KR20070099487A

KR20070099487A - 중축합물을 포함하는 화장 또는 약학 조성물, 상기조성물을 사용하는 화장 처리 방법, 상기 중축합물, 및그의 제조 방법

Info

Publication number: KR20070099487A
Application number: KR1020070033436A
Authority: KR
Inventors: 이방 로드리게; 롤랑 라맹; 빠스깔 기스티니아니; 게라르 말; 필립쁘 일렉티
Original assignee: 로레알
Priority date: 2006-04-04
Filing date: 2007-04-04
Publication date: 2007-10-09
Also published as: KR100847713B1; ES2344475T3; EP1844761A1; FR2899100A1; US8691193B2; US20080069786A1; JP5345762B2; JP2007277239A; EP1844761B1; DE602007006583D1; CN101088487A; FR2899100B1; BRPI0701337A; ATE468103T1; BRPI0701337B1; CN101088487B

Abstract

본 특허 출원은 하기의 반응에 의해 수득될 수 있는 중축합물을 포함하는 화장 또는 약학 조성물, 특히 네일 바니시 조성물에 관한 것이다:

- 3 내지 6 의 히드록실기를 포함하는 폴리올;

- 포화 또는 불포화 비-방향족 모노카르복실산;

- 탄소수 7 내지 11 의 방향족 모노카르복실산; 및

- 2 이상의 카르복실기 COOH 를 포함하는 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 폴리카르복실산; 및/또는 그러한 폴리카르복실산의 시클릭 무수물.

또한 본 특허 출원은 상기 조성물을 사용하는 화장 처리 방법, 그렇게 정의된 중축합물 및 상기 중축합물의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

중축합물을 포함하는 화장 또는 약학 조성물, 상기 조성물을 사용하는 화장 처리 방법, 상기 중축합물, 및 그의 제조 방법 {COSMETIC OR PHARMACEUTICAL COMPOSITION COMPRISING A POLYCONDENSATE, COSMETIC TREATMENT PROCESS USING THE SAID COMPOSITION, THE SAID POLYCONDENSATE, AND PREPARATION PROCESS THEREFOR}

본 발명은 개질된 알키드 유형의 중축합물 계열의 신규 중합체, 및 또한 화장 조성물, 특히 네일 바니시에서의 그의 용도, 이를 함유하는 화장 조성물 및 상기 중축합물의 제조 방법에 관한 것이다.

막-형성 화장 조성물 및 특히 네일 바니시 조성물은 지지체 상에 그들의 적용 및 양호한 지속력을 가능하게 하는 일정 수의 특성을 가져야만 한다.

화장 조성물은, 특히 바람직하게는 양호한 적용가능성 및 양호한 피복력; 지지체 (손톱의 표면, 또는 모발) 에 대한 양호한 접착; 바니시의 경우에서 균열 및 갈라짐을 피하기 위한 막의 일정 양의 유연성 및 양호한 강도; 광택 있는 균일한 막의 수득 가능성을 나타낸다.

네일 바니시의 분야에서, 현재 사용되는 주요 막-형성 물질은 "1차 수지" 로 공지된 막-형성 수지로, 이것은 일반적으로 니트로셀룰로오스이다. 또한 이것을 폴리비닐 수지, 예컨대 폴리비닐 부티레이트 또는 대안적으로는 셀룰로오스 아세토부티레이트 또는 아세토프로피오네이트로 전부 또는 일부 대체하는 것이 가능하다.

또한 양호한 접착을 부여하기 위해, 그리하여 양호한 지속성을 확실히 하기 위해, 상이한 특성의 2차 수지, 예컨대 아릴술폰아미드-포름알데히드 또는 아릴술폰아미드-에폭시 수지, 폴리에스테르 수지, 알키드 유형의 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르폴리우레탄 수지, 폴리에테르-폴리우레탄 수지, 및 비닐 및/또는 아크릴계 수지를 단독 또는 혼합물로서 사용한다.

상기 2차 수지는 니트로셀룰로오스의 막-형성력을 증가시키고, 필름의 광택 및 또한 접착을 개선하는 것을 가능하게 한다.

게다가, 필름의 물리적 강도를 약하게 하지 않으면서 필름의 유연성을 조정하기 위해, 가소제, 예를 들어 프탈레이트 또는 시트레이트를 사용한다.

필름의 지속성 및 갈라짐에 대한 내성을 개선하기 위해, 다양한 2차 수지, 특히 개질된 알키드 유형의 수지가 제안되어 왔다.

특히, 수크로오스 벤조에이트와 톨루엔 술폰아미드-포름알데히드 유형의 수지의 조합의 사용을 기재하고 있는 문헌 FR 2 562 793; 또는 수크로오스 벤조에이트와 글리시딜 베르사테이트 에스테르-개질된 알키드 수지의 조합의 사용을 기재하고 있는 문헌 JP-61-246 113 을 언급할 수 있다. 또한 네오펜틸 글리콜 트리멜리테이트 아디페이트 폴리에스테르 수지와 알킬 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 공중합체의 조합의 사용을 기재하고 있는 문헌 WO 2002/243 676 을 언급할 수 있다.

또한, 펜타에리트리톨과 시스-4-시클로헥센-1,2-디카르복실산 및 피마자유 지방산의 축합 후, 에폭시 수지 유형의 디옥시란 화합물과의 반응에 의해 수득된 개질된 폴리에스테르의 사용을 기재하고 있는 문헌 JP-58-023 614; 또는 대안적으로는 디펜타에리트리톨과 시클로헥산-1,2-디카르복실산 및 피마자유 지방산의 축합후, 에폭시 수지 유형의 디옥시란 화합물과의 반응에 의해 수득된 개질된 폴리에스테르의 사용을 기재하고 있는 문헌 JP-54-011 244 가 공지된다.

그러나, 상기 조합이 지속성을 뚜렷하게 개선하더라도, 여전히 긴 지속성은 불충분하다고 간주되고 있다.

본 발명의 목적은 특히 2차 수지로서 사용될 수 있는, 그러므로 특히 네일 바니시에서 뛰어난 지속성을 제공하면서, 동시에 막-형성 침전물의 지속성을 뚜렷하게 개선할 수 있는 신규 중합체를 제시하는 것이다.

이 때문에, 본 발명자들은 원하는 특성을 갖는 알키드 유형의 신규 중축합물을 모색하고 있다.

알키드 수지는, 폴리올과 폴리카르복실산의 반응의 생성물로, 일반적으로 불포화 지방산, 예컨대 올레산, 또는 불포화유, 예를 들어 대두유 또는 피마자유로 개질되며, 그것의 막 형성 특성, 특히 건조율, 경도, 강도 등을 조절하는 것을 가능하게 하는 특정 계열의 폴리에스테르로 구성된다.

그러므로, 문헌 US 2 915 488 에는 대두유로부터 기원한 지방산의 일부를 벤 조산으로 대체한 개질된 알키드 수지가 제시되어 있다. 상기 신규 수지는 알칼리 및 세제에 대한 내성에 있어 증가된 특성을 갖고; 이를 함유하는 막은 더 빠르게 건조되고, 더욱 단단하다. 그러나, 상기 수지에 대한 적용, 및 특히 화장 또는 국소 적용은 파악되지 않고 있다.

게다가, 불포화 지방산은 시간에 걸쳐 자동산화를 겪을 수 있다고 공지되고, 이것은 불쾌한 현상의 원인이므로, 이것은 상기 원료를 포함하는 조성물의 저장 문제를 야기할 수 있다. 이제, ["Surface Coatings Science and Technology", 제 2 판, John Wiley & Sons, 페이지 104 및 105] 에 따라, 대두유에 존재하는 지방산은 주로 2 가지 불포화 지방산: 약 55% 의 리놀레산 (C18:2) 및 28% 의 올레산 (C18:1) 으로 이루어져 있다는 것이 공지된다. 그러므로, 대부분 불포화 지방산을 포함하고 있는 US 2 915 488 에 기재되어 있는 개질된 수지는 화장 용도에 관해서는 여전히 결점을 가지고 있다.

고려할 만한 연구 후, 본 출원인은 놀랍고 예기치 않게, 방향족 산을 포함하는 고함량의 특정 카르복실산을 갖는 특정 중축합물이, 수득되는 막의 광택 및 긴 지속성에 있어서 개선된 성능을 야기할 수 있다는 것을 발견하였다.

그러므로, 본 발명의 하나의 주제는 화장적으로 또는 약학적으로 허용가능한 매질 중에, 하기의 반응에 의해 수득될 수 있는 하나 이상의 중축합물을 포함하는 화장 또는 약학 조성물이다:

- 중축합물의 총 중량에 대해 15 중량% 내지 30 중량% 의, 3 내지 6 의 히드 록실기를 포함하는 하나 이상의 폴리올;

- 중축합물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 40 중량% 의, 탄소수 6 내지 32 의 하나 이상의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 비-방향족 모노카르복실산;

- 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 55 중량% 의, 탄소수 7 내지 11 의 하나 이상의 방향족 모노카르복실산 (이것은 또한 탄소수 1 내지 32 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 임의로 치환됨);

- 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 25 중량% 의, 2 이상의 카르복실기 COOH, 특히 2 내지 4 의 COOH 기를 포함하는 하나 이상의 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 폴리카르복실산; 및/또는 이러한 폴리카르복실산의 시클릭 무수물.

본 발명의 또 다른 주제는 하기의 반응에 의해 수득될 수 있는 중축합물이다:

- 중축합물의 총 중량에 대해 15 중량% 내지 30 중량% 의, 3 내지 6 의 히드록실기를 포함하는 하나 이상의 폴리올;

- 중축합물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 40 중량% 의, 탄소수 6 내지 32 의 하나 이상의 포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 비-방향족 모노카르복실산;

- 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 55 중량% 의, 탄소수 7 내지 11 의 하나 이상의 방향족 모노카르복실산 (이것은 또한 탄소수 1 내지 32 의 포화 또 는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 임의로 치환됨);

본 발명의 또다른 주제는 하기로 이루어지는 상기 중축합물의 제조 방법이다:

- 폴리올과 방향족 및 비-방향족 모노카르복실산을 혼합함,

- 비활성 분위기 하에서 혼합물을 먼저 융점으로, 그 다음 모노카르복실산이 완전히 소비될 때까지 150 내지 220℃ 의 온도로 가열시킴, 그 다음

- 임의로 혼합물을 90 내지 150℃ 의 온도로 냉각시킴,

- 폴리카르복실산 및/또는 시클릭 무수물, 및 임의로 히드록실 또는 카르복실 작용기를 함유하는 실리콘을 첨가함, 및 그 다음

- 220℃ 로 또는 그 미만의 온도로 다시 가열시킴.

본 발명에 따른 알키드 유형의 신규 분지형 중축합물이 종래 기술에 비해 피복력 및 광택이 개선된 오래 지속되는 네일 바니시 조성물을 제형화하는 것을 가능하게 할 수 있다는 것이 밝혀졌다.

게다가, 상기 중축합물은 부틸 또는 에틸 아세테이트 유형의 용매에 매우 가용성이고, 이것은 화장 분야, 특히 네일 바니시에 있어 사용을 용이하게 한다.

본 발명에 따른 중축합물의 또다른 장점은 이들을 단일 합성 단계로, 폐기물의 생성 없이, 그리고 저비용으로 손쉽게 제조할 수 있다는 것이다.

또다른 장점은 그의 다양한 성분의 화학적 특성 및/또는 비율을 변화시켜, 본 발명에 따른 중축합물의 구조 및/또는 특성을 개질하는 것이 손쉽게 가능하다는 사실이다.

본 발명에 따른 중축합물은 유리하게는 분지형이며; 이것은 중합체 쇄의 얽힘에 의해 네트워크를 생성하므로, 특히 개선된 지속성 및 가용성에 있어서 원하는 특성을 수득하게 할 수 있다고 생각할 수 있다. 구체적으로, 선형 중축합물은 조성물의 지속성을 상당히 개선하지 못하게 하고, 쇄가 규칙적인 덴드리머 유형의 중축합물은 적정의 가용성을 갖지 않는다는 것이 발견되었다.

본 발명에 따른 중축합물은 알키드 유형의 중축합물이므로, 하기 기재되는 성분으로부터 당업자에게 공지된 방법에 따라, 에스테르화/중축합에 의해 수득할 수 있다.

본 발명에 따른 중축합물의 제조에 필수적인 성분 중 하나는 3 내지 6 의 히드록실기, 특히 3 내지 4 의 히드록실기를 포함하는 화합물 (폴리올) 이다. 이러한 폴리올의 혼합물을 명백하게 사용할 수 있다.

상기 폴리올은 특히 탄소수 3 내지 18 의, 특히 3 내지 12 의 또는 더욱 탄소수 4 내지 10 의, 3 내지 6 의 히드록실 (OH) 기를 함유하고, 또한 가능하게는 쇄 중에 삽입된 하나 이상의 산소 원자 (에테르 작용기) 를 포함하는 선형, 분지형 및/또는 시클릭, 포화 또는 불포화 탄소계, 특히 탄화수소계 화합물일 수 있다.

상기 폴리올은 바람직하게는 탄소수 3 내지 18 의, 특히 3 내지 12 의 또는 더욱 탄소수 4 내지 10 의, 3 내지 6 의 히드록실 (OH) 기를 함유하는 선형 또는 분지형 포화 탄화수소계 화합물이다.

이것은 하기로부터 단독 또는 혼합물로서 선택될 수 있다:

- 1,2,6-헥산트리올, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판 또는 글리세롤과 같은 트리올;

- 펜타에리트리톨 (테트라메틸올메탄), 에리트리톨, 디글리세롤 또는 디트리메틸올프로판과 같은 테트라올;

- 자일리톨과 같은 펜톨;

- 소르비톨 및 만니톨과 같은 헥솔; 또는 대안적으로는 디펜타에리트리톨 또는 트리글리세롤.

