KR20110137820A

KR20110137820A - 안티글레어 표면을 갖는 유리 및 그 제조방법

Info

Publication number: KR20110137820A
Application number: KR1020117025567A
Authority: KR
Inventors: 크리스타 엘. 칼슨; 샨돈 디. 하트; 켈빈 엔규엔; 로버트 새비아; 대니얼 에이. 스턴퀴스트; 루 장
Original assignee: 코닝 인코포레이티드
Priority date: 2009-03-31
Filing date: 2010-03-26
Publication date: 2011-12-23
Also published as: TW201114712A; WO2010117673A1; JP2012521958A; CN102448904A; EP2414299A1; US8771532B2; US20100246016A1

Abstract

본 발명은 안티글레어 표면을 갖는 유리 제품을 제공한다. 상기 안티글레어 표면은 95 미만의 반사된 화상의 차이 및 50% 이하의 헤이즈를 갖는다. 일 실시형태에서, 상기 유리 제품은 안티글레어 표면 위에 배치된 내얼룩성 표면을 포함한다. 유리 제품 및 안티글레어 표면의 제조방법도 기재된다.

Description

안티글레어 표면을 갖는 유리 및 그 제조방법{GLASS HAVING ANTI-GLARE SURFACE AND METHOD OF MAKING}

본 출원은 2009년 3월 31일에 출원된 미국 가특허 출원 61/165,154 및 2009년 9월 15일에 출원된 미국 가특허 출원 61/242,529의 혜택을 주장한다.

많은 휴대용 및 접촉식 전자장치에서 디스플레이 표면으로부터 경면반사율의 감소는 특히 실외용으로 설계된 제품에 대해서 바람직하다. 일반적으로 광택으로서 정량화된 경면 반사의 세기를 감소시키는 하나의 방법은 유리 표면을 거칠게 하거나 텍스처 필름을 도포하는 것이다. 조도 또는 질감 정도는 가시광을 분산시키는 데에 충분히 크고 헤이즈 또는 매트 표면을 형성하지만, 유리의 투명성에 상당히 영향을 미칠 정도로 충분히 크지 않다. 웨트 에칭은 고유 기계적 표면 특성을 유지하면서 유리에 안티글레어 표면을 발생시키는 방법이다. 에칭 방법 중에, 유리 표면은 그 표면을 열화시키는 화학약품에 노출되어 가시광을 산란시키는 조도 정도를 형성한다. 구체적으로, 광산 용액에 유리를 배치함으로써 소다 라임 실리케이트 유리에 조도 표면이 형성될 수 있다. 용액에서 H⁺이온은 유리에서 이동하는 알칼리 금속 이온과 교환해서 헤이즈 표면을 형성한다. 그러나, 하나의 불리한 점은 표면 또는 그 근방에서 얻어진 알칼리 금속 이온의 감소는 이온 교환에 의해서 강화 능력이 감소된 소다 라임 유리를 형성하는 것이다. 또한, 웨팅 에칭 또는 선택적인 침출로는 일반적으로 다른 일반적인 디스플레이 유리, 특히 이동 알칼리 금속이온을 거의 또는 전혀 갖지 않는 유리 상에 균일한 안티글레어 표면을 제조할 수 없다.

안티글레어 표면을 갖는 유리 제품이 제공된다. 안티글레어 표면은 소망의 헤이즈 및 반사 화상의 차이를 형성하는 질감 또는 조도를 갖는다. 일 실시형태에서, 유리 제품은 안티글레어 표면에 배치된 내얼룩성 표면을 포함한다. 유리 제품 및 안티글레어 표면을 제조하는 방법이 기재된다.

따라서, 본 발명의 일 형태는 유리 제품을 제공하는 것이다. 유리 제품은 95 미만의 화상의 차이 및 50% 이하의 헤이즈의 안티글레어 표면을 갖는다.

본 발명의 제 2 형태는 안티글레어 표면을 갖는 유리 제품을 제조하는 방법을 제공한다. 상기 방법은 유리 제품을 제공하는 단계; 유리 제품의 표면에 결정을 형성하는 단계; 및 표면으로부터 결정을 제거하여 유리 제품에 안티글레어 표면을 형성하는 단계를 포함한다.

본 발명의 제 3 형태는 안티글레어 표면을 제조하는 방법을 제공하는 것이다. 이 방법은 유리 기판을 제공하는 단계; 유리 기판의 표면에 결정을 형성하는 단계; 결정을 둘러싼 표면으로부터 유리를 에칭하는 단계; 및 표면으로부터 결정을 제거하여 안티글레어 표면을 형성하는 단계를 포함하고, 안티글레어 표면은 50% 이하의 헤이즈 및 95 미만의 반사 화상의 차이를 갖는다.

본 발명의 제 4 형태는 기판에 안티글레어 표면을 형성하는 시스템을 제공하는 것이다. 시스템은 결정 형성용액, 및 결정 제거용액 및 조도 조절 용액의 적어도 하나를 포함한다. 결정 형성 용액은 제 1 에칭수용액을 포함한다. 제 1 에칭용액은 기판의 표면에 결정을 형성하고 결정을 둘러싼 표면을 에칭하고 무기 플루오라이드 및 웨팅제(wetting agent)를 포함한다. 결정제거용액은 제 2 에칭용액을 포함하고, 상기 제2 에칭용액은 표면으로부터 결정을 제거하고 광산을 포함하고 HF를 함유하지 않는다. 조도조절용액은 제 3 에칭수용액을 포함하고, 제3 에칭용액은 조도를 최대 조도까지 감소시키고 HF 및 광산을 포함한다.

이들 및 다른 형태, 이점 및 현저한 특성은 하기의 상세한 설명, 수반한 도면 및 첨부된 청구범위로부터 명백하게 될 것이다.

도 1은 유리 제품의 제 1 에천트로 처리의 개략도이다.
도 2는 유리 제품의 제 2 에천트로 처리의 개략도이다.
도 3은 알칼리 알루미노실리케이트 유리 시료의 표면에 형성된 결정의 주사형 전자 현미경(SEM) 이미지 (2000X 배율) 이다.
도 4는 제 3 에천트로서 플루오린화수소산(HF)으로 에칭후 알칼리 알루미노실리케이트 유리 시료의 표면의 SEM 이미지(800X 배율)이다.
도 5는 NaOH 및 EDTA를 포함한 에칭액으로 에칭 후 알칼리 알루미노실리케이트 유리표면의 SEM 이미지(1000X 배율)이다.
도 6은 제 2 에칭 배쓰에서 소비된, 제 3의 불소를 함유하지 않는 에천트 및 시간이 변화된 실험의 표 요약 결과이다.
도 7은 제 2 유리 제품에 프릿에 의해서 결합된 유리 제품을 나타낸 개략도이다.
도 8은 광택의 함수에 따른 유리 제품의 안티글레어 표면의 조도 및 헤이즈의 플롯이다.

하기의 설명에서, 동일한 부호 특성은 도면에서 나타낸 여러 도면을 통해서 동일한 또는 상응한 부분을 설정한다. 달리 기재된 바와 같이, "상부", "하부", "외부", "내부" 등은 편의상 용어이며 한정한 용어로서 해석되는 것은 아니다. 또한, 그룹은 요소의 그룹 및 이들의 조합 중 적어도 하나를 포함한 것으로 기재된 것은 언제든지, 인용된 요소의 임의의 수치를 개별적으로 또는 서로 조합된 것으로서 포함하고, 필수적으로 이루어지거나 이들로 이루어진 것으로 이해된다. 마찬가지로, 그룹이 요소의 그룹 또는 이들의 조합 중 적어도 하나로 이루어진 것으로 기재된 것은 언제든지, 인용된 요소의 임의의 수치를 개별적으로 또는 서로 조합으로 이루어진 것으로 이해된다. 달리 기재된 바와 같이, 인용된 수치 범위는 이러한 범위의 상한 및 하한 및 이들 사이의 임의의 범위를 포함한다.

