JP2002512883A - 液体から強酸化剤を除去するための装置及び方法 - Google Patents

液体から強酸化剤を除去するための装置及び方法

Info

Publication number
JP2002512883A
JP2002512883A JP2000545788A JP2000545788A JP2002512883A JP 2002512883 A JP2002512883 A JP 2002512883A JP 2000545788 A JP2000545788 A JP 2000545788A JP 2000545788 A JP2000545788 A JP 2000545788A JP 2002512883 A JP2002512883 A JP 2002512883A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
concentration
unit
product stream
water
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000545788A
Other languages
English (en)
Inventor
ゾッコランテ,ゲイリー
ウッド,ジョナサン
アトヌーア,ディヴェンドラ
ガンジ,ゲイリー・シー
Original Assignee
ユナイテッド・ステイツ・フィルター・コーポレイション
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ユナイテッド・ステイツ・フィルター・コーポレイション filed Critical ユナイテッド・ステイツ・フィルター・コーポレイション
Publication of JP2002512883A publication Critical patent/JP2002512883A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/42Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F9/00Multistage treatment of water, waste water or sewage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/44Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
    • C02F1/441Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by reverse osmosis
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/70Treatment of water, waste water, or sewage by reduction
    • C02F1/705Reduction by metals
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S210/00Liquid purification or separation
    • Y10S210/90Ultra pure water, e.g. conductivity water

Landscapes

  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)