바람직하게는, 폴리올은 글리세롤, 펜타에리트리톨 및 소르비톨, 및 그의 혼합물로부터 선택되고, 더욱 특히 펜타에리트리톨이다.

폴리올, 또는 폴리올 혼합물은 바람직하게는 최종 중축합물의 총 중량에 대해 15 중량% 내지 30 중량%, 특히 16 중량% 내지 28 중량%, 더욱 특히 18 중량% 내지 25 중량% 를 나타낸다.

본 발명에 따른 중축합물의 제조에 필수적인 또다른 성분은 탄소수 6 내지 32 의, 특히 탄소수 8 내지 28 의, 더욱 특히 10 내지 20 의 또는 더욱 탄소수 12 내지 18 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 비-방향족 모노카르복실산이다. 이러한 비-방향족 모노카르복실산의 혼합물을 명백하게 사용할 수 있다.

용어 "비-방향족 모노카르복실산" 은 화학식 RCOOH (식 중, R 은 탄소수 5 내지 31 의, 특히 탄소수 7 내지 27 의, 더욱 특히 탄소수 9 내지 19 의 또는 더욱 탄소수 11 내지 17 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 탄화수소계 라디칼임) 의 화합물을 의미한다.

바람직하게는, 라디칼 R 은 포화된다. 더욱 특히, 상기 라디칼 R 은 선형 또는 분지형이고, 바람직하게는 C5-C31 의 것이다.

사용할 수 있는 비-방향족 모노카르복실산 중에서, 하기를 단독 또는 혼합물로서 언급할 수 있다:

- 카프로산, 카프릴산, 이소헵탄산, 4-에틸펜탄산, 2-에틸헥산산, 4,5-디메틸헥산산, 2-헵틸헥산산, 3,5,5-트리메틸헥산산, 옥탄산, 이소옥탄산, 노난산, 데칸산, 이소노난산, 라우르산, 트리데칸산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 이소스테아르산, 아라키드산, 베헨산, 세로트산 (헥사코산산); 시클로펜탄카르복실산, 시클로펜탄아세트산, 3-시클로펜틸프로피온산, 시클로헥산카르복실산, 시클로헥실아세트산 또는 4-시클로헥실부티르산과 같은 포화 모노카르복실산;

- 카프르올레산, 운데실렌산, 도데실렌산, 미리스트올레산, 팔미트올레산, 올레산, 엘라이드산, 곤도산 또는 에루크산과 같은 불포화, 그러나 비-방향족 모노카르복실산.

2-에틸헥산산, 이소옥탄산, 라우르산, 팔미트산 또는 이소스테아르산, 및 그의 혼합물, 더욱 특히 이소스테아르산 단독을 바람직하게는 사용할 수 있다.

상기 비-방향족 모노카르복실산, 또는 상기 산의 혼합물은 바람직하게는 최종 중축합물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 40 중량%, 특히 8 중량% 내지 38 중량%, 더욱 특히 10 중량% 내지 35 중량% 를 나타낸다.

본 발명에 따른 중축합물의 제조에 필수적인 또다른 성분은 탄소수 1 내지 32 의, 특히 2 내지 12 의 또는 더욱 탄소수 3 내지 8 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 임의로 치환된 탄소수 7 내지 11 의 방향족 모노카르복실산이다.

이러한 방향족 모노카르복실산의 혼합물을 명백하게 사용할 수 있다.

용어 "방향족 모노카르복실산" 은 화학식 R'COOH 의 화합물 (식 중, R' 는 탄소수 6 내지 10 의 방향족 탄화수소계 라디칼, 특히 벤조산 및 나프토산 라디칼임) 을 의미한다. 상기 라디칼 R' 는 또한 탄소수 1 내지 32 의, 특히 2 내지 12 의 또는 더욱 탄소수 3 내지 8 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 치환될 수 있고; 특히 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, tert-부틸, 펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, 시클로펜틸, 헥실, 시클로헥실, 헵틸, 이소헵틸, 옥틸 및 이소옥틸로부터 선택된다.

사용할 수 있는 방향족 모노카르복실산 중에서, 벤조산, o-톨루산, m-톨루산, p-톨루산, 1-나프토산, 2-나프토산, 4-tert-부틸벤조산, 1-메틸-2-나프토산 및 2-이소프로필-1-나프토산을 단독 또는 혼합물로서 언급할 수 있다.

바람직하게는, 단독 또는 혼합물로서 벤조산, o-톨루산, m-톨루산 또는 1-나프토산, 더욱 특히 벤조산 단독을 사용할 수 있다.

상기 방향족 모노카르복실산, 또는 상기 산의 혼합물은 바람직하게는 최종 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 55 중량%, 특히 20 중량% 내지 52 중량%, 또는 더욱 22 중량% 내지 52 중량%, 더욱 특히 25 중량% 내지 50 중량% 를 나타낸다.

본 발명에 따른 중축합물의 제조에 필수적인 또다른 성분은 2 이상의 카르복실기 COOH, 특히 2 내지 4 의 COOH 기를 포함하는 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 폴리카르복실산; 및/또는 이러한 폴리카르복실산의 시클릭 무수물이다. 이러한 폴리카르복실산 및/또는 무수물의 혼합물을 명백하게 사용할 수 있다.

상기 폴리카르복실산은 특히 탄소수 2 내지 20 의, 특히 3 내지 18 의, 더욱 특히 탄소수 4 내지 12 의, 또는 더욱 탄소수 4 내지 10 의 선형, 분지형 및/또는 시클릭, 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족 폴리카르복실산으로부터 선택될 수 있고; 상기 산은 2 이상의 카르복실기 COOH, 바람직하게는 2 내지 4 의 COOH 기를 포함한다.

바람직하게는, 상기 폴리카르복실산은 포화 선형 지방족 산이고, 탄소수 2 내지 20, 특히 탄소수 3 내지 18 또는 더욱 탄소수 4 내지 12 이거나; 대안적으로는 방향족이고 탄소수 8 내지 12 이다. 이것은 바람직하게는 2 내지 4 의 COOH 기를 포함한다.

이러한 폴리카르복실산의 상기 시클릭 무수물은 특히 하기 화학식 중 하나에 해당할 수 있다:

(식 중, A 및 B 기는 서로 독립적으로:

- 수소 원자;

- 탄소수 1 내지 16 의, 특히 탄소수 2 내지 10 의 또는 더욱 탄소수 4 내지 8 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 지방족, 또는 대안적으로는 방향족 탄소계 라디칼; 특히 메틸 또는 에틸이고;

- 또는 대안적으로는 A 및 B 는 함께, 총 탄소수 5 내지 7 의, 특히 6 의 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족 고리를 형성함).

바람직하게는, A 및 B 는 수소 원자를 나타내거나, 함께 총 탄소수 6 의 방향족 고리를 형성한다.

사용할 수 있는 폴리카르복실산 또는 그의 무수물 중에는, 하기를 단독 또는 혼합물로서 언급할 수 있다:

- 데칸디오산, 도데칸디오산, 시클로프로판디카르복실산, 시클로헥산디카르복실산, 시클로부탄디카르복실산, 나프탈렌-1,4-디카르복실산, 나프탈렌-2,3-디카르복실산, 나프탈렌-2,6-디카르복실산, 수베르산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 프탈산, 테레프탈산, 이소프탈산, 피멜산, 세바스산, 아젤라산, 글루타르산, 아디프산, 푸마르산 또는 말레산과 같은 디카르복실산;

- 시클로헥산트리카르복실산, 트리멜리트산, 1,2,3-벤젠트리카르복실산 또는 1,3,5-벤젠트리카르복실산과 같은 트리카르복실산;

- 부탄테트라카르복실산 및 피로멜리트산과 같은 테트라카르복실산;

- 상기 산의 시클릭 무수물, 특히 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 말레산 무수물 및 숙신산 무수물.

프탈산 무수물 및/또는 이소프탈산, 더욱 특히 이소프탈산 단독을 바람직하게는 사용할 수 있다.

상기 폴리카르복실산 및/또는 그의 시클릭 무수물은 최종 중축합물의 총 중량에 대해 바람직하게는 10 중량% 내지 25 중량%, 특히 11 중량% 내지 22 중량%, 더욱 12 중량% 내지 20 중량% 를 나타낸다.

본 발명에 따른 중축합물은 또한 히드록실 (OH) 및/또는 카르복실 (COOH) 작용기를 함유하는 실리콘을 포함할 수 있다.

이것은 1 내지 3 의 히드록실 및/또는 카르복실 작용기를 포함할 수 있고, 바람직하게는 2 의 히드록실 작용기 또는 2 의 카르복실 작용기를 포함한다.

상기 작용기는 쇄의 말단 또는 쇄 내에, 그러나 유리하게는 쇄의 말단에 위치할 수 있다.

중량-평균 분자 질량 (Mw) 300 내지 20 000, 특히 400 내지 10 000 또는 더욱 800 내지 4000 의 실리콘을 바람직하게는 사용한다.

상기 실리콘은 하기 화학식의 것일 수 있다:

(식 중:

- W 및 W' 는 서로 독립적으로 OH 또는 COOH 이고; 바람직하게는, W = W' 이고;

- p 및 q 는 서로 독립적으로 0 또는 1 이고;

- R 및 R' 는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 12 의, 특히 탄소수 2 내지 8 의, 임의로 또한 O, S 및 N 으로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자, 특히 O (에테르) 를 포함하는 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 탄소계, 특히 탄화수소계 2가 라디칼이고;

R 및/또는 R' 는 특히 화학식 -(CH₂)_a- (a = 1-12 임) 의 것, 특히 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌 또는 페닐렌일 수 있고;

또는 대안적으로는 화학식 -[(CH₂)_xO]_z- (x = 1, 2 또는 3, z = 1-10 이고; 특히 x = 2 또는 3, z = 1-4 이고; 더욱 특히 x = 3, z = 1 임) 의 것일 수 있고;

- R1 내지 R6 은 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 20 의, 특히 탄소수 2 내지 12 의 선형, 분지형 및/또는 시클릭, 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족 탄소계 라디칼이고; 바람직하게는, R1 내지 R6 은 포화 또는 방향족이고, 특히 알킬 라 디칼, 특히 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 옥틸, 데실, 도데실 및 옥타데실 라디칼, 시클로알킬 라디칼, 특히 시클로헥실 라디칼, 아릴 라디칼, 특히 페닐 및 나프틸, 아릴알킬 라디칼, 특히 벤질 및 페닐에틸, 및 또한 톨릴 및 자일릴 라디칼로부터 선택될 수 있고;

- m 및 n 은 서로 독립적으로 1 내지 140 의 정수이고, 실리콘의 중량-평균 분자 질량 (Mw) 이 300 내지 20 000, 특히 400 내지 10 000 또는 더욱 800 내지 4000 이 되도록 하는 정도임).

특히 α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리알킬실록산, 특히 α,ω-디올 폴리디메틸실록산 및 α,ω-디카르복실 폴리디메틸실록산; α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리아릴실록산, 특히 α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리페닐실록산; 폴리페닐실록산과 같은 실라놀 작용기를 함유하는 폴리아릴실록산; 폴리디메틸실록산과 같은 실라놀 작용기를 함유하는 폴리알킬실록산; 폴리페닐/메틸실록산 또는 폴리페닐/프로필실록산과 같은 실라놀 작용기를 함유하는 폴리아릴/알킬실록산을 언급할 수 있다.

중량-평균 분자 질량 (Mw) 400 내지 10 000 또는 더욱 500 내지 5000, 특히 800 내지 4000 의 α,ω-디올 폴리디메틸실록산을 가장 특히 사용할 것이다.

상기 실리콘은 존재하는 경우, 중축합물의 중량에 대해 바람직하게는 0.1 중량% 내지 15 중량%, 특히 1 중량% 내지 10 중량% 또는 더욱 2 중량% 내지 8 중량% 를 나타낼 수 있다.

본 발명의 한 바람직한 구현예에서, 방향족 모노카르복실산은 비-방향족 모 노카르복실산과 동일하거나 또는 그 초과의 몰 양으로 존재하고; 특히, 방향족 모노카르복실산의 몰 수 및 비-방향족 모노카르복실산의 몰 수의 비는 바람직하게는 1.2 내지 8, 특히 1.3 내지 7.8 또는 더욱 1.4 내지 7.5, 더욱 특히 1.9 내지 7 이다.

이것이 특히 네일 바니시 유형의 화장 조성물의 제형화에 일반적으로 사용되는 단 에스테르 (예컨대 부틸 또는 에틸 아세테이트) 에 유리하게 가용성인 중합체를 수득하는 것을 가능하게 하는 것을 발견하였다; 게다가, 수득된 막은 네일 바니시 제형에 사용하기에 충분히 단단하다.