일반적으로 도면, 특히 도 1에 대해서, 특별한 실시형태를 기재하기 위한 목적으로 도시되고 본 발명 또는 이들에 수반된 청구범위를 한정되지 않는 것으로 의도된다. 도면은 필수적으로 이러한 스케일인 것은 아니고, 특정한 부재 및 특정한 도면은 명백하고 간결함을 위해서 스케일 확대 또는 개략적으로 나타낸다.

본원에 사용된 바와 같이, "안티글레어"는 변화하는 디스플레이의 표면의 물리적 처리, 또는 디스플레이로부터 경면반사보다 확산 반사에 의해서 반사된 광의 변화 특성에 관한 것이다. 일부 실시형태에서, 기계적 또는 화학적 에칭에 의해서 처리될 수 있다. 안티글레어는 표면으로부터 반사된 광량을 감소시키지 않지만, 반사된 광의 특성을 변화시킨다. 안티글레어 표면에 의해서 반사된 화상은 좁은 한계를 갖지 않는다. 안티글레어 표면에 비해서, 항반사표면은 일반적으로 반사율 변화, 일부 예에서, 상쇄간섭 방법에 의해서 표면으로부터 광 반사를 감소시킨 박막 코팅이다.

안티글레어 표면, 예를 들면 본원에 기재된 것을 갖는 유리 제품을 제조하는 방법 및 유리 제품의 표면에서 안티글레어 표면을 형성하는 방법이 개시된다. 두가지 방법에서, 우선 유리 제품 또는 기판이 제공된다. 일 실시형태에서, 유리 제품은 소다라임 실리케이트, 알칼리 토 실리케이트 유리, 알칼리 알루미노실리케이트 유리, 알칼리 보로실리케이트 유리 및 이들의 조합 중 하나를 포함하고, 필수적으로 이루어지고, 또는 이들로 이루어진다. 이러한 유리의 비제한 예는 본원에 기재된다. 일부 실시형태에서, 유리 제품은 투명한 또는 반투명한 유리 시트, 예를 들면 정보 및 미디어 디스플레이 및 터치 스크린 적용, 예를 들면 통신 및 오락 장치, 예를 들면 LCD 텔레비젼, 대중 광고 디스플레이, 디지털 간판(digital signage), 전화기, 음악 플레이어, 비디오 플레이어 및 정보 관련 단말(IT)(예를 들면, 휴대 또는 랩톱 컴퓨터)장치, 또한 다른 적용을 포함하지만 이들로 한정되지 않는 적용에 대한 커버플레이트 및 윈도우로서 사용된 것이다. 유리제품 또는 기판은 약 3mm 이하의 두께를 갖고, 일 실시형태에서, 두께는 0.2 내지 약 3mm의 범위이다. 일 실시형태에서, 유리 제품은 연마되지 않은 적어도 한 면을 갖는다. 또 다른 실시형태에서, 유리 제품 또는 기판을 제공하는 단계는 오일, 이물질, 및 적어도 한면으로부터의 에칭을 억제할 수 있는 다른 파편을 종래의 수단, 예를 들면 비누 또는 세척제로 세정, 초음파 세정, 계면활성제 처리 등을 포함하지만 이들로 한정되지 않는 수단에 의해서 제거하는 단계를 포함한다.

다음 단계에서, 결정은 유리 제품의 표면에서 형성되거나 성장한다. 일 실시형태에서, 결정은 본원에는 "제 1 에천트"로 칭하는 제 1 에칭수용액을 표면에 적용하여 형성된다. 제 1 에천트는 제 1 에천트를 포함한 제 1 배쓰에서 유리 제품을 액침시키고, 상기 유리 제품의 표면을 제 1 에천트로 분무하고, 롤러 또는 브러시를 사용하여 제 1 에천트를 유리 제품의 표면에 적용하거나, 종래의 다른 수단에 의해서 유리 제품의 표면에 적용할 수 있다. 제 1 에천트는 적어도 하나의 무기 플루오라이드 염을 포함한다. 일부 실시형태에서, 무기 플루오라이드염은 예를 들면 암모늄 비플루오라이드, 소디움 비플루오라이드, 포타슘 비플루오라이드, 이들의 조합 등을 포함하지만 이들로 한정되지 않는 무기 비플루오라이드이다. 다른 실시형태에서, 무기플루오라이드염은 암모늄 플루오라이드, 소디움 플루오라이드, 포타슘 플루오라이드, 이들의 조합 등 중 하나이다. 제 1 에천트는 공지된 수용성 웨팅제, 예를 들면 글리콜(예를 들면, 프로필렌 글리콜) 글리세롤, 알콜(예를 들면 이소프로필알콜), 글리세롤, 아세트산, 등 또한 공지된 계면활성제를 들 수 있다. 일부 실시형태에서, 제 1 에천트는 플루오린화수소산(HF) 그 자체를 함유하지 않지만, 다른 실시형태에서, 제 1 에천트는 HF 및 광산, 예를 들면 황산, 염산, 질산, 인산 등 중 적어도 하나를 포함한다.

일 비제한 예에서, 유리를 8-20중량%의 암모늄 비플루오라이드, 0-3중량%의 불소화 알칼리 금속염, 예를 들면 소디움 비플루오라이드(NaHF₂) 또는 암모늄 비플루오라이드(NH₄F₂) 및 15-40중량% 프로필렌글리콜을 포함하는 정치 또는 교반된 제 1 에칭수용액에 배치함으로써 알카리 알루미노실리케이트 유리 시료에 안티글레어 표면이 형성된다. 이는 비플루오라이드염과 유리 표면 사이에 웨팅제로서 작용한다. 상기 유리는 3분 내지 5분 동안 제 1 에칭수용액에 방치하고, 더 긴 시간동안 사용되어 더 거친 표면 조도를 발생시킨다.

플루오라이드염으로부터 발생된 불소는 유리를 에칭하고, 용액 내에 염과 반응한 부산물을 형성시켜 유리 표면에 불소화 결정을 형성한다. 일단 결정이 형성되면, 제 1 에천트는 표면의 일부, 예를 들면 결정이 형성된 부위에 인접해서 둘러싼 영역을 지속적으로 에칭하고 거칠게 만든다. 결정은 유리 표면의 일부를 차폐하는 반면, 그 둘러싼 표면은 제 1 에천트에 노출된다. 보다 점진적인 에칭은 용액 성분의 농도, 특히 웨팅제의 농도를 증가시킴으로써 달성될 수 있다. 소망의 에칭기간이 종료하면, 유리는 탈이온수에서 세정되고 다음의 처리 전에 대기 또는 질소분위기 하에서 건조된다. 이러한 포스트 에칭세척 또는 세정은 안티글레어 표면의 표면 특성에 영향을 미치지 않는다.

유리제품을 배쓰에서 액침에 의해서 제 1 에천트로 처리하는 것은 개략적으로 도 1에 도시된다. 유리 제품(100)은 제 1 에천트를 포함한 배쓰(120)에서 액침시킨다. 유리 제품(100)의 표면(102)은 제 1 에천트에 노출되고, 이들이 반응해서 표면(102)에서 결정(110)을 형성한다. 도 1에서 도시된 실시형태에서, 제 2 표면(104)은 마스크(140)에 의해서 제 1 에천트를 함유한 배쓰(120)로부터 차폐되어 제 2 표면(104)의 에칭 및 결정 형성을 방지한다. 알칼리 알루미노실리케이트 유리 시료의 표면에 형성된 결정의 주사형 전자현미경(SEM) 이미지(2000X 배율)가 도 3에 도시된다.

