KR20010090730A - 현상제조성물 및 감열기록재 - Google Patents
현상제조성물 및 감열기록재 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20010090730A KR20010090730A KR1020010014831A KR20010014831A KR20010090730A KR 20010090730 A KR20010090730 A KR 20010090730A KR 1020010014831 A KR1020010014831 A KR 1020010014831A KR 20010014831 A KR20010014831 A KR 20010014831A KR 20010090730 A KR20010090730 A KR 20010090730A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- sensitive recording
- compound
- hydroxyphenyl
- recording material
- developer composition
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
- B41M5/333—Colour developing components therefor, e.g. acidic compounds
- B41M5/3333—Non-macromolecular compounds
- B41M5/3335—Compounds containing phenolic or carboxylic acid groups or metal salts thereof
- B41M5/3336—Sulfur compounds, e.g. sulfones, sulfides, sulfonamides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M2205/00—Printing methods or features related to printing methods; Location or type of the layers
- B41M2205/04—Direct thermal recording [DTR]
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
- B41M5/337—Additives; Binders
- B41M5/3372—Macromolecular compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
- B41M5/337—Additives; Binders
- B41M5/3375—Non-macromolecular compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/40—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography
- B41M5/42—Intermediate, backcoat, or covering layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
본 발명은, 하기 일반식(1):
(식중, X1은 수소원자 혹은 할로겐원자, 알킬기, 알콕시기 또는 수산기이고, Z1은 수소원자 또는 알킬기이며, R1은 무치환 또는 치환된 알킬기 혹은 아릴기임)로 표시되는 술폰아미드구조의 페놀유도체 1종이상과, 다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제로부터 선택된 1종이상의 구성성분을 함유해서 이루어져, 수중 미립자화시 우수한 보존안정성을 지닌 분산액을 제공하는 신규의 현상제조성물에 관한 것이다. 상기 현상제조성물을 함유하는 감열기록재는, 현상된 화상에 있어서 높은 색채농도를 지니고, 또한, 기록전의 백화도도 우수하다.
Description
본 발명은 현상제조성물 및 이 조성물을 함유하는 감열기록재에 관한 것이다.
종래, 예를 들면, 일본국 특허공보 소43-4160호 및 동 소45-14039호에 있어서, 전자공여성의 발색화합물과 전자수용체화합물(현상제)과의 발색반응을 이용하는 감열기록재가 잘 알려져 있다. 감열기록재는, 저렴하고, 기록장비가 소형이고 유지보수가 필요없다고 하는 이점이 있으므로, 이 기록방식은 팩시밀리장치, 레코더 및 프린터 등의 분야에서 널리 사용되고 있다. 최근, 감열기록재의 응용분야는 보다 확장·다양화되어, 레벨, 선불카드 등의 보다 가혹한 환경하에서의 용도로 보급되고 있다.
그러나, 종래 공지된 2,2-비스(4'-하이드록시페닐)프로판("비스페놀 A") 또는 4-하이드록시벤조산 벤질을 전자수용체화합물에 이용할 경우, 얻어지는 감열기록재는 고속기록시 양호한 색채농도를 부여할 수 없거나, 가혹한 환경하, 예를 들면, 오일, 용매, 지방, 형광펜 등의 필기구와 접촉시 혹은 고습분위기하에서 미현상부분, 즉, 미발색부분이 현저하게 오염되거나 혹은 현상된 화상이 음영이 지거나 하는 결점을 지닌다.
근년, 저럼한 가격으로 인해 현상제에 가장 일반적으로 사용되고 있는 2,2-비스(4'-하이드록시페닐)프로판("비스페놀 A")은 환경호르몬의 점에서 안정성에 문제가 지적되고 있다.
이러한 환경하, 예를 들면, 일본국 특허공보 평 2-25354호, 평 5-13071호 및 평 8-2697호에 있어서는, 상기 결점을 부가적으로 개량한 우수한 색채농도를 지닌 전자수용체화합물로서 술폰아미드구조를 지닌 페놀유도체를 사용하는 감열기록재(감열기록기)가 제안되어 있다.
술폰아미드구조를 지닌 페놀유도체는 매우 우수한 특성을 발휘하는 전자수용체화합물이다. 그러나, 페놀유도체의 미립자화된(atomized) 수성 분산액은 안정성이 부족해서, 착색을 초래하고, 또, 그 수성 분산액으로부터 제조된 감열기록재는 기록전의 미발색부상의 백화도가 낮다고 하는 결점이 있는 것으로 판명되었다.