Abstract

(57)【要約】 液体から強酸化剤を除去するための装置及び方法。当該装置の例示的態様は、強酸化剤の第一濃度を有する入力流を受容するための入口(52)を含む。当該入力流は、当該入口と流体連絡している照射ユニット(58)に流れる。当該照射ユニット(58)中に滞留している間、当該入力流は紫外線を照射されて、当該第一濃度は実質的に低下し、それによって当該強酸化剤の第二濃度を有する第一生成物流が生成する。次に、当該第一生成物流は、当該照射ユニットと流体連絡していて且つ当該照射ユニットの下流に配置されている処理ユニット(72)へと流れ、当該第二濃度は実質的に低下して、当該強酸化剤の第三濃度を有する第二生成物流が生成する。当該処理ユニット(72)は、軟水器ユニット、金属レドックス媒体床を含む反応器、及びそれらの組合せから成る群より選択される。当該第二生成物流は、出口(74)を通って当該装置から出て、使用ポイントへと流れる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の分野】
本発明は、液体から強酸化剤を除去するための装置及び方法に関するものであ
り、更に詳しくは、水中における塩素濃度を実質的に低下させるための装置及び
方法に関するものである。
【0002】
【従来技術の説明】
高純度水は、例えば化学工業、食品工業、電子工業、医療産業、及び製薬工業
における多くの製造及び分析の用途で必要とされている。これらの用途では、典
型的には、給水源(source water supply)(例えば、上水道飲料水(municipal
drinking water supply))を処理して、汚染物質のレベルを低下させることが
必要である。処理法及び処理システムとしては、典型的には:蒸留、濾過、イオ
ン交換(エレクトロ脱イオンを含む)、逆浸透(RO)、光酸化、オゾン処理、
及び限外濾過の組合せが挙げられる。
【0003】 上水道(municipal water supplies)における生物学的な汚染物質を減少させ
る努力において、特に、より温かい環境では、塩素を加えることは常識となって
いる。本明細書では、「塩素」という用語は、例えばクロラミン、二酸化塩素、
亜塩素酸塩、塩素酸塩、過塩素酸塩などのような様々な塩素含有化合物を包含す
ることができる。塩素は、殺生物剤として有効であるが、環境的に敏感なある種
の用途又は高純度水を必要とするある種の用途では、それ自体が汚染物質になる
。更に、例えば塩素のような強酸化剤は、例えばROユニットで用いられるよう
なある種の薄膜(thin film membranes)に関して、ならびにイオン交換樹脂に
関して有害な効果を有することは当業では公知である。この点に関して、上水道
は、典型的には、これらの敏感な用途にとって許容可能な塩素濃度(例えば、約
1ppm)を含む。上水道でしばしば見出される他の強酸化剤としては、過炭酸塩
、過硼酸塩、過酢酸塩、臭素、沃素、過酸化物、及びオゾンが挙げられる。これ
らのいずれの薬剤も、任意の用途で汚染物質であり得る。
【0004】 医療産業では、例えば、精製水は、例えば透析のような様々な用途で用いられ
る。透析用の水は、典型的には、例えばエレクトロ脱イオンユニットを用いる陰
イオン交換によって水からイオン化された汚染物質を除去することによって製造
される。上記したように、例えば塩素のような強酸化剤は、陰イオン交換樹脂に
関して有害な効果を有することが知られている。特に、塩素は、陰イオン交換樹
脂と反応して、ニトロソアミンを形成し得る。ニトロソアミンは、肝臓及び腎臓
を含む多くの器官においてガンを引き起すことが知られている発癌性化合物の一
群である。
【0005】 また、原子力発電所及び火力発電所でも、腐食、スケーリング、及びそれと関
連のあるコストが掛かる停止時間を減少させるための厳しい水質要求条件を有す
る。加圧水型原子力発電所では、例えば、高純度水は、 蒸気発生器における腐
食を低下させるのに重要である。沸騰水型原子力発電所では、高純度水は、原子
炉の水質を維持するのに重要である。伝統的に、発電所のための補給水処理は、
殆ど専ら濾過、イオン交換、及び逆浸透の様々な組合せに頼ってきた。後者二つ
は強酸化剤に対して特に敏感である。
【0006】 同様に、医療産業では、様々な程度の精製水が、医薬品製造、薬剤注射、洗浄
、及び吸入で用いられている。米国薬局方 (USP)には、精製水、滅菌精製
水、注射用蒸留水、滅菌注射用蒸留水、滅菌静菌注射用蒸留水、滅菌洗浄水、及
び滅菌吸入水を含む、医療産業で用いられる様々なタイプの水に関する基準が記
載されている。上記の製薬グレード水のための原水(source water)は、環境保
護局規則によって規定されている「飲料水」である。
【0007】 精製水を用いて、特に装置のための洗浄剤として、またある種の医薬品原末(
bulk pharmaceuticals)の調製時に、ある種の薬剤を加工することができる。精
製水は、前処理装置によって、その後に、イオン交換、及び/又はRO、及び/
又は蒸留によって、飲料水から製造される。
【0008】 滅菌精製水は、血流に直接導入される薬剤では用いられない。精製水は、少な
くとも15分間、最低121℃の温度で加熱することによって滅菌される。注射
用蒸留水は、患者の血流に直接導入できるので、すべての精製水に関する基準及
び内毒素限界を満たしていなければならない。注射用蒸留水を加工する場合、R
Oユニット又は蒸留ユニットを用いなければならない。
【0009】 滅菌注射用蒸留水を用いて、血流に導入される薬剤を希釈することができる。
滅菌注射用蒸留水は、1リットル以下の体積で包装され、上記の方法で滅菌され
る。滅菌静菌注射用蒸留水は、殺微生物剤を含む滅菌注射用蒸留水と同様であり
、30ミリリットル以下の体積で包装される。滅菌洗浄水は、身体内の組織をフ
ラッシュするために、手術処置手順中に用いられる。滅菌吸入水は、吸入器で用
いられる、また吸入溶液の調製時に用いられる滅菌注射用蒸留水と同様である。
【0010】 図1は、様々な用途のための精製水を製造する典型的な従来技術の水処理シス
テム10に関する概略工程系統図である。図示してあるように、供給水、典型的
には、上水道飲料水を、ライン12を通して多層フィルターユニット14に供給
し、バルク粒状物質を除去する。次に、その水を、軟水器16、典型的にはイオ
ン交換ユニットに通して、例えばカルシウム及びマグネシウムのようなスケール
形成陽イオンを除去する。更に、軟水器16は、二価及び三価の陽イオンを除去
し、下流にあるRO膜を汚損すると考えられるコロイドが凝集する傾向を低下さ
せるのにも役立つ。次に、例えば湖又は河川のような地表水源から原水が取られ
る場合には、当該水を、システム10で典型的に用いられる熱交換器18に通す
【0011】 用いる場合には、水を、上記したように、システムのための原水として役立つ
上水道飲料水中に典型的に存在する塩素濃度を低下させるための活性炭床を含む
ことができる脱塩素ユニット20へと通す。脱塩素後、当該水を遠心濾過ユニッ
ト22に通し、最終濾過して、上流にある装置から発生した比較的大きな粒子に
よって引き起される汚損又は他の損傷からRO膜を保護する。次に、当該水を、
ROユニット24に通し、供給水から粒状物質の殆どすべてを除去する。典型的
には、溶けている物質の98%超がRO膜によって拒絶される。図示されていな
いが、ROユニットのダブルパス配置を用いて、高品質の精製水を得ることがで
きる。
【0012】 任意に、ROユニット(単数又は複数)からの透過物を、蒸留ユニット26に
通して、注射用蒸留水を製造することができる。貯蔵タンク28も提供して、ユ
ニット30における製造及び/又は包装の時に使用する前に、当該蒸留水を貯蔵
しても良い。別の用途では、例えば電力産業又は電子工業で用いられているよう
に、他の水処理ユニットを、蒸留ユニット26の代わりに用いても良い。適当な
代替ユニットとしては、例えばイオン交換ユニットなどが挙げられる。
【0013】 上記したように、上水道飲料水は、しばしば、病原性微生物を抑えるために塩
素化される。塩素を除去するために通常用いられる二つの処理法は、粒状活性炭
(GAC)であり、また、例えば二酸化ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、重亜硫
酸ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、又は他のSO2-含有化学種のような還
元剤の直接注入である。他の強いスケール形成酸化剤は、種々の化合物を注入す
ることによって除去される。当該化合物のタイプ及び濃度は、存在する酸化剤の
タイプ及び濃度に必然的に依存し、また当該化合物としては、アスコルビン酸、
ヒドラジン、カルボヒドラジン、モルホリンなどが挙げられる。
【0014】 RO予備処理のために、GAC床を含む脱塩素ユニットは、以下の反応: C + HOCl → CO + H+ + Cl- 及び C + OCl- → CO + Cl- によって水性塩素濃度を効率的に低下させることが知られている。しかしながら