다음 단계에서, 이러한 실시형태는 도 2에 개략적으로 도시되고, 결정(110)은 유리 제품(100)의 표면(102)으로부터 제거된다. 일 실시형태에서, 결정(110)은 표면(102)을 물로 세정함으로써 제거한다. 다른 실시형태에서, 결정(110)은 유리 제품(100)의 표면에 제 2 에칭수용액(제 2 에천트)를 적용하여 제거된다. 제 2 에칭 수용액은 광산, 예를 들면 황산, 염산, 질산, 인산 등을 포함하지만, HF를 포함하지 않고, 즉 제 2 에칭용액은 실질적으로 HF를 함유하지 않는다. 제 1 에천트의 적용과 함께, 제 2 에천트는 본원에 상술한, 공지의 방법, 예를 들면 액침 또는 침지, 분사 또는 롤러를 사용하여 적용할 수 있다. 표면(102)은 그 표면(102)으로부터 결정(110)을 제거하는 데에 충분한 시간 동안 제 2 에천트에 노출된다. 그 다음에, 제 2 에천트로 표면(102)의 처리는 제 2 에천트를 포함한 배쓰에서 유리 제품을 제거하고, 유리 제품(100)의 표면(102)을 용매, 물, 등으로 제거하고, 및/또는 유리 제품의 표면을 세정해서 종료한다.

다른 실시형태에서, 제 2 에천트는 표면(102)에 적용되지 않는다. 대신에, 제 3 에칭수용액(제 3 에천트)가 이전에 기재된 수단을 사용하여 표면에 적용되어 소망의 또는 선택된 헤이즈, 광택 및 반사된 화상의 차이(DOI)의 적어도 하나를 달성하도록 유리제품(100)의 표면(102)의 조도를 감소시킨다. 또한, 제 2 에천트가 적용되어 유리 제품의 표면으로부터 결정을 제거한 후 제 3 에천트가 적용될 수 있다. 제 3 에칭수용액은 표면(102)으로부터 결정(110)을 제거하여 표면(102)에 제 2 에천트를 적용할 필요성을 제거한다. 일 실시형태에서, 제 3 에천트는 불소 함유 광산, 예를 들면 플루오린화수소산 및 광산, 예를 들면 황산, 염산, 인산, 질산 등을 포함한다.

일부 실시형태에서 제3 에칭수용액이 사용되어 표면(102)으로부터 결정(110)을 제거하고 표면 조도를 소망의 차원으로 감소시킨다. 제 3 에칭수용액은 산 또는 염기일 수 있다. 산 용액은 더 짧은 시간 후에 광택 표면 마감을 제공한다. 산성의 제 3 에천트는 5-15중량% 플루오린화수소산 및 2-20중량% 광산, 예를 들면 황산, 염산, 질산, 인산 등을 함유할 수 있다. 표면(102)은 2-120분 동안 제 3 에칭수용액에서 에칭될 수 있고, 처리 시간이 길수록 표면 조도의 감소 및 광택 표면을 얻을 수 있다. 에칭은 정치 또는 교반 용액에서 행해지고, 교반 용액에서 에칭은 더 균일한 텍스처, 헤이즈, 반사된 화상의 차이 및 광택을 갖는 시료를 제조할 수 있다.

또 다른 실시형태에서, 제 2 에천트 및/또는 제 3 에천트는 광산 염기, 예를 들면 알칼리 금속 하이드록사이드, 및 킬레이팅제, 예를 들면 EDTA 등을 포함한다.

시료는 이전에 기재된 적용 수단을 사용하여 제 3 에천트로 처리된다. 일 실시형태에서, 제 3 에천트는 기판(100)의 표면(102)에 적용하기 전에 가열하여 제 3 에천트에 의한 유리 표면의 공격을 촉진시킨다. 염기성 제3 에천트의 교반은 균일한 표면을 제공하는 데에 필요하지 않지만, 에칭을 촉진하기 위해서 실시될 수 있다. 시료는 적당한 시간, 예를 들면 3시간 동안 처리한 후, 제 3 에칭용액으로부터 시료를 제거하고 물에서 액침시킨 후 묽은 광산에서 액침시키고, 물로 세정하고 건조한다. 조도화 표면 뒤에 존재한, 제 1 에칭 수용액에서 형성된 결정은 제 3 에칭수용액으로 완전히 제거한다. 표면 조도는 제 3 에칭 수용액에서 추가의 처리에 의해서 감소될 수 있다.

도 4는 제 3 에천트로서 플루오린화수소산(HF)으로 에칭 후 알칼리 알루미노실리케이트 유리 시료 표면의 SEM 이미지(800X 배율)가 도시된 반면, 도 5는 NaOH 및 EDTA를 포함한 제 3 에칭수용액으로 에칭한 후의 알칼리 알루미노실리케이트 유리 시료표면의 SEM 이미지(1000X 배율)이다. 소망의 헤이즈, 광택 및 DOI 수준은 제 1 및 제 3 에칭 수용액에서 용액성분 농도, 또한 유리 제품을 이들 용액에 액침한 시간을 조절함으로써 얻어진다.

도 6은 제 3 염기성 불소 부재 에천트 및 제 2 에칭수용액에서 소비된 시간을 변화시킨 실험결과를 요약한다. 일단 결정(110)이 표면(102)으로부터 제거되고, 소망의 광택 및 헤이즈가 달성되면, 제 3 에천트로 표면(102)의 처리는, 예를 들면 제 3 에천트를 포함한 배스(130)에서 유리 제품(100)을 제거하고, 유리 제품(100)의 표면을 용매, 물등으로 제거하고, 및/또는 선택적으로 유리 제품(100)의 표면(102)을 세정함으로써 종료한다.

안티글레어 표면의 형성은 다음의 유리 제품(100) 강화에 대한 영향이 거의 없다. 유리의 화학적 또는 열 강화는 이들 표면 처리 후 실시되고, 유리 제품(100)의 이온 변화 거동 또는 강도에 대한 영향이 적거나 없다. 예를 들면, 매우 거친 에칭(즉, 매트마감에 상응하는 것) 후 강화된 알칼리 알루미노실리케이트 유리는 에칭되지 않은 이상적인 유리에 비해서 약 30 MPa의 압축응력의 감소를 나타낸다.

일부 실시형태에서, 전자부품이 일측에 결합된 디스플레이에 유리 제품을 사용하는 것과 같이, 안티글레어 표면은 유리 제품의 일면에만 필요로 된다. 또한, 일부 예에서, 광학 투명도를 유지하기 위해서 유리 제품에 안티글레어 표면을 제공하는 것이 바람직하다. 이들 예에서, 안티글레어 표면을 갖지 않는 유리 제품의 표면은 에칭 용액으로부터 보호되거나 마스킹된다. 이것은 비용해성 코팅, 예를 들면 아크릴산 왁스 또는 접착층을 갖는 적층 필름(예를 들면 접착제는 아크릴산, 실리콘 등을 포함한다)을 사용하여 달성될 수 있다. 적용방법은 브러싱, 롤링, 분사 및 적층법을 포함하지만, 이들로 한정되지 않는다. 비용해성 코팅은 에칭 공정동안 유지하고, 그 공정 후 제거한다. 예를 들면, 아크릴 왁스 제거는 유리 제품 또는 기판을 pH>8를 갖는 온수 용액에 침지시킴으로써 달성될 수 있다.