바람직하게는, 본 발명에 따른 중축합물은 하기의 반응에 의해 수득될 수 있다:

- 단독 또는 혼합물로서 1,2,6-헥산트리올, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 글리세롤; 펜타에리트리톨, 에리트리톨, 디글리세롤, 디트리메틸올프로판; 자일리톨, 소르비톨, 만니톨, 디펜타에리트리톨 및/또는 트리글리세롤로부터 선택되는 하나 이상의 폴리올;

바람직하게는 최종 중축합물의 총 중량에 대해 15 중량% 내지 30 중량%, 특히 16 중량% 내지 28 중량%, 더욱 특히 18 중량% 내지 25 중량% 의 양으로 존재함;

- 단독 또는 혼합물로서 카프로산, 카프릴산, 이소헵탄산, 4-에틸펜탄산, 2-에틸헥산산, 4,5-디메틸헥산산, 2-헵틸헥산산, 3,5,5-트리메틸헥산산, 옥탄산, 이소옥탄산, 노난산, 데칸산, 이소노난산, 라우르산, 트리데칸산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 이소스테아르산, 아라키드산, 베헨산, 세로트산 (헥사코산산); 시클로펜탄카르복실산, 시클로펜탄아세트산, 3-시클로펜틸프로피온산, 시클로헥산카르복실산, 시클로헥실아세트산 또는 4-시클로헥실부티르산으로부터 선택되는 하나 이상의 비-방향족 모노카르복실산;

바람직하게는 최종 중축합물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 40 중량%, 특히 8 중량% 내지 38 중량%, 더욱 특히 10 중량% 내지 35 중량% 의 양으로 존재함;

- 단독 또는 혼합물로서 벤조산, o-톨루산, m-톨루산, p-톨루산, 1-나프토산, 2-나프토산, 4-tert-부틸벤조산, 1-메틸-2-나프토산 및 2-이소프로필-1-나프토산으로부터 선택되는 하나 이상의 방향족 모노카르복실산;

바람직하게는 최종 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 55 중량%, 특히 20 중량% 내지 52 중량%, 더욱 특히 25 중량% 내지 50 중량% 의 양으로 존재함; 및

- 단독 또는 혼합물로서 데칸디오산, 도데칸디오산, 시클로프로판디카르복실산, 시클로헥산디카르복실산, 시클로부탄디카르복실산, 나프탈렌-1,4-디카르복실산, 나프탈렌-2,3-디카르복실산, 나프탈렌-2,6-디카르복실산, 수베르산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 프탈산, 테레프탈산, 이소프탈산, 피멜산, 세바스산, 아젤라산, 글루타르산, 아디프산, 푸마르산 또는 말레산; 시클로헥산트리카르복실산, 트리멜리트산, 1,2,3-벤젠트리카르복실산, 1,3,5-벤젠트리카르복실산; 부탄테트라카르복실산, 피로멜리트산, 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 말레산 무수물 및 숙신산 무수물로부터 선택되는 하나 이상의 폴리카르복실산 또는 그의 무수물;

바람직하게는 최종 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 25 중량%, 특 히 11 중량% 내지 22 중량%, 더욱 특히 12 중량% 내지 20 중량% 의 양으로 존재함.

- 단독 또는 혼합물로서 글리세롤, 펜타에리트리톨 및 소르비톨, 및 그의 혼합물, 더욱 특히 펜타에리트리톨 단독으로부터 선택되는 하나 이상의 폴리올; 최종 중축합물의 총 중량에 대해 15 중량% 내지 30 중량%, 특히 16 중량% 내지 28 중량%, 더욱 특히 18 중량% 내지 25 중량% 의 양으로 존재함;

- 단독 또는 혼합물로서 2-에틸헥산산, 이소옥탄산, 라우르산, 팔미트산 및 이소스테아르산, 및 그의 혼합물, 더욱 특히 이소스테아르산 단독으로부터 선택되는 하나 이상의 비-방향족 모노카르복실산; 최종 중축합물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 40 중량%, 특히 8 중량% 내지 38 중량%, 더욱 특히 10 중량% 내지 35 중량% 의 양으로 존재함;

- 단독 또는 혼합물로서 벤조산, o-톨루산, m-톨루산 및 1-나프토산, 더욱 특히 벤조산 단독으로부터 선택되는 하나 이상의 방향족 모노카르복실산; 최종 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 55 중량%, 특히 20 중량% 내지 52 중량%, 더욱 특히 25 중량% 내지 50 중량% 의 양으로 존재함; 및

- 단독 또는 혼합물로서 프탈산 무수물 및 이소프탈산, 더욱 특히 이소프탈산 단독으로부터 선택되는 하나 이상의 폴리카르복실산 또는 그의 무수물; 최종 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 25 중량%, 특히 11 중량% 내지 22 중량%, 더욱 특히 12 중량% 내지 20 중량% 의 양으로 존재함.

바람직하게는, 본 발명에 따른 중축합물은 하기를 갖는다:

- 산가 (중축합물 g 당 수산화칼륨 mg 으로 표현됨) 는 8 또는 그 초과; 특히 8 내지 40, 더욱 특히 10 내지 30 임; 및/또는

- 히드록실 수 (중축합물 g 당 수산화칼륨 mg 으로 표현됨) 는 30 또는 그 초과; 특히 30 내지 100, 더욱 특히 40 내지 90 임.

상기 산 및 히드록실 수는 통상의 분석법을 통해 당업자에 의해 손쉽게 측정될 수 있다.

바람직하게는, 본 발명에 따른 중축합물은 110℃ 에서 측정된 점도가 75 내지 6000 mPa.s, 특히 80 내지 5500 mPa.s 또는 더욱 90 내지 5000 mPa.s, 더욱 특히 200 내지 4800 mPa.s 이다. 상기 점도는 실시예 이전에 기재되는 방법으로 측정한다.

게다가, 중축합물은 총 탄소수 3 내지 8 의 단 에스테르, 특히 C1-C6 카르복실산 아세테이트, 및 특히 부틸 아세테이트 및/또는 에틸 아세테이트에서 유리하게 가용성이다.

용어 "가용성" 은 중합체가 부틸 아세테이트 또는 에틸 아세테이트 중에서 25℃ 에서 50 중량% 이상의 비율로 맑은 용액을 형성하는 것을 의미하고; 바람직하게는, 본 발명에 따른 중합체는 부틸 아세테이트 또는 에틸 아세테이트 중에서 70 중량% 이상의 비율로 가용성이다.

바람직하게는, 25℃ 에서 70 중량% 의 농도의 부틸 아세테이트 또는 에틸 아세테이트 중의 본 발명에 따른 중합체의 용액은 점도가 100 내지 1500 mPa.s, 특히 120 내지 900 mPa.s 이다. 측정법은 실시예 전에 제공된다.

본 발명에 따른 중축합물은 당업자에 의해 통상 사용되는 에스테르화/중축합 방법을 통해 제조할 수 있다. 예컨대, 일반적 제조 방법은 하기로 이루어진다:

- 폴리올과 방향족 및 비-방향족 모노카르복실산을 혼합함,

- 비활성 분위기 하에서 혼합물을 먼저 융점 (일반적으로 100-130℃) 으로, 그 다음 모노카르복실산이 완전히 소비될 때까지 (산가가 1 또는 그 미만이 되는 경우 달성됨), 바람직하게는 형성되는 물을 점차적으로 증류 제거하면서 150 내지 220℃ 의 온도로 가열시킴, 그 다음

- 임의로 혼합물을 90 내지 150℃ 의 온도로 냉각시킴,

- 폴리카르복실산 및/또는 시클릭 무수물, 및 임의로 히드록실 또는 카르복실 작용기를 함유하는 실리콘을 한번에 또는 순차적으로 첨가함, 및 그 다음

- 220℃ 로 또는 그 미만의 온도로, 특히 170 내지 220℃ 로, 바람직하게는 산가, 점도, 히드록실 수 및 용해도에 있어 요구되는 특성이 수득될 때까지 형성되는 물을 계속 제거하면서 다시 가열시킴.

통상의 에스테르화 촉매, 예를 들어 술폰산 유형 (특히 1% 내지 10% 의 중량 농도로) 또는 티타네이트 유형 (특히 5 내지 100 ppm 의 중량 농도로) 의 촉매를 첨가하는 것이 가능하다.

또한 물의 제거를 용이하게 하기 위해 반응을 전체적으로 또는 부분적으로, 비활성 용매, 예컨대 자일렌 중에서 및/또는 감압하에서 수행하는 것이 가능하다.

유리하게는, 촉매 또는 용매를 사용하지 않는다.

또한 상기 제조 방법은 하나 이상의 항산화제를 반응 매질에, 특히 단량체의 총 중량에 대해 0.01% 내지 1% 의 중량 농도로 첨가하여, 연장된 가열과 관련한 가능한 분해를 제한하도록 하는 단계를 포함한다.

항산화제는 1차 유형 또는 2차 유형의 것일 수 있고, 부자유 페놀, 방향족 2차 아민, 유기인 화합물, 황 화합물, 락톤 및 아크릴계 비스페놀; 및 그의 혼합물로부터 선택될 수 있다.

특히 바람직한 항산화제 중에서, 특히 BHT, BHA, TBHQ, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)벤젠, 옥타데실 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시신나메이트, 메탄테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 옥타데실 3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트 2,5-디-tert-부틸히드로퀴논, 2,2-메틸비스(4-메틸-6-tert-부틸페놀), 2,2-메틸렌비스(4-에틸-6-tert-부틸페놀), 4,4-부틸리덴비스(6-tert-부틸-m-크레졸), N,N-헥사메틸렌비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시히드로신남아미드), 펜타에리트리톨테트라키스(3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트), 특히 Ciba 의 상품, 상품명 Irganox 1010; 옥타데실 3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 특히 Ciba 의 상품, 상품명 Irganox 1076; 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)-트리온, 특히 Mayzo of Norcross, Ga 의 상품, 상품명 BNX 3114; 디(스테아릴)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트, 특히 Ciba 의 상품, 상품명 Irgafos 168; 디라우릴 티오디프로피오네이트, 특히 Ciba 의 상품, 상품명 Irganox PS800; 비스(2,4-디-tert-부틸)펜타에리트리톨 디포스파이트, 특히 Ciba 의 상품, 상품명 Irgafos 126; 비스(2,4-비스)[2-페닐프로판-2-일]페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리페닐 포스파이트, (2,4-디-tert-부틸페닐) 펜타에리트리톨 디포스파이트, 특히 GE Specialty Chemicals 의 상품, 상품명 Ultranox 626; 트리스(노닐페닐) 포스파이트, 특히 Ciba 의 상품, 상품명 Irgafos TNPP; N,N-헥사메틸렌비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시히드로신남아미드) 와 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스페이트의 1:1 혼합물, 특히 Ciba 의 상품, 상품명 Irganox B1171; 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트, 특히 Ciba 의 상품, 상품명 Irgafos P-EPQ; 디스테아릴 티오디프로피오네이트, 특히 Ciba 의 상품, 상품명 Irganox PS802; 2,4-비스(옥틸티오메틸)-o-크레졸, 특히 Ciba 의 상품, 상품명 Irganox 1520; 4,6-비스(도데실티오메틸)-o-크레졸, 특히 Ciba 의 상품, 상품명 Irganox 1726 을 언급할 수 있다.

본 발명에 따른 중축합물은 생리학적으로 허용가능한, 특히 화장적으로 또는 약학적으로 허용가능한 매질, 즉, 피부 조직, 예를 들어 얼굴 또는 신체의 피부, 및 케라틴 물질, 예컨대 모발, 속눈썹, 눈썹 및 손톱과 상용성인 매질을 더욱 포함하는 조성물, 특히 화장 또는 약학 조성물에서 매우 유리하게 사용할 수 있다.

조성물에 존재하는 중축합물의 양은 조성물의 유형 및 원하는 특성에 따라 명백하게 다르고, 최종 화장 또는 약학 조성물의 중량에 대해 일반적으로 0.1 중량% 내지 70 중량%, 바람직하게는 2 중량% 내지 50 중량%, 특히 3 중량% 내지 35 중량%, 또는 더욱 5 중량% 내지 20 중량%, 더욱 특히 6 중량% 내지 18 중량% 의 매 우 넓은 범위 내에서 다양할 수 있다.

조성물은 또한, 의도된 적용에 따라 상기 유형의 조성물에 통상적인 성분을 포함할 수 있다.

본 발명에 따른 조성물은 유리하게는 물, 알코올, 폴리올, 케톤, 에스테르, 에테르, 알칸, 알데히드, 탄소계 오일, 실리콘유 및 플루오로실리콘유, 및 그의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함할 수 있는 본 발명에 따른 중합체에 대한 용매 매질; 바람직하게는, 유기 용매 또는 유기 용매의 혼합물을 포함하는 유기 용매 매질을 포함할 수 있다.

바람직하게는, 본 발명에 따른 조성물의 생리학적으로 허용가능한 매질은 하기로부터 선택되는 하나 이상의 유기 용매를 포함할 수 있다:

- 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 디이소부틸 케톤, 이소포론, 시클로헥사논 또는 아세톤과 같은 실온 (25℃) 에서 액체인 케톤;

- 에탄올, 이소프로판올, 디아세톤 알코올, 2-부톡시에탄올 또는 시클로헥산올과 같은 실온에서 액체인 알코올;

- 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 또는 디프로필렌 글리콜 모노-n-부틸 에테르과 같은 실온에서 액체인 프로필렌 글리콜 에테르;

- γ-부티로락톤과 같은 시클릭 에테르;

- 에틸 아세테이트, 메틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 이소프로필 아세테이트, n-부틸 아세테이트, 이소펜틸 아세테이트, 메톡시프로필 아세테이트 또는 부틸 락테이트와 같은 단쇄 에스테르 (총 탄소수 3 내지 8);

- 디에틸 에테르, 디메틸 에테르 또는 디클로로디에틸 에테르와 같은 실온에서 액체인 에테르;

- 데칸, 헵탄, 도데칸, 이소도데칸 또는 시클로헥산과 같은 실온에서 액체인 알칸, 특히 C5-C12;

- 벤즈알데히드 또는 아세트알데히드와 같은 실온에서 액체인 알데히드;

- 및 그의 혼합물.