、残念なことに、塩素は、GACと反応して一酸化炭素及び二酸化炭素を生成し
、それにより媒体が減損する。また、GACは、その表面上に微生物及び他の汚
染物質を吸着する傾向もある。GAC床に吸着された汚染物質は、最終的には触
媒部位を塞ぐので、当該床の有効寿命が短くなる。これが起こると、消耗した媒
体を取替えなければならないので、特別な処理が必要となるかもしれない。更に
、GACの表面は、その後に起こる微生物の増殖のための好適部位を提供するの
で、生物学的に敏感な用途では許容できないかもしれない。
【0015】 強酸化剤を除去するためにプロセス流の中に還元剤を直接注入することは、
典型的には、飲料に適した製品を必要としない用途では制限される。効率的では
あるが、この方法は、化学的コスト、処理、貯蔵、不便さ、及び計量とモニタリ
ングの装置と関連するコストを含む多くの短所を有する。特に、メタ重亜硫酸ナ
トリウムは分解して、硫酸ナトリウムを生成することがあり、当該硫酸ナトリウ
ムは硫酸還元菌を刺激する。更に、酸化/還元(レドックス)反応による強酸化
剤の大量除去は、当該プロセス流に望ましくないイオン種及び他の種を導入し、
RO膜のスケーリングの一因となるかもしれない。
【0016】 塩素除去に関する他のより最近の発展としては、金属レドックス媒体を含む流
液形反応器(flow-through reaction vessels)の使用が挙げられる。しかしな
がら、反応器で起こる自発レドックス反応の故に、この脱塩素法は、亜流酸塩の
添加と関連する同じいくつかの問題が生じ得る。特に、塩素濃度が中程度の濃度
から高濃度である場合(すなわち、約1ppm以上)、金属レドックス媒体はプロ
セス流に高レベルの金属イオンを許容不可能な程にもたらすことがあるので、下
流にある装置において問題を引き起こす。
【0017】 紫外線(UV)照射を上手く用いて、水処理システムにおいて、活性な微生物
及び有機化合物のレベルを低下させて来た。特に、波長185 〜 254nmの紫
外線の照射は、水に関する有効な殺菌(殺細菌及び静菌)処理であることが分か
った。微生物細胞に存在するDNA及びタンパク質が紫外線を吸収することによ
り、微生物が不活化する。185nm及び254nm双方の紫外線を生成するランプ
を組合せると、有機化合物を光酸化するのに有効であることも分かった。
【0018】 最近では、先行論文は、UV脱塩素に焦点を当てており、従来の脱塩素法を超
えるいくつもの固有の利点を有すると考えられる。エネルギー以外に、UV照射
は、処理流に対して、例えば望ましくない化学物質及び付随の着色、匂い、味な
どを何も付与せず、また有害な副生物も生成させない。UV照射は、例えば消毒
、全有機炭素量(TOC)の減少、及びオゾン(O3)破壊のような有益な副作
用も提供すると考えられる。そのような研究の一つとして、The Society of Sof
t Drink Technologists, pp. 7 1-94, (1988) において出版された、Coca-Cola
USAによって行われた"Ultraviolet Dechlorination of Beverage Water" という
名称の研究は、GACフィルターの下流での極微量の残留塩素のUV脱塩素に関
するものであった。その結果は、脱塩素の初期手段としてこの技術を用いるより
も、不経済な程に高用量のUV線量を用いた方ほうが、極微量レベルの遊離して
いる塩素及びクロラミンを処理するのに明確に有利であることを示している。こ
の点に関して、生データは、消毒に必要とされる滞留時間の10 〜 50倍の時
間が、極微量の塩素(すなわち、0.10 〜 0.24ppm)を除去するのに必
要であることを示していた。原料の上水道飲料水(すなわち、[Cl2]=約1p
pm)に関する照射ユニットの効果をより正確にエミュレートした「実世界」の結
果は、更にずっと効果的である。経済的な観点からは、RO予備処理のために必
要な実質的に完全な塩素除去に必要とされる流量は不満足なものであった(すな
わち、3.43 x 10-2 gpm)。
【0019】 別の研究の結果は、ULTRAPURE WATERの1998年4月の版において "CHLORIN
E REMOVAL - ULTRAVIOLET LIGHT OXIDATION OF CHLORINE IN WATER" という名称
の論文で発表された。この研究は、プロセス水を脱塩素するための市販のUVユ
ニットを用いることの実現可能性に関するものであった。UVが極微量の塩素を
経済的に除去すると考えられることを示す結果にある程度基づいて、著者は、約
1.0ppmの遊離塩素レベルは、UV酸化にとっては非実用的であり非現実的で
あるかもしれないということ、またGAC及び化学物質の注入は脱塩素の初期手
段であり続けると結論していた。
【0020】 政府の規則がより厳しくなり、高純度水に関する需要が増大し続けるにつれて
、上水道水を処理して高純度水を得る改良された新しい方法が必要とされている
。今日まで、処理流の中に対応する中濃度から高濃度の他の汚染物質を導入せず
に、上水道から中濃度から高濃度の強酸化剤を除去する、有効で且つ経済的に許
容可能な処理法は存在していない。
【0021】
【発明の概要】
而して、本発明は、液体から強酸化剤を除去するための装置及び方法に関する
ものである。本発明の装置及び方法は、コストの掛かる計量装置、化学物質、及
び亜硫酸塩を注入するために必要とされる殆ど絶え間の無いモニタリングを必要
とせずに、供給水における強酸化剤の濃度を実質的に低下させる。例えば、脱塩
素を、実質的な細菌の増殖のための部位を提供する粒状活性炭を用いずに達成で
きる。更に、本発明は、重金属のイオン及び化合物を生成物流に導入してしまう
こと無く、強酸化剤を除去する。
【0022】 当該装置は、強酸化剤の第一濃度を有する入力流を受容するための入口を含む
。当該入力流は、当該入口と流体連絡している照射ユニット中に流れる。当該照
射ユニット中において、当該入力流に対して紫外線が照射されて、当該第一濃度
は実質的に低下し、それによって強酸化剤の第二濃度を有する第一生成物流が生
成する。次に、当該第一生成物流は、当該照射ユニットと流体連絡していて且つ
その下流に配置されている処理ユニット中に流れ、そこで、当該第二濃度は実質
的に低下し、それによって強酸化剤の第三濃度を有する第二生成物流が生成する
。当該第二生成物流は、出口を通って当該装置から出て、例えばROユニット又
は他のプロセス装置、貯蔵容器などのような使用ポイントへと流れる。
【0023】 様々な態様では、下流の処理ユニットは、軟水器ユニット、金属レドックス媒
体床を含む反応器、及びそれらの組合せから成る群より選択される。軟水器ユニ
ットが存在する場合、当該軟水器ユニットはナトリウム形態のイオン交換樹脂を
含むことができる。金属レドックス媒体床が存在する場合、当該媒体床は、亜鉛
、銅、又は例えば黄銅のような亜鉛と銅の合金から形成された金属粒子を含むこ
とができる。これらの金属粒子は、強酸化剤のレドックス電位とは有意に異なる
レドックス電位を有する。その結果として、液体が当該粒子と接触すると、強酸
化剤と当該粒子との間に自発的な無機酸化還元反応のための状態が確立される。
【0024】 好ましくは、当該入力流は、微生物の消毒に理論的に必要な時間(消毒速度(
disinfection rate))の約20倍未満の時間、照射ユニット中に滞留される。
他の用途では、経済的な面を考慮すると、照射ユニットにおける滞留時間は消毒
速度の約10倍以下であることが要求されるかもしれない。本発明のユニークな
構成により、これらの大きな流量において、強酸化剤を実質的に完全に除去する
ことができる。
【0025】 多くの用途では、入力流は、上水道飲料水から得られ、典型的には、当該上水
道水は約1ppmの塩素を含む。本発明の装置は、約0.05ppm未満まで塩素濃度
を低下させることができ、特定の用途に関する、又は例えばRO膜などのような
下流に存在する装置に対する有害な効果を最小にする。ある種の好ましい態様で
は、本発明は、約0.02ppm未満まで塩素濃度を低下させることができ、下流
にあるRO膜の有効寿命を更に延ばす。
【0026】 更に、本発明は、液体中における強酸化剤の濃度を実質的に低下させるための
方法も提供する。強酸化剤の第一濃度を有する入力流に対して紫外線を照射して
、当該第一濃度を実質的に低下させ、それによって強酸化剤の第二濃度を有する
第一生成物流を生成させる。次に、当該第一生成物流を、軟水器ユニット、金属
レドックス媒体床を含む反応器、及びそれらの組合せから成る群より選択される
処理ユニットに流して、当該第二濃度を実質的に低下させ、それによって強酸化
剤の第三濃度を有する第二生成物流を生成させる。次に、当該第二生成物流を使
用ポイントへと指向することができる。