일 실시형태에서, 유리 제품의 제 2 표면은 유리제품(100)에 제 2유리 제품을 결합함으로써 에칭으로부터 마스킹되거나 차폐되어 제 2 유리 제품은 에칭 용액으로부터 유리 제품(100)의 제 2 표면(104)을 차폐시킨다. 제 2 유리 제품은 예를 들면 양면 접착제에 의해서 유리 제품(100)에 접착될 수 있다. 또 다른 실시형태에서, 도 7에서 개략적으로 도시되고, 유리 제품(100)은 프릿(210)에 의해서 제 2 유리 제품(200)에 결합된다. 프릿(210)은 프릿페이스트를 유리제품(100) 및 제 2 유리 제품(200)의 외주 근방에 얇은 선으로 분배함으로써 형성된다. 프릿 페이스트는 유리의 두 조각을 결합한 고체 프릿(210)을 형성하고 에칭으로부터 표면(104, 204)을 차폐하여 유리 제품(100) 및 제2 유리 제품(200)의 에칭되지 않은 내면(104, 204)을 접착제로 접착하는 일 없이 초기상태로 유지한다. 또한, 유리 제품(100)의 표면(102) 및 제 2 유리 제품(200)의 표면(202)은 2개의 유리 제품의 프릿 결합에 의해서 동시에 에칭될 수 있다. 에칭 후, 유리 제품(100) 및 제2 유리 제품(200)은 프릿(210)에 결합된 영역을 스코어링(scoring) 및 파괴함으로써 용이하게 분리된다.

2개의 50X50 mm 알루미노실리케이트 유리 쿠폰(glass coupon)을 사용하여 유리 제품(102)의 표면(104)에 제 2 유리 제품(200)을 결합함으로써 에칭으로부터 유리 제품(100)의 표면(104)을 차폐하는 방법은 하기의 비제한 예에서 기재된다. 바나듐-안티몬-인 유리 프릿 물질은 유리 주변에 페이스트를 분배할 필요가 있는 유동성을 갖는 프릿 페이스트를 제공하도록 하는 비율로 유기 용매와 결합되었다. 용매는 텍사놀 및 첨가제의 혼합물을 포함하고, 이는 계면활성제, 공기방출제, 및 증점제를 포함한다. 페이스트의 24-28 ㎛ 두께층은 유리 쿠폰에 분배되고, 1시간동안 325℃에서 오븐에서 배치하여 유기 용매를 연소시켰다. 개개의 유리 쿠폰이 배열되고 함께 결합하며, 오븐에서 400℃에서 1시간동안 공기 또는 N₂에서 배치하여 프릿 페이스트를 융합시킴으로써 2개의 쿠폰의 기밀 씰링을 형성한다. 융합된 프릿 페이스트에 의해서 형성된 기밀은 에칭 용액과 쿠폰 표면 사이의 접촉을 방지한다. 에칭 후, 프릿 결합된 영역은 스코어링되고 파괴되어 2개의 쿠폰을 분리했다. 쿠폰은 이온교환 전에 서로 분리되고, 화학적 강화 후 유리에서 발달한 인장응력은 절단 중에서 조각을 파괴시킬 수 있다.

또 다른 실시형태에서, 본원에 기재된 방법은 내얼룩성(smudge-resistant), 불소계층 또는 안티글레어 표면에 코팅을 형성하는 단계를 포함한다. 내얼룩성 불소계 코팅 또는 층은 물 및 오일에 의해서 안티글레어 표면의 웨팅을 최소화하는 불소 말단기를 갖는 적어도 하나의 비정질 물질을 포함한다. 일 실시형태에서, 내얼룩성 불소계층은 불소계 부분, 예를 들면 불소 함유 모노머를 갖는 유리의 안티글레어 표면에 말단 OH기에서 발견된 수소를 교환함으로써 형성되어 말단 불소기를 갖는 유리를 형성한다. 또 다른 실시형태에서, 흡착된 불소계 내얼룩성층은 불소 말단 분자쇄의 자체 집합 모노머층을 포함한다. 또한, 흡착된 불소계 표면층은 수트(soot) 입자에 접착된 펜던트 플루오로카본기를 갖도록 처리된 박막, 플루오로폴리머의 코팅 또는 실리카 수트 입자를 포함할 수 있다. 이러한 코팅은 침지, 기상코팅, 분사, 롤러에 의한 도포 또는 다른 공지된 적당한 방법에 의해서 유리 제품의 안티글레어 표면에 적용될 수 있다. 안티글레어 표면에 적용되면, 코팅은 열 경화되거나 사용 전에 조사, 세정 및 건조될 수 있다.

안티글레어 표면을 갖는 유리 제품이 제공된다. 유리 제품의 안티글레어 표면은 소망의 광택, 반사된 화상의 차이, 조도 및 헤이즈 중 적어도 하나를 갖는다. 안티글레어 표면의 토포그래피는 예를 들면 약 400 nm 미만의 최대 크기를 갖는, 돌출 또는 볼록, 오목 등의 특징을 포함하지만 이들로 한정되지 않는다. 일 실시형태에서, 이들 토포그래프 특징은 서로 분리되거나 약 10 nm 내지 200 nm이하의 평균 거리로 분리된다. 상기 기재된 방법을 사용하여 처리 후 안티 글레어 표면(102)은 표면에 밸리 차(valley difference, PV)까지 피크로 측정된 바와 같이 평균 조도를 갖는다. 일 실시형태에서, 안티글레어 표면은 약800 nm 이하의 RMS 조도를 갖는다. 또 다른 실시형태에서, 안티글레어 표면은 500 nm 이하의 RMS 조도를 갖고, 제 3 실시형태에서, 안티글레어 표면은 100 nm 이하의 RMS 조도를 갖는다. 일 실시형태에서, 안티글레어 표면은 열(예를 들면, 열 템퍼링) 또는 화학(예를 들면, 이온 교환) 방법 중 적어도 하나에 의해서 강화된다.

"일반적 유리" 및 "광택"은 ASTM 절차 D523에 따라서 규격(예를 들면, 인증된 흑색 유리 규격)에 경면 반사 검량의 측정을 의미하고, 그 내용을 본원에 참조로 포함된다. 일반적인 광택 측정은 일반적으로 입사광 각도 20°, 60° 및 85°에서 실시되고, 가장 일반적으로 사용되는 광택 측정은 60°에서 실시된다. 그러나, 본 측정의 넓은 허용각 때문에, 일반적인 광택은 높은 및 낮은 반사된 화상의 차이(DOI) 값을 갖는 표면 사이에서 구별할 수 없다. 유리 제품의 안티글레어 표면은 ASTM 규격 D523에 따라서 측정된 90 SGU(표준 광택 단위) 이하의 광택을 갖고(즉, 특정각에서 규격에 대해 시료로부터 반사된 광량), 일 실시형태에서, 60 내지 80 SGU의 광택을 갖는다.

본원에서 사용된, "헤이즈"는 ASTM 절차 D1003에 따라서 ±4.0°의 앵귤러 콘(angular cone) 외측에 산란된 투과광의 비율을 의미하고, 그 내용은 참조로 본원에 포함된다. 광학적으로 부드러운 표면에 대해서, 투과 헤이즈는 일반적으로 0에 가깝다. 유리 제품의 안티글레어 표면은 약 50% 미만의 헤이즈를 갖고, 제 2 실시형태에서, 유리제품의 투과헤이즈는 약 30% 미만이다. 본원에 기재된 유리 제품의 안티글레어 표면의 조도 및 헤이즈는 도 8에서 광택의 함수로서 플롯팅된다.

반사된 화상의 차이(또한, 화상의 차이 또는 DOI로서 말한다)은 "Standard Test Methods for Instrumental Measurements of Distinctness-of-Image Gloss of Coating Surfaces" 명칭의, ASTM 절차 D5767 (ASTM 5767)의 방법 A에 의해서 정의되고, 본 발명은 참조로 포함된다. 유리 제품은 절차 D5767의 방법 A에서 기재된 2측 측정(즉, 2개의 유리 표면으로부터 허용된 반사; 흡수체는 유리의 이면에 결합되거나 장착되지 않는다)된다. 또 다른 실시형태에서, 유리 제품은 2측 방법을 사용하여 측정되는 경우, 80 미만의 DOI를 갖고, 또 다른 실시형태에서 40 미만이고, 더욱 다른 실시형태에서 20 미만이다. 낮은 DOI는 일반적으로 안티글레어 기능에 대해서 바람직하다. 특정한 적용에 따라서, 성능 트레이드 오프는 DOI가 감소할 때 발생할 수 있다. 예를 들면 DOI가 너무 많이 감소되면, 헤이즈는 적당한 한계를 초월해서 증가할 수 있다. 또 다른 실시형태에서, 유리 제품은 1측 시료 제조에 의해서 특별한 방향으로부터 20°의 각도에서 측정되면 90 미만의 DOI를 갖는다 (즉, 흑색 흡수체는 유리의 이면에 결합되거나 장착된다). "특별한 방향" 은 반사된 화상이 관찰/관측된 유리 제품의 표면으로부터 각도를 의미하고, "경면 시야각"에 대해서 의미한다.