바람직하게는, 용매는 탄소수 3 내지 8 의 단쇄 에스테르, 예컨대 에틸 아세테이트, 메틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 이소프로필 아세테이트, n-부틸 아세테이트, 이소펜틸 아세테이트, 메톡시프로필 아세테이트 또는 부틸 락테이트; 실온에서 액체인 알코올, 예컨대 에탄올, 이소프로판올, 디아세톤 알코올, 2-부톡시에탄올 또는 시클로헥산올; 및 그의 혼합물로부터 선택된다.

유기 용매 매질은 단독 또는 혼합물로서 조성물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 95 중량%, 바람직하게는 15 중량% 내지 80 중량%, 더욱 특히 20 중량% 내지 60 중량% 를 나타낼 수 있다.

본 발명에 따른 조성물은 또한 광물, 동물, 식물 또는 합성 기원의 탄소계, 탄화수소계, 플루오로 및/또는 실리콘유를 단독 또는 혼합물로서 (단 이들은 균일하고 안정한 혼합물을 형성하고, 의도되는 용도와 상용성임) 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 조성물에 존재할 수 있는 오일 중에서, 탄화수소계 오일, 예컨대 액체 파라핀 또는 액체 바셀린; 퍼히드로스쿠알렌; 아라라 오일; 스위트 아몬드 오 일, 뷰티-리프 (beauty-leaf) 오일, 팜유, 피마자유, 아보카도 오일, 호호바 오일, 올리브유 또는 곡물 배아유; 라놀산, 올레산, 라우르산 또는 스테아르산 에스테르; 알코올, 예컨대 올레일 알코올, 리놀레일 알코올, 리놀레닐 알코올, 이소스테아릴 알코올 또는 옥틸도데카놀을 단독 또는 혼합물로서 언급할 수 있다. 또한 실리콘 오일, 예컨대 임의로 페닐화된 PDMS, 예컨대 페닐 트리메티콘을 언급할 수 있다. 또한 휘발성 오일, 예컨대 시클로테트라디메틸실록산, 시클로펜타디메틸실록산, 시클로헥사디메틸실록산, 메틸헥실디메틸실록산, 헥사메틸디실록산 또는 이소파라핀을 언급할 수 있다.

오일은 단독 또는 혼합물로서 조성물의 총 중량에 대해 0.01 중량% 내지 20 중량%, 바람직하게는 0.05 중량% 내지 10 중량%, 더욱 특히 0.1 중량% 내지 8 중량% 를 나타낼 수 있다.

본 발명에 따른 조성물은 유리하게는 막-형성 중합체를 포함할 수 있다.

본 발명에 따르면, 용어 "막-형성 중합체" 는 단독으로 또는 보조의 막-형성제의 존재하에서, 지지체, 특히 케라틴 물질에 접착하는 연속 막 형성이 가능한 중합체를 의미한다.

본 발명에 따른 조성물에 사용할 수 있는 막-형성 중합체 중에서, 유리-라디칼 유형 또는 중축합물 유형의 합성 중합체, 및 천연 기원의 중합체, 및 그의 혼합물을 언급할 수 있다. 이들은 특히 셀룰로오스계 중합체, 예컨대 니트로셀룰로오스, 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스 아세토부티레이트, 셀룰로오스 아세토프로피오네이트 및 에틸셀룰로오스, 또는 대안적으로는 폴리우레탄, 아크릴계 중합 체, 비닐 중합체, 폴리비닐 부티랄, 알키드 수지, 알데히드 축합 생성물 유래 수지, 예컨대 아릴술폰아미드-포름알데히드 수지, 예를 들어 톨루엔 술폰아미드-포름알데히드 수지, 아릴술폰아미드-에폭시 수지 또는 에틸토실아미드 수지로부터 선택될 수 있다.

막-형성 중합체는 본 발명에 따른 조성물에 조성물의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 70 중량% 의 범위, 바람직하게는 2 중량% 내지 60 중량% 의 범위, 더욱 특히 5 중량% 내지 45 중량% 의 함량으로 존재할 수 있다.

조성물의 막-형성 특성을 개선시키기 위해, 특히 조성물이 네일 바니시인 경우, 보조의 막-형성제를 그곳에 첨가할 수 있다.

이러한 보조의 막-형성제는 원하는 작용기를 수행할 수 있는 당업자에게 공지된 임의의 화합물로부터 선택될 수 있고, 특히 가소제 및 콜레서 (coalescer) 로부터 선택될 수 있다. 특히, 단독 또는 혼합물로서 통상의 가소제 및 콜레서, 예컨대 하기를 언급할 수 있다:

- 글리콜 및 그의 유도체, 예컨대 디에틸렌 글리콜 에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 부틸 에테르 또는 디에틸렌 글리콜 헥실 에테르, 에틸렌 글리콜 에틸 에테르, 에틸렌 글리콜 부틸 에테르 또는 에틸렌 글리콜 헥실 에테르;

- 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜-폴리프로필렌 글리콜 공중합체 및 그의 혼합물, 특히 예를 들어 500 내지 15 000 의 범위의 분자 질량을 갖는 고분자량의 폴리프로필렌 글리콜;

- 글리콜 에스테르;

- 프로필렌 글리콜 유도체, 특히 프로필렌 글리콜 페닐 에테르, 프로필렌 글리콜 디아세테이트, 디프로필렌 글리콜 에틸 에테르, 트리프로필렌 글리콜 메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸 에테르 및 프로필렌 글리콜 부틸 에테르;

- 산 에스테르, 특히 카르복실산 에스테르, 예컨대 시트레이트, 프탈레이트, 아디페이트, 카르보네이트, 타르트레이트, 포스페이트 및 세바케이트; 화학식 R₁₁COOH 의 모노카르복실산과 화학식 HOR₁₂OH 의 디올 (동일 또는 상이할 수 있는 R₁₁ 및 R₁₂ 는 바람직하게는 탄소수 3 내지 15 의, 임의로 하나 이상의 헤테로원자, 예컨대 N, O 또는 S 를 함유하는 선형, 분지형 또는 시클릭, 포화 또는 불포화 탄화수소계 쇄를 나타냄) 의 반응으로부터 유래되는 에스테르;

- 옥시에틸렌화 유도체, 예컨대 옥시에틸렌화 오일, 특히 식물유, 예컨대 피마자유;

- 디메티콘 코폴리올, 특히 프로필 폴리옥시프로필렌 기를 함유함); 및

- 그의 혼합물.

조성물은 또한 특히 하기로부터 선택될 수 있는 증점제를 포함할 수 있다:

- 실리카, 특히 소수성 실리카, 예컨대 문헌 EP-A-898 960 에 기재되고, 예를 들어, Degussa 사의 Aerosil R812^®, Cabot 사의 Cab-O-Sil TS-530^®, Cab-O-Sil TS-610^®, Cab-O-Sil TS-720^®, Degussa 사의 Aerosil R972^® 및 Aerosil R974^® 로 판매되는 것들;

- 점토, 예컨대 몬트모릴로나이트, 개질 점토, 예컨대 벤톤, 예를 들어 스테아르알코늄 헥토라이트 및 스테아르알코늄 벤토나이트,

- 다당류 알킬 에테르 (특히 여기서 알킬기는 탄소수 1 내지 24, 바람직하게는 1 내지 10, 더욱 특히 1 내지 6, 더욱 특히 1 내지 3 임), 예컨대 문헌 EP-A-898 958 에 기재된 것들.

본 발명에 따른 조성물 중의 증점제의 양은 조성물의 총 중량에 대해 0.01 중량% 내지 15 중량%, 바람직하게는 0.1 중량% 내지 12 중량%, 더욱 특히 0.5 중량% 내지 10 중량% 의 범위일 수 있다.

본 발명에 따른 조성물은 또한 본 발명에 따른 중축합물 외에 2차 수지 및 막-형성 중합체를 포함할 수 있고, 이것은 아릴술폰아미드-포름알데히드 또는 아릴술폰아미드-에폭시 수지, 폴리에스테르 수지, 알키드 유형의 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르-폴리우레탄 수지, 폴리에테르-폴리우레탄 수지 및 비닐 및/또는 아크릴계 수지로부터 단독 또는 혼합물로서 선택될 수 있다. 상기 부가적 2차 수지는 조성물의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 20 중량%, 바람직하게는 2 중량% 내지 15 중량%, 더욱 특히 3 중량% 내지 10 중량% 의 비율로 존재할 수 있다.

본 발명에 따른 조성물은 또한 식물, 동물, 광물 또는 합성, 또는 더욱 실리콘 기원의 하나 이상의 왁스를 포함할 수 있다. 특히, 단독 또는 혼합물로서 탄화수소계 왁스, 예컨대 비즈왁스; 카르나우바 왁스, 칸델릴라 왁스, 오우리쿠리 왁스, 제팬 왁스, 코르크 섬유 왁스 또는 사탕수수 왁스; 파라핀 왁스, 갈탄 왁스; 미결정화 왁스; 라놀린 왁스; 몬탄 왁스; 지랍; 폴리에틸렌 왁스; 피셔-트롭쉬 합성에 의해 수득된 왁스; 25℃ 에서 고체인 수소화 오일, 지방 에스테르 및 글리세라이드를 언급할 수 있다. 또한 실리콘 왁스를 사용할 수 있고, 이 중에서 알킬 또는 알콕시 폴리메틸실록산 및/또는 폴리메틸실록산 에스테르를 언급할 수 있다.

본 발명에 따른 조성물 중의 왁스의 양은 조성물의 총 중량에 대해 0.01 중량% 내지 15 중량%, 바람직하게는 0.1 중량% 내지 10 중량%, 더욱 특히 0.5 중량% 내지 15 중량% 의 범위일 수 있다.

또한 본 발명에 따른 조성물은 수용성 염료 및 가루 색소, 예를 들어 안료, 충전재, 진주층 및 박편, 및/또는 지용성 또는 수용성 염료로부터 선택되는 하나 이상의 색소를 포함할 수 있다.

특히 가루인 색소는 조성물에 조성물의 중량에 대해 0.01 중량% 내지 50 중량%, 바람직하게는 0.1 중량% 내지 40 중량% 또는 더욱 1 중량% 내지 30 중량% 범위의 함량으로 존재할 수 있다.

용어 "안료" 는 백색 또는 착색된, 임의의 형태의 광물 또는 유기 입자를 의미하는 것으로 이해되어야 하고, 이것은 생리학적 매질에 불용성이고, 조성물이 색상을 띄도록 의도된다.

용어 "진주층" 은 임의의 형태의 진주빛 입자, 특히 특정 연체동물의 껍질에 의해 생성된 것, 또는 그 밖에 합성된 것을 의미하는 것으로 이해되어야 한다.

안료는 백색 또는 착색된, 광물 및/또는 유기의, 및 간섭 또는 비-간섭 안료 일 수 있다. 언급될 수 있는 광물 안료 중에는 이산화티탄, 임의로 표면-처리된 산화 지르코늄 또는 산화 세륨, 및 또한 산화 아연, 산화 철 또는 산화 크롬, 망간 바이올렛, 울트라마린 블루, 크롬 하이드레이트 및 페릭 블루가 있다. 언급될 수 있는 유기 안료 중에는 카본 블랙, D&C 유형의 안료 및 코치닐 카민 또는 바륨, 스트론튬, 칼슘 또는 알루미늄 기재 레이크가 있다.

진주층 안료는 백색 진주층 안료, 예컨대 티탄 또는 비스무스 옥시클로라이드로 피복된 미카, 착색된 진주층 안료, 예컨대 산화 철로 피복된 티탄 미카, 특히 페릭 블루 또는 산화 크롬으로 피복된 티탄 미카, 상기 언급된 유형의 유기 안료로 피복된 티탄 미카 및 또한 비스무스 옥시클로라이드 기재 진주층 안료로부터 선택될 수 있다.

충전재는 광물 또는 유기의, 층상 또는 구형일 수 있다. 탈크, 미카, 실리카, 카올린, 나일론 분말, 폴리-β-알라닌 분말 및 폴리에틸렌 분말, 테플론, 라우로일리신, 전분, 질화붕소, 테트라플루오로에틸렌 중합체 분말, 중공형 미소구체, 예컨대 Expancel (Nobel Industrie), Polytrap (Dow Corning) 및 실리콘 수지 마이크로비드 (예를 들어 Toshiba 사의 Tospearls), 침전된 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 마그네슘 히드로카보네이트, 히드록시아파타이트, 중공형 실리카 미소구체 (Maprecos 사의 Silica Bead), 유리 또는 도자기 미소캡슐, 및 탄소수 8 내지 22 의, 바람직하게는 탄소수 12 내지 18 의 유기 카르복실산 유래의 금속 비누, 예를 들어 아연, 마그네슘 또는 리튬 스테아레이트, 아연 라우레이트 또는 마그네슘 미리스테이트를 언급할 수 있다.

지용성 염료는 예를 들어, Sudan 레드, DC 레드 17, DC 그린 6, β-카로텐, 대두유, Sudan 브라운, DC 옐로우 11, DC 바이올렛 2, DC 오렌지 5 또는 퀴놀린 옐로우이며; 이들은 조성물의 중량의 0.01% 내지 20%, 더욱 특히 0.1% 내지 6% 를 나타낼 수 있다.

수용성 염료는 예를 들어, 비트루트 주스 또는 메틸렌 블루이고, 조성물의 총 중량의 0.01% 내지 6% 를 나타낼 수 있다.

조성물은 또한 화장 조성물에 통상 사용되는 기타 성분을 포함할 수 있다. 이러한 성분은 항산화제, 향제, 에센셜 오일, 방부제, 화장용 활성제, 보습제, 비타민, 세라마이드, 썬 스크린, 계면활성제, 확산제, 습윤제, 분산제, 소포제, 중화제 및 안정화제, 및 그의 혼합물로부터 선택될 수 있다.

