CN107217262B - 抗眩盖板的制造方法及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种抗眩盖板的制造方法及显示装置，方法包括：洗净所述盖板；采用第一刻蚀液对盖板进行预刻蚀，以形成凹凸不平的微结构；在进行预刻蚀后的盖板上沉积一层且厚度不均匀的掩膜层；采用第二刻蚀液对金属膜层及预刻蚀后的盖板进行刻蚀，以制备出具有多个相分离弧形微结构的盖板。通过上述方式，本发明能够改善盖板在高解析度面板上的sparkle现象，提升面板阅读的舒适度。

Description

抗眩盖板的制造方法及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种抗眩盖板的制造方法及显示装置。
背景技术
人们在使用手机时时常受到高亮环境光及鬼影现象的困扰，为此人们常通过在手机盖板表面进行抗眩抗反射处理。目前，抗眩处理为盖板表面处理的重要方式之一，常用的做法是在盖板表面进行湿刻蚀提高盖板表面的粗糙度，增加盖板表面的漫射。然而，当盖板表面的抗眩微结构尺寸过大时，在高解析度面板上会造成闪烁(sparkle)现象，且目前暂未找出改善sparkle现象的方法，造成抗眩盖板在高解析度面板上应用受到限制。
发明内容
本发明提供一种抗眩盖板的制造方法及显示装置，能够改善盖板在高解析度面板上的sparkle现象，提升面板阅读的舒适度。
为解决上述技术问题，本发明采用的一种技术方案是：提供一种抗眩盖板的制造方法，所述方法包括：洗净所述盖板；采用第一刻蚀液对所述盖板进行预刻蚀，以形成凹凸不平的微结构；在所述进行预刻蚀后的盖板上沉积一层且厚度不均匀的掩膜层；采用第二刻蚀液对所述金属膜层及所述预刻蚀后的盖板进行刻蚀，以制备出具有多个相分离弧形微结构的盖板。
为解决上述技术问题，本发明采用的另一种技术方案是：提供一种显示装置，所述显示装置包括上述任一所述制备方法制备的抗眩盖板以及显示面板，其中，所述抗眩盖板与所述显示面板的显示面贴合设置。
本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明通过多步刻蚀在盖板上制备出多个相分离的弧形微结构，能够改善盖板在高解析度面板表面的sparkle现象，有利于提升面板阅读的舒适度。
附图说明
图1为本发明抗眩盖板的制造方法一实施例的流程示意图；
图2为本发明抗眩盖板的制造过程一实施方式的结构示意图；
图3为本发明抗眩盖板扫在描电子显微镜下的结构示意图；
图4为本发明全高清解析度面板在贴合/未贴合抗眩盖板的显示效果对比示意图；
图5为本发明的表面呈龟裂状的弧形微结构盖板与表面层弧面状微结构盖板光学特性测量对比示意图；
图6本发明显示装置一实施方式的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1及图2，图1为本发明抗眩盖板的制造方法一实施例的流程示意图，图2为本发明抗眩盖板的制造过程一实施方式的结构示意图，该方法包括如下步骤：
S1，洗净盖板。
参阅图2中a)，所述的盖板可以为透明材质，具体可以是玻璃、陶瓷基板或者透明塑料等任意形式的基板，此处本发明不做具体限定。
S2，采用第一刻蚀液对盖板进行预刻蚀，以形成凹凸不平的微结构。
将上述洗净后的盖板采用第一刻蚀液进行预刻蚀，在本实施例中，第一刻蚀液可以为氢氟酸、磷酸及硫酸的混合酸液，且浓度可以为0.5wt％-1wt％，在其它实施例中，也可以采用可以腐蚀该盖板的其他浓度的酸液，此处本发明不做进一步限定。其中，在该步骤中，预刻蚀的目的是采用浓度较稀的的刻蚀酸液对盖板进行刻蚀，以使得在盖板表面形成凹凸不平的微结构A。该微结构A的刻蚀痕迹比较浅，其形状可以为弧形、锥形及圆台状中的一种，具体参见图2中b)，其主要是起整体抗眩的效果。
S3，在进行预刻蚀后的盖板上沉积一层且厚度不均匀的掩膜层。
采用蒸镀或者溅镀的方式，在预刻蚀后的盖板上沉积一层厚度不均匀的掩膜层B，当然该掩膜层B的沉积方法不限于上述两种方式，在其它实施例中，还可以采用电化学沉积气相沉积法等等，此处不做具体限定。其中，该掩膜层B材料可以为金属、金属氧化物、硅酸盐或者任何可以和刻蚀液进行反应的材料。
具体地，在盖板不同位置，其掩膜层的厚度均匀性不一且厚度随机分布。具体地，该掩膜层B的厚度范围约为50nm～1μm，在较薄处膜层厚度在50nm-200nm之间，较厚处膜层厚度在500nm-1μm之间，可见在较薄处膜层厚度与较厚处膜层厚度相差较大，具体参见图2中c)。当然，本实施例中的膜层厚度范围只是示意性举例，在其它实施例中，具体可以通过对蒸镀或者溅镀工艺进行控制，例如在蒸镀时可以使用两块不同的掩膜板，使其中一块掩膜板的蒸镀时间较长，保证掩膜层的厚度较厚，另一块掩膜板的蒸镀时间相对较短，掩膜层的厚度较薄，从而以得到需要厚度的掩膜层。
S4，采用第二刻蚀液对掩膜层及预刻蚀后的盖板进行刻蚀，以制备出具有多个相分离的弧形微结构盖板。
再沉积完掩膜层后，采用第二刻蚀液对掩膜层及预刻蚀后的盖板进行刻蚀。其中，第二刻蚀液可以为氢氟酸、磷酸及硫酸的混合酸液，且第二刻蚀液的浓度可以为10wt％-20wt％，在其它实施例中，也可以采用可以腐蚀该盖板的其他浓度的酸液，此处本发明不做进一步限定。
