KR20090112412A - 반도체 소자의 내부전압 생성회로 - Google Patents

반도체 소자의 내부전압 생성회로 Download PDF

Info

Publication number
KR20090112412A
KR20090112412A KR1020080038293A KR20080038293A KR20090112412A KR 20090112412 A KR20090112412 A KR 20090112412A KR 1020080038293 A KR1020080038293 A KR 1020080038293A KR 20080038293 A KR20080038293 A KR 20080038293A KR 20090112412 A KR20090112412 A KR 20090112412A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
internal voltage
driving
clock
pulse
voltage terminal
Prior art date
Application number
KR1020080038293A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100937939B1 (ko
Inventor
도창호
Original Assignee
주식회사 하이닉스반도체
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 하이닉스반도체 filed Critical 주식회사 하이닉스반도체
Priority to KR1020080038293A priority Critical patent/KR100937939B1/ko
Priority to US12/164,163 priority patent/US7764110B2/en
Priority to TW097125827A priority patent/TWI369842B/zh
Priority to JP2009098954A priority patent/JP2009268091A/ja
Publication of KR20090112412A publication Critical patent/KR20090112412A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100937939B1 publication Critical patent/KR100937939B1/ko
Priority to US12/815,075 priority patent/US8040177B2/en
Priority to US13/274,644 priority patent/US8299846B2/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/4074Power supply or voltage generation circuits, e.g. bias voltage generators, substrate voltage generators, back-up power, power control circuits
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F1/00Automatic systems in which deviations of an electric quantity from one or more predetermined values are detected at the output of the system and fed back to a device within the system to restore the detected quantity to its predetermined value or values, i.e. retroactive systems
    • G05F1/10Regulating voltage or current
    • G05F1/46Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc
    • G05F1/462Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc as a function of the requirements of the load, e.g. delay, temperature, specific voltage/current characteristic
    • G05F1/465Internal voltage generators for integrated circuits, e.g. step down generators
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/4072Circuits for initialization, powering up or down, clearing memory or presetting
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • G11C5/145Applications of charge pumps; Boosted voltage circuits; Clamp circuits therefor

Abstract

본 발명은 외부클록의 주파수가 변동하는 것과 상관없이 항상 안정적인 전위레벨을 유지하는 반도체 소자의 내부전압을 생성하기 위한 회로에 관한 것으로서, 예정된 타겟레벨을 기준으로 내부전압단의 전위레벨을 검출하고, 검출결과에 따라 변동하는 활성화구간을 갖는 제1구동제어펄스를 생성하기 위한 제1구동제어펄스 생성부와, 상기 제1구동제어펄스에 응답하여 상기 내부전압단을 풀 업 구동하기 위한 제1구동부와, 외부클록의 주파수에 대응하는 주기마다 예정된 활성화구간을 갖는 제2구동제어펄스를 생성하기 위한 제2구동제어펄스 생성부, 및 상기 제2구동제어펄스에 응답하여 상기 내부전압단을 풀 업 구동하기 위한 제2구동부를 구비하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로를 제공한다.
내부전압단, 주파수 변동, 구동력