일 실시형태에서, 유리 제품은 소다라임 실리케이트 유리, 알칼리 토 알루미노실리케이트 유리, 알칼리 알루미노실리케이트 유리, 알칼리 보로실리케이트 유리 및 이들의 조합 중 하나를 포함하거나, 필수적으로 이루어지거나 이들로 이루어진다. 일 특별한 실시형태에서, 유리 제품은 60-72 mol% SiO₂; 9-16 mol% Al₂O₃; 5-12 mol% B₂O₃; 8-16 mol% Na₂O; 및 0-4 mol % K₂O를 포함하고 필수적으로 이루어지고 또는 이들로 이루어지고, 상기 비율은

이고, 알칼리 금속 개질제는 알칼리 금속 산화물이다. 또 다른 실시형태에서, 상기 알칼리 알루미노실리케이트 유리 기판은 61-75 mol% SiO₂; 7-15 mol% Al₂O₃; 0-12 mol% B₂O₃; 9-21 mol% Na₂O; 0-4 mol% K₂O; 0-7 mol% MgO; 및 0-3 mol% CaO를 포함하고, 필수적으로 이루어지고, 이들로 이루어진다. 더욱 다른 실시형태에서 알칼리 알루미노실리케이트 유리 기판은 60-70 mol% SiO₂; 6-14 mol% Al₂O₃; 0-15 mol% B₂O₃; 0-15 mol% Li₂O; 0-20 mol% Na₂O; 0-10 mol% K₂O; 0-8 mol% MgO; 0-10 mol% CaO; 0-5 mol% ZrO₂; 0-1 mol% SnO₂; 0-1 mol% CeO₂; 50 ppm As₂O₃ 미만; 50 ppm Sb₂O₃ 미만을 포함하고, 필수적으로 이루어지고, 이들로 이루어지고; 여기서 12 mol% ≤Li₂O + Na₂O + K₂O ≤20 mol% 및 0 mol% ≤MgO + CaO ≤ 10 mol%이다. 또 다른 실시형태에서, 알칼리 알루미노실리케이트 유리 기판은 64-68 mol% SiO₂; 12-16 mol% Na₂O; 8-12 mol% Al₂O₃; 0-3 mol% B₂O₃; 2-5 mol% K₂O; 4-6 mol% MgO; and 0-5 mol% CaO을 포함하고, 필수적으로 이루어지고, 이들로 이루어지고, 여기서: 66 mol% ≤SiO₂ + B₂O₃ + CaO ≤69 mol%; Na₂O + K₂O + B₂O₃+ MgO + CaO + SrO > 10 mol%; 5 mol% ≤MgO + CaO + SrO≤8 mol%; (Na₂O + B₂O₃) - Al₂O₃ ≤2 mol%; 2 mol% ≤Na₂O - Al₂O₃ ≤6 mol%; 및 4 mol% ≤(Na₂O + K₂O) - Al₂O₃ ≤10 mol%이다. 또 다른 실시형태에서, 알칼리 알루미노실리케이트 유리는 50-80 중량% SiO₂; 2-20 중량% Al₂O₃; 0-15 중량% B₂O₃; 1-20 중량% Na₂O; 0-10 중량% Li₂O; 0-10 중량% K₂O; 및 0-5 중량% (MgO + CaO + SrO + BaO); 0-3 중량% (SrO + BaO); 및 0-5 중량% (ZrO₂ + TiO₂)를 포함하고, 필수적으로 이루어지고, 이들로 이루어지고, 여기서 0 ≤(Li₂O + K₂O)/Na₂O ≤0.5이다.

일부 실시형태에서 알칼리 알루미노실리케이트 유리는 리튬을 실질적으로 함유하지 않고, 다른 실시형태에서 알칼리 알루미노실리케이트 유리는 비소, 안티몬 및 바륨 중 적어도 하나를 실질적으로 함유하지 않는다.

일 실시형태에서 알칼리 알루미노실리케이트 유리는 다운 드로우이고; 즉 예를 들면 종래기술인 슬롯 드로우 또는 퓨전 드로우 방법에 의해서 형성가능하다. 이들 예에서, 유리는 적어도 130 kpoise의 액체 점성을 갖는다. 이러한 알칼리 알루미노실리케이트 유리의 비제한 예는 2007년 7월 31일에 출원된, "Down-Drawable, Chemically Strengthened Glass for Cover Plate"의 명칭의 Adam J. Ellison et al.에 의한 미국 특허출원 11/888,213에 기재되고, 2007년 5월 22일에 출원된 동일한 명칭의 미국 가출원 60/930,808로부터 우선권을 주장하고; 2008년 11월 25일에 출원된 "Glasses Having Improved Toughness and Scratch Resistance"의 명칭의 Matthew J. Dejneka et al.에 의한 미국 가출원 12/277,573, 이는 2007년 11월 29일에 출원된 동일한 명칭의 미국 가출원 61/004,677로부터 우선권을 주장하고; 2009년 2월 25일에 출원된 "Fining Agent for silicate Glasses" 명칭의 Matthew J. Dejneka et al.에 의한 미국 특허출원 12/392,577, 이는 2008년 2월 26일에 출원된 미국 가출원 61/067,130로부터 우선권을 주장하고; 2009년 2월 26일에 출원된 "Ion-Exchanged, Fast Cooled Glasses"명칭의, Matthew J. Dejneka et al.에 의한 미국 특허출원 12/393,241, 이는 2008년 2월 29일에 출원된 미국 가출원 61/067,732의 우선권을 주장하고; 2009년 8월 7일에 출원된 "Strengthened Glass Articles and Methods of Making" 명칭의 Kristen L. Barefoot et al.에 의한 특허출원 12/537,393, 이는 2008년 8월 8일에 출원된 "Chemically Tempered Cover Glass" 명칭의 미국 가출원 61/087,324의 우선권을 주장하고; 2009년 8월 21일에 출원된 "Crack and Scratch Resistant Glass and Enclosures Made Therefrom" 명칭의, Kristen L. Barefoot et al.에 의한 미국 가출원 61/235,767; 및 2009년 8월 21일에 출원된 "Zircon Compatible Glasses for Down Draw" 명칭의 Matthew J. Dejneka et al.에 의한 미국 특허출원 61/235,762이고; 그 내용은 본원에 참조로 포함된다.

일 실시형태에서, 유리 제품은 바람직하게 안티글레어 표면의 형성 후 열적으로 또는 화학적으로 강화된다. 강화된 알칼리 알루미노실리케이트 유리는 제 1 표면 및 제 2 표면으로부터 각각의 표면 아래의 층의 깊이까지 확장하는 강화된 표면층을 갖는다. 강화된 표면층은 압축응력하에 있고, 반면에 유리 제품의 중심 영역은 인장 또는 인장응력하에 있고 유리 내에 힘의 균형을 이룬다. 열 강화("열템퍼링"이라고 칭함)에서, 유리 제품은 유리의 변형점보다 크지만 유리의 연화점 미만의 온도까지 가열되고, 변형점 미만의 온도까지 빠르게 냉각하여 유리의 표면에서 강화된 층을 형성한다. 또 다른 실시형태에서, 유리 제품은 이온 교환으로서 공지된 방법에 의해서 화학적으로 강화될 수 있다. 이러한 방법에서, 유리의 표면층에서 이온은 동일한 가수 또는 산화상태를 갖는 더 큰 이온으로 교환되거나 대체된다. 하나의 특별한 실시형태에서, 표면층에서 이온 및 더 큰 이온은 1가의 알칼리 금속 양이온, 예를 들면 Li⁺(유리에서 존재), Na⁺, K⁺, Rb⁺ 및 Cs⁺이다. 또한, 표면층에서 1가의 양이온은 알칼리 금속 양이온, 예를 들면 Ag⁺ 등 이외의 1가 양이온으로 대체될 수 있다.