따라서, 상기 술폰아미드구조를 지닌 페놀유도체의 우수한 특성을 살리면서 이들 결점을 개량해서, 분산수용액의 안정성이 향상되고 미발색부의 백화도가 증대된 술폰아미드구조를 지닌 페놀유도체 및 상기 전자수용체화합물을 사용한 감열기록재를 개발하는 것이 강하게 요망되고 있었다.
본 발명의 목적은, 술폰아미드구조를 지닌 페놀유도체를 함유해서 미립자화된 수성 분산액의 보존안정성이 우수한 신규의 현상제조성물(특히, 감열기록재용의현상제조성물) 및 그 현상제조성물로부터 제조된, 색채농도가 높은 동시에 기록전의 백화도도 우수한 감열기록재를 제공하는 데 있다.
본 발명자들은, 상기 목적을 실현하기 위해 예의 검토를 행한 결과, 우수한 감열기록재는, 하기 화학식(1)로 표시되는 화합물로부터 선택된 1종이상의 구성성분과 다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제로부터 선택된 1종이상의 구성성분을 함유하는 전자수용성 현상제조성물을 사용함으로써 얻어질 수 있다는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하게 되었다.
즉, 본 발명은 이하의 항목으로 예시한 바와 같다.
1) 하기 일반식(1):
(식중, X1은 수소원자 혹은 할로겐원자, 알킬기, 알콕시기 또는 수산기이고, Z1은 수소원자 또는 알킬기이며, R1은 무치환 또는 치환된 알킬기 혹은 아릴기임)로 표시되는 1종이상의 화합물과, 다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제로부터 선택된 1종이상의 구성성분을 함유해서 이루어진 것을 특징으로 하는 현상제조성물.
2) 상기 1)항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 1종 이상의 화합물 100중량부에 대해서, 다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제로부터 선택된 1종이상의 구성성분을 0.1 내지 5중량부 함유하는 것을 특징으로 하는 현상제조성물.
3) 상기 일반식(1)로 표시되는 1종이상의 화합물과 다가금속화합물로부터 선택된 1종이상의 구성성분을 함유하는 것을 특징으로 하는 현상제조성물.
4) 상기 3)항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 1종 이상의 화합물 100중량부에 대해서, 다가금속화합물로부터 선택된 1종이상의 구성성분을 0.1 내지 5중량부 함유하는 것을 특징으로 하는 현상제조성물.
5) 상기 1)항 내지 4)항중 어느 한 항에 있어서, 상기 다가금속화합물은 황산아연인 것을 특징으로 하는 현상제조성물.
6) 담체상에, 전자공여성의 발색화합물과 전자수용체화합물을 함유하는 감열기록층을 구비한 감열기록재에 있어서, 상기 전자수용체화합물이 상기 1)항 내지 5)항중 어느 한 항에 기재된 현상제조성물인 것을 특징으로 하는 감열기록재.
7) 상기 6)항에 있어서, 상기 감열기록층이 부가적으로 열가융성 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 감열기록재.
8) 상기 6)항 또는 7)항에 있어서, 상기 감열기록층은 부가적으로 자외선흡수제를 함유하는 것을 특징으로 하는 감열기록재.
9) 상기 6)항 내지 8)항중 어느 한 항에 있어서, 상기 감열기록층은 부가적으로 힌더드페놀화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 감열기록재.
10) 상기 6)항 내지 9)항중 어느 한 항에 있어서, 상기 감열기록층은 부가적으로 바인더를 함유하는 것을 특징으로 하는 감열기록재.
11) 상기 6)항 내지 10)항중 어느 한 항에 있어서, 상기 감열기록층은 부가적으로 안료를 함유하는 것을 특징으로 하는 감열기록재.
12) 상기 11)항에 있어서, 상기 안료의 JIS K-5101에 따른 오일흡수도가 50㎖/100g이상인 것을 특징으로 하는 감열기록재.
13) 상기 6)항 내지 12)항중 어느 한 항에 있어서, 상기 담체와 감열기록층사이에는 언더코트층(하지층, 즉, undercoat layer)이 부가적으로 삽입되어 있는 것을 특징으로 하는 감열기록재.