Description

반도체 소자의 내부전압 생성회로{INTERNAL VOLTAGE GENERATOR OF SEMICONDUCTOR DEVICE}
본 발명은 반도체 설계 기술에 관한 것으로서, 특히, 반도체 소자의 내부전압 생성회로에 관한 것이며, 더 자세히는, 외부클록의 주파수가 변동하는 것과 상관없이 항상 안정적인 전위레벨을 유지하는 반도체 소자의 내부전압을 생성하기 위한 회로에 관한 것이다.
DRAM을 비롯한 대부분의 반도체 소자는 외부로부터 공급되는 전원전압(VDD) 및 접지전압(VSS)을 사용하여 다양한 전압레벨을 갖는 다수의 내부전압을 발생시키기 위한 내부전압 발생기를 칩 내에 구비함으로써 칩 내부회로의 동작에 필요한 다수의 내부전압을 자체적으로 공급하고 있다.
이러한, 다수의 내부전압을 생성하는 과정에는 일반적으로, 기준(Reference)전압레벨을 갖는 기준전압을 생성하는 과정과, 발생된 기준전압을 사용하여 차지 펌핑(charge pumping) 또는 다운 컨버팅(down converting)등의 방식을 통해 내부전 압을 생성하는 과정이 포함된다.
여기서, 차지 펌핑(charge pumping) 방식을 사용하여 생성하는 대표적인 내부전압으로는 승압전압(VPP)과 백 바이어스 전압(VBB)이 있고, 다운 컨버팅(down converting) 방식을 사용하여 생성하는 대표적인 내부전압으로는 코어전압(VCORE)이 있다.
간단히 설명하면, 승압전압(VPP)은 외부전원전압(VDD)보다 높은 전압레벨을 갖는 전압으로써, 셀을 액세스할 때 셀 트랜지스터의 게이트와 접속되어 있는 워드라인(word line)에 공급하여 셀 트랜지스터의 문턱전압(Threshold voltage : Vth)에 의해 발생하는 셀 데이터의 손실을 방지하기 위해 생성한다.
그리고, 백 바이어스 전압(VBB)은 외부접지전압(VSS)보다 낮은 전압레벨을 갖는 전압으로써, 셀 트랜지스터에 대한 바디 이펙트(body effect) 효과에 의해 셀 트랜지스터의 문턱전압(Vth)이 변화하는 것을 감소시켜 셀 트랜지스터 동작의 안전성을 높이고, 셀 트랜지스터에서 발생하는 채널 누설 전류(channel leakage current)를 감소시키기 위해 생성한다.
또한, 코어전압(VCORE)은 외부전원전압(VDD)보다 낮은 전압레벨을 갖고 접지전압(VSS)보다 높은 전압레벨을 갖는 전압으로써, 셀에 저장된 데이터의 전압레벨을 유지하는데 필요한 전력의 크기를 줄이고 셀 트랜지스터의 안정적인 동작을 위해 생성한다.
전술한 내부전압(VPP, VBB, VCORE)을 생성하는 내부전압 생성기는 반도체 소자의 동작 전압 영역 및 동작 범위 온도 내에서 일정 편차의 값을 갖고 동작하도록 설계된다.
도 1은 종래기술에 따라 반도체 소자의 내부전압을 생성하는 과정을 도시한 블록 다이어그램이다.
도 1을 참조하면, 종래기술에 따라 반도체 소자의 내부전압(VINT)을 생성하는 과정은, 반도체 소자의 PVT(process, voltage, temperature)변동에 상관없이 항상 예정된 타겟 레벨을 유지하는 기준전압(VREF_INT)을 생성하기 위한 밴드 갭 기준전압 발생부(140), 및 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨을 기준으로 내부전압(VINT)단의 레벨을 검출하여 내부전압 검출신호(VINT_DET)를 생성하기 위한 내부전압 검출부(100), 및 내부전압 검출신호(VINT_DET)에 응답하여 내부전압(VINT)단을 풀 업 구동하기 위한 내부전압 구동부(120)를 포함한다.
이때, 전술한 바와 같은 과정을 통해 생성된 내부전압(VINT)은 반도체 소자의 내부회로(160)로 입력되어 예정된 내부동작을 수행하는데 사용된다.
구체적으로, 내부전압 검출부(100)는, PVT(process, voltage, temperature)변동에 상관없이 항상 예정된 타겟 레벨에 대응하는 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨보다 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 낮아지는 시점에서 내부전압 검출신호(VINT_DET)를 활성화시키고, 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨보다 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 높아지는 시점에서 내부전압 검출신호(VINT_DET)를 비활성화시킨다.
그리고, 내부전압 구동부(120)는, 내부전압 검출신호(VIN_DET)가 활성화상태 를 유지할 때 예정된 구동력으로 내부전압(VINT)단을 풀 업 구동한다.
정리하면, 내부전압 검출부(100) 및 내부전압 구동부(120)의 동작목표는, 내부회로(160)의 동작으로 인해 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 낮아지게 되는 현상이 발생하는 경우 이를 감지하여 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 항상 예정된 타겟 레벨에 대응하는 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨과 같아질 수 있도록 해주는 것이다.
이때, 내부전압(VINT)단의 입장에서 내부회로(160)는 그 값이 어떻게 변동할지 모르는 전류 부하(current load)로서 반도체 소자의 동작모드에 따른 내부 동작의 변화로 인해 내부전압(VINT)의 전위레벨을 변동시킬 수 있는 구성요소이다.
예를 들면, 데이터 입/출력 동작이 발생하는 리드/라이트 동작에서는 내부회로(160)에서 내부전압(VINT)을 많이 사용하여 내부전압(VINT)단의 전위레벨을 상대적으로 크게 감소시키지만, 데이터 입/출력 동작이 발생하지 않는 파워다운 동작에서는 내부회로(160)가 내부전압(VINT)을 거의 사용하지 않으므로 내부전압(VINT)단의 전위레벨을 상대적으로 작게 감소시킬 수 있다.
따라서, 내부전압 검출부(100) 및 내부전압 구동부(120) 그리고 내부회로(160)의 동작에 따라 내부전압(VINT)단의 전위레벨은 예정된 타겟 레벨에 대응하는 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨을 기준으로 상승했다 하강했다 하는 상태가 반복되게 된다.
이렇게, 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨을 중심으로 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 변동하는 폭이 예정된 레벨 폭 이하에서 발생하는 경우에는 반도체 소자 의 동작에 그리 큰 영향을 미치지 않을 수 있다.
하지만, 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨을 중심으로 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 변동하는 폭이 예정된 레벨 폭 이상으로 크게 발생하는 경우에는 반도체 소자가 정상적으로 동작하지 못하는 문제가 발생할 수 있다.
이러한 문제가 발생하는 것을 방지하기 위해서, 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨을 기준으로 상승했다 하강했다 하는 레벨 폭이 항상 예정된 레벨 폭 이하가 되도록 해주어야 한다.
이를 위해서 종래기술에서는 내부전압 검출부(100)의 동작속도를 상대적으로 빠르게 해주는 방법을 사용하였는데, 즉, 동일한 시간동안에 내부전압 검출부(100)에서 내부전압(VINT)단을 검출하는 횟수를 상대적으로 더 빈번하게 해주는 방법을 사용하였는데, 이를 통해서 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨을 기준으로 상승했다 하강했다 하는 레벨 폭이 항상 예정된 레벨 폭 이하가 되도록 할 수 있었다.
예를 들어, 내부전압 검출부(100)에서 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 변동하는 것을 상대적으로 빈번하게 검출하게 되면, 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 급격하게 하강하는 경우에도 이를 상대적으로 빠르게 인식하여 내부전압 구동부(120)를 동작시킬 수 있고, 내부전압 구동부(120)가 동작을 시작하게 되는 순간 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 더 이상 하강하는 것을 방지하고 곧이어 상승시켜 주므로 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨을 기준으로 하강하는 레벨 폭을 줄여 줄 수 있다.
마찬가지로, 내부전압 검출부(100)에서 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 변동하는 것을 상대적으로 빈번하게 검출하게 되면, 내부전압 구동부(120)를 동작으로 인해 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 급격하게 상승하는 경우에도 이를 상대적으로 빠르게 인식하여 내부전압 구동부(120)의 동작을 중지시킬 수 있고, 내부전압 구동부(120)의 동작이 중지되는 순간 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 더 이상 상승하지 못하고 곧 이어 하강하게 되므로 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨을 기준으로 상승하는 레벨 폭을 줄여 줄 수 있다.
하지만, 내부전압 검출부(100)가 내부전압(VINT)단의 전위레벨을 검출하는 동작을 한 번 수행할 때마다 일정량의 전류가 소모되므로, 내부전압 검출부(100)가 내부전압(VINT)단의 전위레벨을 검출하는 동작을 상대적으로 빈번하게 수행함으로 인해 상대적으로 소모되는 전류의 크기가 늘어나게 되며, 무턱대고 내부전압 검출부(100)의 동작속도를 빠르게 하게 되면, 그로 인해 반도체 소자에서 소모되는 전류량의 크기가 너무 커지는 문제가 발생할 수 있다.
또한, 현실적으로는 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 급격하게 변동하는 경우보다 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 완만하게 변동하는 경우가 더 많은데도 불구하고, 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 급격하게 변동하는 경우만을 위해 내부전압 검출부(100)의 동작속도를 빠르게 한다는 것은 실질적으로 얻는 것보다 잃는 것이 더 많은 설계가 된다.
이는, 내부전압 검출부(100)의 동작속도를 빠르게 하는 것은 어느 정도까지만 허용된다는 것을 의미하며, 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 급격하게 변동하는 것을 방지하기 위해 내부전압 검출부(100)의 동작속도를 늘리는 것과 내부전압 검출부(100)에서 소모되는 전류의 크기가 늘어나는 것은 어찌할 수 없는 트레이드오프(trade-off) 관계이므로, 두 가지 문제를 한 번에 모두 해결하기 위해서는, 설계자가 여러 가지 테스트 동작을 통해 반도체 소자의 동작에서 오류가 발생할 확률이 비교적 적은 상태의 내부전압(VINT)단의 전위레벨 변동 폭을 찾아내는 과정과, 그에 대응하여 내부전압 검출부(100)의 동작속도를 적당히 유지하는 과정이 수행되어 전류의 소모량을 크게 늘어나지 않더라도 반도체 소자가 정상적으로 동작할 수 있도록 설계해주어야 했다.