물론, 당업자는 상기 부가적 화합물(들) 및/또는 그의 양을, 본 발명에 따른 용도를 위한 조성물의 유리한 특성이 의도된 첨가에 의해 역효과가 없도록, 또는 실질적으로 없도록, 선택하기 위해 주의를 기울일 것이다.

본 발명에 따른 조성물은 화장 또는 약학 조성물에 대해 허용가능하고 통상인 임의의 형태일 수 있다.

그러므로 이들은 현탁액, 분산액, 특히 비히클에 의한 수중유; 임의로 증점된 또는 더욱 겔화된 유기 또는 오일성 용액; 수-중-유, 유-중-수 또는 다중 에멀션; 젤 또는 무스; 오일성 또는 유화된 젤; 소낭의 분산액, 특히 지질 소낭; 2-상 또는 다상 로션; 스프레이; 로션, 크림, 고약, 연질 페이스트, 연고, 특히, 막대 또는 디쉬 형태의 주조 또는 주형 고체, 또는 압착 고체의 형태일 수 있다.

바람직하게는, 본 발명에 따른 조성물은 유기 용액의 형태이다.

당업자는 적합한 본초약 형태, 또한 첫째로 사용되는 성분의 특성 (특히 지지체 중의 그의 용해도) 을, 둘째로 조성물의 의도되는 용도를 고려하여, 당업자의 일반적인 지식에 기초해 제조 방법을 선택할 수 있다.

본 발명에 따른 화장 조성물은 신체 또는 얼굴 피부, 입술, 속눈썹, 눈썹, 모발, 두피 또는 손톱의 관리 및/또는 메이크업 제품; 안티썬 또는 셀프-태닝 제품; 모발관리 제품의 형태일 수 있다.

본 발명에 따른 조성물은 케라틴 물질, 예컨대 모발, 피부, 속눈썹, 눈썹, 손톱, 입술 또는 두피, 더욱 특히 손톱 관리 또는 메이크업을 위해 사용할 수 있다.

구체적으로, 본 발명에 따른 중합체는 손톱 메이크업 분야에서 특히 유리한 적용이 발견되었다. 본 발명의 조성물은 유리하게는, 특히 2차 수지로서 사용되는 본 발명에 따른 중축합물을, 상기 기술된 막-형성 중합체로부터 선택될 수 있는 주요 수지와 조합으로 포함하는 네일 바니시의 형태이다.

바람직하게는, 본 발명에 따른 화장 조성물, 특히 네일 바니시는 하기를 포함한다:

- 화장 조성물의 중량에 대해 0.1 중량% 내지 50 중량%, 바람직하게는 2 중량% 내지 35 중량%, 특히 5 중량% 내지 20 중량%, 더욱 특히 6 중량% 내지 18 중량% 의 단독 또는 혼합물로서의 본 발명에 따른 중축합물;

- 화장 조성물의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 70 중량%, 바람직하게는 2 중 량% 내지 60 중량%, 더욱 특히 5 중량% 내지 45 중량% 의, 특히 니트로셀룰로오스, 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스 아세토부티레이트, 셀룰로오스 아세토프로피오네이트 또는 에틸셀룰로오스와 같은 셀룰로오스계 중합체; 폴리우레탄, 아크릴계 중합체, 비닐 중합체, 폴리비닐 부티랄, 알키드 수지, 알데히드의 축합 생성물 유래 수지, 예컨대 아릴술폰아미드-포름알데히드 수지, 예를 들어 톨루엔 술폰아미드-포름알데히드 수지, 아릴술폰아미드-에폭시 수지 또는 에틸토실아미드 수지; 천연 기원의 중합체; 및 그의 혼합물로부터 선택되는 막-형성 중합체;

- 화장 조성물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 95 중량%, 바람직하게는 15 중량% 내지 80 중량%, 더욱 특히 20 중량% 내지 60 중량% 의, 특히 실온에서 액체인 케톤; 실온에서 액체인 알코올; 실온에서 액체인 프로필렌 글리콜 에테르; 시클릭 에테르; 단쇄 에스테르 (총 탄소수 3 내지 8); 실온에서 액체인 에테르; 실온에서 액체인 알칸; 실온에서 액체인 알데히드; 및 그의 혼합물로부터 선택되는 유기 용매;

- 임의로, 조성물의 중량에 대해 0.01 중량% 내지 50 중량%, 바람직하게는 0.1 중량% 내지 40 중량% 또는 더욱 1 중량% 내지 30 중량% 의 함량으로 조성물에 존재할 수 있는 하나 이상의 색소.

또한 본 발명의 주제는 상기 정의된 바와 같은 화장 조성물의 케라틴 물질, 특히 신체 또는 얼굴 피부, 손톱, 모발 및/또는 속눈썹에 대한 적용을 포함하는, 상기 케라틴 물질, 특히 신체 또는 얼굴 피부, 손톱, 모발 및/또는 속눈썹 처리를 위한 화장 방법이다.

본 발명에 따른 상기 방법은 특히 본 발명에 따른 손톱 바니시 조성물을 적용하여, 손톱을 메이크업하게 한다.

본 발명은 하기 실시예에서 더욱 상세히 예증된다.

점도 측정 방법

a/ 중합체의 110℃ 에서의 점도를 Brookfield CAP 1000+ 유형의 콘-플레이트 (cone-plate) 점도계를 사용하여 측정한다.

적합한 콘-플레이트는 당업자의 지식에 기초해, 당업자에 의해 결정된다;

특히:

- 50 내지 500 mPa.s, 02 콘을 사용할 수 있음

- 500 내지 1000 mPa.s: 콘 03

- 1000 내지 4000 mPa.s: 콘 05

- 4000 내지 10 000 mPa.s: 콘 06

b/ 부틸 아세테이트 중 70% 의 중합체의 용액의 25℃ 에서의 점도를 S62 스핀들을 사용하여 30 rpm 에서 Brookfield DV-I 점도계를 사용하여 측정한다.

실시예 1: 펜타에리트리틸 벤조에이트 / 이소프탈레이트 / 이소스테아레이트의 합성

227.5 g 의 벤조산, 72.8 g 의 이소스테아르산 및 118.3 g 의 펜타에리트리톨을 기계적 교반기, 아르곤 주입구 및 증류 시스템이 장착된 반응기에 넣은 다음, 혼합물을 적당한 아르곤 스트림 하에서 점차적으로 110-130℃ 로 가열하여 균질 용액을 수득하였다. 그 다음 온도를 점차적으로 180℃ 로 올리고, 약 2 시간 동 안 유지하였다. 온도를 220℃ 로 다시 올리고, 산가가 1 또는 그 미만이 수득될 때까지 유지하며, 이것은 약 18 시간이 걸렸다. 혼합물을 100 내지 130℃ 의 온도로 식힌 다음, 91 g 의 이소프탈산을 도입하고, 혼합물을 약 11 시간에 걸쳐 다시 220℃ 로 점차적으로 올렸다.

그리하여, 430 g 의 펜타에리트리틸 벤조에이트/이소프탈레이트/이소스테아레이트 중축합물을 실온에서 응고되는 걸쭉한 오일의 형태로 수득하였다.

중축합물은 하기 특성을 갖는다:

- 산가 = 12.7

- 히드록실 수 = 49

- η_110℃ = 25.4 포이즈 (즉, 2540 mPa.s)

- 방향족 모노카르복실산의 몰 수 및 비-방향족 모노카르복실산의 몰 수 비: 7.28.

상기 수득된 중축합물 420 g 을 취하고, 100-120℃ 로 가열하고, 180 g 의 부틸 아세테이트를 교반하면서 천천히 흘려보낸 다음, 혼합물을 제 2 호 소결 깔때기를 통해 뜨거울 때 여과에 의해 분류하였다.

실온으로 식힌 후, 부틸 아세테이트 중 70% 의 중축합물의 용액 600 g 을 25℃ 에서의 점도가 약 800 센티포이즈 (mPa.s) 인 담황색 점성 액체의 형태로 수득하였다.

실시예 2: 펜타에리트리틸 벤조에이트 / 이소프탈레이트 / 라우레이트 / PDMS 의 합성

150 g 의 벤조산, 165 g 의 라우르산 및 110 g 의 펜타에리트리톨을 기계적 교반기, 아르곤 주입구 및 증류 시스템이 장착된 반응기에 넣은 다음, 혼합물을 적당한 아르곤 스트림 하에서 점차적으로 110-130℃ 로 가열하여 균질 용액을 수득하였다. 그 다음 온도를 점차적으로 180℃ 로 올리고, 약 2 시간 동안 유지하였다. 온도를 220℃ 로 다시 올리고, 산가가 1 또는 그 미만이 수득될 때까지 유지하며, 이것은 약 15 시간이 걸렸다. 혼합물을 100 내지 130℃ 의 온도로 식힌 다음, 90 g 의 이소프탈산 및 50 g 의 Shin-Etsu 사의 α,ω-디올실리콘 X22-160AS 를 도입하고, 혼합물을 약 11 시간에 걸쳐 다시 220℃ 로 점차적으로 올렸다.

그리하여, 510 g 의 펜타에리트리틸 벤조에이트/이소프탈레이트/라우레이트/PDMS 중축합물을 실온에서 응고되는 걸쭉한 오일의 형태로 수득하였다.

중축합물은 하기 특성을 갖는다:

- 산가 = 28.7

- 히드록실 수 = 85

- η_110℃ = 2.1 포이즈 (즉, 210 mPa.s)

- 방향족 모노카르복실산의 몰 수 및 비-방향족 모노카르복실산의 몰 수 비: 1.49.

상기 수득된 중축합물 500g 을 취하고, 70℃ 로 가열하고, 215 g 의 에틸 아 세테이트를 교반하면서 천천히 흘려보낸 다음, 혼합물을 제 2 호 소결 깔때기를 통해 뜨거울 때 여과에 의해 분류하였다. 실온으로 식힌 후, 에틸 아세테이트 중 70% 의 중축합물의 용액 705 g 을 25℃ 에서의 점도가 약 165 센티포이즈 (mPa.s) 인 담황색 점성 액체의 형태로 수득하였다.

실시예 3: 펜타에리트리틸 벤조에이트 / 이소프탈레이트 / 라우레이트의 합성

165 g 의 벤조산, 160g 의 라우르산 및 120 g 의 펜타에리트리톨을 기계적 교반기, 아르곤 주입구 및 증류 시스템이 장착된 반응기에 넣은 다음, 혼합물을 적당한 아르곤 스트림 하에서 점차적으로 110-130℃ 로 가열하여 균질 용액을 수득하였다. 그 다음 온도를 점차적으로 180℃ 로 올리고, 약 2 시간 동안 유지하였다. 온도를 220℃ 로 다시 올리고, 산가가 1 또는 그 미만이 수득될 때까지 유지하며, 이것은 약 15 시간이 걸렸다. 혼합물을 100 내지 130℃ 의 온도로 식힌 다음, 100 g 의 이소프탈산을 도입하고, 혼합물을 약 12 시간에 걸쳐 다시 220℃ 로 점차적으로 올렸다.

그리하여, 510 g 의 펜타에리트리틸 벤조에이트/이소프탈레이트/라우레이트 중축합물을 실온에서 응고되는 걸쭉한 오일의 형태로 수득하였다.

중축합물은 하기 특성을 갖는다:

- 산가 = 20.4

- 히드록실 수 = 66

- η_110℃ = 4.7 포이즈 (즉, 470 mPa.s)

- 방향족 모노카르복실산의 몰 수 및 비-방향족 모노카르복실산의 몰 수 비: 1.69.

상기 수득된 중축합물 500g 을 취하고, 70℃ 로 가열하고, 215 g 의 에틸 아세테이트를 교반하면서 천천히 흘려보낸 다음, 혼합물을 제 2 호 소결 깔때기를 통해 뜨거울 때 여과에 의해 분류하였다. 실온으로 식힌 후, 에틸 아세테이트 중 70% 의 중축합물의 용액 700 g 을 25℃ 에서의 점도가 약 310 센티포이즈 (mPa.s) 인 담황색 점성 액체의 형태로 수득하였다.

실시예 4: 펜타에리트리틸 벤조에이트 / 프탈레이트 / 라우레이트의 합성

185 g 의 벤조산, 174g 의 라우르산 및 114.6 g 의 펜타에리트리톨을 기계적 교반기, 아르곤 주입구 및 증류 시스템이 장착된 반응기에 넣은 다음, 혼합물을 적당한 아르곤 스트림 하에서 점차적으로 110-130℃ 로 가열하여 균질 용액을 수득하였다. 그 다음 온도를 점차적으로 180℃ 로 올리고, 약 2 시간 동안 유지하였다. 온도를 220℃ 로 다시 올리고, 산가가 1 또는 그 미만이 수득될 때까지 유지하며, 이것은 약 18 시간이 걸렸다. 혼합물을 100 내지 130℃ 의 온도로 식힌 다음, 80 g 의 프탈산을 도입하고, 혼합물을 약 8 시간에 걸쳐 다시 220℃ 로 점차적으로 올렸다. 15 g 의 펜타에리트리톨을 혼합물에 첨가하고 220℃ 에서 8 시간 동안 유지하였다.

그리하여, 512 g 의 펜타에리트리틸 벤조에이트/프탈레이트/라우레이트 중축합물을 실온에서 응고되는 걸쭉한 오일의 형태로 수득하였다.

중축합물은 하기 특성을 갖는다:

- 산가 = 13.0

- 히드록실 수 = 60

- η_110℃ = 0.9 포이즈 (즉, 90 mPa.s)

- 방향족 모노카르복실산의 몰 수 및 비-방향족 모노카르복실산의 몰 수 비: 1.74.

