0으로 감소된다.
복사원으로 Xe 엑시머 램프를 갖는 정제 장치에서 2,4-디히드록시-벤조산의 분해.
2,4-디히드록시-벤조산은 오수에서 자수 발견되는 살리실산의 분해 산물이다. 이의 존재는 물 중의 농도가 증가함에 따라 중요성이 증가되는 독성 현상의 이유가 된다. 증가하는 농도 때문에, 화합물의 분해는 더 어려워진다.
350 ml의 물 중의 400 mg/l의 2,4-디히드록시-벤조산 초기 농도는 진공 자외 복사선(배치 공정, Xe 엑시머, 포톤(photon) 플럭스: Pa=(5.0±0.5)1017 포톤/s)에 노출시킨 수 70분 이내에 0으로 감소된다. 만일 농도가 10배 감소되면, 전체 분해는 10분 미만에 달성될 수 있다.
합성 석영 튜브로 봉합된 수은 저 압력 램프도 사용될 수 있고, 필요하다면 과산화수소의 첨가와 함께 사용될 수 있다.
Xe 엑시머 램프를 갖는 정제 장치에서 2,3,4-트리히드록시벤조산의 분해.
350 ml의 물 중의 400 mg/l의 2,3,4-트리히드록시벤조산 초기 농도는 진공 자외 복사선(배치 공정, Xe 엑시머, 포톤(photon) 플럭스: Pa=(5.0±0.5)1017 포톤/s)에 노출시킨 수 60분 이내에 0으로 감소된다. 만일 농도가 10배 감소되면, 전체 분해는 10분 미만에 달성될 수 있다.
여기서도 역시, 합성 석영 튜브로 봉합된 수은 저 압력 램프도 사용될 수 있고, 필요하다면 과산화수소의 첨가와 함께 사용될 수 있다.
Xe 엑시머 램프를 갖는 정제 장치에서 글리세롤 트리니트레이트의 분해.
350 ml의 물 중의 1.2 g/l의 글리세롤 트리니트레이트 초기 농도는 용액이 공기로 영구 포화되는 조건 하에서 그리고 진공 자외 복사선(Xe 엑시머, 120W)에 노출시킨 후에 4 mg/s의 속도로 제거된다. 오염물질의 무기물화가 완료된 후에, 미량의 니트라이트는 용액 중에 발견되지 않았다.
복사원 유기 탄소(TOC)에 관해서, 결과 역시 훌륭했다: 임의의 유형의 오염수는 상기 설명된 방법 및 장치로 처리될 수 있으며, 이러한 처리는 수득한 정제된 물에서 전체 TOC의 제거를 가져온다.

Claims (16)