한편, 반도체 소자로 공급되는 전원전압(VDD)의 전위레벨은 세대가 지날수록 점점 더 낮아지고, 동시에 반도체 소자의 동작속도는 세대가 지날수록 점점 빨라지는 것이 추세이다.
이때, 반도체 소자의 동작속도가 빠르다는 것은, 반도체 소자로 인가되는 외부클록의 주파수 크기가 크다는 것과 동일하다고 해도 큰 무리가 없다. 즉, 외부클록의 주파수가 높아지면 높아질수록 더욱 빠른 속도로 반도체 소자가 동작할 수 있다.
또한, 주파수가 높아져서 더욱 빠른 속도로 반도체 소자가 동작할 수 있다는 것은 그만큼 반도체 소자의 내부회로(160)에서 내부전압(VINT)을 더 많이 사용할 수 있다는 것을 의미한다. 즉, 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 더욱 급격하게 변동할 수 있다는 것을 의미한다.
이렇게, 주파수가 높아지는 것으로 인해 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 더 욱 급격하게 변동하게 되면, 기존과 동일한 속도로 내부전압 검출부(100) 및 내부전압 구동부(120)가 동작한다고 하여도 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨을 기준으로 상승했다 하강했다 하는 레벨 폭이 증가하게 되는 것을 막을 수 없다.
즉, 기존에 설계자가 찾아냈던 반도체 소자의 동작에서 오류가 발생할 확률이 비교적 적으면서 전류 소모량이 크게 늘어나지 않았던 상태의 내부전압 검출부(100)의 동작속도로는, 주파수가 높아지는 것으로 인해 증가하는 내부전압(VINT)단의 전위레벨 변동 폭을 방지할 수 없고, 이로 인해, 반도체 소자가 정상적으로 동작하지 못하고 오류가 발생할 확률이 높아지는 문제가 발생한다.
그렇다고, 무턱대고 내부전압 검출부(100)의 동작속도를 증가시키면 또다시 전술한 바와 같이 반도체 소자에서 소모되는 전류의 양이 필요이상으로 너무 커지는 문제점이 발생할 수 있다.
따라서, 종래기술에서는 반도체 소자의 동작속도가 변화할 때마다, 즉, 반도체 소자로 인가되는 외부클록의 주파수가 변화할 때마다 설계자는 전술한 두 가지 문제를 해결하기 위해 또다시 테스트 동작을 수행하여 반도체 소자의 동작에서 오류가 발생할 확률이 비교적 적은 상태의 내부전압(VINT)단의 전위레벨 변동 폭을 찾아내는 과정과, 그에 대응하여 내부전압 검출부(100)의 동작속도를 적당히 유지시켜 주는 과정이 수행되어 전류의 소모량을 크게 늘어나지 않더라도 반도체 소자가 정상적으로 동작할 수 있도록 설계해주어야 했다.
본 발명은 전술한 종래기술에 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 외부클록의 주파수에 대응하여 내부전압단을 구동하기 위한 드라이버를 구비함으로써, 내부전압이 외부클록의 주파수가 변동하는 것과 상관없이 항상 안정적인 전위레벨을 유지할 수 있도록 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기의 해결하고자 하는 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따르면, 내부전압단의 전위레벨이 예정된 타겟레벨보다 낮아지는 구간에서 상기 내부전압단을 풀 업 구동하기 위한 제1전압구동수단; 및 외부클록의 주파수에 대응하는 주기마다 예정된 시간동안 상기 내부전압단을 풀 업 구동하기 위한 제2전압구동수단을 구비하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로를 제공한다.
상기의 해결하고자 하는 과제를 달성하기 위한 본 발명의 다른 측면에 따르면, 예정된 타겟레벨을 기준으로 내부전압단의 전위레벨을 검출하고, 검출결과에 따라 변동하는 활성화구간을 갖는 제1구동제어펄스를 생성하기 위한 제1구동제어펄스 생성수단; 상기 제1구동제어펄스에 응답하여 상기 내부전압단을 풀 업 구동하기 위한 제1구동수단; 외부클록의 주파수에 대응하는 주기마다 예정된 활성화구간을 갖는 제2구동제어펄스를 생성하기 위한 제2구동제어펄스 생성수단; 및 상기 제2구 동제어펄스에 응답하여 상기 내부전압단을 풀 업 구동하기 위한 제2구동수단을 구비하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로를 제공한다.
상기의 해결하고자 하는 과제를 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 내부전압단의 전위레벨에 따라 선택적으로 상기 내부전압단을 풀 업 구동하는 단계; 외부클록의 주파수에 따라 상기 내부전압단을 풀 업 구동하는 단계를 포함하는 반도체 소자의 내부전압 생성방법을 제공한다.
전술한 본 발명은 내부전압단의 전위레벨 변동에 대응하여 내부전압단을 구동하기 위한 제1드라이버와 외부클록의 주파수에 대응하여 내부전압단을 구동하기 위한 제2드라이버를 동시에 구비함으로써, 외부클록의 주파수가 변동하는 경우에 제1드라이버의 구성 및 동작을 변경하지 않고도 내부전압단의 전위레벨이 안정적으로 타겟레벨을 유지할 수 있도록 하는 효과가 있다.
이로 인해, 반도체 소자를 개발하는데 있어서 주파수가 변동에 대해 유연하게 대처할 수 있으므로 개발시간 단축을 통한 비용절감 효과를 기대할 수 있다.
또한, 외부클록의 주파수가 변동하더라도 내부전압단의 전위레벨의 변동폭은 증가하지 않으므로, 내부전압단의 전위레벨을 검출하는 동작의 횟수를 줄여줌으로써 내부전압단의 전위레벨을 안정화시키기 위해 소모되는 전류의 크기를 최소화시킬 수 있는 효과가 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구성될 수 있으며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록하며 통상의 지식을 가진자에게 본 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따라 반도체 소자의 내부전압을 생성하는 과정을 도시한 블록 다이어그램이다.
참고로, 도 2에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 반도체 소자의 내부전압 생성회로는, 다운 컨버팅(down converting) 방식을 사용하여 반도체 소자의 내부전압을 생성하는 과정이 도시되어 있다. 하지만, 차지 펌핑(charge pumping) 방식으로 반도체 소자의 내부전압(VINT)을 생성하는 과정도 다운 컨버팅(down converting) 방식을 사용하는 과정과 큰 차이가 없다. 즉, 차지 펌핑(charge pumping) 방식도 내부전압(VINT)단의 전위레벨을 검출하는 과정과 검출결과에 따라 내부전압(VINT)단을 구동하는 것은 같다.
다만, 내부전압(VINT)단의 전위레벨을 검출하는 방식에 대응하는 상세 회로구성 및 내부전압(VINT)단을 구동하는 방식에 대응하는 상세 회로구성이 서로 다르다는 차이점이 있지만, 일반적으로 차지 펌핑(charge pumping) 방식을 구현하기 위한 회로구성보다 다운 컨버팅(down converting) 방식을 구현하기 위한 회로구성이 훨씬 간단하기 때문에 본 발명의 실시예에서는 다운 컨버팅(down converting) 방식으로 내부전압(VINT)을 생성하는 회로를 예를 들어 설명하도록 하겠다.
따라서, 본 발명의 실시예에 따른 내부전압(VINT) 생성회로에는 도면에 도시된 다운 컨버팅(down converting) 방식으로 내부전압(VINT)을 생성하는 회로뿐만 아니라 차지 펌핑(charge pumping) 방식으로 내부전압(VINT)을 생성하는 회로도 포함된다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따라 반도체 소자의 내부전압(VINT)을 생성하는 과정은, 반도체 소자의 PVT(process, voltage, temperature) 변동에 상관없이 항상 예정된 타겟 레벨을 유지하는 기준전압(VREF_INT)을 생성하기 위한 밴드 갭 기준전압 발생부(240)와, 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 예정된 타겟레벨에 대응하는 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨보다 낮아지는 구간에서 내부전압(VINT)단을 풀 업 구동하기 위한 제1전압구동부(200, 220), 및 외부클록(CLK)의 주파수에 대응하는 주기마다 예정된 시간동안 내부전압(VINT)단을 풀 업 구동하기 위한 제2전압구동부(280, 290)를 포함한다.
여기서, 제1전압구동부(200, 220)는, 예정된 타겟레벨에 대응하는 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨을 기준으로 내부전압(VINT)단의 레벨을 검출하고, 검출결과에 따라 변동하는 활성화구간을 갖는 제1구동제어펄스(DRIVING_CONB1)를 생성하기 위한 전위레벨 검출부(202)와, 제1구동제어펄스(DRIVING_CON1)에 응답하여 내부전압(VINT)단을 풀 업 구동하기 위한 제1내부전압 구동부(220)를 구비한다.
그리고, 제2전압구동부(280, 290)는, 외부클록(CLK)의 주파수를 감지하고, 감지결과에 대응하여 변동하는 주기마다 예정된 활성화구간을 갖는 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)를 생성하기 위한 주파수 감지부(280), 및 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)에 응답하여 내부전압(VINT)단을 풀 업 구동하기 위한 제2내부전압 구동부(290)을 구비한다.
이때, 전술한 바와 같은 과정을 통해 생성된 내부전압(VINT)은 반도체 소자의 내부회로(260)로 입력되어 예정된 내부동작을 수행하는데 사용된다.
구체적으로, 제1전압구동부(200, 220)의 구성요소 중 전위레벨 검출부(202)는, 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨보다 낮아지는 구간에서 제1구동제어펄스(DRIVING_CONB1)를 활성화시키고, 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨보다 높아지는 구간에서 제1구동제어펄스(DRIVING_CONB1)를 비활성화시킨다.
따라서, 제1구동제어펄스(DRIVING_CONB1)의 활성화구간 시점이나 활성화구간 길이는 예정된 값을 가지는 것이 아니라, 내부회로(260)가 예정된 내부동작을 수행함으로써 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨보다 낮아지는 순간에 활성화되어 제1내부전압 구동부(220)가 내부전압(VINT)단을 풀 업 구동을 수행할 수 있도록 해주고, 제1내부전압 구동부(220)의 풀 업 구동동작으로 인해 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨보다 높아지는 순간에 비활성화되어 제1내부전압 구동부(220)의 풀 업 구동동작을 정지시킨다.