【0027】 更に、本発明は、第一塩素濃度を有する入力流を受容するための入口を有する
水処理システムに関するものである。当該システムは、第一塩素濃度を実質的に
低下させ、第二塩素濃度を有する第一生成物流を生成させるための、紫外線を放
射できる照射ユニットも含む。当該照射ユニットと流体連絡していて且つ当該照
射ユニットの下流に配置されている処理ユニットは、当該第二塩素濃度を実質的
に低下させ、第三塩素濃度を有する第二生成物流を生成する。当該処理ユニット
は、軟水器ユニット、金属レドックス媒体床を含む反応器、及びそれらの組合せ
から成る群より選択される。最後に、当該処理ユニットと流体連絡していて且つ
当該処理ユニットの下流に配置されているROユニットは、当該第二生成物流が
使用ポイントへと出口を通って出る前に、当該生成物流から望ましくない汚染物
質を除去する。
【0028】 本発明の他の目的及び特徴は、添付の図面と、その詳細な説明から明らかとな
る。これらの図面は例示目的のみであって、本発明の限界を規定する意図は無い
ことを理解すべきである。
【0029】 本発明は、液体から強酸化剤を除去するための装置及び方法に関するものであ
る。図2Aに示してあるように、本発明の一つの態様は、入力流/供給水流(矢
印52で示してある)が入口54から導入される装置50を含む。入力流52の
供給源にしたがって、装置50の中に圧力を提供するために入口ポンプ56が必
要であるかもしれない。入力流52は、典型的には上水道由来であるが、地下水
もしくは地表水由来、又は降水由来の水であることもできる。市当局は、現在、
それらの給水を約1.0ppm以上の濃度まで塩素化して、病原性微生物を抑えて
いる。しかしながら、入力流52を上水道から得る場合、実際の塩素濃度は、上
水道システム中にある様々な汚染物質と塩素との反応によって、最初の濃度から
わずかに変化しているかもしれない。例えば、ある種の有機汚染物質は、塩素と
化合してトリハロメタンを生成するので、水中「遊離」塩素の濃度が低下する。
入力流52は、例えば過炭酸塩、過硼酸塩、過酢酸塩、臭素、沃素、過酸化物、
及びオゾンのような他の強酸化剤を含んでいるかもしれない。
【0030】 入力流52は、入口54と流体連絡している照射ユニット58に流れる。図2
Aと、図2Aの切断ライン2B−2Bに沿って取った照射ユニット58の横断面
図である図2Bとに関して、典型的な照射ユニットは、中心線に沿って縦方向に
且つ円筒形容器60の壁に対して平行に配置された円筒形UVランプ62を有す
る当該円筒形容器60を含む。UVランプ62は、円筒形容器60の円形端面6
3に固定されていて、更に電源(図示されていない)に接続されるケーブル/配
線64が備わっている。UVランプ62の円周外面と共に、容器60の円周内面
は、照射室66を画定している。入口54及び出口68は、容器60の反対の端
に配置されていて、当該端面63の中心から外れている。この配置によって、液
体は、照射室の中に流れ、UVランプ62の外周を取り囲む。その結果、運転時
に、UVランプ62は、照射室66に存在する大量の液体を紫外線処理すること
ができる。
【0031】 入力流52は、照射ユニット58に入るときには強酸化剤の第一濃度を有する
。入力流52は、照射ユニット58で紫外線を照射され、当該第一濃度は実質的
に低下し、強酸化剤の第二濃度を有する第一生成物流70が生成する。第一生成
物流70は、照射ユニット58と流体連絡していて且つ当該ユニットの下流に配
置されている処理ユニット72に流れ、そこで当該第二濃度は実質的に低下し、
強酸化剤の第三濃度を有する第二生成物流74が生成する。第二生成物流74は
、出口76を通って装置50を出て、使用ポイント、更なるプロセス処理、又は
貯蔵容器まで流れる。当該第二生成物流74が装置50を出るときには強酸化剤
が実質的に存在していないので、更なるプロセス処理は、例えばROユニット又
はエレクトロ脱イオンユニットによって容易に達成できる。
【0032】 本発明を特定の理論に限定しなくても、以下の反応:
【0033】
【化1】
【0034】 によって、塩素が水性媒体中で加水分解して、「遊離塩素」(次亜塩素酸 HO
Cl及び次亜塩素酸塩 OCl-)を生成すると考えられる。更に、以下の遊離基
機構:
【0035】
【化2】
【0036】 によって、UV照射による光分解により遊離塩素が除去される。 液体精製技術の当業者には公知のように、従来のRO膜の有効寿命は、入力流
の塩素濃度が約0.05ppm未満であると著しく延び、ある種の高度に塩素に敏
感な用途では、好ましい塩素濃度は、従来の手段では殆ど検出不可能である(す
なわち、約0.02ppm未満)。塩素が存在している場合、第一生成物流70の
塩素濃度は、照射ユニット58における滞留時間に反比例する。しかしながら、
大量用途のために媒体により大きな流量を提供するために、入力流52は、長時
間、照射ユニット58に滞留することはできない。この点に関して、本発明の構
成により、経済的に実行可能な流量で実質的に全塩素が除去される。
【0037】 上記したように、UV照射ユニットは、典型的には、殺菌用途で、ならびにオ
ゾン破壊のために及びプロセス流からのTOC除去のために用いられる。結果と
して、これらの照射ユニットの製造者は、典型的には、TOC除去及びオゾン破
壊のための推奨の許容可能な滞留時間に基づいて、微生物の消毒に理論的に必要
な滞留時間(すなわち、殺菌滞留時間)を用いる。例えば、低圧で185nmのU
Vユニットでは、TOC除去のためには当該殺菌滞留時間の10倍(10X)及
びオゾン破壊のためには当該殺菌滞留時間の4倍の滞留時間が、カリフォルニア
州バレンシアにあるAquafine Corporationによって推奨されている。プロセスパ
ラメーター(例えば、入力酸化剤濃度、処理ユニット72の選択、下流にある膜
のタイプなど)と、経済的なことを考慮すると、液体は、強酸化剤の濃度を実質
的に低下させるために、約20倍の時間、照射ユニット58の中に滞留させるこ
とのみが必要である。他の用途では、経済的なことを考えると、約10倍以下の
滞留時間が必要かもしれない。本発明のユニークな構成は、これらのより短い滞
留時間で、強酸化剤を実質的に完全に除去することができる。
【0038】 当業者には明らかなように、流動複数構成装置システム(fluidized multicom
ponent system)では、特定の構成装置における滞留時間は、構成装置の容積、
ならびにシステム流量の関数である。典型的な用途では、照射ユニットの容積は
、運転中に変更されず、滞留時間はシステム流量の逆関数である。而して、装置
製造者は、典型的には、消毒のための流量を提供する。、推奨される滞留時間で
消毒速度を割ることによって、消毒速度から所定の用途に必要な流量を計算する
ことができる。例えば、照射ユニットが100gpmの消毒速度を有し、用途が2
0倍の滞留時間を要求する場合、当該ユニットに関する流量は5gpmであるべき
である(100/20)。照射ユニット58に関する流量は、照射ユニット58
の下流に配置された例えばスピゴットタイプのバルブ、ドールバルブなどのよう
な従来の手段によって、又は上流にあるポンプ56によって制御することができ
る。
【0039】 処理ユニット72は、プロセス中に化学物質又は重金属イオンを導入せずに、
また実質的に細菌を増殖させるための部位を提供することなく、第一生成物流7
0中の強酸化剤の濃度を実質的に低下させることができる。処理ユニット72は
、軟水器ユニット、金属レドックス媒体床を含む反応器、及びそれらの組合せか
ら成る群より選択することができる。処理ユニット72の選択は、製品液体の特
定の用途又は意図される使用(例えば、分析用途、製薬、外科での洗浄、工業排
水の処理など)にいくぶん左右される。また、処理ユニット72の選択は、見積
もられる運転コストに関する経済的な考慮にも左右される。以下で詳細に説明し
ているように、軟水器ユニットは、ナトリウムブラインの再生及び/又は樹脂の
交換が必要かもしれない。
【0040】 これまでは、軟水器ユニットは、主として、膜を含むユニットで処理する前に
、水の硬度(カルシウム及び/又はマグネシウムの含量)を低下させて、膜の汚
損を少なくするために用いられてきた。軟水器ユニットは、典型的には、ナトリ
ウムイオン2個を、「軟水化された」水から除去されたカルシウムイオン又はマ
がグネシウムイオン1個と交換するビーズを含む。前記の交換は、陽イオン交換
樹脂が、ナトリウムイオンに比べて、「硬度イオン(hardness ions)」に関し
てより高い選択性を有することから起こる;而して、例えば、マグネシウムの存
在下で、以下の反応:
【0041】
【化3】
【0042】 (式中、Rは樹脂交換部位を示している)が起こる。この例ではマグネシウムで
示してあるが、すべての二価陽イオンに関して同じ反応が起こり得る。会合した
陰イオンは、反応しないので示していない。飽和に達する前のいくつかのポイン
トでは、軟水器ユニットをオフラインにして、樹脂を主としてナトリウム形態に