이온 교환 방법은 일반적으로 더 큰 이온을 함유한 용융된 염배쓰에서 유리를 액침하여 유리에서 더 작은 이온으로 교환함으로써 실시된다. 이온교환 방법에 의한 변수, 예를 들면 배쓰 조성 및 온도, 액침 시간, 염배쓰(또는 배쓰)에서 유리의 액침 횟수, 복합염 배쓰 사용, 어닐링, 세정 등과 같은 추가의 단계는 강화조작의 결과에 의한 유리의 압축응력 및 층의 소망의 깊이 및 유리의 조성에 의해서 결정된다. 일례로서, 알칼리 금속 함유 유리의 이온 교환은 더 큰 알칼리 금속 이온의 질산염, 황산염 및 염산염과 같은 염을 함유하지만 이들로 한정되지 않은 적어도 하나의 용융염 배쓰에서 액침에 의해서 달성될 수 있다. 용융염 배쓰의 온도는 일반적으로 380℃ 내지 450℃의 범위이고, 액침 시간은 15분 내지 16 시간의 범위이다. 그러나, 상기 기재된 것과 다른 온도 및 액침시간이 사용될 수 있다. 이러한 이온 교환 처리는 일반적으로 200 MPa 내지 800 Mpa의 범위의 압축응력을 갖고 약 100 MPa 미만의 중심 장력을 갖는 약 10㎛ 내지 적어도 50㎛의 층깊이를 갖는 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 강화시킨다.

이온교환 방법의 비제한 예는 상기 기재된 미국특허출원 및 가출원에서 제공된다. 또한, 유리가 액침 사이의 세정 및/또는 어닐링 단계에 의해서 복합 이온교환 배쓰에서 액침된 이온교환 방법의 비제한 예는 2009년 7월 10일에 출원된 Douglas C.Allan et al 등에 의한 "Glass with Compressive Surface for Consumer Applications" 명칭의 미국 특허출원 12/500,650, 이는 2008년 7월 11일에 출원된 미국 가출원 61/079,995로부터 우선권을 주장하고; 여기서 유리는 다른 농도의 염배쓰에서 복합, 연속, 이온 교환처리에서 액침에 의해서 강화되고; 2009년 7월 28일에 출원된 "Dual Stage Ion Exchange for Chemical Strengthening of Glass" 명칭의 Christopher M. Lee et al.에 의한 미국특허출원 12/510,599, 이는 2008년 7월 29일에 출원된 동일한 명칭의 미국 가출원 61/084,398로부터 우선권을 주장하고, 여기서 유리는 방출 이온으로 희석된 제 1 배쓰에서 이온교환에 의해서 강화된 후, 제1 배쓰보다 더 작은 방출 이온농도를 갖는 제 2 배쓰에서 액침시킨다. 미국 가출원 Nos 12/500,650 및 12/510,599의 내용은 참조로 본원에 포함된다.

본원에 기재된 안티글레어 표면은 오일, 예를 들면 지문에 존재하는 오일을 와이핑(wiping)에 의해서 제거하는 것을 돕는다. 일 실시형태에서, 유리 제품은 안티글레어 표면의 적어도 일부에 증착된 내얼룩성 불소계 코팅을 포함한다. 이러한 내얼룩성 코팅은 2009년 2월 5일에 출원된 "Damage Resistant Glass Article for Use as a Cover Plate in Electronic Devices" 명칭의 미국 특허출원 번호 12/366,267 이고, 이는 2008년 2월 5일에 출원된 미국 가출원번호 61/026,289 및 2008년 5월 30일에 출원된 미국 가출원번호 61/130,532로부터 우선권을 주장하고, 그 내용은 본원에 포함된다.

내얼룩성 코팅 또는 층은 불소 말단기를 갖는 적어도 하나의 양쪽소성 물질(amphiphobic substance)을 포함하고, 이는 양측 소성을 갖는 안티글레어 표면을 제공하고(즉, 소수성 및 오일소성, 또는 오일 및 물에 대한 친화성 부족), 따라서, 물 및/또는 오일에 의해서 표면의 웨팅을 최소화시킨다. 내얼룩성 코팅의 불소 말단기는 -OH 말단기를 갖는 표면에 비해 극성이 적으므로 입자와 액체 사이에서 수소 결합(즉, 반데르발스)을 최소화시킨다. 지문 오일 및 지문에 관한 파편에 대해서, 결합- 및 접착이 최소화된다. 따라서, 손가락으로부터 항얼룩 코팅으로 오일 및 파편의 질량 이동이 최소화된다.

일 실시형태에서, 불소계 내얼룩성층은 불소계 부분, 예를 들면 불소-함유 모노머(예를 들면, 플루오로실란)을 갖는 유리의 안티글레어 표면에서 말단 OH기에서 발견된 수소를 교환함으로써 형성된다. 하나의 비제한 예에서, 교환은 하기의 반응에 따라서 실시될 수 있다

RF는 C₁-C₂₂ 알킬 퍼플루오로카본 또는 C₁-C₂₂ 알킬 퍼플루오로폴리에테르, 바람직하게 C₁-C₁₀ 알킬 퍼플루오로카본 및 보다 바람직하게 C₁-C₁₀ 알킬 퍼플루오로폴리에테르이고; n은 1 내지 3의 정수이고; X는 유리 말단 OH기로 교환될 수 있는 가수분해성 기이다. 일 실시형태에서, X는 불소 또는 알콕시(-OR) 이외에 할로겐이고, R은 1-6개의 탄소원자의 직쇄 또는 분기 탄화수소이고, 예를 들면 -CH₃, -C₂H₅ 또는 -CH(CH₃)₂ 탄화수소이다. 일부 실시형태에서, n=2 또는 3, 바람직하게 n=3이다. 일 실시형태에서, 할로겐은 염소이다. 바람직한 알콕시실란은 트리메톡시실란, R_FSi(OMe)₃이다. 사용될 수 있는 추가의 퍼플루오로카본 부분은 (R_F)₃SiCl, R_F　- C(O)-Cl, R_F　- C(O)-NH₂을 들 수 있고, 유리 하이드록실(OH)기로 교환가능한 말단기를 갖는 다른 퍼플루오로카본 부분을 들 수 있다. 본원에 사용될 수 있는 바와 같이, "퍼플루오로카본", "플루오로카본" 및 "퍼플루오로폴리에테르"는 모든 C-H 결합은 실질적으로 C-F로 변환된 본원에 기재된 탄화수소기를 갖는 화합물을 의미한다.

또 다른 실시형태에서, 흡수된 불소계 내얼룩성 층은 불소 말단 분자 사슬의 자체 집합 1층을 포함한다. 또 다른 실시형태에서, 흡착된 불소계 내얼룩성층은 얇은, 플루오로-폴리머 코팅을 포함하고, 또 다른 실시형태에서, 흡착된 불소계 내얼룩성층은 수트 입자에 펜던트 플루오로카본기가 접착되도록 처리한 실리카 수트 입자를 포함한다. 이러한 코팅은 침지, 기상 코팅, 분사, 롤러에 의한 적용, 또는 종래에 공지된 다른 적당한 방법에 의해서 유리 입자의 안티글레어 표면에 적용될 수 있다. 코팅이 적용된 후에, 약25℃ 내지 150℃의 온도에서 경화될 수 있고, 또 다른 실시형태에서 약40℃ 내지 100℃의 온도에서 경화될 수 있다. 경화시간은 1 내지 4 시간일 수 있고, 40-95% 수분을 함유한 분위기에서 실시될 수 있다. 경화 후, 유리 입자는 용매-세정해서 임의의 비결합 코팅을 제거하고, 사용 전 공기 건조할 수 있다.