그리고, 제2전압구동부(280, 290)의 구성요소 중 주파수 감지부(280)는, 외부클록(CLK)이 예정된 횟수만큼 토글링하는 것에 응답하여 제2구동제어펄 스(DRIVING_CONB2)를 활성화시키고, 활성화된 이후 예정된 시간이 흐르면 비활성화시킨다.
즉, 외부클록(CLK)의 한 주기(tCK)가 예정된 횟수만큼 반복될 때마다 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)를 활성화시키고, 활성화되었던 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)는 예정된 시간이 흐르면 자동으로 비활성화된다.
이때, 외부클록(CLK)의 주파수가 상대적으로 높은 상태라서 외부클록(CLK)의 한 주기(tCK)가 상대적으로 짧은 상태이면, 외부클록(CLK)의 예정된 횟수만큼 토글링하는데 필요한 시간이 상대적으로 짧아지게 된다. 이때에는, 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)가 활성화된 이후 다시 활성화되기까지 걸리는 시간이 상대적으로 짧아지게 된다.
반면에, 외부클록(CLK)의 주파수가 상대적으로 낮은 상태라서 외부클록(CLK)의 한 주기(tCK)가 상대적으로 긴 상태이면, 외부클록(CLK)의 예정된 횟수만큼 토글링하는데 필요한 시간이 상대적으로 길어지게 된다. 이때에는, 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)가 활성화된 이후 다시 활성화되기까지 걸리는 시간이 상대적으로 길어지게 된다.
예를 들어, 외부클록(CLK)이 16번 토글링할 때마다 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)가 활성화된다고 하면, 외부클록(CLK)의 주파수가 1 기가헤르츠(GHz)라고 하면, 외부클록(CLK)의 한 주기(tCK)는 1 나노세컨드(ns)가 되고, 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)는 16 나노세컨드(ns)마다 활성화된다.
똑같이 외부클록(CLK)이 16번 토글링할 때마다 제2구동제어펄 스(DRIVING_CONB2)가 활성화된다고 하여도, 외부클록(CLK)의 주파수가 250 메가헤르츠(MHz)라고 하면, 외부클록(CLK)의 한 주기(tCK)는 4 나노세컨드(ns)가 되고, 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)는 64 나노세컨드(ns)마다 활성화된다.
따라서, 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB)의 활성화구간 시점은 외부클록(CLK)의 주파수에 따라 예측할 수 있고, 활성화구간 길이 또한 미리 결정되어 있는 값이므로, 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB)는 내부회로(260)의 동작이나 내부전압(VINT)단의 전위레벨과 상관없이 외부클록(CLK)의 주파수에 대응하여 변화하는 주기마다 활성화되어 제2내부전압 구동부(290)가 내부전압(VINT)단을 풀 업 구동을 수행할 수 있도록 해주고, 예정된 시간이 흐르면 비활성화되어 제2내부전압 구동부(290)의 풀 업 구동동작을 정지시킨다.
도 3은 도 2에 도시된 본 발명의 실시예에 따라 반도체 소자의 내부전압(VINT)을 생성하는 과정 중 주파수 감지부를 상세히 도시한 블록 다이어그램이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 주파수 감지부(280)는, 외부클록(CLK)을 버퍼링하여 출력하되, 동작제어신호(ENABLE)에 응답하여 그 동작이 온/오프(On/Off) 제어되는 버퍼링부(282)와, 버퍼링부(282)의 출력클록(BUF_CLK)을 예정된 배수로 분주하여 출력하기 위한 주파수 분주부(284), 및 주파수 분주부(284)에서 출력되는 클록(DIV_CLK)의 에지마다 예정된 활성화구간을 갖는 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)를 생성하기 위한 펄스 생성부(280)를 구비한다. 또한, 주파수 감지부(280)는, 동작제어신호(ENABLE)에 응답하여 주파수 분주부(284) 및 펄스 생성부(280)를 리셋(reset) 시키기 위한 리셋 제어부(288)를 더 구비한다.
도 4a는 도 3에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 주파수 감지부의 구성요소 중 버퍼링부를 상세히 도시한 회로도이다.
도 4a를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 주파수 감지부(280)의 구성요소 중 버퍼링부(282)는, 외부클록(CLK)과 동작제어신호(ENABLE)를 입력받아 부정논리곱하여 출력하기 위한 낸드게이트(NAND)와 낸드게이트(NAND)의 출력신호를 입력받아 위상을 반전하여 버퍼링 클록(BUF_CLK)로서 출력하기 위한 인버터(INV)를 구비한다.
즉, 버퍼링부(282)는, 동작제어신호(ENABLE)가 로직'하이'(High)로 활성화된 상태일 때에만 외부클록(CLK)을 버퍼링하여 버퍼링 클록(BUF_CLK)로서 출력하고, 동작제어신호(ENABLE)가 로직'로우'(Low)로 비활성화된 상태에서는 외부클록(CLK)을 버퍼링하지 않는다.
이때, 동작제어신호(ENABLE)는 반도체 소자의 파워다운모드(power down mode) 진입 상태에 따라 그 논리레벨이 변동하는 클록 인에이블 신호(clock enable : CKE)가 될 수도 있고, 반도체 소자의 데이터 입/출력 동작에 따라 그 논리레벨이 변동하는 컬럼 인에이블 신호(column enable)일 수도 있다.
예를 들어, 동작제어신호(ENABLE)가 클록 인에이블 신호(CKE)와 동일한 신호가 되면, 반도체 소자가 파워다운모드(power down mode)에 진입(entry)하게 되면 외부클록(CLK)을 버퍼링하지 않고, 반도체 소자가 파워다운모드(power down mode)에서 탈출(exit)하게 되면 외부클록(CLK)을 버퍼링한다.
마찬가지로, 동작제어신호(ENABLE)가 컬럼 인에이블 신호(column enable)와 동일한 신호가 되면, 반도체 소자로 리드 커맨드(RD)나 라이트 커맨드(WR)가 인가되어 데이터 입/출력 동작이 수행되는 도중에는 외부클록(CLK)을 버퍼링하고, 데이터 입/출력 동작이 수행되지 않는 상태에서는 외부클록(CLK)을 버퍼링하지 않는다.
도 4b는 도 3에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 주파수 감지부의 구성요소 중 주파수 분주부를 상세히 도시한 회로도이다.
참고로, 본 발명의 실시예에 따른 주파수 분주부(284)에는 도 4b에 도시된 것과 같은 회로가 다수개 구비되어 시리얼(serial)하게 연결되어 있다.
예를 들면, 도 4b에는 버퍼링 클록(BUF_CLK)에 응답하여 버퍼링 클록(BUF_CLK)한 주기(tCK)보다 2배 긴 한 주기(tCK)를 갖는 2배 분주클록(DIV_CLK(2))을 출력하는 것만 도시되어 있는데, 본 발명의 실시예에 따른 주파수 분주부(284)에는 도 4b에 도시된 것과 동일한 구성을 갖되, 2배 분주클록(DIV_CLK(2))의 한 주기(tCK)보다 2배 긴 한 주기(tCK)를 가짐으로써 버퍼링 클록(BUF_CLK)한 주기(tCK)보다 4배 긴 한 주기(tCK)를 갖는 4배 분주클록(DIV_CLK(3))을 출력하는 회로도 포함될 수 있고, 4배 분주클록(DIV_CLK(3))의 한 주기(tCK)보다 2배 긴 한 주기(tCK)를 가짐으로써 버퍼링 클록(BUF_CLK)한 주기(tCK)보다 8배 긴 한 주기(tCK)를 갖는 8배 분주클록(DIV_CLK(4))을 출력하는 회 로도 포함될 수 있으며, 이를 정리하면, 2N-1배 분주클록(DIV_CLK(N-1))의 한 주기보다 2배 긴 한 주기(tCK)를 가짐으로써 버퍼링 클록(BUF_CLK)의 한 주기(tCK)보다 2N배 긴 한 주기(tCK)를 갖는 2N배 분주클록(DIV_CLK(N))을 출력하는 회로도 포함될 수 있다.
도 4b를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 주파수 감지부(280)의 구성요소 중 주파수 분주부(284)의 상세회로가 이미 공지된 일반적인 회로라는 것을 알 수 있다. 즉, 본 발명의 실시예에 따른 주파수 감지부(280)의 구성요소 중 주파수 분주부(284)는 입력받은 주파수를 예정된 배수만큼 분주할 수 있는 회로라면 어떠한 회로든 적용가능하다.
도 4b에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 주파수 감지부(280)의 구성요소 중 주파수 분주부(284)의 동작을 간단히 설명하면 다음과 같다.
버퍼링 클록(BUF_CLK)이 로직'하이'(High)로 활성화된 상태에서 결정된 2배 분주클록(DIV_CLK(2))의 논리레벨을 버퍼링 클록(BUF_CLK)이 로직'로우'(Low)로 비활성화된 상태에서도 그대로 유지하게 하고, 2배 분주클록(DIV_CLK(2))이 오실레이팅(oscillating) 하도록 제어함으로써, 버퍼링 클록(BUF_CLK)의 두 주기(2tCK)가 2배 분주클록(DIV_CLK(2))의 한 주기(tCK)가 될 수 있도록 해준다.
또한, 리셋 제어부(288)에서 출력되는 리셋 신호(RESETB)가 로직'로우'(Low)로 활성화되면 모든 동작이 초기화되어 버린다.
도 4c는 본 발명의 실시예에 따른 주파수 감지부의 구성요소 중 펄스 생성부를 상세히 도시한 회로도이다.
도 4c를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 주파수 감지부(280)의 구성요소 중 펄스 생성부(286)는, 주파수 감지부(280)의 구성요소 중 주파수 분주부(284)에서 출력되는 N배 분주클록(DIV_CLK(N))의 에지(edge)를 감지하기 위한 클록에지 감지부(2862), 및 클록에지 감지부(2862)의 출력신호(EG_SENS_PUL)에 응답하여 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)를 예정된 시간동안 활성화시켜 출력하기 위한 펄스 출력부(2864)를 구비한다.
여기서, 클록에지 감지부(2862)는, N배 분주클록(DIV_CLK(N))을 입력받아 예정된 제1시간만큼 지연하기고, 그 위상을 반전하여 출력하기 위한 제1지연소자(DELAY1), 및 N배 분주클록(DIV_CLK(N))과 제1지연소자(DELAY1)의 출력클록을 입력받아 부정논리곱하여 클록에지 감지펄스(EG_SENS_PUL)로서 출력하기 위한 제1낸드게이트(NAND1)를 구비한다.
이때, 도면에 도시된 클록에지 감지부(2862)를 동작시키게 되면, N배 분주클록(DIV_CLK(N))의 상승에지(rising edge)에 응답하여 토글링하는 클록에지 감지펄스(EG_SENS_PUL)를 출력한다.
하지만, 본 발명의 실시예에 따른 클록에지 감지부(2862)는, N배 분주클록(DIV_CLK(N))의 하강에지(falling edge)에 응답하여 토글링하는 클록에지 감지펄스(EG_SENS_PUL)를 출력하는 경우와, N배 분주클록(DIV_CLK(N))의 상승에지(rising edge) 및 하강에지(falling edge)에 각각 응답하여 토글링하는 클록에지 감지펄 스(EG_SENS_PUL)를 출력하는 경우도 포함한다.