  1. 오염된 물을 위한 적어도 하나의 주입구(2') 및 정제된 물을 위한 하나의 배출구(2'')를 가지고 상기 주입구(2')에서 상기 배출구(2'')로 물이 연속적으로 흐르도록 흐름 경로를 제공하고, 100 내지 280 nm의 파장을 갖는 자외 복사선을 제공하는 복사원 모듈(6)과 함께 구비된 광화학 반응기 유닛(2)을 포함하며, 물에 존재하는 제노바이오틱스를 광화학적으로 분해하고 제거하는 방법을 수행하기에 적합한 정제 장치에 있어서,
    상기 정제 장치는 한외 여과를 수행하도록 설계되고 상기 주입구(2')를 통하여 상기 광화학 반응기 유닛(2)의 상류(upstream)에 연결되는 적어도 하나의 막 여과 유닛(1), 및
    광화학 반응기 유닛(2)에 포함된 물에 공기 또는 이산소(dioxygen)를 공급하기 위한 적어도 하나의 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 정제 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 정제 장치에 하나 이상의 물 플럭스(flux) 및/또는 레벨 조정 시스템이 제공되며,
    적어도 상기 광화학 반응기 유닛(2)은 물 흐름 및/또는 레벨 조정 시스템과 함께 구비되는 것을 특징으로 하는 정제 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    막 여과 유닛(1)은 막(5), 특히 친수성 막을 포함하며,
    상기 친수성 막은 0.07μm 내지 0.25μm의 기공 크기를 가지며, 바람직하게는 0.12μm의 평균 기공 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 정제 장치.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    막 여과 유닛(1)은 십자류 여과 또는 전량 여과(dead-end filtration)를 수행하도록 설치되며, 여과수는 필터를 통과하여 광화학 반응기 유닛(2) 안으로 인도되는 것을 특징으로 하는 정제 장치.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    광화학 반응기 유닛(2) 내의 복사원 모듈(6)은 주입구(2')로부터 배출구(2'')로의 물 흐름 경로에 대하여 평행 및/또는 횡단 방향으로 배치되는 것을 특징으로 하는 정제 장치.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    복사원 모듈(6)은 복사원 및 상기 복사원을 봉합하는(enveloping) 적어도 하나의 봉합 튜브를 포함하며,
    상기 봉합 튜브는 100 내지 280 nm의 파장을 갖는 자외 복사선을 적어도 부분적으로 투과시키고, 상기 봉합 튜브는 석영 물질로 이루어진 것이 바람직하며, 더 바람직하게는 합성 석영 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 정제 장치.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 정제 장치는 복사원 모듈(6) 및/또는 이의 부품을 기계적 및/또는 화학적으로 세척하는 세척 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 정제 장치.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    100 내지 280 nm 파장의 자외 복사선을 방출하는 복사원은 185 nm 및 254 nm에서 복사선을 방출하는 수은 저 압력 램프인 것을 특징으로 하는 정제 장치.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    복수의 광화학 반응기 유닛(2) 및 복수의 막 여과 유닛(1)은 각각의 광화학 반응기 유닛(2)의 상류에 배치되는 막 여과 유닛(1)과 직렬로 및/또는 병렬로 배치되는 것을 특징으로 하는 정제 장치.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    적어도 저장소(reservoir)의 균형을 잡는 물 플럭스는 적어도 하나의 막 여과 유닛(1) 및 광화학 반응기 유닛(2) 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 정제 장치.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    과산화수소를 광화학 반응기 유닛에 주입하는 적어도 하나의 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 정제 장치.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 정제 장치를 사용하여 물 중의 제노바이오틱을 제거하는 방법에 있어서,
    연속적으로 흐르는 오염수를 막 여과 유닛(1) 안으로 주입하는 단계;
    현탁되고 용매화된 고분자(macromolecular) 물질을 물로부터 제거하기 위하여 한외 여과를 수행하는 단계;
    적어도 하나의 주입구(2')를 통해 광화학 반응기 유닛(2) 안으로 여과수를 보내는 단계;
    상기 제노바이오틱의 분해를 개시하는 히드록실 라디칼을 생성하기 위하여, 상기 주입구(2')에서 상기 배출구(2'')로 흐르는 물에 100 내지 280 nm 파장의 자외 복사선을 조사하는 단계;
    상기 제노바이오틱의 개시된 산화성 분해를 향상시키기 위해, 물 안으로 공기 또는 이산소를 공급하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 물 중의 제노바이오틱의 제거 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 물 중의 제노바이오틱의 제거 방법은 2 단계 절차인 것을 특징으로 하는 물 중의 제노바이오틱의 제거 방법.
  14. 제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
    광화학 반응기 유닛(2)의 주입구에서 여과수의 상류 안으로 또는 광화학 반응기 유닛(2) 안에서 여과수의 상류 안으로 과산화수소를 주입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 물 중의 제노바이오틱의 제거 방법.
  15. 제 12 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 물 중의 제노바이오틱의 제거 방법은 연속적으로 또는 준-연속적으로 수행되며,
    상기 준-연속적으로 수행되는 방법은 하나 이상의 광화학 반응기 유닛(2)을 통해 물 흐름을 재순환시켜서 물 흐름이 자외 복사선에 반복적으로 조사되도록 물의 연속적인 흐름을 요구하는 것을 특징으로 하는 물 중의 제노바이오틱의 제거 방법.
  16. 제 12 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 물 중의 제노바이오틱의 제거 방법은 물로부터 전체 유기 탄소(TOC)를 제거하기에 적합한 것을 특징으로 하는 물 중의 제노바이오틱의 제거 방법.
KR1020117028375A 2009-04-30 2010-04-30 물 중의 제노바이오틱스를 제거하는 방법 및 정제 장치 KR20120027275A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FRPCT/FR2009/050800 2009-04-30
PCT/FR2009/050800 WO2010125251A1 (fr) 2009-04-30 2009-04-30 Installation et procédé d' éliminations des xenobiotiques dans l'eau par rayonnement uv-v

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20120027275A true KR20120027275A (ko) 2012-03-21

Family

ID=41171084

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020117028375A KR20120027275A (ko) 2009-04-30 2010-04-30 물 중의 제노바이오틱스를 제거하는 방법 및 정제 장치