在本实施例中，由于在盖板表面有一层厚度不均匀的掩膜层，刻蚀酸液需要先对掩膜层进行溶解才能刻蚀到盖板表面基材，该掩膜层的厚度不均匀，造成刻蚀酸液在盖板表面蚀刻的时间和蚀刻量不同，且在掩膜层较薄区域刻蚀酸液的蚀刻时间较长，且刻蚀深度较大，掩膜层较厚区域刻蚀酸液的蚀刻时间较短，且蚀刻深度较浅，从而制备出具有多个相分离的弧形微结构盖板，其中该相分离的弧形微结构C具体可以参见图2中的d)。
请进一步参阅图3，图3为本发明抗眩盖板扫在描电子显微镜下的结构示意图。如图3，该盖板相邻的弧形微结构之间存在刻蚀形成的沟壑，完全不同于传统的球状凹面结构，从测量的数据可知，每一弧形微结构的圆心角在50°～80°之间，且每一相分离的弧形微结构表面呈龟裂状，此种结构有利于形成光阱，即使进入的光无法逃出，减弱反射光的强度，并通过表面不平整结构产生漫射，从而达到抗眩的效果。
参阅图4，图4为本发明全高清解析度面板在贴合/未贴合抗眩盖板的显示效果对比示意图。如图4，贴合该抗眩盖板的区域几乎不可见sparkle现象，说明此种形貌抗眩微结构可以很好的改善显示面板的sparkle现象。
请进一步参阅图5，图5为本发明的表面呈龟裂状的弧形微结构盖板与表面层弧面状微结构盖板光学特性测量对比示意图。其中，图5中的a)、b)及c)分别为表面呈龟裂状的弧形微结构盖板与表面层弧面状微结构盖板的反射率、透射率及雾度值的对比示意图。由图可知，表面呈龟裂状的弧形微结构盖板的反射率约为93.61％，透过率约为1.96％，雾度值为71.13％，其中是雾度是指偏离入射光2.5°角以上的透射光强占总透射光强的百分数，雾度越大意味着盖板表面光泽度尤其成像度下降，成像影响轮廓越模糊,抗眩效果越好。再来看表面层弧面状微结构盖板，其反射率约为93％，透过率约为2.05％，雾度值为22.02％。其中，龟裂状微结构盖板的反射率和透过率均略高于球面状微结构盖板，说明龟裂状微结构盖板的光学性能略好于球面状微结构的盖板，龟裂状微结构盖板的雾度值可达远高于球面状微结构盖板的雾度值，说明该龟裂状微结构形貌可以制备出雾度值较高的盖板，具有很好的抗眩效果，利于提升手机在户外的可读性和阅读的舒适性。
上述实施方式中，通过多步刻蚀在盖板上制备出多个相分离的弧形微结构，能够改善盖板在高解析度面板表面的sparkle现象，有利于提升面板阅读的舒适度。
请参阅图6，图6为本发明显示装置一实施方式的结构示意图。该显示装置20包括由上述任一方法所制成的抗眩盖板D，以及显示面板21。其中，该抗眩盖板D与显示面板21的显示面贴合设置，且该抗眩盖板D的制造方法以及使用说明详见上述实施方式中的描述，此处不再赘述。
上述实施方式中，通过多步刻蚀在盖板上制备出多个相分离的弧形微结构，能够改善盖板在高解析度面板表面的sparkle现象，有利于提升面板阅读的舒适度。
综上所述，本领域技术人员容易理解，本发明提供一种抗眩盖板的制造方法及显示装置，通过多步刻蚀在盖板上制备出多个相分离的弧形微结构，能够改善盖板在高解析度面板表面的sparkle现象，有利于提升面板阅读的舒适度。
以上仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (8)

1.一种抗眩盖板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
洗净所述盖板；
采用第一刻蚀液对所述盖板进行预刻蚀，以形成凹凸不平的微结构；
在所述进行预刻蚀后的盖板上沉积一层且厚度不均匀的掩膜层；
采用第二刻蚀液对所述掩膜层及所述预刻蚀后的盖板进行刻蚀，以制备出具有多个相分离弧形微结构的盖板，所述相分离的弧形微结构圆心角在50°～80°之间，且表面呈龟裂状，以形成光阱。
2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述微结构的形状包括弧形、锥形及圆台状中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述掩膜层为金属、金属氧化物及硅酸盐的一种。
4.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述掩膜层的厚度为50nm～1μm。
5.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，相邻所述相分离的弧形微结构之间存在刻蚀形成的沟壑。
6.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述第一刻蚀液为氢氟酸、磷酸及硫酸的混合酸液，且所述第一刻蚀液的浓度为0.5wt％-1wt％。
7.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述第二刻蚀液为氢氟酸、磷酸及硫酸的混合酸液，且所述第二刻蚀液的浓度为10wt％-20wt％。
8.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1-7中任一所述制备方法制备的抗眩盖板以及显示面板，其中，所述抗眩盖板与所述显示面板的显示面贴合设置。
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