그리고, 펄스 출력부(2864)는, 피드백 펄스(FEEDBACK_PUL)에 응답하여 클록에지 감지펄스(EG_SENS_PUL)에 대응하는 펄스(LAT_EG_SENS_PUL)을 래치하기 위한 제2낸드게이트(NAND2) 및 제3낸드게이트(NAND3)와, 클록에지 감지펄스(EG_SENS_PUL)에 대응하는 펄스(LAT_EG_SENS_PUL)를 입력받아 예정된 제2시간만큼 지연하기고, 그 위상을 반전하여 출력하기 위한 제2지연소자(DELAY2), 및 클록에지 감지펄스(EG_SENS_PUL)에 대응하는 펄스(LAT_EG_SENS_PUL)과 제2지연소자(DELAY2)의 출력클록을 입력받아 부정논리곱하여 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)로서 출력하기 위한 제4낸드게이트(NAND4)를 구비한다.
구체적으로, 펄스 출력부(2864)로 입력되는 클록에지 감지펄스(EG_SENS_PUL)가 로직'하이'(High)에서 로직'로우'(Low)로 천이하는 순간에, 클록에지 감지펄스(EG_SENS_PUL)에 대응하는 펄스(LAT_EG_SENS_PUL)는 로직'로우'(Low)에서 로직'하이'(High)로 활성화되지만, 제2지연소자(DELAY2)로 인해 제2시간동안 피드백 펄스(FEEDBACK_PUL)가 로직'하이'(High) 상태를 그대로 유지하므로 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)는 로직'하이'(High)에서 로직'로우'(Low)로 활성화되어, 제2지연소자(DELAY2)에 대응하는 제2시간동안 활성화상태를 유지한다.
이때, 펄스 출력부(2864)로 입력되는 클록에지 감지펄스(EG_SENS_PUL)가 로직'로우'(Low)에서 로직'하이'(High)로 천이하더라도 제2시간이 흐르기 전이라서 피드백 펄스(FEEDBACK_PUL)가 로직'하이'(High) 상태를 그대로 유지하는 상태이면, 제2낸드게이트(NAND2) 및 제3낸드게이트(NAND3)가 래칭 동작을 하는 중이므로 클록 에지 감지펄스(EG_SENS_PUL)에 대응하는 펄스(LAT_EG_SENS_PUL)는 로직'하이'(High)로 활성화된 상태를 계속 유지한다.
이러한 상태에서, 클록에지 감지펄스(EG_SENS_PUL)에 대응하는 펄스(LAT_EG_SENS_PUL)는 로직'로우'(Low)에서 로직'하이'(High)로 활성화된 이후 제2시간이 흘러 피드백 펄스(FEEDBACK_PUL)가 로직'하이'(High)에서 로직'로우'(Low)로 천이하게 되면, 그에 따라 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)는 로직'로우'(Low)에서 로직'하이'(High)로 비활성화된다.
이때, 펄스 출력부(2864)로 입력되는 클록에지 감지펄스(EG_SENS_PUL)가 로직'로우'(Low)에서 로직'하이'(High)로 천이된 상태이면, 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)는 로직'로우'(Low)에서 로직'하이'(High)로 비활성화되는 것과 거의 동시 - 아주 약간 늦게 - 에 제2낸드게이트(NAND2) 및 제3낸드게이트(NAND3)의 래칭 동작이 종료되어 클록에지 감지펄스(EG_SENS_PUL)에 대응하는 펄스(LAT_EG_SENS_PUL)가 로직'로우'(Low)로 비활성화된다.
그리고, 리셋 제어부(288)에서 출력되는 리셋 신호(RESETB)가 로직'로우'(Low)로 활성화되어 입력되면, 제2낸드게이트(NAND2) 및 제3낸드게이트(NAND3)의 래칭 동작이 무조건 종료되어 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB2)는 무조건 로직'하이'(High)의 초기상태로 천이된다.
도 5는 도 3에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 주파수 감지부에서 입/출력되는 신호를 도시한 타이밍 다이어그램이다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 주파수 감지부(280)로 입력되는 신호는 외부클록(CLK)을 버퍼링하여 생성하므로 클록에지가 외부클록(CLK)과 동기된 상태의 버퍼링 클록(BUF_CLK)이 있고, 출력되는 신호는 제2내부전압 구동부(290)의 풀 업 구동 동작을 온/오프(On/Off) 제어하기 위한 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB)가 있다.
구체적으로, 외부클록(CLK)과 동기된 상태의 버퍼링 클록(BUF_CLK)이 제1주파수를 가질 때, 2배 분주클록(DIV_CLK(2))은 제1주파수를 1/2 으로 나눈 제2주파수를 가지게 되고, 4배 분주클록(DIV_CLK(4))은 제1주파수를 1/4 로 제2주파수를 1/2 로 나눈 제3주파수를 가지게 되며, 8배 분주클록(DIV_CLK(8))은 제1주파수를 1/8 로 제2주파수를 1/4 로 제3주파수를 1/2로 나눈 제4주파수를 가지게 된다는 것을 알 수 있다.
또한, 상기와 같이 계속 진행되어 주파수 감지부(280)의 구성요소 중 주파수 분주부(284)에서 출력되는 N배 분주클록(DIV_CLK(N))은 제1주파수를 1/2N 로 나눈 제N주파수를 가지게 된다는 것을 알 수 있다.
이렇게, 주파수 감지부(280)의 구성요소 중 주파수 분주부(284)에서 출력되는 N배 분주클록(DIV_CLK(N))이 생성되면, 또 다른 구성요소인 펄스 생성부(286)는, N배 분주클록(DIV_CLK(N))의 클록에지에 응답하여 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB)를 로직'로우'(Low)로 활성화시키는 것을 알 수 있다.
그리고, 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB)의 경우 로직'로우'(Low)로 활성화가 된 시점에서 예정된 시간이 흐르게 되면, 자동으로 로직'하이'(High)로 비활성화되는 것을 알 수 있다.
또한, 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB)가 로직'로우'(Low)로 활성화되는 구간은 제2전압구동부(280, 290)가 내부전압(VINT)단을 풀 업 구동하는 구간이고, 제2구동제어펄스(DRIVING_CONB)가 로직'하이'(High)로 비활성화되는 구간은 제2전압구동부(280, 290)가 내부전압(VINT)단을 풀 업 구동하지 않는 구간인 것을 알 수 있다.
그리고, 도면에 직접적으로 도시되지는 않았지만, 제1전압구동부(200, 220)는, 제2전압구동부(280, 290)의 동작과는 별개로 내부전압(VINT)단의 전위레벨에 따라 수시로 내부전압(VINT)단을 풀 업 구동한다.
이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명의 실시예를 적용하면, 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 변동하는 것에 대응하여 내부전압(VINT)단을 구동하기 위한 제1전압구동부(200, 220)를 그대로 구비한 상태에서, 내부전압(VINT)단의 전위레벨 변동과 상관없이 외부클록(CLK)의 주파수에 대응하여 변동하는 주기로 내부전압(VINT)단을 구동하기 위한 제2전압구동부(280, 290)를 추가로 더 구비함으로써, 외부클록(CLK)의 주파수가 변동하더라도, 특히, 외부클록(CLK)의 주파수가 높아지더라도 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 기준전압(VREF_INT)의 전위레벨을 기준으로 상승했다 하강했다 하는 레벨 폭이 커지는 것을 방지할 수 있다.
즉, 외부클록(CLK)의 주파수가 높아지더라도 그에 대응하여 제2전압구동부(280, 290)가 자동으로 내부전압(VINT)단을 적절히 구동해 주기 때문에 내부전 압(VINT)단의 전위레벨이 불안정하게 스윙하는 것을 방지할 수 있다.
이로 인해, 외부클록(CLK)의 주파수가 변동하더라도 내부전압(VINT)단의 전위레벨의 변동폭이 증가하지 않으므로, 제1전압구동부(200, 220)의 설계를 변경할 필요가 없기 때문에 외부클록(CLK) 주파수가 변동에 대해 반도체 소자의 구성 및 동작이 크게 변경될 필요가 없다. 즉, 반도체 소자를 개발하는데 있어서 주파수가 변동에 대해 유연하게 대처할 수 있으므로 개발시간 단축을 통한 비용절감 효과를 기대할 수 있다.
또한, 외부클록(CLK)의 주파수가 변동하더라도 내부전압(VINT)단의 전위레벨의 변동폭이 증가하지 않으므로, 내부전압(VINT)단의 전위레벨이 예정된 변동 범위를 벗어나는 것을 검출하는 동작의 횟수를 빈번하게 할 필요가 없다. 따라서, 검출하는 동작으로 인해 소모되는 전류량을 최소화할 수 있다.
또한, 제2전압구동부(280, 290)의 동작을 제어하기 위한 동작제어신호(ENABLE)를 적절히 조절함으로써 제2전압구동부(280, 290)가 동작되는 구간이 내부회로(260)에서 내부전압(VINT)이 상대적으로 많이 사용되는 동작되는 구간으로 한정되도록 할 수 있다.
예를 들면, 데이터 입/출력 동작이 활발하게 발생하는 컬럼 인에이블 신호(column enable)의 활성화구간에서만 제2전압구동부(280, 290)가 동작하도록 하고, 나머지 구간에서는 제2전압구동부(280, 290)가 동작하지 않도록 함으로써 불필요한 동작으로 인해 소모되는 전류량을 최소화할 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에게 있어 명백할 것이다.
예컨대, 전술한 실시예에서 예시한 논리 게이트 및 트랜지스터는 입력되는 신호의 극성에 따라 그 위치 및 종류가 다르게 구현되어야 할 것이다.
도 1은 종래기술에 따라 반도체 소자의 내부전압을 생성하는 과정을 도시한 블록 다이어그램.
도 2는 본 발명의 실시예에 따라 반도체 소자의 내부전압을 생성하는 과정을 도시한 블록 다이어그램.
도 3은 도 2에 도시된 본 발명의 실시예에 따라 반도체 소자의 내부전압(VINT)을 생성하는 과정 중 주파수 감지부를 상세히 도시한 블록 다이어그램.
도 4a는 도 3에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 주파수 감지부의 구성요소 중 버퍼링부를 상세히 도시한 회로도.
도 4b는 도 3에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 주파수 감지부의 구성요소 중 주파수 분주부를 상세히 도시한 회로도.
도 4c는 본 발명의 실시예에 따른 주파수 감지부의 구성요소 중 펄스 생성부를 상세히 도시한 회로도.
도 5는 도 3에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 주파수 감지부에서 입/출력되는 신호를 도시한 타이밍 다이어그램.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
100, 200 : 전위레벨 검출부 120 : 내부전압 구동부
220 : 제1내부전압 구동부
140, 240 : 밴드 갭 기준전압 발생부 160, 260 : 내부회로
280 : 주파수 감지부 290 : 제2내부전압 구동부
282 : 버퍼링부 284 : 주파수 분주부
286 : 펄스 생성부 288 : 리셋 제어부
2862 : 클록에지 감지부 2864 : 펄스 출력부

