KR100847713B1 - 중축합물을 포함하는 화장 또는 약학 조성물, 상기조성물을 사용하는 화장 처리 방법, 상기 중축합물, 및그의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (66)
- 화장적으로 또는 약학적으로 허용가능한 매질 중에, 하기의 중축합에 의해 얻어진 중축합물을 포함하는 화장 조성물:- 중축합물의 총 중량에 대해 15 중량% 내지 30 중량% 의, 탄소수가 3 내지 18 이고, 3 내지 6 의 히드록실기를 포함하는 하나 이상의 폴리올;- 중축합물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 40 중량% 의, 탄소수 6 내지 32 의 하나 이상의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 또는 시클릭 비-방향족 모노카르복실산;- 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 55 중량% 의, 탄소수 7 내지 11 의 하나 이상의 방향족 모노카르복실산 (이것은 또한 탄소수 1 내지 32 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 또는 시클릭 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 임의로 치환됨);- 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 25 중량% 의, 탄소수가 2 내지 20 이고, 2 이상의 카르복실기 COOH 를 포함하는 하나 이상의 포화 또는 불포화, 또는 방향족, 선형, 분지형 또는 시클릭 폴리카르복실산 또는 그러한 폴리카르복실산의 시클릭 무수물 또는 이들 모두.
- 제 1 항에 있어서, 폴리올이 3 내지 4 의 히드록실기를 포함하는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 폴리올이 탄소수 3 내지 18 의, 3 내지 6 의 히드록실 (OH) 기를 함유하고, 또한 가능하게는 쇄 중에 삽입된 하나 이상의 산소 원자 (에테르 작용기) 를 포함하는 선형, 분지형 또는 시클릭, 포화 또는 불포화 탄소계 화합물인 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 폴리올이 탄소수 3 내지 18 의, 3 내지 6 의 히드록실 (OH) 기를 함유하는 포화 선형 또는 분지형 탄화수소계 화합물인 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 폴리올이 하기로부터 단독 또는 혼합물로서 선택되는 조성물:- 트리올;- 테트라올;- 펜톨;- 헥솔; 또는 대안적으로는 디펜타에리트리톨 또는 트리글리세롤.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 폴리올이 글리세롤, 펜타에리트리톨 및 소르비톨, 및 그의 혼합물로부터 선택되는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 폴리올, 또는 폴리올 혼합물이 중축합물의 총 중량에 대해 16 중량% 내지 28 중량% 를 나타내는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 비-방향족 모노카르복실산이 화학식 RCOOH (식 중, R 은 탄소수 5 내지 31 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 또는 시클릭 탄화수소계 라디칼임) 의 것인 조성물.
- 제 8 항에 있어서, 라디칼 R 이 포화된 조성물.
- 제 8 항 있어서, 라디칼 R 이 선형 또는 분지형인 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 비-방향족 모노카르복실산이 하기로부터 단독 또는 혼합물로서 선택되는 조성물:- 포화 모노카르복실산;- 불포화, 그러나 비-방향족 모노카르복실산.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 비-방향족 모노카르복실산이 2-에틸헥산산, 이소옥탄산, 라우르산, 팔미트산 및 이소스테아르산, 및 그의 혼합물로부터 선택되는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 비-방향족 모노카르복실산, 또는 상기 산의 혼합물이 중축합물의 총 중량에 대해 8 중량% 내지 38 중량% 를 나타내는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산이 화학식 R'COOH (식 중, R' 는 탄소수 6 내지 10 의 방향족 탄화수소계 라디칼이고; 상기 라디칼 R' 는 또한 탄소수 1 내지 32 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 또는 시클릭 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 치환될 수 있음) 의 것인 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산이 벤조산, o-톨루산, m-톨루산, p-톨루산, 1-나프토산, 2-나프토산, 4-tert-부틸벤조산, 1-메틸-2-나프토산 및 2-이소프로필-1-나프토산으로부터 단독 또는 혼합물로서 선택되는 조성물.