본원에 기재된 바와 같은 내얼룩성 양측 소성층으로 코팅되는 경우, 본원에 기재된 텍스처 안티글레어 표면은 헤이즈 측정에 의해서 결정된 바와 같이 지문 오일 적용에 대한 내성이 있다. 또한, 지문 와이핑후 코팅된 안티글레어 표면의 기본적인 와이핑은 광학 품질의 거의 즉시 회복한다. 헤이즈 측정에 대해서 나타낸, 미코팅된 텍스처 안티글레어 표면 및 항얼룩성 양쪽소성 플루오로실란 1층으로 코팅된 텍스처 안티글레어 표면의 와이핑 성능은 표 1에 요약되어 있다. 안티글레어 표면 및 항얼룩층은 본원에 기재된 방법을 사용하여 알칼리 알루미노실리케이트 유리에 형성되었다. 헤이즈 측정은 각 시료에 대해서 지문 적용 전후에 실시되고, 와이핑 후에 다시 실시되었다. 모든 지문은 실제의 손가락 및 얼굴 오일을 사용하고 인간의 손가락을 사용하며, 플랫, 비코팅된 유리측을 포화시키고 포화된 슬라이드를 오일 웰로서 사용하여 수동적으로 시료에 적용되었다. 마찬가지로, 와이핑은 각각의 시료에 대해서 새로운 미섬유 천을 사용하여 동일한 조작자에 의해서 모든 시료에 순서대로 실시하였다. 미코팅된 및 코팅된 시료는 지문 적용 후에 헤이즈 감소 및 와이핑 후 코팅된 부분에 대한 초기의 헤이즈값의 회복을 나타냈다. 코팅된 시료에 대해서 관찰된 회복도는 미코팅된 시료의 것보다 컸다.

표 1 유리 시료의 코팅된 및 미코팅된 텍스처 안티글레어 표면에 실시된 지문 적용 및 와이핑 시험

시료	설명	% 헤이즈
시료	설명	초기	지문 적용후	와이핑 후
1a	미코팅	9.31	15.0	9.63
1b	코팅	9.31	12.4	9.37
2a	미코팅	16.6	21.6	17.9
2b	코팅	16.7	19.9	16.7
3a	미코팅	9.92	16.5	11.2
3b	코팅	9.63	14.4	9.93
4a	미코팅	20.5	27.4	23.2
4b	코팅	20.5	22.8	20.6
5a	미코팅	34.1	39.2	35.5
5b	코팅	35.3	36.0	34.8

일반적인 실시형태는 설명하기 위해서 기재되어 있고, 상기 설명은 개시 범위 또는 수반된 청구항을 한정하는 것은 아니다. 따라서, 다양한 변경, 조절 및 대안은 당업자에게 본 발명의 개시 또는 수반된 청구항의 범위 및 정신을 벗어나는 일없이 발생할 수 있다.