戻さなければならない。当該平衡反応は、通常はブライン再生体形態の過剰のナ
トリウムを用いることによって逆戻りする。
【0043】 しかしながら、強酸化剤(特に塩素)は軟水器樹脂ビーズ上に吸着され、充分
な濃度が存在している場合は、強酸化剤は樹脂のポリマー構造(すなわち、主鎖
)を攻撃する。ポリマー樹脂の架橋レベルが低ければ低いほど、分解はより速く
起こる。強酸化剤による軟水器樹脂の分解は不可逆であるので、当該樹脂は、最
終的には交換しなければならない。而して、これまでは、軟水器ユニットによる
強酸化剤の除去には、法外なコストを要していた。実際には、前記除去は、典型
的には、軟水器ユニットの上流で行って、軟水器樹脂ビーズの分解によるシステ
ムにおける圧力低下を防止し、また下流のTOC濃度の増加を防止する。この点
に関して、本発明の構成は、軟水器ユニットの樹脂ビーズに対して広範囲に負荷
をかけない。処理ユニット72として用いる場合、軟水器ユニットは、第一生成
物流70中に残留している強酸化剤の実質的にすべてを効率的に除去して、上で
規定した好ましい範囲内で強酸化剤濃度を有する第三生成物流74を生成する。
【0044】 軟水器ユニットの代わりに又は軟水器ユニットと組合せて、処理ユニット72
は、金属レドックス媒体床を含む流液形反応器を含むことができる。この態様で
は、第一生成物流70がレドックス媒体床を通過するとき、液体は当該媒体と充
分に接触し、それにより自発酸化還元(「レドックス」)反応のための最適な状
態が生じて、当該媒体と強酸化剤との間で当該反応が起こる。これらのレドック
ス反応の自然に発生する副生物は金属イオンであり、供給水中の強酸化剤の元の
濃度と等しい濃度で存在しているかもしれない。結果として、ある種の敏感な用
途では、金属レドックス媒体は、強酸化剤の根本的な除去には用いることができ
ない。しかしながら、本発明の構成によってこの短所が克服され、第二生成物流
74は強酸化剤を実質的に含有していないだけでなく、金属陽イオンも実質的に
含有していない。
【0045】 当業において公知のように、レドックス反応は、酸化化学変化であり、元素の
正の原子価は増加し(電子を失う)、同時に関連元素は還元される(電子を得る
)。還元される又は酸化される異なる種の相対的傾向は、それらの標準電位(E 0 )(25℃において1.0モル溶液を用いる標準水素半電池と比較した電位)
から予測できる。異なる半電池反応に関するE0を比較することによって、特定
の酸化還元が自発的に起こるかどうかを決定できる。例えば、25℃で約7のp
Hを有する水に溶解した塩素は、HOCl及びClO-として存在し、HOCl
は酸性側で優勢であり、ClO-は塩基性側で優勢である。単純化するために、
ClO-が亜鉛及び銅を含む水溶液における反応種であると仮定すると、亜鉛/
塩素及び銅/塩素のレドックス反応のための電位は、以下のようにして計算でき
る。
【0046】
【化4】
【0047】 上記したように、亜鉛及び銅の双方は、次亜塩素酸塩とそれぞれ自発的に反応
すべきであり、亜鉛/塩素反応は、理論的に、当該反応が更に正の電位を有する
ことから、より自発的である。実際には、例えば黄銅媒体のような亜鉛と銅の合
金媒体は、溶解された塩素の除去において、純粋な亜鉛、純粋な銅、又はそれら
の不均一混合物に比べて、より効率的であることを見出した。更に、ある種の純
粋な金属(例えば亜鉛)は、水性液体中で激しく反応することができるが、黄銅
は反応しない。その理由は、レドックス反応は当該媒体の表面又は近傍で起こる
からである。当該媒体は、有効表面積を増加させるために、好ましくは、ビーズ
、顆粒、繊維などの形態である。好ましい媒体は、ミシガン州スリーリバーにあ
るKDF Fluid Treatment, Inc. から市販されているKDF(登録商標) 55 Coarse
レドックス媒体である。
【0048】 他の適当な還元媒体としては、例えばレーニー銅及びレーニーニッケルのよう
なレーニー金属が挙げられる。当業者には公知のように、レーニー金属は、卑金
属(ニッケル、コバルト、銅、又は他の遷移金属)をアルミニウムと合金にし、
次に、苛性アルカリでアルミニウムを浸出して作る。製品、すなわち大きな有効
表面積を有する「スポンジ状」金属と、それを作るための方法は、参照として本
明細書に完全に取り入れられる米国特許第1,628,190号でRaneyによっ
て記載されている。
【0049】 処理ユニット72が、金属レドックス媒体を含み、また最終直列システム構成
装置(final serial system component)である場合、バルブ78は、反応器に
少なくとも公称背圧を提供し、それにより、処理液体と当該媒体の実質的にすべ
ての表面との間に充分な接触が実現する。別の態様では、本発明は、更に、処理
ユニット72の下流に配置された、処理ユニット(ROユニット、限外濾過ユニ
ット、イオン交換ユニット、エレクトロ脱イオンユニットなど)を含んでいても
良く、媒体床に対して必要な背圧を提供する。
【0050】 一つのそのような別の態様は、図3であり、当該態様では、水処理システム8
0は、第一塩素濃度を有する入力流52を受容するための入口54を含む。入力
流52は照射ユニット58に流れ、そこで、UVが照射されて、当該第一塩素濃
度が実質的に低下し、第二塩素濃度を有する第一生成物流70が生成する。照射
ユニット58と流体連絡していて且つ当該ユニットの下流に配置されている処理
ユニット72を提供し、そこで、第二塩素濃度を実質的に低下させ、それにより
第三塩素濃度を有する第二生成物流が生成する。最後に、処理ユニット72と流
体連絡していて且つ当該ユニットの下流に配置されたROユニット82は、第二
生成物流が使用又は貯蔵ポイント(図示されていない)へと指向される前に、第
二生成物流74から汚染物質が除去される。図示されていないが、ROユニット
のダブルパス構成を用いて、高品質の精製水を得ることができる。任意に、シス
テム80は、更に、第二生成物流74が当該システムから出る前に、当該生成物
流から残留汚染物質を実質的に除去するためのポリッシャユニット(polisher u
nit)を含むことができる。
【0051】 当業では公知のように、ROは、供給水から殆どすべての汚染物質を除去でき
る。RO膜の細孔構造は、実際に、すべての粒子、細菌、及び300ドルトンを
超える分子量の有機物を拒絶する。ROユニット82は、典型的には、少なくと
も1つの半透膜と、当該膜に水圧を提供するためのポンプとを含む。この水圧は
、濃縮された(汚染された)溶液に対して施用されて、当該膜にかかる自然の浸
透圧を打消し克服する。この方法では、精製水は濃縮溶液(供給水)から移動し
、当該膜の下流で捕集される。
【0052】 また、ROは、イオン排除プロセスを含む。溶媒だけが、半透過性のRO膜を
通過し、事実上すべてのイオン及び溶解分子が保持される。半透膜は、電荷現象
作用(charge phenomena action)によって塩を排除する。すなわち、電荷が大
きくなると、より多く拒絶される。而して、当該膜は、殆どすべての強くイオン
化された多価イオンを拒絶できる。供給水が異なれば、異なるタイプのRO膜が
必要であるかもしれない。膜は、一般的に、酢酸セルロース、又はポリスルホン
支持体上ポリアミドの薄層複合材料から製造される。殆どのRO膜は、塩素のよ
うな強酸化剤に耐えられない。而して、照射ユニット58を、処理ユニット72
と組合せて提供して、RO供給から実質的にすべての塩素を除去して、より長い
膜寿命を得て、膜交換のための「停止時間」を短くすることによってより効率的
なシステム性能を得る。
【0053】 更なる別の態様は、望ましくない汚染物質を除去するために、ROユニット8
2に加えて、又は前記ユニットの代わりに、エレクトロ脱イオンユニット(図示
されていない)を含むことができる。本発明で用いるのに適するエレクトロ脱イ
オンユニットとしては、例えば、カルフォルニア州パームデザートにあるUnited
States Filter Corporationから市販されているCDI(登録商標)エレクトロ脱
イオンユニットが挙げられる。公知のように、エレクトロ脱イオンは、フィルド
セル電気透析(filled-cell electrodialysis )とも呼ばれており、効率的に水
を脱イオンするプロセスを含む。当該装置中に配置されたイオン交換樹脂は連続
的に再生される。この電気化学的再生は、従来のイオン交換システムの化学的再
生に取って代わる。
【0054】 エレクトロ脱イオンユニットは、例えば螺旋形、プレート形及びフレーム形、
及び円形のような様々なデザインで市販されているが、それぞれは、典型的に、
2つの電極の間に配置された複数のセルを含む。各セルは、その上に陽イオン膜
及び陰イオン膜が反対側に配置されているポリマーフレームから成る。当該セル
の中心にある空間、すなわちイオン選択膜の間にある空間は、イオン交換樹脂床
(例えば、陽イオン交換樹脂床、陰イオン交換樹脂床、又は混合床)で充填され