Country Status (18)

Country Link
US (2) US20120138531A1 (ko)
EP (1) EP2451747B1 (ko)
JP (1) JP5717203B2 (ko)
KR (1) KR20120027275A (ko)
CN (1) CN102428033B (ko)
AU (1) AU2010243319B2 (ko)
BR (1) BRPI1007617A2 (ko)
CA (1) CA2760258C (ko)
DK (1) DK2451747T3 (ko)
ES (1) ES2549163T3 (ko)
IL (1) IL215918A0 (ko)
NZ (1) NZ596489A (ko)
PT (1) PT2451747E (ko)
RU (1) RU2541071C2 (ko)
SG (1) SG175336A1 (ko)
TN (1) TN2011000549A1 (ko)
WO (2) WO2010125251A1 (ko)
ZA (1) ZA201108757B (ko)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160215224A1 (en) * 2013-08-28 2016-07-28 Hitachi, Ltd. Chemical Substance Production System and Chemical Substance Production Method
CN203568880U (zh) * 2013-10-12 2014-04-30 星达(姜堰)膜科技有限公司 一种杀菌复合型滤芯
CN103601325B (zh) * 2013-11-08 2016-08-24 同济大学 一种实现去除水中罗硝唑的方法的装置
DE102014108798A1 (de) * 2014-06-24 2015-12-24 Krones Ag Pasteurisationssystem mit Reinigung der Prozessflüssigkeit
KR101438703B1 (ko) * 2014-07-21 2014-09-12 (주)선일 엔바이로 초고도처리 방법 및 이에 사용되는 장치
CN104860372B (zh) * 2015-05-21 2017-12-01 金昌元 具有两种波长紫外灯的适用于任何污水处理的水处理消毒设备
CN107162098B (zh) * 2017-06-12 2020-12-25 北京建筑大学 水中螺旋鱼腥藻的去除方法
DE102017007148A1 (de) * 2017-07-27 2019-03-07 Reinhard Boller Verfahren und Vorrichtung zur genauen Dosierung von Flüssigkeiten mit weitergehender Behandlung
CN109956519B (zh) * 2019-04-21 2021-11-12 贵州大学 一种光化学协同去除水中六价铬和有机酚类污染物的方法
CN110642440A (zh) * 2019-10-12 2020-01-03 上海城市水资源开发利用国家工程中心有限公司 一种去除水厂工艺流程中难去除的抗生素的系统及方法
CN110734193A (zh) * 2019-10-16 2020-01-31 昆明金泽实业有限公司 一种组合式的烟草香料废水处理方法
CN110790434B (zh) * 2019-12-02 2021-12-31 中国有色桂林矿产地质研究院有限公司 一种同时降低选矿回用尾矿废水中铜离子、锌离子、铅离子浓度的方法
JP7397416B2 (ja) * 2020-05-11 2023-12-13 ウシオ電機株式会社 抗がん剤の分解方法
DE102021202957A1 (de) * 2021-03-25 2022-09-29 Osram Gmbh Vorrichtung und verfahren zum bestrahlen einer flüssigkeit
CN114380438A (zh) * 2022-02-18 2022-04-22 清华大学深圳国际研究生院 水体原位移动式处理装置及方法