실시예 5

체리-레드 색상의 네일 바니시를 하기 조성을 사용하여 제조하였다:

- 이소프로판올 중 30% 의 니트로셀룰로오스 14 g

- 에틸 아세테이트 중 70% 의 알키드 수지 Beckosol ODE-230-70E 5.2 g

- 부틸 아세테이트 중 70% 의 실시예 1 의 중합체의 용액 10.8 g

- 이소프로판올 3.6 g

- 에틸 아세테이트 23 g

- 부틸 아세테이트 33.5 g

- 트리부틸 아세틸 시트레이트 3.4 g

- N-에틸-o,p-톨루엔 술폰아미드 3.4 g

- 시트르산 0.05 g

- 개질 헥토라이트 1.3 g

- 안료 (레이크) 1.3 g

바니시는 손쉽게 적용되며, 외부 충격에 매우 강한 매우 광택 있는 막을 형 성한다.

실시예 6

- 이소프로판올 중 30% 의 니트로셀룰로오스 14 g

- 에틸 아세테이트 중 70% 의 실시예 2 의 중합체의 용액 11.2 g

- 이소프로판올 3.6 g

- 에틸 아세테이트 19.5 g

- 부틸 아세테이트 36.5 g

- 트리부틸 아세틸 시트레이트 3.4 g

- N-에틸-o,p-톨루엔 술폰아미드 3.4 g

- 시트르산 0.05 g

- 개질 헥토라이트 1.3 g

- 안료 (레이크) 1.3 g

바니시는 손쉽게 적용되며, 외부 충격에 매우 강한 매우 광택 있는 막을 형성한다.

실시예 7

체리-레드 색상의 네일 바니시를 하기 조성 (중량%) 을 사용하여 제조하였다:

- 이소프로판올 중 30% 의 니트로셀룰로오스 14 %

- 부틸 아세테이트 중 70% 의 실시예 1 의 중합체의 용액 17 %

- 이소프로판올 3.6 %

- 에틸 아세테이트 23 %

- 부틸 아세테이트 qsp 100%

- 트리부틸 아세틸 시트레이트 3.2 %

- N-에틸-o,p-톨루엔 술폰아미드 3.6 %

- 시트르산 0.05 %

- 개질 헥토라이트 1.3 %

- 안료 (레이크) 1.3 %

본 발명에 따른 알키드 유형의 신규 분지형 중축합물은 종래 기술에 비해 피복력 및 광택이 개선된 오래 지속되는 네일 바니시 조성물을 제형화할 수 있다.

Claims

화장적으로 또는 약학적으로 허용가능한 매질 중에, 하기의 반응에 의해 수득될 수 있는 하나 이상의 중축합물을 포함하는 화장 또는 약학 조성물:

- 중축합물의 총 중량에 대해 15 중량% 내지 30 중량% 의, 3 내지 6 의 히드록실기를 포함하는 하나 이상의 폴리올;

- 중축합물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 40 중량% 의, 탄소수 6 내지 32 의 하나 이상의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 비-방향족 모노카르복실산;

- 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 55 중량% 의, 탄소수 7 내지 11 의 하나 이상의 방향족 모노카르복실산 (이것은 또한 탄소수 1 내지 32 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 임의로 치환됨);

- 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 25 중량% 의, 2 이상의 카르복실기 COOH, 특히 2 내지 4 의 COOH 기를 포함하는 하나 이상의 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 폴리카르복실산; 및/또는 그러한 폴리카르복실산의 시클릭 무수물.
제 1 항에 있어서, 폴리올이 3 내지 4 의 히드록실기를 포함하는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 폴리올이 탄소수 3 내지 18 의, 특히 3 내지 12 의 또는 더욱 탄소수 4 내지 10 의, 3 내지 6 의 히드록실 (OH) 기를 함유하고, 또한 가능하게는 쇄 중에 삽입된 하나 이상의 산소 원자 (에테르 작용기) 를 포함하는 선형, 분지형 및/또는 시클릭, 포화 또는 불포화 탄소계, 특히 탄화수소계 화합물인 조성물.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리올이 3 내지 18 의, 특히 3 내지 12 의 또는 더욱 탄소수 4 내지 10 의, 3 내지 6 의 히드록실 (OH) 기를 함유하는 포화 선형 또는 분지형 탄화수소계 화합물인 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리올이 하기로부터 단독 또는 혼합물로서 선택되는 조성물:

1,2,6-헥산트리올, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판 또는 글리세롤과 같은 트리올;

- 펜타에리트리톨, 에리트리톨, 디글리세롤 또는 디트리메틸올프로판과 같은 테트라올;

- 자일리톨과 같은 펜톨;

- 소르비톨 및 만니톨과 같은 헥솔; 또는 대안적으로는 디펜타에리트리톨 또는 트리글리세롤.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리올이 글리세롤, 펜타에리트리톨 및 소르비톨, 및 그의 혼합물로부터 선택되고, 더욱 특히 펜타에리트리톨인 조성물.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리올, 또는 폴리올 혼합물이 중축합물의 총 중량에 대해 16 중량% 내지 28 중량%, 더욱 18 중량% 내지 25 중량% 를 나타내는 조성물.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 비-방향족 모노카르복실산이 화학식 RCOOH (식 중, R 은 탄소수 5 내지 31 의, 특히 탄소수 7 내지 27 의, 더욱 탄소수 9 내지 19 의 또는 더욱 탄소수 11 내지 17 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 탄화수소계 라디칼임) 의 것인 조성물.
제 8 항에 있어서, 라디칼 R 이 포화된 조성물.
제 8 항 또는 제 9 항에 있어서, 라디칼 R 이 선형 또는 분지형이고, 바람직하게는 C5-C31 의 것인 조성물.
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 비-방향족 모노카르복실산이 하기로부터 단독 또는 혼합물로서 선택되는 조성물:

- 카프로산, 카프릴산, 이소헵탄산, 4-에틸펜탄산, 2-에틸헥산산, 4,5-디메틸헥산산, 2-헵틸헥산산, 3,5,5-트리메틸헥산산, 옥탄산, 이소옥탄산, 노난산, 데칸산, 이소노난산, 라우르산, 트리데칸산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 이소스테아르산, 아라키드산, 베헨산, 세로트산 (헥사코산산); 시클로펜탄카르복실산, 시클로펜탄아세트산, 3-시클로펜틸프로피온산, 시클로헥산카르복실산, 시클로헥실아세트산 또는 4-시클로헥실부티르산과 같은 포화 모노카르복실산;

- 카프르올레산, 운데실렌산, 도데실렌산, 미리스트올레산, 팔미트올레산, 올레산, 엘라이드산, 곤도산 또는 에루크산과 같은 불포화, 그러나 비-방향족 모노카르복실산.
제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 비-방향족 모노카르복실산이 2-에틸헥산산, 이소옥탄산, 라우르산, 팔미트산 및 이소스테아르산, 및 그의 혼합물, 더욱 특히 이소스테아르산 단독으로부터 선택되는 조성물.
제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서, 비-방향족 모노카르복실산, 또는 상기 산의 혼합물이 중축합물의 총 중량에 대해 8 중량% 내지 38 중량%, 더욱 10 중량% 내지 35 중량% 를 나타내는 조성물.
제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산이 화학식 R'COOH (식 중, R' 는 탄소수 6 내지 10 의 방향족 탄화수소계 라디칼, 특 히 벤조산 및 나프토산 라디칼이고; 상기 라디칼 R' 는 또한 탄소수 1 내지 32 의, 특히 2 내지 12 의 또는 더욱 탄소수 3 내지 8 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 치환될 수 있고; 특히 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, tert-부틸, 펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, 시클로펜틸, 헥실, 시클로헥실, 헵틸, 이소헵틸, 옥틸 및 이소옥틸로부터 선택됨) 의 것인 조성물.
제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산이 벤조산, o-톨루산, m-톨루산, p-톨루산, 1-나프토산, 2-나프토산, 4-tert-부틸벤조산, 1-메틸-2-나프토산 및 2-이소프로필-1-나프토산으로부터 단독 또는 혼합물로서 선택되는 조성물.
제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산이 단독 또는 혼합물로서 벤조산, o-톨루산, m-톨루산 및 1-나프토산, 더욱 벤조산 단독으로부터 선택되는 조성물.
제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산, 또는 상기 산의 혼합물이 중축합물의 총 중량에 대해 20 중량% 내지 52 중량%, 또는 더욱 22 중량% 내지 52 중량%, 더욱 25 중량% 내지 50 중량% 를 나타내는 조성물.
제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리카르복실산이 탄소수 2 내지 20 의, 특히 3 내지 18 의, 더욱 탄소수 4 내지 12 의, 또는 더욱 탄소수 4 내지 10 의 선형, 분지형 및/또는 시클릭, 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족 폴리카르복실산으로부터 선택되고; 상기 산이 2 이상의 카르복실기 COOH, 바람직하게는 2 내지 4 의 COOH 기를 포함하는 조성물.
제 18 항에 있어서, 상기 폴리카르복실산이 포화 선형 지방족 산이고, 탄소수가 2 내지 20, 특히 탄소수가 3 내지 18 또는 더욱 탄소수가 4 내지 12 인 조성물.
제 18 항에 있어서, 상기 폴리카르복실산이 방향족이고, 탄소수가 8 내지 12 인 조성물.
제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서, 시클릭 무수물이 하기 화학식 중 하나에 해당하는 조성물:

(식 중, A 및 B 기는 서로 독립적으로:

- 수소 원자;

- 탄소수 1 내지 16 의, 특히 탄소수 2 내지 10 의 또는 더욱 탄소수 4 내지 8 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 지방족, 또는 대안적으로는 방향족 탄소계 라디칼; 특히 메틸 또는 에틸이고;

- 또는 대안적으로는 A 및 B 는 함께, 총 탄소수 5 내지 7 의, 특히 6 의 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족 고리를 형성함).
제 21 항에 있어서, A 및 B 는 수소 원자를 나타내거나, 함께 총 탄소수 6 의 방향족 고리를 형성하는 조성물.
제 1 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리카르복실산 또는 그의 무수물이 하기로부터 단독 또는 혼합물로서 선택되는 조성물:

- 데칸디오산, 도데칸디오산, 시클로프로판디카르복실산, 시클로헥산디카르복실산, 시클로부탄디카르복실산, 나프탈렌-1,4-디카르복실산, 나프탈렌-2,3-디카르복실산, 나프탈렌-2,6-디카르복실산, 수베르산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 프탈산, 테레프탈산, 이소프탈산, 피멜산, 세바스산, 아젤라산, 글루타르산, 아디프산, 푸마르산 또는 말레산과 같은 디카르복실산;

- 시클로헥산트리카르복실산, 트리멜리트산, 1,2,3-벤젠트리카르복실산 또는 1,3,5-벤젠트리카르복실산과 같은 트리카르복실산;

- 부탄테트라카르복실산 및 피로멜리트산과 같은 테트라카르복실산;

- 상기 산의 시클릭 무수물, 특히 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 말 레산 무수물 및 숙신산 무수물.
제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리카르복실산 또는 그의 무수물이 프탈산 무수물 및/또는 이소프탈산, 더욱 특히 이소프탈산 단독으로부터 선택되는 조성물.
제 1 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리카르복실산 및/또는 그의 시클릭 무수물이 중축합물의 총 중량에 대해 11 중량% 내지 22 중량%, 더욱 특히 12 중량% 내지 20 중량% 를 나타내는 조성물.
제 1 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서, 중축합물이 또한 히드록실 (OH) 및/또는 카르복실 (COOH) 작용기를 함유하는 하나 이상의 실리콘을 포함하는 조성물.
제 26 항에 있어서, 실리콘의 중량-평균 분자 질량 (Mw) 이 300 내지 20 000, 특히 400 내지 10 000 또는 더욱 800 내지 4000 인 조성물.
제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 상기 실리콘이 하기 화학식의 것인 조성물:

(식 중:

- W 및 W' 는 서로 독립적으로 OH 또는 COOH 이고; 바람직하게는, W = W' 이고;

- p 및 q 는 서로 독립적으로 0 또는 1 이고;

- R 및 R' 는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 12 의, 특히 탄소수 2 내지 8 의, 임의로 또한 O, S 및 N 으로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자, 특히 O (에테르) 를 포함하는 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 탄소계, 특히 탄화수소계 2가 라디칼이고;

R 및/또는 R' 는 특히 화학식 -(CH₂)_a- (a = 1-12 임) 의 것, 특히 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌 또는 페닐렌일 수 있고;

또는 대안적으로는 화학식 -[(CH₂)_xO]_z- (x = 1, 2 또는 3, z = 1-10 이고; 특히 x = 2 또는 3, z = 1-4 이고; 더욱 특히 x = 3, z = 1 임) 의 것일 수 있고;

- R1 내지 R6 은 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 20 의, 특히 탄소수 2 내지 12 의 선형, 분지형 및/또는 시클릭, 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족 탄소계 라디칼이고;

바람직하게는, R1 내지 R6 은 포화 또는 방향족이고, 특히 알킬 라디칼, 특 히 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 옥틸, 데실, 도데실 및 옥타데실 라디칼, 시클로알킬 라디칼, 특히 시클로헥실 라디칼, 아릴 라디칼, 특히 페닐 및 나프틸, 아릴알킬 라디칼, 특히 벤질 및 페닐에틸, 및 또한 톨릴 및 자일릴 라디칼로부터 선택될 수 있고;