14) 상기 1)항 내지 5)항중 어느 한 항에 기재된 현상제조성물을 미립자화·수성 분산시켜 얻어진 것을 특징으로 하는 수성 분산액.
상기 본 발명에 의하면, 술폰아미드구조를 지닌 페놀유도체를 함유해서 미립자화된 수성 분산액의 보존안정성이 우수한 신규의 현상제조성물 및 그 현상제조성물로부터 제조된, 색채농도가 높은 동시에 기록전의 백화도도 우수한 감열기록재를 제공하는 것이 가능하다.
이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
본 발명에서 사용가능한 대표적인 현상제조성물은, 하기 일반식(1):
(식중, X1은 수소원자 혹은 할로겐원자, 알킬기, 알콕시기 또는 수산기이고, Z1은 수소원자 또는 알킬기이며, R1은 무치환 또는 치환된 알킬기 혹은 아릴기임)로 표시되는 1종이상의 화합물과, 다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제로부터 선택된 1종이상의 구성성분을 함유하는 조성물을 포함한다.
상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서, X1은 수소원자 혹은 할로겐원자, 알킬기, 알콕시기 또는 수산기이고, 바람직하게는, 수소원자 혹은 예를 들면, 불소원자, 염소원자 또는 브롬원자 등의 할로겐원자, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 시클로펜틸기 또는 시클로헥실기 등의 C1내지 C6알킬기, 예를 들면, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, n-펜틸옥시기, n-헥실옥시기 또는 시클로헥실옥시기 등의 C1내지 C6알콕시기 또는 수산기를 들 수 있다. 이들 치환기중에서, 수소원자, 할로겐원자 혹은 C1내지 C4알킬기가 보다 바람직하고, 수소원자가 가장 바람직하다.
상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서, Z1은 수소원자 또는 알킬기이며, 바람직하게는, 수소원자, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 시클로펜틸기 또는 시클로헥실기 등의 C1내지 C6알킬기이고, 보다 바람직하게는 수소원자이다.
상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서, R1은 무치환 또는 치환된 알킬기 혹은 아릴기이며, 바람직하게는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 시클로펜틸기 또는 시클로헥실기 등의 C1내지 C6알킬기, 또는 예를 들면, 페닐기, 4-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 2-메틸페닐기, 4-에틸페닐기, 3-에틸페닐기, 4-n-프로필페닐기,4-이소프로필페닐기, 4-n-부틸페닐기, 4-sec-부틸페닐기, 4-tert-부틸페닐기, 4-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 2-메톡시페닐기, 4-에톡시페닐기, 4-이소프로폭시페닐기, 4-n-부톡시페닐기, 4-플루오로페닐기, 3-플루오로페닐기, 4-클로로페닐기, 3-클로로페닐기, 2-클로로페닐기, 4-클로로-2-메틸페닐기, 4-클로로-3-메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 2,4-디클로로페닐기, 2,5-디클로로페닐기, 2-메톡시-4-메틸페닐기, 2-메틸-4-메톡시페닐기, 2,4-디메톡시페닐기, 3,4-디메톡시페닐기, 3,5-디에톡시페닐기, 1-나프틸기 혹은 2-나프틸기 등의 C6내지 C10아릴기이다.