Claims (25)

  1. 내부전압단의 전위레벨이 예정된 타겟레벨보다 낮아지는 구간에서 상기 내부전압단을 풀 업 구동하기 위한 제1전압구동수단; 및
    외부클록의 주파수에 대응하는 주기마다 예정된 시간동안 상기 내부전압단을 풀 업 구동하기 위한 제2전압구동수단
    을 구비하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1전압구동수단은,
    상기 예정된 타겟레벨을 기준으로 상기 내부전압단의 전위레벨을 검출하기 위한 전위레벨 검출부; 및
    상기 전위레벨 검출부의 출력신호에 응답하여 상기 내부전압단을 풀 업 구동하기 위한 구동부를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제2전압구동수단은,
    상기 외부클록의 주파수를 감지하고, 감지결과에 대응하여 변동하는 주기마다 예정된 활성화구간을 갖는 감지펄스를 생성하기 위한 주파수 감지부; 및
    상기 감지펄스에 응답하여 상기 내부전압단을 풀 업 구동하기 위한 구동부를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 주파수 감지부는,
    상기 외부클록을 버퍼링하여 출력하되, 동작제어신호에 응답하여 동작이 온/오프(On/Off) 제어되는 버퍼링부;
    상기 버퍼링부의 출력클록을 예정된 배수로 분주하여 출력하기 위한 주파수 분주부; 및
    상기 주파수 분주부에서 출력되는 클록의 에지마다 예정된 활성화구간을 갖는 상기 감지펄스를 생성하기 위한 감지펄스 생성부를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 주파수 감지부는,
    상기 동작제어신호에 응답하여 상기 주파수 분주부 및 상기 감지펄스 생성부 를 리셋(reset) 시키기 위한 리셋 제어부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서,
    상기 동작제어신호는 클록 인에이블 신호인 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  7. 제4항 또는 제5항에 있어서,
    상기 동작제어신호는 컬럼 인에이블 신호인 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  8. 제4항에 있어서,
    상기 감지펄스 생성부는,
    상기 주파수 분주부에서 출력되는 클록의 에지를 감지하기 위한 클록에지 감지부; 및
    상기 클록에지 감지부의 출력신호에 응답하여 상기 감지펄스를 예정된 시간동안 활성화시켜 출력하기 위한 감지펄스 출력부를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 클록에지 감지부는,
    상기 주파수 분주부에서 출력되는 클록의 상승에지(rising edge)에 응답하여 토글링하는 상승에지 감지신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 클록에지 감지부는,
    상기 주파수 분주부에서 출력되는 클록의 하강에지(falling edge)에 응답하여 토글링하는 하강에지 감지신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 클록에지 감지부는,
    상기 주파수 분주부에서 출력되는 클록의 상승에지(rising edge) 및 하강에 지(falling edge)에 각각 응답하여 토글링하는 클록에지 감지신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  12. 예정된 타겟레벨을 기준으로 내부전압단의 전위레벨을 검출하고, 검출결과에 따라 변동하는 활성화구간을 갖는 제1구동제어펄스를 생성하기 위한 제1구동제어펄스 생성수단;
    상기 제1구동제어펄스에 응답하여 상기 내부전압단을 풀 업 구동하기 위한 제1구동수단;
    외부클록의 주파수에 대응하는 주기마다 예정된 활성화구간을 갖는 제2구동제어펄스를 생성하기 위한 제2구동제어펄스 생성수단; 및
    상기 제2구동제어펄스에 응답하여 상기 내부전압단을 풀 업 구동하기 위한 제2구동수단
    을 구비하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제1구동제어펄스 생성수단은,
    상기 내부전압단의 전위레벨이 상기 예정된 타겟레벨보다 낮아지는 구간에서 상기 제1구동제어펄스를 활성화시키고, 상기 내부전압단의 전위레벨이 상기 예정된 타겟레벨보다 높아지는 구간에서 상기 제1구동제어펄스를 비활성화시키는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제1구동수단은,
    상기 제1구동제어펄스의 활성화구간에서 예정된 제1구동력으로 상기 내부전압단을 풀 업 구동하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  15. 제12항에 있어서,
    상기 제2구동제어펄스 생성수단은,
    상기 외부클록이 예정된 횟수만큼 토글링하는 것에 응답하여 상기 제2구동제어펄스를 예정된 시간동안 활성화시키는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 제2구동수단은,
    상기 외부클록의 활성화구간에서 예정된 제2구동력으로 상기 내부전압단을 풀 업 구동하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  17. 제12항에 있어서,
    상기 제2구동제어펄스 생성수단은,
    상기 외부클록을 버퍼링하여 출력하되, 동작제어신호에 응답하여 동작이 온/오프(On/Off) 제어되는 버퍼링부;
    상기 버퍼링부의 출력클록을 예정된 배수로 분주하여 출력하기 위한 주파수 분주부; 및
    상기 주파수 분주부에서 출력되는 클록의 에지마다 상기 제2구동제어펄스가 예정된 활성화구간을 갖도록 하여 출력하는 제2구동제어펄스 출력부를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 제2구동제어펄스 생성수단은,
    상기 동작제어신호에 응답하여 상기 주파수 분주부 및 상기 제2구동제어펄스 출력부를 리셋(reset) 시키기 위한 리셋 제어부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  19. 제17항에 있어서,
    상기 제2구동제어펄스 출력부는,
    상기 주파수 분주부에서 출력되는 클록의 에지를 감지하기 위한 클록에지 감지부; 및
    상기 클록에지 감지부의 출력신호에 응답하여 상기 제2구동제어펄스를 활성화시키고, 예정된 시간이 흐른 후에 비활성화시키기 위한 제2구동제어펄스 구간결정부를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  20. 내부전압단의 전위레벨에 따라 선택적으로 상기 내부전압단을 풀 업 구동하는 단계;
    외부클록의 주파수에 따라 상기 내부전압단을 풀 업 구동하는 단계
    를 포함하는 반도체 소자의 내부전압 생성방법.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 내부전압단의 전위레벨에 따라 구동하는 단계는,
    예정된 타겟 레벨을 기준으로 상기 내부전압단의 전위레벨을 검출하고, 검출 결과에 따라 활성화시점 및 비활성화시점이 변경되는 검출펄스를 생성하는 단계; 및
    상기 검출펄스에 응답하여 선택적으로 내부전압단을 풀 업 구동하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  22. 제21항에 있어서,
    상기 검출펄스를 생성하는 단계는,
    상기 내부전압단의 전위레벨이 상기 예정된 타겟 레벨보다 낮아지는 시점에서 상기 검출펄스를 활성화시키는 단계; 및
    상기 내부전압단의 전위레벨이 상기 예정된 타겟 레벨보다 높아지는 시점에서 상기 검출펄스를 비활성화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  23. 제22항에 있어서,
    상기 선택적으로 구동하는 단계는,
    상기 검출펄스의 활성화구간에서 상기 내부전압단을 풀 업 구동하는 단계; 및
    상기 검출펄스의 비활성화구간에서 상기 내부전압단을 구동하지 않는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성방법.
  24. 제20항에 있어서,
    상기 외부클록의 주파수에 따라 구동하는 단계는,
    상기 외부클록의 주파수를 감지하고, 감지결과에 대응하는 주기마다 예정된 시간동안 활성화되는 감지펄스를 생성하는 단계; 및
    상기 감지펄스에 응답하여 선택적으로 내부전압단을 풀 업 구동하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성회로.
  25. 제24항에 있어서,
    상기 선택적으로 구동하는 단계는,
    상기 감지펄스의 활성화구간에서 상기 내부전압단을 풀 업 구동하는 단계; 및
    상기 감지펄스의 비활성화구간에서 상기 내부전압단을 구동하지 않는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 내부전압 생성방법.
KR1020080038293A 2008-04-24 2008-04-24 반도체 소자의 내부전압 생성회로 KR100937939B1 (ko)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080038293A KR100937939B1 (ko) 2008-04-24 2008-04-24 반도체 소자의 내부전압 생성회로
US12/164,163 US7764110B2 (en) 2008-04-24 2008-06-30 Internal voltage generating circuit of semiconductor device
TW097125827A TWI369842B (en) 2008-04-24 2008-07-09 Internal voltage generating circuit of semiconductor device and method thereof
JP2009098954A JP2009268091A (ja) 2008-04-24 2009-04-15 半導体素子の内部電圧生成回路及び内部電圧生成方法
US12/815,075 US8040177B2 (en) 2008-04-24 2010-06-14 Internal voltage generating circuit of semiconductor device
US13/274,644 US8299846B2 (en) 2008-04-24 2011-10-17 Internal voltage generating circuit of semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080038293A KR100937939B1 (ko) 2008-04-24 2008-04-24 반도체 소자의 내부전압 생성회로