る。当該セルは、典型的には、スクリーンタイプのセパレータによって互いに分
離される。
【0055】 エレクトロ脱イオンユニットに入る供給水は、少なくとも3つの部分に分離さ
れる。少量(small percentage)が電極に流れ、当該供給水の大半はセル中の樹
脂床を通過し(「希釈区画」)、残りはセル間にあるセパレータに沿って流れる
(「濃縮区画」)。
【0056】 イオン交換樹脂は、セルの頂部において、供給水中に存在する溶解イオンを取
り込む。モジュールに施用した電流は、それらのイオンを、イオン選択膜を通過
させて電極の方向に引張る。陽イオンは、陽イオン透過膜を通過して陽極の方向
に引張られる。陰イオンは、陰イオン選択膜を通過して陰極の方向に引張られる
。しかしながら、これらのイオンは、それらの各電極へと完全に移動することは
できない。その理由は、イオンが、同じ電荷の隣接イオン選択膜のところに到達
するからである。これにより、イオンの更なる泳動が妨げられ、濃縮区画におい
て強制濃縮される。セル間のこれらの空間で濃縮されるイオンは、典型的には、
システムから配水管へとフラッシュされる。
【0057】 水が希釈区画の樹脂床を通過するとき、水は次第に脱イオンされる。希釈区画
の下端では、水には比較的イオンは無く、水の分離が電界で起こる。これにより
、イオン交換樹脂を再生する水素イオン及びヒドロキシイオンが生成し、化学的
再生に関するニーズは効率的に排除される。エレクトロ脱イオンユニットは運転
するのに比較的安価であるだけでなく、当該ユニットは溶解している無機物質(
例えば、二酸化炭素、硼素、及びアンモニア)を効率的に除去する。
【0058】 以下に実施例を掲げて、本発明を更に説明するが、当該実施例は説明すること
を意図したものであって、発明の範囲を限定するものと解釈すべきではない。 実施例 水性流から塩素を除去する本発明の効率を測定するために、軟水器ユニットの
上流にあるUV照射ユニットを用いて、脱塩素データを得た。試験システムは、
供給水貯蔵タンクの下流に配置された可変インラインポンプを含んでいた。ケン
タッキー州アーランガーにあるAquionics, Inc.から市販されているAQUIONICS(
登録商標)モデル UV-V 2.5B 中圧 185nm UV照射ユニットを、ポンプの下
流に配置した。消毒のために製造者が推奨する滞留時間(すなわち、1X)は1
05gpmであった。軟水器ユニットは、照射ユニットの直ぐ下流に配置され、ナ
トリウム形態の陽イオン交換樹脂ビーズを含んでいた。流量計を照射ユニットの
下流に配置して、システム流量をモニターした。
【0059】 供給水は、マサチューセッツ州ローウェルで得た上水道水から調製した。市当
局は、軟水器を用いてその給水を処理している。しかしながら、制御目的のため
に、当該上水道水を、粒状活性炭床と、カリフォルニア州パームデザートにある
United States Filter Corporationから市販されているUSF(登録商標)FCDPF10
01 1μm カートリッジフィルターとを通過させた。次亜塩素酸ナトリウムを含
む原液を、5.25%(漂白剤1リットル/水9リットル)の市販の漂白液 から調製した。その原液を、マサチューセッツ州アクトンにあるMilton Roy, In
c.のLiquid Metronics Divisionから市販されているLMI(商標)A371-150FS計量
ポンプを用いて、供給流中に必要に応じて導入し、供給水中に所定の塩素濃度を
提供した。塩素濃度は、計量ポンプのストロークを変化させて変えたが、ポンプ
の速度は最大に保った。インラインスタティックミキサーは、計量ポンプの下流
及び照射ユニットの上流に配置して、均一な入力を実現した。
【0060】 照射ユニットは、105gpmの製造者推奨殺菌流量を有していたが、1倍の滞
留時間に対応していた。試験運転中に、流量及び入力塩素濃度を変化させて、様
々な用途におけるシステムの性能を評価した。
【0061】 UVランプの24時間の「試運転」の後、塩素濃度測定を、システムの3つの
ポイント:すなわち、照射ユニットの入口と出口、及び軟水器ユニットの出口で
行った。N,N−ジエチル−p−フェニレンジアミン(DPD)粉末ピロー(po
wder pillows)を有するHACH(商標)DR2000 分光計(両方とも、コロラド州ラ
ヴランドにあるHach, Inc.から市販されている)を用いて塩素分析した。分光計
は、少なくとも0.01ppmのカウントを有しており、精度定格は±0.02ppm
であった。必要なときには、塩素分析は、少なくとも0.001ppmのカウント
及び±0.004ppmの精度定格を有するHACH(商標)微量化学種検出法 #86
によって行った。
【0062】 以下の表1は、入口塩素濃度及び流量の関数として、軟水器ユニット及び照射
ユニットの出口における塩素濃度を示している。表1は、運転条件の6つの異な
るセットからのデータを含んでいる。流量は、2.5gpm 〜 12.5gpmの所定
の範囲で維持した。各流量において、照射ユニットに入る入力塩素濃度は、0.
30 〜 1.50ppmの所定の値に保ち、条件のそれぞれのセットに関して照射
ユニット及び軟水器ユニットの出力塩素濃度を測定した。
【0063】
【表1】
【0064】 6つの試験運転からまとめられたデータは、本発明が、入力流から実質的にす
べての塩素を一貫して除去できることを示している。運転1と運転3を比較する
と、UVのみによる塩素の除去は、流量が増加するにつれて(すなわち、2.5
gpmから5.0gpm)、一般的に減少する(すなわち、0.04ppmから0.08p
pm)ことが分かる。運転2と運転5を比較すると、UVのみによる脱塩素は、入
力塩素濃度が増加するにつれて(すなわち、0.30ppmから1.50ppm)、次
第に不効率になっていく(すなわち、0.06ppmから0.26ppm)ことが分か
る。しかしながら、UVと軟水器とを組合せて塩素を除去する場合は、入力濃度
が変動しても、一貫して効率的である(すなわち、0.00ppmから0.01ppm
)。実際に、運転5は、UV入口塩素濃度が上水道飲料水の塩素濃度を超えてい
る場合でも(例えば、1.5ppm)、軟水器における出口塩素濃度は殆ど検出不
可能である(すなわち、0.01ppm)ことを示している。同様に、運転6は、
本発明が、より多い流量において(すなわち、12.5gpm)塩素の実質的な濃
度を実質的に完全に除去できる(すなわち、0.01ppm)ことを示している。
【0065】 上記要素のそれぞれ、又は2つ以上の要素を一緒にして、上記の用途とは異な
る他の用途において有用性が見出されるかもしれないことも理解される。例えば
、他の従来の水処理法を、詳細なシステム要求条件によって指示されているよう
に、本発明と一緒に用いても良い。前記方法としては、例えば限外濾過及びオゾ
ン処理、ならびに本明細書で説明したユニットのいずれかへの切換弁及び/又は
再循環ループの増設が挙げられる。液体から強酸化剤を除去するための装置及び
方法において具体化される本発明を図示及び説明してきたが、本発明の精神から
逸脱せずに、様々な改良及び置換が行われる可能性があるので、既に記載した詳
細に本発明が限定されることは意図していない。
【0066】 本明細書で開示した本発明に関する更なる改良及び等価物は、通常の実験のみ
を用いるだけで当業者には考えつく。すべてのそのような改良及び等価物は、請
求の範囲によって規定される本発明の精神と範囲の中にあると考えられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 高純度用途のための従来技術の水処理システムに関する概略工程系統図である
【図2】 図2Aは、本発明の一つの態様にしたがって強酸化剤を除去するための装置に
関する概略工程系統図である。 図2Bは、ライン2B−2Bに沿って取られた図2Aに示した照射ユニット5
8の横断面図である。
【図3】 本発明の別の態様にしたがう水処理システムに関する概略工程系統図である。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成12年4月25日(2000.4.25)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アトヌーア,ディヴェンドラ アメリカ合衆国マサチューセッツ州01851, ローウェル,プリンストン・ブルヴァード 700 (72)発明者 ガンジ,ゲイリー・シー アメリカ合衆国マサチューセッツ州02173, レキシントン,ヴァリーフィールド・スト リート 74 Fターム(参考) 4D006 GA03 HA41 JA70A KB11 MA03 MC18 MC54 MC62 PB24 PB27 PB28 PC03 4D025 AA02 AA03 AB07 BA08 BB09 CA05 DA04 4D037 AA02 AA03 AB14 BA18 BB09 CA09 CA11