- m 및 n 은 서로 독립적으로 1 내지 140 의 정수이고, 실리콘의 중량-평균 분자 질량 (Mw) 이 300 내지 20 000, 특히 400 내지 10 000 또는 더욱 800 내지 4000 이 되도록 하는 정도임).
제 26 항 내지 제 28 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘이 단독 또는 혼합물로서 α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리알킬실록산, 특히 α,ω-디올 폴리디메틸실록산 및 α,ω-디카르복실 폴리디메틸실록산; α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리아릴실록산, 특히 α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리페닐실록산; 폴리페닐실록산과 같은 실라놀 작용기를 함유하는 폴리아릴실록산; 폴리디메틸실록산과 같은 실라놀 작용기를 함유하는 폴리알킬실록산; 폴리페닐/메틸실록산 또는 폴리페닐/프로필실록산과 같은 실라놀 작용기를 함유하는 폴리아릴/알킬실록산으로부터 선택되는 조성물.
제 26 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘이 중량-평균 분자 질량 (Mw) 400 내지 10 000 또는 더욱 500 내지 5000, 특히 800 내지 4000 의 α,ω-디올 폴리디메틸실록산으로부터 선택되는 조성물.
제 26 항 내지 제 30 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘이 중축합물의 총 중량에 대해 0.1 중량% 내지 15 중량%, 특히 1 중량% 내지 10 중량% 또는 더욱 2 중량% 내지 8 중량% 를 나타내는 조성물.
제 1 항 내지 제 31 항 중 어느 한 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산의 몰 수 및 비-방향족 모노카르복실산의 몰 수의 비가 1.2 내지 8, 특히 1.3 내지 7.8 또는 더욱 1.4 내지 7.5, 더욱 특히 1.9 내지 7 인 조성물.
제 1 항 내지 제 32 항 중 어느 한 항에 있어서, 중축합물이 하기의 반응에 의해 수득될 수 있는 조성물:

- 단독 또는 혼합물로서 1,2,6-헥산트리올, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 글리세롤; 펜타에리트리톨, 에리트리톨, 디글리세롤, 디트리메틸올프로판; 자일리톨, 소르비톨, 만니톨, 디펜타에리트리톨 및/또는 트리글리세롤로부터 선택되는 하나 이상의 폴리올;

바람직하게는 최종 중축합물의 총 중량에 대해 15 중량% 내지 30 중량%, 특히 16 중량% 내지 28 중량%, 더욱 특히 18 중량% 내지 25 중량% 의 양으로 존재함;

- 단독 또는 혼합물로서 카프로산, 카프릴산, 이소헵탄산, 4-에틸펜탄산, 2-에틸헥산산, 4,5-디메틸헥산산, 2-헵틸헥산산, 3,5,5-트리메틸헥산산, 옥탄산, 이소옥탄산, 노난산, 데칸산, 이소노난산, 라우르산, 트리데칸산, 미리스트산, 팔미 트산, 스테아르산, 이소스테아르산, 아라키드산, 베헨산, 세로트산 (헥사코산산); 시클로펜탄카르복실산, 시클로펜탄아세트산, 3-시클로펜틸프로피온산, 시클로헥산카르복실산, 시클로헥실아세트산 또는 4-시클로헥실부티르산으로부터 선택되는 하나 이상의 비-방향족 모노카르복실산;

바람직하게는 최종 중축합물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 40 중량%, 특히 8 중량% 내지 38 중량%, 더욱 특히 10 중량% 내지 35 중량% 의 양으로 존재함;

- 단독 또는 혼합물로서 벤조산, o-톨루산, m-톨루산, p-톨루산, 1-나프토산, 2-나프토산, 4-tert-부틸벤조산, 1-메틸-2-나프토산 및 2-이소프로필-1-나프토산으로부터 선택되는 하나 이상의 방향족 모노카르복실산;

바람직하게는 최종 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 55 중량%, 특히 20 중량% 내지 52 중량%, 더욱 특히 25 중량% 내지 50 중량% 의 양으로 존재함; 및

- 단독 또는 혼합물로서 데칸디오산, 도데칸디오산, 시클로프로판디카르복실산, 시클로헥산디카르복실산, 시클로부탄디카르복실산, 나프탈렌-1,4-디카르복실산, 나프탈렌-2,3-디카르복실산, 나프탈렌-2,6-디카르복실산, 수베르산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 프탈산, 테레프탈산, 이소프탈산, 피멜산, 세바스산, 아젤라산, 글루타르산, 아디프산, 푸마르산 또는 말레산; 시클로헥산트리카르복실산, 트리멜리트산, 1,2,3-벤젠트리카르복실산, 1,3,5-벤젠트리카르복실산; 부탄테트라카르복실산, 피로멜리트산, 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 말레산 무수물 및 숙신산 무수물로부터 선택되는 하나 이상의 폴리카르복실산 또는 그의 무수물;

바람직하게는 최종 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 25 중량%, 특히 11 중량% 내지 22 중량%, 더욱 특히 12 중량% 내지 20 중량% 의 양으로 존재함.
제 1 항 내지 제 33 항 중 어느 한 항에 있어서, 중축합물이 하기의 반응에 의해 수득될 수 있는 조성물:

- 단독 또는 혼합물로서 글리세롤, 펜타에리트리톨 및 소르비톨, 및 그의 혼합물, 더욱 특히 펜타에리트리톨 단독으로부터 선택되는 하나 이상의 폴리올; 최종 중축합물의 총 중량에 대해 15 중량% 내지 30 중량%, 특히 16 중량% 내지 28 중량%, 더욱 특히 18 중량% 내지 25 중량% 의 양으로 존재함;

- 단독 또는 혼합물로서 2-에틸헥산산, 이소옥탄산, 라우르산, 팔미트산 및 이소스테아르산, 및 그의 혼합물, 더욱 특히 이소스테아르산 단독으로부터 선택되는 하나 이상의 비-방향족 모노카르복실산; 최종 중축합물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 40 중량%, 특히 8 중량% 내지 38 중량%, 더욱 특히 10 중량% 내지 35 중량% 의 양으로 존재함;

- 단독 또는 혼합물로서 벤조산, o-톨루산, m-톨루산 및 1-나프토산, 더욱 특히 벤조산 단독으로부터 선택되는 하나 이상의 방향족 모노카르복실산; 최종 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 55 중량%, 특히 20 중량% 내지 52 중량%, 더욱 특히 25 중량% 내지 50 중량% 의 양으로 존재함; 및

- 단독 또는 혼합물로서 프탈산 무수물 및 이소프탈산, 더욱 특히 이소프탈산 단독으로부터 선택되는 하나 이상의 폴리카르복실산 또는 그의 무수물; 최종 중 축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 25 중량%, 특히 11 중량% 내지 22 중량%, 더욱 특히 12 중량% 내지 20 중량% 의 양으로 존재함.
제 1 항 내지 제 34 항 중 어느 한 항에 있어서, 중축합물이 하기 특성 중 하나 이상을 갖는 조성물:

- 산가 (중축합물 g 당 수산화칼륨 mg 으로 표현됨) 가 8 또는 그 초과; 특히 8 내지 40, 더욱 특히 10 내지 30 임; 및/또는

- 히드록실 수 (중축합물 g 당 수산화칼륨 mg 으로 표현됨) 가 30 또는 그 초과; 특히 30 내지 100, 더욱 특히 40 내지 90 임;

- 110℃ 에서 측정된 점도가 75 내지 6000 mPa.s, 특히 80 내지 5500 mPa.s 또는 더욱 90 내지 5000 mPa.s, 더욱 특히 200 내지 4800 mPa.s 임;

- 25℃ 에서 부틸 아세테이트 또는 에틸 아세테이트 중의 용해도가 50 중량% 이상의 비율임;

- 25℃ 에서 70 중량% 의 농도의 부틸 아세테이트 또는 에틸 아세테이트 중의 중합체의 용액의 점도가 100 내지 1500 mPa.s, 특히 120 내지 900 mPa.s 임.
제 1 항 내지 제 35 항 중 어느 한 항에 있어서, 중축합물이 최종 화장 또는 약학 조성물의 중량에 대해 0.1 중량% 내지 70 중량%, 바람직하게는 2 중량% 내지 50 중량%, 특히 3 중량% 내지 35 중량%, 또는 더욱 5 중량% 내지 20 중량%, 더욱 특히 6 중량% 내지 18 중량% 의 양으로 존재하는 조성물.
제 1 항 내지 제 36 항 중 어느 한 항에 있어서, 화장적으로 또는 약학적으로 허용가능한 매질이 물, 알코올, 폴리올, 케톤, 에스테르, 에테르, 알칸, 알데히드, 탄소계 오일, 실리콘유 및 플루오로실리콘유, 및 그의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함하는 조성물.
제 1 항 내지 제 37 항 중 어느 한 항에 있어서, 화장적으로 또는 약학적으로 허용가능한 매질이 하기로부터 선택되는 하나 이상의 유기 용매를 포함하는 조성물:

- 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 디이소부틸 케톤, 이소포론, 시클로헥사논 또는 아세톤과 같은 실온 (25℃) 에서 액체인 케톤;

- 에탄올, 이소프로판올, 디아세톤 알코올, 2-부톡시에탄올 또는 시클로헥산올과 같은 실온에서 액체인 알코올;

- 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 또는 디프로필렌 글리콜 모노-n-부틸 에테르과 같은 실온에서 액체인 프로필렌 글리콜 에테르;

- γ-부티로락톤과 같은 시클릭 에테르;

- 에틸 아세테이트, 메틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 이소프로필 아세테이트, n-부틸 아세테이트, 이소펜틸 아세테이트, 메톡시프로필 아세테이트 또는 부틸 락테이트와 같은 단쇄 에스테르 (총 탄소수 3 내지 8);

- 디에틸 에테르, 디메틸 에테르 또는 디클로로디에틸 에테르와 같은 실온에서 액체인 에테르;

- 데칸, 헵탄, 도데칸, 이소도데칸 또는 시클로헥산과 같은 실온에서 액체인 알칸, 특히 C5-C12;

- 벤즈알데히드 또는 아세트알데히드와 같은 실온에서 액체인 알데히드;

- 및 그의 혼합물.
제 1 항 내지 제 38 항 중 어느 한 항에 있어서, 화장적으로 또는 약학적으로 허용가능한 매질이 에틸 아세테이트, 메틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 이소프로필 아세테이트, n-부틸 아세테이트, 이소펜틸 아세테이트, 메톡시프로필 아세테이트, 부틸 락테이트와 같은 탄소수 3 내지 8 의 단쇄 에스테르; 에탄올, 이소프로판올, 디아세톤 알코올, 2-부톡시에탄올 또는 시클로헥산올과 같은 실온에서 액체인 알코올; 및 그의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 용매를 포함하는 조성물.
제 1 항 내지 제 39 항 중 어느 한 항에 있어서, 화장적으로 또는 약학적으로 허용가능한 매질이 광물, 동물, 식물 또는 합성 기원의 탄소계, 탄화수소계, 플루오로 및/또는 실리콘유; 막-형성 중합체; 보조의 막-형성제; 증점제; 2차 수지; 식물, 동물, 광물 또는 합성 기원의 왁스, 또는 더욱 실리콘 왁스; 색소; 항산화제, 향제, 에센셜 오일, 방부제, 화장용 활성제, 보습제, 비타민, 세라마이드, 썬 스크린, 계면활성제, 확산제, 습윤제, 분산제, 소포제, 중화제 및 안정화제, 및 그의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 성분을 포함하는 조성물.
제 1 항 내지 제 40 항 중 어느 한 항에 있어서, 하기를 포함하는 조성물:

- 화장 조성물의 중량에 대해 0.1 중량% 내지 50 중량%, 바람직하게는 2 중량% 내지 35 중량%, 특히 5 중량% 내지 20 중량%, 더욱 특히 6 중량% 내지 18 중량% 의, 단독 또는 혼합물로서의 제 1 항 내지 제 40 항 중 어느 한 항에 따른 중축합물;

- 화장 조성물의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 70 중량%, 바람직하게는 2 중량% 내지 60 중량%, 더욱 특히 5 중량% 내지 45 중량% 의, 특히 니트로셀룰로오스, 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스 아세토부티레이트, 셀룰로오스 아세토프로피오네이트 또는 에틸셀룰로오스와 같은 셀룰로오스계 중합체; 폴리우레탄, 아크릴계 중합체, 비닐 중합체, 폴리비닐 부티랄, 알키드 수지, 알데히드의 축합 생성물 유래 수지, 예컨대 아릴술폰아미드-포름알데히드 수지, 예를 들어 톨루엔 술폰아미드-포름알데히드 수지, 아릴술폰아미드-에폭시 수지 또는 에틸토실아미드 수지; 천연 기원의 중합체; 및 그의 혼합물로부터 선택되는 막-형성 중합체;

- 화장 조성물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 95 중량%, 바람직하게는 15 중량% 내지 80 중량%, 더욱 특히 20 중량% 내지 60 중량% 의, 특히 실온에서 액체인 케톤; 실온에서 액체인 알코올; 실온에서 액체인 프로필렌 글리콜 에테르; 시클릭 에테르; 단쇄 에스테르 (총 탄소수 3 내지 8); 실온에서 액체인 에테르; 실온에 서 액체인 알칸; 실온에서 액체인 알데히드; 및 그의 혼합물로부터 선택되는 유기 용매;