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090112412A true KR20090112412A (ko) 2009-10-28
KR100937939B1 KR100937939B1 (ko) 2010-01-21

Family

ID=41214402

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080038293A KR100937939B1 (ko) 2008-04-24 2008-04-24 반도체 소자의 내부전압 생성회로

Country Status (4)

Country Link
US (3) US7764110B2 (ko)
JP (1) JP2009268091A (ko)
KR (1) KR100937939B1 (ko)
TW (1) TWI369842B (ko)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100937939B1 (ko) * 2008-04-24 2010-01-21 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자의 내부전압 생성회로
KR101004677B1 (ko) * 2008-12-30 2011-01-04 주식회사 하이닉스반도체 내부 전원 전압 생성 회로 및 내부 전원 전압 생성 방법
US20100171547A1 (en) * 2009-01-07 2010-07-08 Fang Emerson S Pseudo bandgap voltage reference circuit
KR101003153B1 (ko) * 2009-05-15 2010-12-21 주식회사 하이닉스반도체 전압 안정화 회로 및 이를 이용한 반도체 메모리 장치
KR101080208B1 (ko) 2010-09-30 2011-11-07 주식회사 하이닉스반도체 내부전압 발생회로 및 그를 이용한 반도체 장치
JP5974494B2 (ja) 2012-01-19 2016-08-23 富士通セミコンダクター株式会社 半導体記憶装置の内部電圧生成回路
CN106710630A (zh) * 2016-12-30 2017-05-24 合肥恒烁半导体有限公司 适用nor闪存芯片的分散式高压电荷泵
KR102471531B1 (ko) * 2017-12-21 2022-11-28 에스케이하이닉스 주식회사 저속 동작 환경에서 고속 테스트를 수행할 수 있는 반도체 장치 및 시스템
US11144081B2 (en) * 2019-10-14 2021-10-12 Himax Technologies Limited Bandgap voltage generating apparatus and operation method thereof
JP7018095B2 (ja) * 2020-07-07 2022-02-09 華邦電子股▲ふん▼有限公司 電源制御回路
US20230253017A1 (en) * 2022-02-10 2023-08-10 Globalfoundries U.S. Inc. Bias voltage generation circuit for memory devices