Claims (44)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液体中における強酸化剤の濃度を実質的に低下させるための
    装置であって、当該装置が: a)当該強酸化剤の第一濃度を有する入力流を受容するための入口; b)当該入口と流体連絡している照射ユニット、当該照射ユニットは紫外線を
    放射して当該第一濃度を実質的に低下させ、それによって当該強酸化剤の第二濃
    度を有する第一生成物流を生成させることができる; c)当該第二濃度を実質的に低下させ、それによって当該強酸化剤の第三濃度
    を有する第二生成物流を生成させるための、当該照射ユニットと流体連絡してい
    て且つ当該照射ユニットの下流に配置されている処理ユニット、当該処理ユニッ
    トは軟水器ユニット、金属レドックス媒体床を含む反応器、及びそれらの組合せ
    から成る群より選択される;及び d)当該第二生成物流を貯蔵/使用のポイントへと指向させるための出口 を含む前記装置。
  2. 【請求項2】 当該入力流が、約20倍未満の時間、照射ユニット中で滞留
    する請求項1記載の装置。
  3. 【請求項3】 当該入力流が、約10倍未満の時間、照射ユニット中で滞留
    する請求項2記載の装置。
  4. 【請求項4】 当該強酸化剤が、塩素である請求項1記載の装置。
  5. 【請求項5】 当該第一濃度が、約1ppmである請求項4記載の装置。
  6. 【請求項6】 当該第三濃度が、約0.05ppm未満である請求項5記載の
    装置。
  7. 【請求項7】 当該第三濃度が、約0.02ppmである請求項6記載の装置
  8. 【請求項8】 当該処理ユニットが、軟水器ユニットを含む請求項1記載の
    装置。
  9. 【請求項9】 当該軟水器ユニットが、ナトリウム形態のイオン交換樹脂を
    含む請求項8記載の方法。
  10. 【請求項10】 当該処理ユニットが、金属レドックス媒体床を含む請求項
    1記載の装置。
  11. 【請求項11】 当該第一生成物流が第一レドックス電位を有し、また当該
    金属レドックス媒体が、当該第一レドックス電位と関連して、当該第一生成物流
    が金属粒子と接触するときに当該強酸化剤と当該金属粒子との間に自然な無機酸
    化還元反応のための条件が確立されるように第二レドックス電位を有する金属粒
    子を含む請求項9記載の装置。
  12. 【請求項12】 当該金属粒子が、亜鉛、銅、及びそれらの合金から成る群
    より選択される金属を含む請求項10記載の装置。
  13. 【請求項13】 当該金属が、黄銅である請求項12記載の装置。
  14. 【請求項14】 当該第二生成物流から望ましくない汚染物質を除去するた
    めに、当該処理ユニットと流体連絡していて且つ当該処理ユニットの下流に配置
    されている逆浸透ユニットを更に含む請求項1記載の装置。
  15. 【請求項15】 当該第二生成物流から望ましくない汚染物質を除去するた
    めに、当該処理ユニットと流体連絡していて且つ当該処理ユニットの下流に配置
    されている陰イオン交換樹脂を含む反応器を更に含む請求項1記載の装置。
  16. 【請求項16】 当該反応器が、連続エレクトロ脱イオンユニットである請
    求項15記載の装置。
  17. 【請求項17】 液体中における強酸化剤の濃度を実質的に低下させるため
    の方法であって、当該方法が、以下の工程:すなわち、 a)当該強酸化剤の第一濃度を有する入力流を提供する工程; b)紫外線を当該入力流に対して照射して、当該第一濃度を実質的に低下させ
    、それによって強酸化剤の第二濃度を有する第一生成物流を生成させる工程;及
    び c)当該第一生成物流を、軟水器ユニット、金属レドックス媒体床を含む反応
    器、及びそれらの組合せから成る群より選択される処理ユニットに通して、当該
    第二濃度を実質的に低下させ、それによって当該強酸化剤の第三濃度を有する第
    二生成物流を生成させる工程 を含む前記方法。
  18. 【請求項18】 当該入力流を、約20倍未満の時間、当該照射ユニット中
    で保持する工程を更に含む請求項17記載の方法。
  19. 【請求項19】 当該入力流を、約10倍未満の時間、当該照射ユニット中
    で滞留させる請求項18記載の方法。
  20. 【請求項20】 当該強酸化剤が、塩素である請求項17記載の方法。
  21. 【請求項21】 当該第一濃度が、約1ppmである請求項20記載の方法。
  22. 【請求項22】 当該第三濃度が、約0.05ppm未満である請求項21記
    載の方法。
  23. 【請求項23】 当該第三濃度が、約0.02ppm未満である請求項22記
    載の方法。
  24. 【請求項24】 当該処理ユニットが、軟水器ユニットを含む請求項17記
    載の方法。
  25. 【請求項25】 当該軟水器ユニットが、ナトリウム形態のイオン交換樹脂
    を含む請求項24記載の方法。
  26. 【請求項26】 当該処理ユニットが、金属レドックス媒体床を含む請求項
    17記載の方法。
  27. 【請求項27】 当該第一生成物流中に存在する当該強酸化剤が、第一レド
    ックス電位を有し、また当該金属レドックス媒体が、当該第一レドックス電位と
    関連して、当該第一生成物流が金属粒子と接触するときに当該強酸化剤と当該金
    属粒子との間に自然な酸化還元反応のための条件が確立されるように第二レドッ
    クス電位を有する当該金属粒子を含む請求項26記載の方法。
  28. 【請求項28】 当該金属粒子が、亜鉛、銅、及びそれらの合金から成る群
    より選択される金属を含む請求項27記載の方法。
  29. 【請求項29】 当該金属が、黄銅である請求項28記載の方法。
  30. 【請求項30】 当該第二生成物流から望ましくない汚染物質を除去するた
    めに、当該処理ユニットと流体連絡していて且つ当該処理ユニットの下流に配置
    されている逆浸透ユニットを提供する工程を更に含む請求項17記載の方法。
  31. 【請求項31】 当該第二生成物流から望ましくない汚染物質を除去するた
    めに、当該処理ユニットと流体連絡していて且つ当該処理ユニットの下流に配置
    されている陰イオン交換樹脂を含む反応器を提供する工程を更に含む請求項17
    記載の方法。
  32. 【請求項32】 当該反応器が、連続エレクトロ脱イオンユニットである請
    求項31記載の方法。
  33. 【請求項33】 a)第一塩素濃度を有する入力流を受容するための入口; b)紫外線を照射して、当該第一塩素濃度を実質的に低下させ、それによって
    第二塩素濃度を有する第一生成物流を生成させることができる照射ユニット; c)当該第二塩素濃度を実質的に低下させ、それによって第三塩素濃度を有す
    る第二生成物流を生成させるための、当該照射ユニットと流体連絡していて且つ
    当該照射ユニットの下流に配置されている処理ユニット、当該処理ユニットは軟
    水器ユニット、金属レドックス媒体床を含む反応器、及びそれらの組合せから成
    る群より選択される;及び d) 当該第二生成物流から望ましくない汚染物質を除去するための、当該処
    理ユニットと流体連絡していて且つ当該処理ユニットの下流に配置されている逆
    浸透ユニット;及び e)当該第二生成物流を貯蔵/使用のポイントへと指向させるための出口 を含む水処理システム。
  34. 【請求項34】 当該入力流を、約20倍未満の時間、当該照射ユニット中
    で滞留させる請求項33記載の水処理システム。
  35. 【請求項35】 当該入力流を、約10倍未満の時間、当該照射ユニット中
    で滞留させる請求項33記載の水処理システム。
  36. 【請求項36】 当該第一塩素濃度が、約1ppmである請求項33記載の水
    処理システム。
  37. 【請求項37】 当該第三塩素濃度が、約0.05ppm未満である請求項3
    6記載の水処理システム。
  38. 【請求項38】 当該第三塩素濃度が、約0.02ppm未満である請求項3
    7記載の水処理システム。
  39. 【請求項39】 当該処理ユニットが、軟水器ユニットを含む請求項33記
    載の水処理システム。
  40. 【請求項40】 当該軟水器ユニットが、ナトリウム形態のイオン交換樹脂
    を含む請求項39記載の水処理システム。
  41. 【請求項41】 当該処理ユニットが、金属レドックス媒体床を含む請求項
    33記載の水処理システム。
  42. 【請求項42】 当該第一生成物流中に存在する当該塩素が、第一レドック
    ス電位を有し、また当該金属レドックス媒体が、当該第一レドックス電位を基準
    として、当該第二塩素濃度を有する当該第一生成物流が金属粒子と接触するとき
    に当該塩素と当該金属粒子との間に自発的な酸化還元反応のための状態が確立さ
    れるように第二レドックス電位を有する当該金属粒子を含む請求項41記載の水
    処理システム。
  43. 【請求項43】 当該金属粒子が、亜鉛、銅、及びそれらの合金から成る群
    より選択される金属を含む請求項42記載の水処理システム。
  44. 【請求項44】 当該金属が、黄銅である請求項43記載の水処理システム
JP2000545788A 1998-04-24 1999-04-15 液体から強酸化剤を除去するための装置及び方法 Pending JP2002512883A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/066,239 US6328896B1 (en) 1998-04-24 1998-04-24 Process for removing strong oxidizing agents from liquids
US09/066,239 1998-04-24
PCT/US1999/008301 WO1999055622A1 (en) 1998-04-24 1999-04-15 Apparatus and process for removing strong oxidizing agents from liquids