- 제 1 또는 제 2 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산이 단독 또는 혼합물로서 벤조산, o-톨루산, m-톨루산 및 1-나프토산으로부터 선택되는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산, 또는 상기 산의 혼합물이 중축합물의 총 중량에 대해 20 중량% 내지 52 중량% 를 나타내는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 폴리카르복실산이 탄소수 2 내지 20 의 선형, 분지형 또는 시클릭, 포화 또는 불포화, 또는 방향족 폴리카르복실산으로부터 선택되고; 상기 산이 2 이상의 카르복실기 COOH 를 포함하는 조성물.
- 제 18 항에 있어서, 상기 폴리카르복실산이 포화 선형 지방족 산이고, 탄소수가 2 내지 20 인 조성물.
- 제 18 항에 있어서, 상기 폴리카르복실산이 방향족이고, 탄소수가 8 내지 12 인 조성물.
- 제 21 항에 있어서, A 및 B 는 수소 원자를 나타내거나, 함께 총 탄소수 6 의 방향족 고리를 형성하는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 폴리카르복실산, 그의 무수물 또는 이들 모두가 하기로부터 단독 또는 혼합물로서 선택되는 조성물:- 디카르복실산;- 트리카르복실산;- 테트라카르복실산;- 상기 산의 시클릭 무수물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 폴리카르복실산, 그의 무수물 또는 이들 모두가 프탈산 무수물, 이소프탈산 또는 이들 모두로부터 선택되는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 폴리카르복실산, 그의 시클릭 무수물 또는 이들 모두가 중축합물의 총 중량에 대해 11 중량% 내지 22 중량% 를 나타내는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 중축합물이 또한 히드록실 (OH), 카르복실 (COOH) 또는 이들 모두의 작용기를 함유하는 하나 이상의 실리콘을 포함하는 조성물.
- 제 26 항에 있어서, 실리콘의 중량-평균 분자 질량 (Mw) 이 300 내지 20 000 인 조성물.
- 제 26 항에 있어서, 상기 실리콘이 하기 화학식의 것인 조성물:(식 중:- W 및 W' 는 서로 독립적으로 OH 또는 COOH 이고;- p 및 q 는 서로 독립적으로 0 또는 1 이고;- R 및 R' 는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 12 의 임의로 또한 O, S 및 N 으로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자를 포함하는 포화 또는 불포화, 또는 방향족, 선형, 분지형 또는 시클릭 탄소계 2가 라디칼이고;또는 대안적으로는 화학식 -[(CH2)xO]z- (x = 1, 2 또는 3, z = 1-10 임) 의 것일 수 있고;- R1 내지 R6 은 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 20 의 선형, 분지형 또는 시클릭, 포화 또는 불포화, 또는 방향족 탄소계 라디칼이고;- m 및 n 은 서로 독립적으로 1 내지 140 의 정수이고, 실리콘의 중량-평균 분자 질량 (Mw) 이 300 내지 20 000 이 되도록 하는 정도임).
- 제 26 항에 있어서, 실리콘이 단독 또는 혼합물로서 α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리알킬실록산; α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리아릴실록산; 실라놀 작용기를 함유하는 폴리아릴실록산; 실라놀 작용기를 함유하는 폴리알킬실록산; 실라놀 작용기를 함유하는 폴리아릴/알킬실록산으로부터 선택되는 조성물.
- 제 26 항에 있어서, 실리콘이 중량-평균 분자 질량 (Mw) 400 내지 10 000 의 α,ω-디올 폴리디메틸실록산으로부터 선택되는 조성물.
- 제 26 항에 있어서, 실리콘이 중축합물의 총 중량에 대해 0.1 중량% 내지 15 중량% 를 나타내는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산의 몰 수 및 비-방향족 모노카르복실산의 몰 수의 비가 1.2 내지 8 인 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 중축합물이 하기의 중축합에 의해 얻어진 조성물:- 단독 또는 혼합물로서 1,2,6-헥산트리올, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 글리세롤; 펜타에리트리톨, 에리트리톨, 디글리세롤, 디트리메틸올프로판; 자일리톨, 소르비톨, 만니톨, 디펜타에리트리톨 또는 트리글리세롤로부터 선택되는 하나 이상의 폴리올;- 단독 또는 혼합물로서 카프로산, 카프릴산, 이소헵탄산, 4-에틸펜탄산, 2-에틸헥산산, 4,5-디메틸헥산산, 2-헵틸헥산산, 3,5,5-트리메틸헥산산, 옥탄산, 이소옥탄산, 노난산, 데칸산, 이소노난산, 라우르산, 트리데칸산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 이소스테아르산, 아라키드산, 베헨산, 세로트산 (헥사코산산); 시클로펜탄카르복실산, 시클로펜탄아세트산, 3-시클로펜틸프로피온산, 시클로헥산카르복실산, 시클로헥실아세트산 또는 4-시클로헥실부티르산으로부터 선택되는 하나 이상의 비-방향족 모노카르복실산;- 단독 또는 혼합물로서 벤조산, o-톨루산, m-톨루산, p-톨루산, 1-나프토산, 2-나프토산, 4-tert-부틸벤조산, 1-메틸-2-나프토산 및 2-이소프로필-1-나프토산으로부터 선택되는 하나 이상의 방향족 모노카르복실산; 및- 단독 또는 혼합물로서 데칸디오산, 도데칸디오산, 시클로프로판디카르복실산, 시클로헥산디카르복실산, 시클로부탄디카르복실산, 나프탈렌-1,4-디카르복실산, 나프탈렌-2,3-디카르복실산, 나프탈렌-2,6-디카르복실산, 수베르산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 프탈산, 테레프탈산, 이소프탈산, 피멜산, 세바스산, 아젤라산, 글루타르산, 아디프산, 푸마르산 또는 말레산; 시클로헥산트리카르복실산, 트리멜리트산, 1,2,3-벤젠트리카르복실산, 1,3,5-벤젠트리카르복실산; 부탄테트라카르복실산, 피로멜리트산, 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 말레산 무수물 및 숙신산 무수물로부터 선택되는 하나 이상의 폴리카르복실산, 그의 무수물 또는 이들 모두.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 중축합물이 하기의 중축합에 의해 얻어진 조성물:- 단독 또는 혼합물로서 글리세롤, 펜타에리트리톨 및 소르비톨, 및 그의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 폴리올; 최종 중축합물의 총 중량에 대해 15 중량% 내지 30 중량% 의 양으로 존재함;- 단독 또는 혼합물로서 2-에틸헥산산, 이소옥탄산, 라우르산, 팔미트산 및 이소스테아르산, 및 그의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 비-방향족 모노카르복실산; 최종 중축합물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 40 중량% 의 양으로 존재함;- 단독 또는 혼합물로서 벤조산, o-톨루산, m-톨루산 및 1-나프토산으로부터 선택되는 하나 이상의 방향족 모노카르복실산; 최종 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 55 중량% 의 양으로 존재함; 및- 단독 또는 혼합물로서 프탈산 무수물, 이소프탈산 또는 이들 모두로부터 선택되는 하나 이상의 폴리카르복실산, 그의 무수물 또는 이들 모두; 최종 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 25 중량% 의 양으로 존재함.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 중축합물이 하기 특성 중 하나 이상을 갖는 조성물:- 산가 (중축합물 g 당 수산화칼륨 mg 으로 표현됨) 가 8 또는 그 초과임; 또는- 히드록실 수 (중축합물 g 당 수산화칼륨 mg 으로 표현됨) 가 30 또는 그 초과임;- 110℃ 에서 측정된 점도가 75 내지 6000 mPa.s 임;- 25℃ 에서 부틸 아세테이트 또는 에틸 아세테이트 중의 용해도가 50 중량% 이상의 비율임;- 25℃ 에서 70 중량% 의 농도의 부틸 아세테이트 또는 에틸 아세테이트 중의 중합체의 용액의 점도가 100 내지 1500 mPa.s 임.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 중축합물이 최종 화장 조성물의 중량에 대해 0.1 중량% 내지 70 중량% 의 양으로 존재하는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화장적으로 또는 약학적으로 허용가능한 매질이 물, 알코올, 폴리올, 케톤, 에스테르, 에테르, 알칸, 알데히드, 탄소계 오일, 실리콘유 및 플루오로실리콘유, 및 그의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함하는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화장적으로 또는 약학적으로 허용가능한 매질이 하기로부터 선택되는 하나 이상의 유기 용매를 포함하는 조성물:- 실온 (25℃) 에서 액체인 케톤;- 실온에서 액체인 알코올;- 실온에서 액체인 프로필렌 글리콜 에테르;- 시클릭 에테르;- 단쇄 에스테르 (총 탄소수 3 내지 8);- 실온에서 액체인 에테르;- 실온에서 액체인 알칸;- 실온에서 액체인 알데히드;- 및 그의 혼합물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화장적으로 또는 약학적으로 허용가능한 매질이 탄소수 3 내지 8 의 단쇄 에스테르; 실온에서 액체인 알코올; 및 그의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 용매를 포함하는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화장적으로 또는 약학적으로 허용가능한 매질이 광물, 동물, 식물 또는 합성 기원의 탄소계, 탄화수소계, 플루오로 또는 실리콘유 또는 탄소계, 탄화수소계 또는 플루오로 및 실리콘유; 막-형성 중합체; 보조의 막-형성제; 증점제; 2차 수지; 식물, 동물, 광물 또는 합성 기원의 왁스; 색소; 항산화제, 향제, 에센셜 오일, 방부제, 화장용 활성제, 보습제, 비타민, 세라마이드, 썬 스크린, 계면활성제, 확산제, 습윤제, 분산제, 소포제, 중화제 및 안정화제, 및 그의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 성분을 포함하는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 하기를 포함하는 조성물:- 화장 조성물의 중량에 대해 0.1 중량% 내지 50 중량% 의, 단독 또는 혼합물로서의 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 중축합물;- 화장 조성물의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 70 중량% 의 셀룰로오스계 중합체; 폴리우레탄, 아크릴계 중합체, 비닐 중합체, 폴리비닐 부티랄, 알키드 수지, 알데히드의 축합 생성물 유래 수지, 아릴술폰아미드-에폭시 수지 또는 에틸토실아미드 수지; 천연 기원의 중합체; 및 그의 혼합물로부터 선택되는 막-형성 중합체;- 화장 조성물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 95 중량% 의, 실온에서 액체인 케톤; 실온에서 액체인 알코올; 실온에서 액체인 프로필렌 글리콜 에테르; 시클릭 에테르; 단쇄 에스테르 (총 탄소수 3 내지 8); 실온에서 액체인 에테르; 실온에서 액체인 알칸; 실온에서 액체인 알데히드; 및 그의 혼합물로부터 선택되는 유기 용매;- 임의로, 조성물의 중량에 대해 0.01 중량% 내지 50 중량% 의 함량으로 조성물 중에 존재할 수 있는 하나 이상의 색소.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 신체 또는 얼굴 피부, 입술, 속눈썹, 눈썹, 모발, 두피 또는 손톱의 관리, 메이크업 또는 이들 모두의 제품; 안티썬 또는 셀프-태닝 제품; 모발관리 제품의 형태인 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 네일 바니시의 형태인 조성물.
- 케라틴 물질의 화장 방법으로서, 제 1 항 또는 제 2 항에서 정의된 화장 조성물을 상기 물질에 적용하는 것을 포함하는 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에서 정의된 화장 조성물을 손톱에 적용하는 것을 포함하는 손톱의 메이크업을 위한 화장 방법.
- 하기의 중축합에 의해 얻어진 중축합물:- 중축합물의 총 중량에 대해 15 중량% 내지 30 중량% 의, 탄소수가 3 내지 18 이고, 3 내지 6 의 히드록실기를 포함하는 하나 이상의 폴리올;- 중축합물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 40 중량% 의, 탄소수 6 내지 32 의 하나 이상의 포화, 선형, 분지형 또는 시클릭 비-방향족 모노카르복실산;- 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 55 중량% 의, 탄소수 7 내지 11 의 하나 이상의 방향족 모노카르복실산 (이것은 또한 탄소수 1 내지 32 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 또는 시클릭 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 임의로 치환됨);- 중축합물의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 25 중량% 의, 탄소수가 2 내지 20 이고, 2 이상의 카르복실기 COOH 를 포함하는 하나 이상의 포화 또는 불포화, 또는 방향족, 선형, 분지형 또는 시클릭 폴리카르복실산, 그러한 폴리카르복실산의 시클릭 무수물 또는 이들 모두.
- 제 46 항에 있어서, 폴리올이 탄소수 3 내지 18 의, 3 내지 6 의 히드록실 (OH) 기를 함유하고, 또한 가능하게는 쇄 중에 삽입된 하나 이상의 산소 원자 (에테르 작용기) 를 포함하는 선형, 분지형 또는 시클릭, 포화 또는 불포화 탄소계 화합물인 중축합물.
- 제 46 항 또는 제 47 항에 있어서, 폴리올이 하기로부터 단독 또는 혼합물로서 선택되는 중축합물:- 트리올 ;- 테트라올;- 펜톨;- 헥솔; 또는 대안적으로는 디펜타에리트리톨 또는 트리글리세롤.
- 제 46 항 또는 제 47 항에 있어서, 폴리올, 또는 폴리올 혼합물이 중축합물의 총 중량에 대해 16 중량% 내지 28 중량% 를 나타내는 중축합물.
- 제 46 항 또는 제 47 항에 있어서, 포화 비-방향족 모노카르복실산이 화학식 RCOOH (식 중, R 은 탄소수 5 내지 31 의 포화, 선형, 분지형 또는 시클릭 탄화수소계 라디칼임) 의 것인 중축합물.
- 제 46 항 또는 제 47 항에 있어서, 비-방향족 모노카르복실산이 단독 또는 혼합물로서 카프로산, 카프릴산, 이소헵탄산, 4-에틸펜탄산, 2-에틸헥산산, 4,5-디메틸헥산산, 2-헵틸헵탄산, 3,5,5-트리메틸헥산산, 옥탄산, 이소옥탄산, 노난산, 데칸산, 이소노난산, 라우르산, 트리데칸산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 이소스테아르산, 아라키드산, 베헨산, 세로트산 (헥사코산산); 시클로펜탄카르복실산, 시클로펜탄아세트산, 3-시클로펜틸프로피온산, 시클로헥산카르복실산, 시클로헥실아세트산 또는 4-시클로헥실부티르산으로부터 선택되는 중축합물.
- 제 46 항 또는 제 47 항에 있어서, 비-방향족 모노카르복실산, 또는 상기 산의 혼합물이 중축합물의 총 중량에 대해 8 중량% 내지 38 중량% 를 나타내는 중축합물.
- 제 46 항 또는 제 47 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산이 화학식 R'COOH (식 중, R' 는 탄소수 6 내지 10 의 방향족 탄화수소계 라디칼이고; 상기 라디칼 R' 는 또한 탄소수 1 내지 32 의 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 또는 시클릭 알킬 라디칼 1 내지 3 개로 치환될 수 있음) 의 것인 중축합물.
- 제 46 항 또는 제 47 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산이 단독 또는 혼합물로서 벤조산, o-톨루산, m-톨루산, p-톨루산, 1-나프토산, 2-나프토산, 4-tert-부틸벤조산, 1-메틸-2-나프토산 및 2-이소프로필-1-나프토산으로부터 선택되는 중축합물.
- 제 46 항 또는 제 47 항에 있어서, 방향족 모노카르복실산, 또는 상기 산의 혼합물이 중축합물의 총 중량에 대해 20 중량% 내지 52 중량% 를 나타내는 중축합물.
- 제 46 항 또는 제 47 항에 있어서, 폴리카르복실산이 탄소수 2 내지 20 의 선형, 분지형 또는 시클릭, 포화 또는 불포화, 또는 방향족 폴리카르복실산으로부터 선택되고; 상기 산이 2 이상의 카르복실기 COOH 를 포함하는 중축합물.
- 제 46 항 또는 제 47 항에 있어서, 폴리카르복실산, 그의 무수물 또는 이들 모두가 하기로부터 단독 또는 혼합물로서 선택되는 중축합물:- 디카르복실산;- 트리카르복실산;- 테트라카르복실산;- 상기 산의 시클릭 무수물.
- 제 46 항 또는 제 47 항에 있어서, 폴리카르복실산, 그의 시클릭 무수물 또는 이들 모두가 중축합물의 총 중량에 대해 11 중량% 내지 22 중량% 를 나타내는 중축합물.
- 제 46 항 또는 제 47 항에 있어서, 중축합물이 또한 히드록실 (OH), 카르복실 (COOH) 또는 이들 모두의 작용기를 함유하는 하나 이상의 실리콘을 포함하는 중축합물.
- 제 46 항 또는 제 47 항에 있어서, 상기 실리콘이 하기 화학식의 것인 중축합물:(식 중:- W 및 W' 는 서로 독립적으로 OH 또는 COOH 이고;- p 및 q 는 서로 독립적으로 0 또는 1 이고;- R 및 R' 는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 12 의, 임의로 또한 O, S 및 N 으로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자를 포함하는 포화 또는 불포화, 또는 방향족, 선형, 분지형 또는 시클릭 탄소계 2가 라디칼이고;또는 대안적으로는 화학식 -[(CH2)xO]z- (x = 1, 2 또는 3, z = 1-10 임) 의 것일 수 있고;- R1 내지 R6 은 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 20 의 선형, 분지형 또는 시클릭, 포화 또는 불포화, 또는 방향족 탄소계 라디칼이고;- m 및 n 은 서로 독립적으로 1 내지 140 의 정수이고, 실리콘의 중량-평균 분자 질량 (Mw) 이 300 내지 20 000 이 되도록 하는 정도임).
- 제 60 항에 있어서, 실리콘이 단독 또는 혼합물로서 α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리알킬실록산; α,ω-디올 또는 α,ω-디카르복실 폴리아릴실록산; 실라놀 작용기를 함유하는 폴리아릴실록산; 실라놀 작용기를 함유하는 폴리알킬실록산; 실라놀 작용기를 함유하는 폴리아릴/알킬실록산으로부터 선택되는 중축합물.
- 제 60 항에 있어서, 실리콘이 중축합물의 총 중량에 대해 0.1 중량% 내지 15 중량% 를 나타내는 중축합물.
- 하기로 이루어지는 제 46 항 또는 제 47 항에 따른 중축합물의 제조 방법:- 폴리올과 방향족 및 비-방향족 모노카르복실산을 혼합함,- 비활성 분위기 하에서 혼합물을 먼저 융점으로, 그 다음 모노카르복실산이 완전히 소비될 때까지 150 내지 220℃ 의 온도로 가열시킴, 그 다음- 임의로 혼합물을 90 내지 150℃ 의 온도로 냉각시킴,- 폴리카르복실산, 시클릭 무수물 또는 이들 모두, 및 임의로 히드록실 또는 카르복실 작용기를 함유하는 실리콘을 첨가함, 및 그 다음- 220℃ 로 또는 그 미만의 온도로 다시 가열시킴.
- 제 64 항에 있어서, 하나 이상의 항산화제를 반응 매질에, 단량체의 총 중량에 대해 0.01% 내지 1% 의 중량 농도로 첨가하는 방법.
- 제 65 항에 있어서, 항산화제가 BHT, BHA, TBHQ, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)벤젠, 옥타데실 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시신나메이트, 메탄테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 옥타데실 3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트 2,5-디-tert-부틸히드로퀴논, 2,2-메틸비스(4-메틸-6-tert-부틸페놀), 2,2-메틸렌비스(4-에틸-6-tert-부틸페놀), 4,4-부틸리덴비스(6-tert-부틸-m-크레졸), N,N-헥사메틸렌비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시히드로신남아미드), 펜타에리트리톨테트라키스(3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트); 옥타데실 3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트; 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)-트리온; 디(스테아릴)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트; 디라우릴 티오디프로피 오네이트; 비스(2,4-디-tert-부틸)펜타에리트리톨 디포스파이트; 비스(2,4-비스)[2-페닐프로판-2-일]페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리페닐 포스파이트, (2,4-디-tert-부틸페닐) 펜타에리트리톨 디포스파이트; 트리스(노닐페닐) 포스파이트; N,N-헥사메틸렌비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시히드로신남아미드) 와 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스페이트의 1:1 혼합물; 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트; 디스테아릴 티오디프로피오네이트; 2,4-비스(옥틸티오메틸)-o-크레졸; 4,6-비스(도데실티오메틸)-o-크레졸로부터 선택되는 방법.
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