Family Cites Families (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA966608A (en) * 1972-11-20 1975-04-29 Naturvard Research (Canada) Ltd. Automatic tube cleaner for water sterilizer
AT388365B (de) * 1986-11-17 1989-06-12 Venturama Ag Vorrichtung zur aufbereitung von wasser
US5118422A (en) * 1990-07-24 1992-06-02 Photo-Catalytics, Inc. Photocatalytic treatment of water
JPH0490890A (ja) * 1990-08-07 1992-03-24 Toshiba Corp 水処理装置
JPH0818040B2 (ja) * 1991-05-17 1996-02-28 株式会社荏原総合研究所 純水又は超純水の精製方法及び装置
US5393419A (en) * 1993-02-10 1995-02-28 Amway Corporation Ultraviolet lamp assembly for water purification
JPH09276858A (ja) * 1996-04-16 1997-10-28 Nippon Photo Sci:Kk 紫外線ｔｏｃ分解装置
US5935441A (en) * 1996-09-05 1999-08-10 Millipore Corporation Water purification process
RU6282U1 (ru) * 1997-03-05 1998-03-16 Овчаров Александр Тимофеевич Лампа разрядная ртутная низкого давления для фотохимических процессов
RU2109688C1 (ru) * 1997-03-21 1998-04-27 Афанасий Афанасьевич Райлян Установка для очистки воды
US6328896B1 (en) * 1998-04-24 2001-12-11 United States Filter Corporation Process for removing strong oxidizing agents from liquids
JPH11347591A (ja) * 1998-06-09 1999-12-21 Ebara Corp 生物難分解性有機物含有汚水の処理方法
JP3529284B2 (ja) * 1998-11-12 2004-05-24 株式会社クボタ 難分解性有機物の分解方法
CN1081166C (zh) * 1998-12-07 2002-03-20 南京化工大学 光催化与膜分离集成的水处理方法
JP2000279952A (ja) * 1999-03-31 2000-10-10 Toto Ltd 浄化装置
JP4174783B2 (ja) * 1999-05-10 2008-11-05 千代田工販株式会社 紫外線照射装置
RU2142915C1 (ru) * 1999-06-30 1999-12-20 Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственное предприятие "ЭКОНИКС" Способ обработки водных сред, содержащих органические примеси
JP3920504B2 (ja) * 1999-08-10 2007-05-30 株式会社荏原製作所 紫外線殺菌装置
JP2001047044A (ja) * 1999-08-11 2001-02-20 Kurita Water Ind Ltd 内分泌撹乱性物質含有水の処理方法
JP2001047091A (ja) * 1999-08-12 2001-02-20 Nkk Corp 難分解性有機物含有水の処理装置
AU7722500A (en) * 1999-11-19 2001-05-30 Advanced Microbial Solutions, L.L.C. Process and system for treatment of waste streams containing water-soluble polymers
JP2001300557A (ja) * 2000-02-16 2001-10-30 Kubota Corp 難分解性有機物の分解方法および装置
CN1125782C (zh) * 2000-03-17 2003-10-29 清华大学 与膜分离设备相组合的悬浮光催化氧化水处理方法及其装置
JP2001259621A (ja) * 2000-03-23 2001-09-25 Toto Ltd 水処理装置
FR2809420B1 (fr) * 2000-05-24 2002-08-02 Electricite De France Procede et dispositif pour la degradation de composes organiques en solution aqueuse par photolyse vuv de l'eau et production electrochimique de dioxygene
JP2003190976A (ja) * 2001-12-27 2003-07-08 Toray Ind Inc 廃水処理装置および方法
JP3733482B2 (ja) * 2002-02-13 2006-01-11 千代田工販株式会社 紫外線照射装置
JP2003266090A (ja) * 2002-03-18 2003-09-24 Maezawa Ind Inc 排水処理方法
JP2004057934A (ja) * 2002-07-29 2004-02-26 Chiyoda Kohan Co Ltd 有機塩素化合物の無害化方法
CN1477063A (zh) * 2002-08-21 2004-02-25 中国科学院生态环境研究中心 超滤-射流补臭氧-紫外二次激发产生自由基净化微污染水源水的技术和工艺
ES2282694T3 (es) * 2002-11-20 2007-10-16 Povl Kaas Un procedimiento y un aparato para purificar agua por oxidacion fotoquimica.
RU35111U1 (ru) * 2003-07-23 2003-12-27 Закрытое акционерное общество "Центральный научно-исследовательский институт судового машиностроения" Бактерицидный аппарат для обеззараживания воды
JP4305905B2 (ja) * 2003-10-28 2009-07-29 オルガノ株式会社 排水処理方法および装置
EP1586539A1 (de) * 2004-04-13 2005-10-19 Araiza, Rafael Vorrichtung zur Behandlung eines flüssigen oder gasförmigen Mediums mittels UV-Strahlen
US7118674B2 (en) * 2004-10-14 2006-10-10 Itt Manufacturing Enterprises, Inc. Energy-efficient biological treatment with membrane filtration
US7255789B2 (en) 2004-12-13 2007-08-14 Fite Jr Robert D Method and apparatus for liquid purification
GB0501688D0 (en) * 2005-01-27 2005-03-02 Univ Cranfield Method and apparatus
CN1290774C (zh) * 2005-03-14 2006-12-20 天津大学 去除水中天然有机物的连续浸没式光催化膜处理装置
CN1865159A (zh) * 2005-05-19 2006-11-22 孟广桢 輕微污染污水的处理方法
JP2007160165A (ja) * 2005-12-12 2007-06-28 Nippon Steel Corp 水中のウイルスの除去及び分解方法
US20070158276A1 (en) * 2006-01-10 2007-07-12 Navalis Environmental Systems, Llc Method and Apparatus for Sequenced Batch Advanced Oxidation Wastewater Treatment
JP2008023491A (ja) * 2006-07-25 2008-02-07 Meidensha Corp 促進酸化処理法による廃水処理装置
JP4688069B2 (ja) * 2007-03-14 2011-05-25 岩崎電気株式会社 １，４−ジオキサンの分解方法及び分解装置
CN201161940Y (zh) * 2008-02-01 2008-12-10 浙江森森实业有限公司 水处理系统中的紫外线杀菌器
CN201175714Y (zh) * 2008-03-13 2009-01-07 武汉达阳机械制造有限公司 一种专用于污水紫外消毒设备的清洗装置
JP2009262122A (ja) * 2008-03-31 2009-11-12 Panasonic Corp 水処理装置
KR100907905B1 (ko) * 2008-06-12 2009-07-16 유네코개발 주식회사 연속 흐름식 복합 수처리 장치
CN102164863A (zh) * 2008-09-26 2011-08-24 山田微生物研究所 水处理装置
CN101423310A (zh) * 2008-11-14 2009-05-06 钱志刚 电子超纯水的循环回用处理方法