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002512883A true JP2002512883A (ja) 2002-05-08

Family

ID=22068205

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000545788A Pending JP2002512883A (ja) 1998-04-24 1999-04-15 液体から強酸化剤を除去するための装置及び方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6328896B1 (ja)
EP (1) EP1073611A1 (ja)
JP (1) JP2002512883A (ja)
WO (1) WO1999055622A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013184105A (ja) * 2012-03-07 2013-09-19 Kurita Water Ind Ltd 医薬製造向け精製水製造装置及び方法
JP2014121669A (ja) * 2012-12-20 2014-07-03 Kurita Water Ind Ltd 医薬製造向け精製水製造装置及び方法
JP2022503695A (ja) * 2018-10-29 2022-01-12 エヴォクア ウォーター テクノロジーズ エルエルシー 紫外線照射を用いた処理ストリームからのオゾンの除去

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6190528B1 (en) 1998-03-19 2001-02-20 Xiang Li Helical electrodeionization apparatus
US6579445B2 (en) * 2001-06-01 2003-06-17 Sartorius Ag System for the production of laboratory grade ultrapure water
US6679988B2 (en) * 2002-01-09 2004-01-20 Mechanical Equipment Company, Inc. Apparatus for producing USP or WFI purified water
WO2003070361A1 (en) * 2002-02-19 2003-08-28 Tambour Ecology Ltd. Low boron desalted water production
US7097753B2 (en) * 2002-07-30 2006-08-29 Zhejiang Omex Environmental Engineering Ltd. Dilute support frame for an EDI device
US7029563B2 (en) * 2002-07-30 2006-04-18 Zhejiang Omex Environmental Engineering Ltd. EDI device with composite electrode
US7097752B2 (en) * 2002-07-30 2006-08-29 Zhejiang Omex Environmental Engineering, Ltd. EDI device with resin seepage-proof inserts
US7632410B2 (en) * 2003-08-21 2009-12-15 Christopher Heiss Universal water purification system
US7959780B2 (en) 2004-07-26 2011-06-14 Emporia Capital Funding Llc Textured ion exchange membranes
US7531360B2 (en) * 2005-07-01 2009-05-12 Societe Des Eaux De Marseille Method of dechlorination treatment of flowing water, in particular upstream of a biological pollution detector
FR2887869B1 (fr) * 2005-07-01 2007-09-21 Eaux De Marseille Sa Soc D Procede de traitement de dechloration des eaux en flux, notamment en amont d'un detecteur biologique de pollution
US7780833B2 (en) 2005-07-26 2010-08-24 John Hawkins Electrochemical ion exchange with textured membranes and cartridge
US8562803B2 (en) 2005-10-06 2013-10-22 Pionetics Corporation Electrochemical ion exchange treatment of fluids
US8119008B2 (en) * 2006-07-10 2012-02-21 Christopher Heiss Fluid purification methods and devices
WO2009009465A1 (en) * 2007-07-06 2009-01-15 Christopher William Heiss Electrocoagulation reactor and water treatment system and method
DE102008052001A1 (de) * 2008-10-16 2010-04-29 Krones Ag Verfahren zur Wasserbehandlung
WO2010125251A1 (fr) 2009-04-30 2010-11-04 Loïra Installation et procédé d' éliminations des xenobiotiques dans l'eau par rayonnement uv-v
TWI362366B (en) * 2009-12-15 2012-04-21 Ind Tech Res Inst Fluid self-electricity-generation and electroreduction module
EP2625142A4 (en) * 2010-10-05 2014-05-07 Bio Works Technologies Ab METHOD FOR REMOVING ARSEN FROM WATER USING POLYMER BASED MATRICES WITH CHELATIZING GROUPS WITH METALLIONS
US9345826B2 (en) 2011-09-15 2016-05-24 Deka Products Limited Partnership Recirculating fluid filtration system
US10570044B2 (en) * 2013-02-18 2020-02-25 Biopuremax (2015) Ltd. Method and system for treating water
JP5733482B1 (ja) * 2013-07-24 2015-06-10 栗田工業株式会社 超純水製造供給システム及びその洗浄方法
US9757695B2 (en) 2015-01-03 2017-09-12 Pionetics Corporation Anti-scale electrochemical apparatus with water-splitting ion exchange membrane
US20170073256A1 (en) * 2015-09-11 2017-03-16 Cameron Solutions, Inc. System And Process To Protect Chlorine-Susceptible Water Treatment Membranes From Chlorine Damage Without The Use Of Chemical Scavengers
WO2017206135A1 (en) * 2016-06-02 2017-12-07 Honeywell International Inc. Water purification system
US20210387886A1 (en) * 2018-12-27 2021-12-16 Organo Corporation Sterilization method for water system, method of removing nitrosamine compound from water system and drinking water production method
US11629081B2 (en) * 2019-05-31 2023-04-18 Halliburton Energy Services, Inc. Water treatment for removing oxidation agents
US12064758B2 (en) * 2021-08-20 2024-08-20 Watts Regulator Co. Stabilized reagent compositions, systems and methods using the same

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4280912A (en) 1978-05-22 1981-07-28 Darco Water Systems, Inc. Water purification unit and method
US5198118A (en) 1984-04-30 1993-03-30 Kdf Fluid Treatment, Inc. Method for treating fluids
US5314623A (en) * 1984-04-30 1994-05-24 Kdf Fluid Treatment, Inc. Method for treating fluids
US5122274A (en) 1984-04-30 1992-06-16 Kdf Fluid Treatment, Inc. Method of treating fluids
US5135654A (en) 1984-04-30 1992-08-04 Kdf Fluid Treatment, Inc. Method for treating fluids
US4642192A (en) 1984-04-30 1987-02-10 Heskett Don E Method of treating fluids
US4595498A (en) * 1984-12-27 1986-06-17 Thomson Components-Mostek Corporation Water-polishing loop
JP3009221B2 (ja) * 1990-12-17 2000-02-14 ユー・エス・フィルター/アイオンピュア・インコーポレーテッド 電気脱イオン化装置
US5234606A (en) 1991-10-09 1993-08-10 Nec Environment Engineering Ltd. Method and system for recovering wastewater
EP0634364B1 (en) * 1993-02-03 1999-01-07 Kurita Water Industries Ltd. Pure water manufacturing method
US5603844A (en) 1993-09-22 1997-02-18 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior Instant, chemical-free dechlorination of water supplies
US5766479A (en) 1995-08-07 1998-06-16 Zenon Environmental Inc. Production of high purity water using reverse osmosis
US5585003A (en) 1995-11-30 1996-12-17 Culligan International Company Treatment of dialysis feedwater using ozone
JP3426072B2 (ja) * 1996-01-17 2003-07-14 オルガノ株式会社 超純水製造装置
JPH09206740A (ja) * 1996-02-06 1997-08-12 Nomura Micro Sci Co Ltd 超純水製造装置
US5925240A (en) 1997-05-20 1999-07-20 United States Filter Corporation Water treatment system having dosing control
US5997745A (en) 1998-04-08 1999-12-07 Zenon Environmental Inc. Method for producing high purity water using triple pass reverse osmosis (TPRO)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013184105A (ja) * 2012-03-07 2013-09-19 Kurita Water Ind Ltd 医薬製造向け精製水製造装置及び方法
JP2014121669A (ja) * 2012-12-20 2014-07-03 Kurita Water Ind Ltd 医薬製造向け精製水製造装置及び方法
JP2022503695A (ja) * 2018-10-29 2022-01-12 エヴォクア ウォーター テクノロジーズ エルエルシー 紫外線照射を用いた処理ストリームからのオゾンの除去

Also Published As

Publication number Publication date
WO1999055622A1 (en) 1999-11-04
EP1073611A1 (en) 2001-02-07
US6328896B1 (en) 2001-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6328896B1 (en) Process for removing strong oxidizing agents from liquids
US6398965B1 (en) Water treatment system and process
AU2016232986B2 (en) Process and apparatus for treating water
US8734645B2 (en) Media-free system for the production of high purity water and methods of use
Watson et al. Low-energy membrane nanofiltration for removal of color, organics and hardness from drinking water supplies
EP2576453B1 (en) Systems and methods for removing hydrogen peroxide from water purification systems
WO2012133664A1 (ja) 超純水製造システム及び超純水の製造方法
JPH03186400A (ja) 水を浄化するための電気脱イオン化及び紫外線処理方法
WO2003089119A1 (en) Improved membrane based fluid treatment systems
KR20050062548A (ko) 물에서 유기 불순물의 제거방법
CA2983830A1 (en) Liquid treatment system and method
GB2249307A (en) Process for purifying water by means of a combination of electrodialysis and reverse osmosis
WO2019244443A1 (ja) 被処理水中のホウ素除去方法、ホウ素除去システム、超純水製造システム及びホウ素濃度の測定方法
WO2020184045A1 (ja) ホウ素除去装置及びホウ素除去方法、並びに、純水製造装置及び純水の製造方法
Kumar et al. Electrodeionization: Principle, techniques and factors influencing its performance
JP4439674B2 (ja) 脱イオン水製造装置
JPS6336890A (ja) 高純度水の製造装置
US20080264773A1 (en) In vitro prophylactic on site ion-exchange purification process.
JP3547018B2 (ja) 逆浸透処理方法および造水方法
GB2197860A (en) Apparatus for and the method of water purification
JP6561448B2 (ja) バナジウム含有水の電気脱イオン処理方法及び処理装置
Majid et al. Practical Analysis of Tap Water Dissolved Solids Efficient Reduction
Adams et al. Operators Need to Know Advanced Treatment Processes.
Wang et al. Coagulation and nano-filtration: A hybrid system for the removal of lower molecular weight organic compounds (LMWOC)
JP7460729B1 (ja) 純水製造方法、純水製造装置及び超純水製造システム