Family Cites Families (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0447591A (ja) * 1990-06-14 1992-02-17 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
US5442314A (en) * 1991-11-22 1995-08-15 Nec Corporation CMOS circuit for generating voltage related to transistor gate length
JP2925422B2 (ja) * 1993-03-12 1999-07-28 株式会社東芝 半導体集積回路
JP3705842B2 (ja) * 1994-08-04 2005-10-12 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
JPH08153388A (ja) * 1994-11-28 1996-06-11 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
KR0172234B1 (ko) * 1995-03-24 1999-03-30 김주용 셀프 리프레쉬 주기 조절장치
JP4036487B2 (ja) * 1995-08-18 2008-01-23 株式会社ルネサステクノロジ 半導体記憶装置、および半導体回路装置
JP2806324B2 (ja) * 1995-08-25 1998-09-30 日本電気株式会社 内部降圧回路
JP3627116B2 (ja) * 1996-01-22 2005-03-09 株式会社ルネサステクノロジ 半導体集積回路及び半導体集積回路装置
KR100232895B1 (ko) * 1996-12-31 1999-12-01 김영환 센스앰프 인에이블 신호 발생 장치
JPH10228769A (ja) * 1997-02-14 1998-08-25 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JPH10269768A (ja) * 1997-03-26 1998-10-09 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路
US5959502A (en) * 1997-08-15 1999-09-28 Texas Instruments Incorporated Analog phase-locked loop including voltage regulator
JP4074697B2 (ja) * 1997-11-28 2008-04-09 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
KR100264206B1 (ko) * 1997-12-26 2000-08-16 김영환 내부전압 발생장치
KR19990069536A (ko) * 1998-02-10 1999-09-06 윤종용 전압 강하 회로 및 이를 이용한 내부전원전압레벨 제어방법
JPH11238379A (ja) * 1998-02-19 1999-08-31 Oki Electric Ind Co Ltd 電源回路およびクロック信号検出回路
JP4274597B2 (ja) * 1998-05-29 2009-06-10 株式会社ルネサステクノロジ 半導体集積回路装置
KR100381966B1 (ko) * 1998-12-28 2004-03-22 주식회사 하이닉스반도체 반도체메모리장치및그구동방법
JP4114291B2 (ja) * 1999-01-20 2008-07-09 ソニー株式会社 半導体装置およびその構成方法
US6477079B2 (en) * 1999-05-18 2002-11-05 Kabushiki Kaisha Toshiba Voltage generator for semiconductor device
KR100331547B1 (ko) * 1999-06-01 2002-04-06 윤종용 레지스터의 저장값에 따라 리프레쉬 사이클을 조정하는 리프레쉬 제어 회로 및 이를 구비하는 동적 메모리 장치의 리프레쉬 방법
EP1149461A1 (en) * 1999-10-28 2001-10-31 Koninklijke Philips Electronics N.V. Device for providing a supply voltage
JP2001154844A (ja) * 1999-11-30 2001-06-08 Nec Corp シングルチップマイクロコンピュータ
KR100328556B1 (ko) * 1999-12-23 2002-03-15 박종섭 셀프 리프레쉬 제어장치
TW527601B (en) * 2000-01-31 2003-04-11 Fujitsu Ltd Internal supply voltage generating circuit in a semiconductor memory device and method for controlling the same
JP2002334577A (ja) * 2001-05-07 2002-11-22 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
JP2004152348A (ja) * 2002-10-29 2004-05-27 Renesas Technology Corp 信号生成回路
US6996730B2 (en) * 2002-11-25 2006-02-07 Texas Instruments Incorporated Adjusting voltage supplied to a processor in response to clock frequency
US7181631B2 (en) * 2003-03-25 2007-02-20 Intel Corporation Mechanism to control an on die voltage regulator
KR100522429B1 (ko) * 2003-04-29 2005-10-20 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치 및 반도체 메모리 장치의 코아전압생성방법
KR100604818B1 (ko) * 2003-06-12 2006-07-28 삼성전자주식회사 클럭 주파수에 따라 내부 전원 전압의 구동 전류를변화시키는 메모리 장치 및 그 메모리 장치의 내부 전원전압 발생 방법
US7286002B1 (en) * 2003-12-05 2007-10-23 Cypress Semiconductor Corporation Circuit and method for startup of a band-gap reference circuit
JP2005222580A (ja) * 2004-02-03 2005-08-18 Renesas Technology Corp 半導体記憶装置
KR100574489B1 (ko) * 2004-04-12 2006-04-27 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치의 내부전압 발생회로
US7227804B1 (en) * 2004-04-19 2007-06-05 Cypress Semiconductor Corporation Current source architecture for memory device standby current reduction
KR100567916B1 (ko) * 2004-04-20 2006-04-05 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 소자의 전원 공급 장치 및 방법
KR100695419B1 (ko) * 2004-11-04 2007-03-15 주식회사 하이닉스반도체 내부전원 발생장치
KR100608373B1 (ko) * 2004-12-28 2006-08-08 주식회사 하이닉스반도체 메모리 장치의 내부전압 제어 방법
KR100657171B1 (ko) * 2005-04-29 2006-12-20 삼성전자주식회사 리프레쉬 제어회로 및 리프레쉬 제어방법
KR100721197B1 (ko) * 2005-06-29 2007-05-23 주식회사 하이닉스반도체 반도체 장치의 내부전압 발생회로
US7205829B2 (en) * 2005-07-22 2007-04-17 Infineon Technologies Ag Clocked standby mode with maximum clock frequency
US7248531B2 (en) * 2005-08-03 2007-07-24 Mosaid Technologies Incorporated Voltage down converter for high speed memory
KR101257860B1 (ko) * 2005-12-21 2013-04-24 삼성전자주식회사 계층적 성능 모니터들을 이용한 공급전압 조절장치
US7319358B2 (en) * 2005-12-29 2008-01-15 Ati Technologies Inc. Method and apparatus for generating an adaptive power supply voltage
JP2007323114A (ja) * 2006-05-30 2007-12-13 Oki Electric Ind Co Ltd レギュレータ回路
KR100718046B1 (ko) * 2006-06-08 2007-05-14 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치
US7501867B2 (en) * 2006-09-14 2009-03-10 Rambus, Inc. Power supply noise rejection in PLL or DLL circuits
KR100884340B1 (ko) * 2006-12-29 2009-02-18 주식회사 하이닉스반도체 내부전압 발생 장치
US8004348B2 (en) * 2007-02-14 2011-08-23 Nec Corporation Semiconductor circuit device controlling power source voltage
US7724078B2 (en) * 2007-03-22 2010-05-25 Intel Corporation Adjusting PLL/analog supply to track CPU core supply through a voltage regulator
JP4960179B2 (ja) * 2007-08-28 2012-06-27 ルネサスエレクトロニクス株式会社 データ処理装置、電源電圧生成回路及びその電源電圧生成方法
KR100937939B1 (ko) * 2008-04-24 2010-01-21 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자의 내부전압 생성회로
US7863944B2 (en) * 2009-03-10 2011-01-04 Texas Instruments Incorporated Passive clock detector
KR101003153B1 (ko) * 2009-05-15 2010-12-21 주식회사 하이닉스반도체 전압 안정화 회로 및 이를 이용한 반도체 메모리 장치

Also Published As

Publication number Publication date
US20120032734A1 (en) 2012-02-09
KR100937939B1 (ko) 2010-01-21
JP2009268091A (ja) 2009-11-12
US8299846B2 (en) 2012-10-30
US20100271115A1 (en) 2010-10-28
TWI369842B (en) 2012-08-01
US7764110B2 (en) 2010-07-27
TW200945745A (en) 2009-11-01
US8040177B2 (en) 2011-10-18
US20090267684A1 (en) 2009-10-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100937939B1 (ko) 반도체 소자의 내부전압 생성회로
US7663946B2 (en) Semiconductor memory device having on-die-termination device and operation method thereof
US7319361B2 (en) Internal voltage generation circuit of a semiconductor device
KR100702766B1 (ko) 안정적인 dll용 내부 전압을 생성하는 내부 전압발생기와 이를 포함하는 내부 클록 발생기 및 그 내부 전압발생 방법
US6996023B2 (en) Semiconductor memory device capable of reducing current consumption in active mode
KR100900785B1 (ko) 반도체 소자의 내부전압 발생기 및 발생방법
KR100309602B1 (ko) 전위검출회로에서의전력소비를감소시키는반도체장치
KR100790444B1 (ko) 메모리 장치
KR20080100539A (ko) 반도체 소자의 내부전압 발생기 및 발생방법
KR101020294B1 (ko) 내부전압 생성회로
JP2008070977A (ja) 電源降圧回路及び半導体装置
KR20120098169A (ko) 반도체 장치의 내부전압 생성회로
KR100665854B1 (ko) 반도체 메모리 장치에서의 파워 업 회로
KR20120004017A (ko) 동적 전압 조정 모드 판별 장치와 방법 및 이를 이용한 펌핑 전압 감지 장치와 방법
KR100705205B1 (ko) 외부 클록 신호의 펄스 폭의 변화에 무관하게 안정된 내부클록 신호를 발생하는 내부 클록 발생기 및 그 내부 클록발생 방법
KR20180047209A (ko) 레퍼런스 선택 회로
US7978536B2 (en) Semiconductor memory device and method of operating the same
KR20090027106A (ko) 내부 전압 생성 회로
KR100996192B1 (ko) 파워 업 신호 생성회로
KR100224666B1 (ko) 반도체장치의 전원제어회로
WO2014156711A1 (ja) 半導体装置
KR100799103B1 (ko) 반도체 소자
KR100604818B1 (ko) 클럭 주파수에 따라 내부 전원 전압의 구동 전류를변화시키는 메모리 장치 및 그 메모리 장치의 내부 전원전압 발생 방법
KR20060035836A (ko) 출력 인에이블 신호 발생 장치
KR100652367B1 (ko) Dll을 구비하는 반도체 메모리장치의 출력 핀을 통하여테스트 신호를 입력할 수 있는 클락 발생회로를 구비하는반도체 메모리장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121224

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee