KR20070065911A - 4-(3-메탄설폰일페닐)-1-ｎ-프로필-피페리딘의 합성 공정 - Google Patents

4-(3-메탄설폰일페닐)-1-ｎ-프로필-피페리딘의 합성 공정 Download PDF

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Abstract

본 발명은 4-(3-메탄설폰일-페닐)-1-n-프로필피페리딘(I) 또는 이의 약제학적으로 수용가능한 염을 제제하기 위한 공정에 관한 것으로서, 상기 공정은: 식(III)의 화합물을 제공하기 위하여 식(III)의 화합물의 촉매 환원보다 앞서 촉매 산화제 및 옥시던트로 식(II)의 설파이드를 산화시키는 단계를 포함한다.
Figure 112007035389177-PCT00020
촉매 산화제, 옥시던트, 촉매 환원, 4-(3-메탄설폰일-페닐)-1-n-프로필피페리딘, 설파이드,

Description

4-(3-메탄설폰일페닐)-1-Ｎ-프로필-피페리딘의 합성 공정{PROCESS FOR THE SYNTHESIS OF 4-(3-METHANESULFONYLPHENYL)-1-N-PROPYL-PIPERIDINE}
4-(3-메탄설폰일페닐)-1-n-프로필피페리딘은 도파민 뉴로트랜스미션의 모듈레이터로서 유용하고 예를 들어 알쯔하이머 질병, 파킨슨 질병 및 정신분열증을 치료하는데 적용된다.
4-(3-메탄설폰일페닐)-1-n-프로필피페리딘을 제제하기 위한 합성 방법은 PCT 특허 공개 WO 01/46145호에 서술된다.
본 발명을 따르면, 4-(3-메탄설폰일페닐)-1-n-프로필피페리딘 및 이의 약제학적으로 수용가능한 염을 제제하기 위한 공정이 제공된다. 이 공정은 합성 단계 수를 최소화하면서 고 수율 및 순도의 4-(3-메탄설폰일페닐)-1-N-프로필피페리딘을 제공한다.
본 발명은 식 I
Figure 112007035389177-PCT00001
의 4-(3-메탄설폰일페닐)-1-n-프로필피페리딘 및 이의 약제학적으로 수용가능한 염을 제제하는 공정에 관한 것이다.
본 발명은 약제로서 유용한 4-(3-메탄설폰일페닐)-1-n-프로필피페리딘의 제제를 위한 공정에 관한 것이다.
본 발명의 실시양태는 식 I
Figure 112007035389177-PCT00002
의 4-(3-메탄설폰일페닐)-1-n-프로필피페리딘 또는 이의 약제학적으로 수용가능한 염을 제제하기 위한 공정에 관한 것으로서, 이 공정은 식(I)
Figure 112007035389177-PCT00003
의 화합물 또는 이의 약제학적으로 수용가능한 염을 제공하기 위하여 식 III의 화합물의 촉매 환원보다 앞서 식 III
Figure 112007035389177-PCT00004
의 화합물을 제공하기 위하여 촉매 산화제 및 옥시던트로 식(II)
Figure 112007035389177-PCT00005
의 설파이드를 산화시키는 단계를 포함한다.
본 발명의 부가적인 실시양태는 식(I)
Figure 112007035389177-PCT00006
의 4-(3-메탄설폰일페닐)-1-n-프로필피페리딘 또는 이의 약제학적으로 수용가능한 염을 제제하는 공정에 관한 것으로서, 이 공정은 식 II
Figure 112007035389177-PCT00007
의 설파이들을 제공하기 위하여 강산으로 식 Ia
Figure 112007035389177-PCT00008
의 알콜을 탈수하는 단계; 및
식 I
Figure 112007035389177-PCT00009
의 화합물 또는 이의 약제학적으로 수용가능한 염을 제공하기 위하여 식 III
의 화합물의 촉매 환원보다 앞서 식 III
Figure 112007035389177-PCT00010
의 화합물을 제공하기 위하여 촉매 산화제 및 옥시던트로 식 II의 설파이드를 산화시키는 단계를 포함한다.
본 발명의 실시양태에서, 강산은 강 무기산 또는 강 유기산이다. 본 발명의 실시양태에서, 강산은 황산, 염산, 불산, 질산 및 트리플루오르아세트산으로부터 선택된다. 선택적으로, 강산으로 식 Ia의 알콜의 탈수는 용매에서 행해진다. 본 발명의 실시양태에서, 용매는 톨루엔, 크실렌, 헥산 및 물로부터 선택된다.
본 발명의 실시양태에서, 촉매 산화제는 텅스텐, 루테늄, 몰리브덴, 오스뮴 또는 크롬 산화제이다.
본 발명의 실시양태에서, 촉매 산화제는 텅스텐 산화제이다. 이 실시양태의 양상에서, 텅스텐 산화제는 소듐 텅스테이트이다.
본 발명의 실시양태에서, 옥시던트는 페록사이드이다. 이 실시양태의 양상에서, 페록사이드는 소뮴 페록사이드, 하이드로젠 페록사이드, 소듐 히포클로라이트, 소듐 브로메이트, 소듐 피리오데이트, 페록시아세트산 또는 페록신벤조닉 산이다. 이 실시양태의 부가적인 양상에서, 페록사이드는 소듐 페록사이드이다. 이 실시양태 내에서, 페록사이드는 소듐 페록사이드의 수용액이다.
본 발명의 실시양태에서, 식 II의 설파이드를 산화시키는 단계는 3pH 보다 적은 상태에서 행해진다. 이 실시양태에서, 식 II의 설파이드를 산화시키는 단계는 2pH보다 적은 상태에서 행해진다. 또한 이 실시양태에서, 식 II의 설파이드를 산화시키는 단계는 1pH보다 적은 상태에서 행해진다.
본 발명의 실시양태에서, 식 II의 설파이드를 산화시키는 단계는 30℃(포괄적)보다 큰 온도에서 행해진다. 이 실시양태에서, 식 II의 설파이드를 산화시키는 단계는 40℃(포괄적)보다 큰 온도에서 행해진다. 부가적인 실시양태에서, 식 II의 설파이드를 산화시키는 단계는 40℃ 및 60℃ (포괄적) 사이의 온도에서 행해진다. 또한 이 실시양태에서, 식 II의 설파이드를 산화시키는 단계는 50℃ 및 55℃ (포괄적) 사이의 온도에서 행해진다.
식 II의 설파이드를 산화시키는 단계를 행하는 바람직한 용매는 톨루엔, 테트라하이드로퓨란(THF), 디에틸 에테르, 다이글림 및 메틸 티-부틸 에테르로부터 선택되는 유기 용매의 수용액을 포함한다. 가장 바람직한 유기 용매는 톨루엔이다.
본 발명의 실시양태에서, 식 III의 화합물의 촉매 환원 단계는 촉매 하이드로제네이션을 포함한다. 이 실시양태에서, 식 III의 화합물의 촉매 환원 단계는 팔라듐 촉매, 플래티늄 촉매, 또는 루테늄 촉매로 인한 촉매 하이드로제네이션을 포함한다. 이 실시양태에서, 식 III의 화합물의 촉매 환원 단계는 팔라듐 촉매로 인한 촉매 하이드로제네이션을 포함한다. 이 실시양태에서, 식 III의 화합물의 촉매 환원 단계는 탄소 촉매상의 팔라듐으로 인한 촉매 하이드로제네이션을 포함한다. 부가적인 이 실시양태에서, 식 III의 화합물의 촉매 환원 단계는 탄소 촉매 상의 10% 팔라듐으로 또는 탄소 촉매 상의 5% 팔라듐으로 인한 촉매 하이드로제네이션을 포함한다.
본 발명의 대안적인 실시양태에서, 식 III의 화합물의 촉매 환원 단계는 촉매 트랜스퍼 하이드로제네이션을 포함한다. 이 실시양태에서, 식 III의 화합물의 촉매 환원 단계는 로듐 촉매 또는 루테늄 촉매 및 수소 전달원으로 인한 촉매 트랜스퍼 하이드로제네이션을 포함한다. 이 실시양태에서, 로듐 촉매는 선택적으로 대안적인 리간드의 존재시 비스(펜타메틸시클로펜타디에닐)로듐 클로라이드) 및 비스((시클로펜타디에닐)로듐 클로라이드)로부터 선택될 수 있다. 이 실시양태에서, 루테늄 촉매는 선택적으로 대안적인 리간드의 존재시 비스((4-이소프로필-톨루엔일)루테늄 클로라이드) 및 비스((시클로펜타-디에닐)루테늄 클로라이드)로부터 선택될 수 있다. 이 실시양태에서, 수소 전달원은 폼산, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 이소부탄올 또는 n-부탄올과 같은 산 또는 알콜일 수 있다. 이 실시양태에서, 염기에는 선택적으로 수소 전달원이 제공된다. 이 염기는 포타슘 또는 소듐 하이드 록시드, 포타슘 또는 소듐 카보네이트, 포타슘 또는 소듐 비카르보네이트 포타슘 또는 소듐 알콕시드 등으로부터 선택된 염기와 같은 무기 염기일 수 있다. 알콕시드는 저차 (C1-C5) 또는 고차(>C6) 1차, 3차 또는 3차 알콜로부터 유도될 수 있다.
식 III의 화합물의 촉매 환원 단계를 행하기 위한 용매는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 이소부탄올 또는 n-부탄올과같은 알콜의 수용액을 포함한다. 이 실시양태에서, 알콜은 메탄올일 수 있다.
용어 "약제학적으로 수용가능한 염"은 무기 또는 유기 염기들 및 무기 또는 유기 산들을 포함하는 약제학적으로 수용가능한 비독성 염기들 또는 산들로부터 제제되는 염들이라 칭한다. 염들은 무기 및 유기 산들을 포함한 약제학적으로 수용가능한 비독성 산들로부터 제제될 수 있다. 이와 같은 산들은 아세틱, 벤젠설폰닉, 벤조닉, 캠포르설폰닉, 사이트릭, 에탄설폰닉, 퓨마릭, 글루코닉, 글루타믹, 하이드로브로믹, 하이드로클로릭, 이스에티오닉, 락틱, 말레릭, 말릭, 만델릭, 메탄설폰닉, 뮤식, 나이트릭, 파모닉, 판토세닉, 포스포릭, 석시닉, 설퍼릭, 타르타릭, p-톨루엔설폰닉 산, 등을 포함한다. 특히 바람직한 것은 벤젠설포닉, 사이트릭, 하이드로브로믹, 하이드로클로릭, 말레릭, 퓨마릭, 석시닉 및 타르타릭 산이다. 본원에 사용된 바와 같이 본 발명의 화합물이 약제학적으로 수용가능한 염을 포함한다는 것을 이해할 것이다.
이 공정의 시료 및 시약은 상업적으로 입수할 수 있거나 문헌에 공지되어 있거나 유사한 화합물에 대해서 설명된 참고문헌 방법들에 따라서 제제될 수 있다. 이 반응을 실행하고 최종 반응 프로덕트의 정제를 실행하는데 필요로 되는 기술들은 본 기술 분야에서 공지되어 있다. 정제 절차는 결정화, 증류, 노멀 페이스 또는 리버스 페이스 크로마토그래피를 포함한다.
다음의 실시양태들은 단지 예로서 제공된 것이고 어떤 식으로든 본 발명의 범위를 제한하는 것은 아니다.
실시예 1
Figure 112007035389177-PCT00011
THF에서 3-Br-티오아니솔의 -45℃ 용액에 첨가 전반에 걸쳐서 <-35℃로 유지되는 반응 온도로 1h에 걸쳐서 Hex-LI가 첨가된다. 이 첨가를 완료시, 배치는 시료를 아릴-리튬으로 변환시키기 위하여 분석된다. 배치는 3-Br-티오아니솔의 <0.5 A% 까지 -35℃ 내지 -45℃ 로 유지된다. 1-프로필-4-피페리돈은 첨가 전반에 걸쳐서 <-35℃ 로 유지되는 반응 온도로 -45℃ 배치에 서서히 첨가된다. 이 첨가의 완료시, 첨가로는 THF로 린스되고 이 반응은 10min@<-35℃ 동안 에이징(age)된다. 이 반응은 켄치(quench) 동안 <20℃ 로 유지되는 온도로 5N HCl로 켄치된다. MTBE는 형성된 슬러리에 첨가되고 혼합물은 0℃ 로 냉각되고 30분동안 에이징된다. 이 슬러리는 필터링되고 이 고체물은 MTBE(1×5mL/g vs. Br-티오아니솔로 시작)로 세척된다. 필터-케이크 염은 N2하에서 건조된다.
실시예 2
Figure 112007035389177-PCT00012
알콜은 톨루엔에서 슬러리되고 황산이 첨가된다. 이 반응은 물의 공비 제거와 함께 1-2시간 동안 환류에서 가열된다. 완료시, 이 반응은 70℃로 냉각되고 물이 첨가된다. 이 반응은 RT로 냉각되고 페이스들은 분리된다. 온도<30℃를 유지하면서 수성의 페이스에 톨루엔(6L/kg) 및 5N NaOH(2eq.,~1.6L/kg, pH>9)가 첨가된다. 이 페이스들은 분리되고 유기 페이스는 1N 황산(1 eq. H2SO4, ~8L/kg, pH~1)로 처리된다. 이 페이스들은 분리되고 수성의 페이스는 직적으로 산화 반응으로 옮겨 진다.
실시예 3
Figure 112007035389177-PCT00013
수성의 H2SO4에서 설파이드-알칸의 용액에 Na2WO4×2H2O가 첨가된다. H2O2(30%)는 55℃ 아래로 온도를 유지하면서 0.5 내지 1시간에 걸쳐서 첨가된다. 이 결과의 혼합물은 서폭사이드 매개물이 <0.5A%(1-2h)가 될 때까지 50~55℃로 에이징된다. 이 결과의 혼합물은 10℃로 냉각되고 5N NaOH보다 앞서 톨루엔(5L/kg)은 내부 온도<30℃를 유지하면서 첨가된다. 수성의 층은 절단되고 톨루엔층은 20% 브라인으로 워싱보다 앞서 1N NaOH로 세척된다. 톨루엔 층은 전형적으로 85-90% 수율에서 분석된다. 이 반응은 3ml/g 총 부피(10L)로 농축되는데, 이 시간 동안 설폰-알 켄은 용액으로부터 결정화된다. 이 용액은 50-55℃까지 데워지고 헵탄(3mL/g)은 50-55℃에서 내부 온도를 유지하면서 첨가된다. 이 결과의 용액에는 50-55℃에서 더 많은 헵탄(3ml/g)이 1h에 걸쳐서 첨가된다. 이 결과의 슬러리는 0.5 내지 1h에 걸쳐서 23℃까지 냉각되며, 0.5h동안 에이징되고 rt에서 필터링된다. 필터-케이크는 1:3 톨루엔/헵탄(4mL/g, 12L)로 세척되고 나서 N2 퍼지로 진공하에서 50℃로 건조된다. 전형적인 수율은 75-80%이며, >99wt.% 및99A% 순도를 갖는다. 23℃에서 결합된 수성의 층들(5N NaOH 후, 1N NaOH 세척 후, 20% 브라인 세척후의 aq 층)에는 페록사이드 테스가 Quantofix 테스트 스트립에 의해 부가될 때가지 고체 Na2SO3가 첨가된다. ~3℃의 발열이 발생된다.
실시예 4
Figure 112007035389177-PCT00014
IPA에서 설폰-알콘의 슬러리에 HCO2H(5eq.)가 첨가된다. 이 결과의 용액에 물(5ml/g)의 10% Pd/C의 현탁액이 첨가된다. 이 현탁액은 설폰-알켄이 <0.10 A%이 될때까지 16 내지 24h동안 RT에서 에이징된다. 배치는 솔카 플록의 패드를 통해서 필터링되고 필터-케이크는 1:1 IPA/물(2mL/g)으로 린스된다. 결합된 필트레이트 및 린스의 전형적인 분석은 95-98% 수율이다. 필트레이트는 5N NaOH 및 15℃까지 사전냉각된 MTBE을 함유한 100L 추출 용기로 전달된다. 수성의 페이스는 분리되고 MTBE 페이스는 H2O(3mL/g)으로 세척된다. MTBE 층은 4ml/g 총 부피(12L)로 농축되고 MTBE 및 물을 제거하기 위하여 IPA(2×5ml/g)으로 플러싱되고나서, IPA(전형적인 H2O 량 =0.5 내지 1%)에서 9ml/g으로 희석된다. 필트레이트는 65℃까지 데워지고 IPA에서 5N HCl이 첨가된다. 이 결과의 슬러리는 모든 고체들이 용해될 때까지 75-80℃로 데워진다. 이 요액은 서서히 냉각되고 65-70℃에서 순수 HCl 염으로 시딩(seed)된다. 슬러리는 1h동안 65-70℃에서 에이징되고나서 1h에 걸쳐서 23℃까지 서서히 냉각된다. 이 슬러리는 필터링되며, IPA(3ml/g)으로 세척되고 N2를 통해서 건조된다.
본 발명이 특정 실시예들과 관련하여 설명되고 예시되었지만, 당업자는 본 발명의 원리 및 범위를 벗어남이 없이 절차들 및 프로토콜에 대해서 각종 적응, 변화, 수정, 치환, 삭제 또는 첨가를 행할 수 있다는 것을 인지할 것이다. 예를 들어, 본원에 설명된 바와 같은 특정 조건들 이외의 반응 조건들이 상술된 본 발명의 고정들로부터 화합물을 제제하기 위한 시약 또는 방법론의 변화들 결과로서 적용될 수 있다. 마찬가지로, 시료의 특정 반응율은 특정 치환 또는 제조 조건에 따라서 변화활 수 있고 이 결과들의 예측된 변화 또는 차이는 본 발명의 목적 및 실시예에 따라서 고려된다. 그러므로, 본 발명은 이하의 청구범위에 의해서만 정의되고 이하의 청구범위는 넓게 해석되어야 한다.

Claims (15)

  1. 식(I)
    의 화합물 또는 이의 약제학적으로 수용가능한 염을 제제하기 위한 공정에 있어서,
    상기 식 I
    Figure 112007035389177-PCT00016
    의 화합물 또는 이의 약제학적으로 수용가능한 염을 제공하기 위하여 식 III의 화합물의 촉매 환원보다 앞서 식 III
    Figure 112007035389177-PCT00017
    의 화합물을 제공하기 위하여 촉매 산화제 및 옥시던트로 식(II)
    Figure 112007035389177-PCT00018
    의 설파이드를 산화시키는 단계를 포함하는 공정.
  2. 제1항에 있어서,
    식 II의 설파이드를 제공하기 위하여 강산으로 식 Ia
    Figure 112007035389177-PCT00019
    의 알콜을 탈수하는 단계를 포함하는 공정.
  3. 제2항에 있어서, 상기 강산은 황산, 염산, 불산, 질산 및 트리플루오르아세트산으로부터 선택되는 공정.
  4. 제3항에 있어서, 강산으로 상기 식 Ia의 알콜의 탈수는 선택적으로, 톨루엔, 크실렌, 헥산 및 물로부터 선택된 용매에서 행해지는 공정.
  5. 제1항에 있어서, 상기 촉매 산화제는 텅스텐 산화제인 공정.
  6. 제5항에 있어서, 상기 텅스텐 산화제는 소듐 텅스텐인 공정.
  7. 제1항에 있어서, 상기 산화제는 페록사이드인 공정.
  8. 제7항에 있어서, 상기 페록사이드는 소듐 페록사이드인 공정.
  9. 제1항에 있어서, 상기 식 II의 설파이드를 산화시키는 단계는 2pH보다 적은 상태에서 행해지는 공정.
  10. 제1항에 있어서, 상기 식 II의 설파이드 산화 단계는 40℃ 및 60℃ 사이의 온도에서 행해지는 공정.
  11. 제1항에 있어서, 상기 식 III의 화합물의 촉매 환원은 팔라듐 촉매, 플래티늄 촉매 또는 루테늄 촉매로 인한 촉매 하이드로제네이션을 포함하는 공정.
  12. 제11항에 있어서, 상기 식 III의 화합물의 촉매 환원은 팔라듐 촉매로 인한 촉매 하이드로제네이션을 포함하는 공정.
  13. 제12항에 있어서, 상기 식 III의 화합물의 촉매 환원은 탄소 촉매상의 팔라듐으로 인한 촉매 하이드로제네이션을 포함하는 공정.
  14. 제13항에 있어서, 상기 식 III의 화합물의 촉매 환원은 탄소 촉매상의 10% 팔라듐로 인한 촉매 하이드로제네이션을 포함하는 공정.
  15. 제14항에 있어서, 상기 식 III의 화합물의 촉매 환원은 알콜의 수용액에서 행해지는 공정.
KR1020077010900A 2004-10-13 2005-10-13 4-(3-메탄설폰일페닐)-1-ｎ-프로필-피페리딘의 합성 공정 KR101319235B1 (ko)

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