- 임의로, 조성물의 중량에 대해 0.01 중량% 내지 50 중량%, 바람직하게는 0.1 중량% 내지 40 중량% 또는 더욱 1 중량% 내지 30 중량% 의 함량으로 조성물 중에 존재할 수 있는 하나 이상의 색소.
제 1 항 내지 제 41 항 중 어느 한 항에 있어서, 신체 또는 얼굴 피부, 입술, 속눈썹, 눈썹, 모발, 두피 또는 손톱의 관리 및/또는 메이크업 제품; 안티썬 또는 셀프-태닝 제품; 모발관리 제품의 형태인 조성물.
제 1 항 내지 제 42 항 중 어느 한 항에 있어서, 네일 바니시의 형태인 조성물.
케라틴 물질, 특히 신체 또는 얼굴 피부, 손톱, 모발 및/또는 속눈썹의 화장 방법으로서, 제 1 항 내지 제 43 항 중 어느 한 항에서 정의된 바와 같은 화장 조성물을 상기 물질에 적용하는 것을 포함하는 방법.
제 1 항 내지 제 43 항 중 어느 한 항에서 정의된 바와 같은 화장 조성물을 손톱에 적용하는 것을 포함하는 손톱의 메이크업을 위한 화장 방법.
하기의 반응에 의해 수득될 수 있는 중축합물:

- 중축합물의 총 중량에 대해 15 중량% 내지 30 중량% 의, 3 내지 6 의 히드록실기를 포함하는 하나 이상의 폴리올;

- 중축합물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 40 중량% 의, 탄소수 6 내지 32 의 하나 이상의 포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 비-방향족 모노카르복실산;

- 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 55 중량% 의, 탄소수 7 내지 11 의 하나 이상의 방향족 모노카르복실산 (이것은 또한 탄소수 1 내지 32 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 임의로 치환됨);

- 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 25 중량% 의, 2 이상의 카르복실기 COOH, 특히 2 내지 4 의 COOH 기를 포함하는 하나 이상의 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 폴리카르복실산; 및/또는 그러한 폴리카르복실산의 시클릭 무수물.
제 46 항에 있어서, 폴리올이 탄소수 3 내지 18 의, 특히 3 내지 12 의 또는 더욱 탄소수 4 내지 10 의, 3 내지 6 의 히드록실 (OH) 기를 함유하고, 또한 가능하게는 쇄 중에 삽입된 하나 이상의 산소 원자 (에테르 작용기) 를 포함하는 선형, 분지형 및/또는 시클릭, 포화 또는 불포화 탄소계, 특히 탄화수소계 화합물인 중축합물.
제 46 항 또는 제 47 항에 있어서, 폴리올이 하기로부터 단독 또는 혼합물로서 선택되는 중축합물:

- 1,2,6-헥산트리올, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판 또는 글리세롤과 같은 트리올 ;

- 펜타에리트리톨, 에리트리톨, 디글리세롤 또는 디트리메틸올프로판과 같은 테트라올;

- 자일리톨과 같은 펜톨;

- 소르비톨 및 만니톨과 같은 헥솔; 또는 대안적으로는 디펜타에리트리톨 또는 트리글리세롤.
제 46 항 내지 제 48 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리올, 또는 폴리올 혼합물이 중축합물의 총 중량에 대해 16 중량% 내지 28 중량%, 더욱 18 중량% 내지 25 중량% 를 나타내는 중축합물.
제 46 항 내지 제 49 항 중 어느 한 항에 있어서, 포화 비-방향족 모노카르복실산이 화학식 RCOOH (식 중, R 은 탄소수 5 내지 31 의, 특히 탄소수 7 내지 27 의, 더욱 탄소수 9 내지 19 의 또는 더욱 탄소수 11 내지 17 의 포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 탄화수소계 라디칼임) 의 것인 중축합물.
제 46 항 내지 제 50 항 중 어느 한 항에 있어서, 비-방향족 모노카르복실산 이 단독 또는 혼합물로서 카프로산, 카프릴산, 이소헵탄산, 4-에틸펜탄산, 2-에틸헥산산, 4,5-디메틸헥산산, 2-헵틸헵탄산, 3,5,5-트리메틸헥산산, 옥탄산, 이소옥탄산, 노난산, 데칸산, 이소노난산, 라우르산, 트리데칸산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 이소스테아르산, 아라키드산, 베헨산, 세로트산 (헥사코산산); 시클로펜탄카르복실산, 시클로펜탄아세트산, 3-시클로펜틸프로피온산, 시클로헥산카르복실산, 시클로헥실아세트산 또는 4-시클로헥실부티르산으로부터 선택되는 중축합물.
제 46 항 내지 제 51 항 중 어느 한 항에 있어서, 비-방향족 모노카르복실산, 또는 상기 산의 혼합물이 중축합물의 총 중량에 대해 8 중량% 내지 38 중량%, 더욱 10 중량% 내지 35 중량% 를 나타내는 중축합물.
제 46 항 내지 제 52 항 중 어느 한 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산이 화학식 R'COOH (식 중, R' 는 탄소수 6 내지 10 의 방향족 탄화수소계 라디칼, 특히 벤조산 및 나프토산 라디칼이고; 상기 라디칼 R' 는 또한 탄소수 1 내지 32 의, 특히 2 내지 12 의 또는 더욱 탄소수 3 내지 8 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 치환될 수 있고; 특히 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, tert-부틸, 펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, 시클로펜틸, 헥실, 시클로헥실, 헵틸, 이소헵틸, 옥틸 및 이소옥틸로부터 선택됨) 의 것인 중축합물.
제 46 항 내지 제 53 항 중 어느 한 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산이 단독 또는 혼합물로서 벤조산, o-톨루산, m-톨루산, p-톨루산, 1-나프토산, 2-나프토산, 4-tert-부틸벤조산, 1-메틸-2-나프토산 및 2-이소프로필-1-나프토산으로부터 선택되는 중축합물.
제 46 항 내지 제 54 항 중 어느 한 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산, 또는 상기 산의 혼합물이 중축합물의 총 중량에 대해 20 중량% 내지 52 중량%, 또는 더욱 22 중량% 내지 52 중량%, 더욱 25 중량% 내지 50 중량% 를 나타내는 중축합물.
제 46 항 내지 제 55 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리카르복실산이 탄소수 2 내지 20 의, 특히 3 내지 18 의, 더욱 탄소수 4 내지 12 의, 또는 더욱 탄소수 4 내지 10 의 선형, 분지형 및/또는 시클릭, 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족 폴리카르복실산으로부터 선택되고; 상기 산이 2 이상의 카르복실기 COOH, 바람직하게는 2 내지 4 의 COOH 기를 포함하는 중축합물.
제 46 항 내지 제 55 항 중 어느 한 항에 있어서, 시클릭 무수물이 하기 화학식 중 하나에 해당하는 중축합물:

(식 중, A 및 B 기는 서로 독립적으로:

- 수소 원자;

- 탄소수 1 내지 16 의, 특히 탄소수 2 내지 10 의 또는 더욱 탄소수 4 내지 8 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 지방족, 또는 대안적으로는 방향족 탄소계 라디칼; 특히 메틸 또는 에틸이고;

- 또는 대안적으로는 A 및 B 는 함께, 총 탄소수 5 내지 7 의, 특히 6 의 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족 고리를 형성함).
제 46 항 내지 제 57 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리카르복실산, 또는 그의 무수물이 하기로부터 단독 또는 혼합물로서 선택되는 중축합물:

- 데칸디오산, 도데칸디오산, 시클로프로판디카르복실산, 시클로헥산디카르복실산, 시클로부탄디카르복실산, 나프탈렌-1,4-디카르복실산, 나프탈렌-2,3-디카르복실산, 나프탈렌-2,6-디카르복실산, 수베르산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 프탈산, 테레프탈산, 이소프탈산, 피멜산, 세바스산, 아젤라산, 글루타르산, 아디프산, 푸마르산 또는 말레산과 같은 디카르복실산;

- 시클로헥산트리카르복실산, 트리멜리트산, 1,2,3-벤젠트리카르복실산 또는 1,3,5-벤젠트리카르복실산과 같은 트리카르복실산;

- 부탄테트라카르복실산 및 피로멜리트산과 같은 테트라카르복실산;

- 상기 산의 시클릭 무수물, 특히 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 말레산 무수물 및 숙신산 무수물.
제 46 항 내지 제 58 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리카르복실산 및/또는 그의 시클릭 무수물이 중축합물의 총 중량에 대해 11 중량% 내지 22 중량%, 더욱 특히 12 중량% 내지 20 중량% 를 나타내는 중축합물.
제 46 항 내지 제 59 항 중 어느 한 항에 있어서, 중축합물이 또한 히드록실 (OH) 및/또는 카르복실 (COOH) 작용기를 함유하는 하나 이상의 실리콘을 포함하는 중축합물.
제 46 항 내지 제 60 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 실리콘이 하기 화학식의 것인 중축합물:

(식 중:

- W 및 W' 는 서로 독립적으로 OH 또는 COOH 이고; 바람직하게는, W = W' 이고;

- p 및 q 는 서로 독립적으로 0 또는 1 이고;

- R 및 R' 는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 12 의, 특히 탄소수 2 내지 8 의, 임의로 또한 O, S 및 N 으로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자, 특히 O (에테르) 를 포함하는 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족, 선형, 분지형 및/또는 시클릭 탄소계, 특히 탄화수소계 2가 라디칼이고;

R 및/또는 R' 는 특히 화학식 -(CH₂)_a- (a = 1-12 임) 의 것, 특히 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌 또는 페닐렌일 수 있고;

또는 대안적으로는 화학식 -[(CH₂)_xO]_z- (x = 1, 2 또는 3, z = 1-10 이고; 특히 x = 2 또는 3, z = 1-4 이고; 더욱 특히 x = 3, z = 1 임) 의 것일 수 있고;

- R1 내지 R6 은 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 20 의, 특히 탄소수 2 내지 12 의 선형, 분지형 및/또는 시클릭, 포화 또는 불포화, 또는 심지어 방향족 탄소계 라디칼이고;

바람직하게는, R1 내지 R6 은 포화 또는 방향족이고, 특히 알킬 라디칼, 특히 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 옥틸, 데실, 도데실 및 옥타데실 라디칼, 시클로알킬 라디칼, 특히 시클로헥실 라디칼, 아릴 라디칼, 특히 페닐 및 나프틸, 아릴알킬 라디칼, 특히 벤질 및 페닐에틸, 및 또한 톨릴 및 자일릴 라디칼로부터 선택될 수 있고;

- m 및 n 은 서로 독립적으로 1 내지 140 의 정수이고, 실리콘의 중량-평균 분자 질량 (Mw) 이 300 내지 20 000, 특히 400 내지 10 000 또는 더욱 800 내지 4000 이 되도록 하는 정도임).
제 60 항 또는 제 61 항에 있어서, 실리콘이 단독 또는 혼합물로서 α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리알킬실록산, 특히 α,ω-디올 폴리디메틸실록산 및 α,ω-디카르복실 폴리디메틸실록산; α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리아릴실록산, 특히 α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리페닐실록산; 폴리페닐실록산과 같은 실라놀 작용기를 함유하는 폴리아릴실록산; 폴리디메틸실록산과 같은 실라놀 작용기를 함유하는 폴리알킬실록산; 폴리페닐/메틸실록산 또는 폴리페닐/프로필실록산과 같은 실라놀 작용기를 함유하는 폴리아릴/알킬실록산으로부터 선택되는 중축합물.
제 60 항 내지 제 62 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘이 중축합물의 총 중량에 대해 0.1 중량% 내지 15 중량%, 특히 1 중량% 내지 10 중량% 또는 더욱 2 중량% 내지 8 중량% 를 나타내는 중축합물.
하기로 이루어지는 제 46 항 내지 제 63 항 중 어느 한 항에 따른 중축합물의 제조 방법:

- 폴리올과 방향족 및 비-방향족 모노카르복실산을 혼합함,

- 비활성 분위기 하에서 혼합물을 먼저 융점 (일반적으로 100-130℃) 으로, 그 다음 모노카르복실산이 완전히 소비될 때까지 150 내지 220℃ 의 온도로 가열시 킴, 그 다음

- 임의로 혼합물을 90 내지 150℃ 의 온도로 냉각시킴,

- 폴리카르복실산 및/또는 시클릭 무수물, 및 임의로 히드록실 또는 카르복실 작용기를 함유하는 실리콘을 첨가함, 및 그 다음

- 220℃ 로 또는 그 미만의 온도로 다시 가열시킴.
제 64 항에 있어서, 하나 이상의 항산화제를 반응 매질에, 특히 단량체의 총 중량에 대해 0.01% 내지 1% 의 중량 농도로 첨가하는 방법.
제 65 항에 있어서, 항산화제가 BHT, BHA, TBHQ, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)벤젠, 옥타데실 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시신나메이트, 메탄테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 옥타데실 3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트 2,5-디-tert-부틸히드로퀴논, 2,2-메틸비스(4-메틸-6-tert-부틸페놀), 2,2-메틸렌비스(4-에틸-6-tert-부틸페놀), 4,4-부틸리덴비스(6-tert-부틸-m-크레졸), N,N-헥사메틸렌비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시히드로신남아미드), 펜타에리트리톨테트라키스(3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트); 옥타데실 3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트; 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)-트리온; 디(스테아릴)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트; 디라우릴 티오디프로피 오네이트; 비스(2,4-디-tert-부틸)펜타에리트리톨 디포스파이트; 비스(2,4-비스)[2-페닐프로판-2-일]페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리페닐 포스파이트, (2,4-디-tert-부틸페닐) 펜타에리트리톨 디포스파이트; 트리스(노닐페닐) 포스파이트; N,N-헥사메틸렌비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시히드로신남아미드) 와 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스페이트의 1:1 혼합물; 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트; 디스테아릴 티오디프로피오네이트; 2,4-비스(옥틸티오메틸)-o-크레졸; 4,6-비스(도데실티오메틸)-o-크레졸로부터 선택되는 방법.