Claims

a. 유리 제품을 제공하는 단계;
b. 상기 유리 제품의 표면에 결정을 성장시키는 단계;
c. 상기 결정을 둘러싼 표면으로부터 유리를 에칭하여 표면에 거친 텍스처를 형성하는 단계; 및
d. 상기 표면으로부터 결정을 제거하여 안티글레어 표면을 형성하는 단계를 포함한 안티글레어 표면을 갖는 유리 제품의 제조방법.
청구항 1에 있어서, 상기 방법은:
a. 표면 조도, 표면 헤이즈 및 반사된 화상의 차이 중 적어도 하나를 선택하는 단계; 및
b. 선택된 표면 조도, 선택된 표면 헤이즈 및 선택된 반사된 화상의 차이 중 적어도 하나를 얻기 위해서 결정 제거 후 표면을 에칭하는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 2에 있어서, 상기 결정 제거 후 표면을 에칭하는 단계는 표면에 에칭 수용액을 적용하는 단계를 포함하고, 상기 에칭수용액은 플루오린화수소산 및, 선택적으로 광산을 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 3에 있어서, 상기 광산은 황산, 염산, 질산 및 인산 중 하나인 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 2에 있어서, 상기 표면 헤이즈는 50% 이하인 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 2에 있어서, 상기 표면 조도는 800nm 이하인 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 2에 있어서, 상기 반사된 화상의 차이는 95 미만인 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 2에 있어서, 상기 결정 제거후 표면을 에칭하는 단계는 상기 표면에 광염기 및 킬레이팅제를 포함한 에칭 수용액을 적용하는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 1에 있어서, 상기 표면에 결정을 성장시키는 단계는 상기 표면을 무기 플루오라이드 염 및 웨팅제를 포함한 에칭수용액으로 에칭하는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 9에 있어서, 싱기 무기 플루오라이드 염은 암모늄 플루오라이드, 암모늄 비플루오라이드, 소디움 플루오라이드, 소디움 비플루오라이드, 포타슘 플루오라이드, 포타슘 비플루오라이드, 및 이들의 조합 중 하나인 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 9에 있어서, 상기 웨팅제는 글리콜, 글리세롤, 알콜, 계면활성제 및 이들의 조합 중 하나인 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 9에 있어서, 상기 에칭 수용액은 광산 및 플루오린화수소산 중 적어도 하나를 더 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 12에 있어서, 상기 광산은 황산, 염산, 질산 및 인산 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 1에 있어서, 표면으로부터 결정을 제거하여 안티글레어 표면을 형성하는 단계는 제 2 에칭수용액을 상기 표면에 적용하는 단계를 포함하고, 상기 제 2 에칭수용액은 광산을 포함하고 HF를 함유하지 않는 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 14에 있어서, 상기 광산은 황산, 염산, 질산 및 인산 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 1에 있어서, 상기 표면으로부터 결정을 제거하는 단계는 상기 표면을 물로 세정하는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 1에 있어서, 상기 유리 제품은 소다 라임실리케이트 유리, 알칼리 토 알루미노실리케이트 유리, 알칼리 알루미노실리케이트 유리, 알칼리 보로실리케이트 유리 및 이들의 조합 중 어느 하나를 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 17에 있어서, 상기 유리 제품을 제공하는 단계는 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함한 유리 제품을 제공하는 단계를 포함하고, 상기 알칼리 알루미노실리케이트 유리는 이온 교환에 의해서 화학적으로 강화된 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 17에 있어서, 상기 유리 제품은 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함하고, 상기 알칼리 알루미노실리케이트 유리는 60-70 mol% SiO₂; 6-14 mol% Al₂O₃; 0-15 mol% B₂O₃; 0-15 mol% Li₂O; 0-20 mol% Na₂O; 0-10 mol% K₂O; 0-8 mol% MgO; 0-10 mol% CaO; 0-5 mol% ZrO₂; 0-1 mol% SnO₂; 0-1 mol% CeO₂; 50 ppm 미만의 As₂O₃; 및 50 ppm 미만의 Sb₂O₃을 포함하고, 여기서 12 mol% ≤Li₂O + Na₂O + K₂O ≤20 mol% 및 0 mol% ≤MgO + CaO ≤10 mol%인 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 17에 있어서, 상기 유리제품은 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함하고, 상기 알칼리 알루미노실리케이트 유리는 61-75 mol% SiO₂; 7-15 mol% Al₂O₃; 0-12 mol% B₂O₃; 9-21 mol% Na₂O; 0-4 mol% K₂O; 0-7 mol% MgO; 및 0-3 mol% CaO를 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 17에 있어서, 상기 유리 제품은 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함하고, 상기 알칼리 알루미노실리케이트 유리는 60-72 mol% SiO₂; 9-16 mol% Al₂O₃; 5-12 mol% B₂O₃; 8-16 mol% Na₂O; 및 0-4 mol % K₂O를 포함하고, 상기 비율은
인 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 1에 있어서, 상기 방법은 안티글레어 표면의 적어도 일부에 양쪽 소성 불소계 층을 적용하는 단계를 더욱 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 1에 있어서, 상기 유리 제품을 제공하는 단계는 유리의 제 2 표면을 마스킹하는 단계를 더 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 1에 있어서, 상기 방법은 이온 교환에 의해서 안티글레어 표면을 갖는 기판을 강화시키는 단계를 더 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
a. 유리 기판을 제공하는 단계;
b. 상기 기판의 표면에 결정을 형성하는 단계;
c. 상기 결정을 둘러싼 표면으로부터 유리를 에칭하는 단계; 및
d. 상기 표면으로부터 결정을 제거하여 안티글레어 표면을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 안티글레어 표면은 50% 이하의 헤이즈 및 95 미만의 반사된 화상의 차이를 갖는 안티글레어 표면의 제조방법.
청구항 25에 있어서, 상기 표면에 결정을 형성하고 상기 결정을 둘러싼 표면으로부터 유리를 에칭하는 단계는 상기 표면에 에칭수용액을 적용하는 단계를 포함하고, 상기 에칭수용액은 무기 플루오라이드염 및 웨팅제를 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 26에 있어서, 상기 무기 플르오라이드염은 암모늄 플루오라이드, 암모늄 비플루오라이드, 소디움 플루오라이드, 소디움 비플루오라이드, 포타슘 플루오라이드, 포타슘 비플루오라이드 및 이들의 조합 중 하나인 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 26에 있어서, 상기 웨팅제는 글리콜, 글리세롤, 알콜, 계면활성제 및 이들의 조합 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 26에 있어서, 상기 에칭수용액은 광산 및 플루오린화수소산 중 적어도 하나를 더 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 29에 있어서, 상기 광산은 황산, 염산, 질산 및 인산 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 25에 있어서, 상기 표면으로부터 결정을 제거하는 단계는 상기 표면에 제 2 에칭수용액을 적용하는 단계를 포함하고, 상기 제 2 에칭수용액은 광산을 포함하고 HF를 함유하지 않는 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 31에 있어서, 상기 광산은 황산, 염산, 질산 및 인산 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 25에 있어서, 상기 표면으로부터 결정을 제거하여 안티글레어 표면을 형성하는 단계는 상기 표면에 제 3 에칭수용액을 적용하는 단계를 더욱 포함하고, 상기 제 3 에칭수용액은 HF 및 선택적으로 광산을 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 33에 있어서, 상기 광산은 황산, 염산, 질산 및 인산 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 33에 있어서, 상기 제 3 에칭수용액은 광염기 및 킬레이팅제를 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 25에 있어서, 상기 방법은 에칭된 표면의 적어도 일부에 양쪽 소성 불소계 층을 적용하는 단계를 더 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
청구항 25에 있어서, 상기 유리 제품을 제공하는 단계는 유리의 제 2 표면을 마스킹하는 단계를 더욱 포함한 것을 특징으로 하는 방법.
95 미만의 반사된 화상의 차이 및 50% 이하의 헤이즈를 나타낸 안티글레어 표면을 갖는 유리 제품.
청구항 38에 있어서, 상기 안티글레어 표면은 에칭된 표면인 것을 특징으로 하는 유리제품.
청구항 38에 있어서, 상기 유리 제품은 소다 라임 실리케이트 유리, 알칼리 토 알루미노실리케이트 유리, 알칼리 알루미노실리케이트 유리, 알칼리 보로실리케이트 유리 및 이들의 조합 중 하나를 포함한 것을 특징으로 하는 유리제품.
청구항 40에 있어서, 상기 유리 제품은 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함하고, 상기 알칼리 알루미노실리케이트 유리는 60-70 mol% SiO₂; 6-14 mol% Al₂O₃; 0-15 mol% B₂O₃; 0-15 mol% Li₂O; 0-20 mol% Na₂O; 0-10 mol% K₂O; 0-8 mol% MgO; 0-10 mol% CaO; 0-5 mol% ZrO₂; 0-1 mol% SnO₂; 0-1 mol% CeO₂; 50 ppm 미만의 As₂O₃; 및 50 ppm 미만의 Sb₂O₃을 포함하고, 여기서, 12 mol% ≤Li₂O + Na₂O + K₂O≤20 mol% 및 0 mol% ≤MgO + CaO ≤ 10 mol%인 것을 특징으로 하는 유리제품.
청구항 40에 있어서, 상기 유리 제품은 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함하고, 상기 알칼리 알루미노실리케이트 유리는 61-75 mol% SiO₂; 7-15 mol% Al₂O₃; 0-12 mol% B₂O₃; 9-21 mol% Na₂O; 0-4 mol% K₂O; 0-7 mol% MgO; 및 0-3 mol% CaO을 포함한 것을 특징으로 하는 유리제품.
청구항 40에 있어서, 상기 알칼리 알루미노실리케이트 유리는 60-72 mol% SiO₂; 9-16 mol% Al₂O₃; 5-12 mol% B₂O₃; 8-16 mol% Na₂O; 및 0-4 mol % K₂O를 포함하고, 상기 비율은
인 것을 특징으로 하는 유리제품.
청구항 40에 있어서, 상기 유리 제품은 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함하고, 상기 알칼리 알루미노실리케이트 유리는 화학적으로 강화된 것을 특징으로 하는 유리제품.
청구항 38에 있어서, 상기 유리 제품은 에칭된 표면의 적어도 일부에 배치된 양쪽 소성 불소계 층을 더 포함한 것을 특징으로 하는 유리제품.
청구항 38에 있어서, 상기 안티글레어 표면은 이온교환 및 열 템퍼링 중 하나에 의해서 강화된 것을 특징으로 하는 유리제품.
청구항 38에 있어서, 상기 유리 제품은 정보 디스플레이 장치 및 미디어 디스플레이 장치의 적어도 하나에 대해서 보호커버 유리를 형성한 것을 특징으로 하는 유리제품.
a. 무기 플루오라이드염 및 웨팅제를 포함한 제 1 에칭수용액을 포함하고, 상기 제 1 에칭수용액은 기판의 표면에 결정을 형성하고 상기 결정을 둘러싼 표면을 에칭하는 결정 형성 용액; 및
b. i. 광산을 포함하고 HF를 함유하지 않으며, 상기 표면으로부터 결정을 제거하는 제 2 에칭수용액을 포함한 결정 제거 용액; 및
ii. HF 및 광산의 적어도 하나를 포함하고, 조도를 최대 조도로 감소시키는 제 3 에칭수용액을 포함한 조도 조절 용액 중 적어도 하나를 포함한 기판에 안티글레어 표면을 형성하기 위한 시스템.
청구항 48에 있어서, 상기 무기 플루오라이드염은 암모늄 플루오라이드, 암모늄 비플루오라이드, 소디움 플루오라이드, 소디움 비플루오라이드, 포타슘 플루오라이드, 포타슘 비플루오라이드 및 이들의 조합 중 하나인 것을 특징으로 하는 시스템.
청구항 48에 있어서, 상기 광산은 황산, 염산, 질산 및 인산 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 시스템.
청구항 48에 있어서, 상기 제 1 에칭용액은 광산을 더 포함한 것을 특징으로 하는 시스템.
청구항 48에 있어서, 상기 광산은 황산, 염산, 질산 및 인산 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 시스템.
청구항 48에 있어서, 상기 제 3 에칭용액은 광염기 및 킬레이팅제를 포함한 것을 특징으로 하는 시스템.