Also Published As

Publication number Publication date
IL215918A0 (en) 2011-12-29
DK2451747T3 (en) 2015-09-28
WO2010125450A2 (en) 2010-11-04
US20120138531A1 (en) 2012-06-07
PT2451747E (pt) 2015-10-26
EP2451747A2 (en) 2012-05-16
RU2011148456A (ru) 2013-06-10
JP5717203B2 (ja) 2015-05-13
ZA201108757B (en) 2012-09-26
ES2549163T3 (es) 2015-10-23
BRPI1007617A2 (pt) 2016-02-23
SG175336A1 (en) 2011-11-28
WO2010125450A3 (en) 2011-04-21
TN2011000549A1 (en) 2013-05-24
US20170137310A1 (en) 2017-05-18
CN102428033A (zh) 2012-04-25
WO2010125251A1 (fr) 2010-11-04
EP2451747B1 (en) 2015-07-08
AU2010243319A1 (en) 2011-11-17
CA2760258C (en) 2017-08-01
NZ596489A (en) 2014-03-28
AU2010243319B2 (en) 2014-07-03
JP2012525247A (ja) 2012-10-22
RU2541071C2 (ru) 2015-02-10
CA2760258A1 (en) 2010-11-04
CN102428033B (zh) 2015-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20120027275A (ko) 물 중의 제노바이오틱스를 제거하는 방법 및 정제 장치
US6464867B1 (en) Apparatus for producing water containing dissolved ozone
US6991735B2 (en) Free radical generator and method
DK2227442T3 (en) Apparatus and method for treatment of ballast water
US9073766B2 (en) Methods for the treatment of ballast water
JP2002512883A (ja) 液体から強酸化剤を除去するための装置及び方法
RU2466099C2 (ru) Способ получения питьевой воды и устройство для его реализации
GB2515324A (en) Electrolytic advance oxidation processes to treat wastewater, brackish and saline water without hydrogen evolution
KR100866510B1 (ko) 고도산화처리공정과 정밀여과막처리공정의 혼성공정을 이용한 정수처리장치 및 방법
Erdim et al. Hybrid photocatalysis/submerged microfi ltration membrane system for drinking water treatment
KR102558115B1 (ko) Aop가 적용된 스마트 간이 정수장치
JP2018089598A (ja) 水処理装置
KR100711259B1 (ko) 정화처리 장치
KR101395158B1 (ko) 해수를 이용한 선박용 음용수와 냉각수 제조장치 및 그 방법
RU2315007C1 (ru) Способ очистки воды от вредных примесей и установка очистки для осуществления способа
CN1477063A (zh) 超滤-射流补臭氧-紫外二次激发产生自由基净化微污染水源水的技术和工艺
NL1043234B1 (en) Method and device for the continuous removal of micropollutants from waste water
KR20220137817A (ko) 연속 다단 폐수 처리시스템
KR200422903Y1 (ko) 고도산화처리 및 정밀여과 혼성공정에 의한 정수처리장치
CZ36439U1 (cs) Mobilní energeticky nezávislá jednotka úpravny pitné vody
CZ27927U1 (cs) Zařízení pro fotodegradaci organických polutantů v odpadní a pitné vodě
CZ28831U1 (cs) Zařízení pro výrobu pitné vody

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application