상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 구체예로서는 하기 화합물을 들 수 있으나, 이들 예시화합물로 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
번호 화합물
1-1 N-부틸-N-(4-하이드록시페닐)메탄술폰아미드
1-2 N-(4-하이드록시페닐)에탄술폰아미드
1-3 N-메틸-N-(4-하이드록시페닐)에탄술폰아미드
1-4 N-에틸-N-(4-하이드록시페닐)에탄술폰아미드
1-5 N-부틸-N-(4-하이드록시페닐)에탄술폰아미드
1-6 N-메틸-N-(3-하이드록시페닐)에탄술폰아미드
1-7 N-메틸-N-(4-하이드록시페닐)-2-프로판술폰아미드
1-8 N-메틸-N-(3-하이드록시페닐)-2-프로판술폰아미드
1-9 N-메틸-N-(4-하이드록시페닐)부탄술폰아미드
1-10 N-메틸-N-(3-하이드록시페닐)부탄술폰아미드
1-11 N-에틸-N-(4-하이드록시페닐)부탄술폰아미드
1-12 N-에틸-N-(3-하이드록시페닐)부탄술폰아미드
1-13 N-부틸-N-(4-하이드록시페닐)부탄술폰아미드
1-14 N-부틸-N-(3-하이드록시페닐)부탄술폰아미드
1-15 N-(4-하이드록시페닐)부탄술폰아미드
1-16 N-(3-하이드록시페닐)부탄술폰아미드
1-17 N-(4-하이드록시페닐)헥산술폰아미드
1-18 N-(3-하이드록시페닐)헥산술폰아미드
1-19 N-메틸-N-(4-하이드록시페닐)헥산술폰아미드
1-20 N-에틸-N-(4-하이드록시페닐)헥산술폰아미드
1-21 N-부틸-N-(4-하이드록시페닐)헥산술폰아미드
1-22 N-(4-하이드록시페닐)벤젠술폰아미드
1-23 N-(4-하이드록시페닐)-(2'-메틸벤젠)술폰아미드
1-24 N-(4-하이드록시페닐)-(3'-메틸벤젠)술폰아미드
1-25 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드
1-26 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-에틸벤젠)술폰아미드
1-27 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-n-프로필벤젠)술폰아미드
1-28 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-이소프로필벤젠)술폰아미드
1-29 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-n-부틸벤젠)술폰아미드
1-30 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-tert-부틸벤젠)술폰아미드
1-31 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-n-펜틸벤젠)술폰아미드
1-32 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-n-헥실벤젠)술폰아미드
1-33 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-시클로헥실벤젠)술폰아미드
1-34 N-(4-하이드록시페닐)-(3',4'-디메틸벤젠)술폰아미드
1-35 N-(4-하이드록시페닐)-(3'-메톡시벤젠)술폰아미드
1-36 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-메톡시벤젠)술폰아미드
1-37 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-에톡시벤젠)술폰아미드
1-38 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-이소프로폭시벤젠)술폰아미드
1-39 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-n-부톡시벤젠)술폰아미드
1-40 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-n-펜틸옥시벤젠)술폰아미드
1-41 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-n-헥실옥시벤젠)술폰아미드
1-42 N-(4-하이드록시페닐)-(3'-플루오로벤젠)술폰아미드
1-43 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-플루오로벤젠)술폰아미드
1-44 N-(4-하이드록시페닐)-(2'-클로로벤젠)술폰아미드
1-45 N-(4-하이드록시페닐)-(3'-클로로벤젠)술폰아미드
1-46 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-클로로벤젠)술폰아미드
1-47 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-페닐벤젠)술폰아미드
1-48 N-(4-하이드록시페닐)-(1'-나프탈렌)술폰아미드
1-49 N-(4-하이드록시페닐)-(2'-나프탈렌)술폰아미드
1-50 N-(2-메틸-4-하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드
1-51 N-(3-메틸-4-하이드록시페닐)-(4'-클로로벤젠)술폰아미드
1-52 N-(3-메톡시-4-하이드록시페닐)-(4'-클로로벤젠)술폰아미드
1-53 N-(2-클로로-4-하이드록시페닐)벤젠술폰아미드
1-54 N-(2,4-디하이드록시페닐)벤젠술폰아미드
1-55 N-(3,4-디하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드
1-56 N-메틸-N-(4-하이드록시페닐)벤젠술폰아미드
1-57 N-메틸-N-(4-하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드
1-58 N-메틸-N-(4-하이드록시페닐)-(4'-클로로벤젠)술폰아미드
1-59 N-에틸-N-(4-하이드록시페닐)벤젠술폰아미드
1-60 N-에틸-N-(4-하이드록시페닐)-(4'-메톡시벤젠)술폰아미드
1-61 N-n-프로필-N-(4-하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드
1-62 N-n-부틸-N-(4-하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드
1-63 N-에틸-N-(4-하이드록시페닐)-(4'-페닐벤젠)술폰아미드
1-64 N-메틸-N-(4-하이드록시페닐)-(1'-나프탈렌)술폰아미드
1-65 N-(3-하이드록시페닐)벤젠술폰아미드
1-66 N-(3-하이드록시페닐)-(2'-메틸벤젠)술폰아미드
1-67 N-(3-하이드록시페닐)-(3'-메틸벤젠)술폰아미드
1-68 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드
1-69 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-에틸벤젠)술폰아미드
1-70 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-n-프로필벤젠)술폰아미드
1-71 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-이소프로필벤젠)술폰아미드
1-72 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-n-부틸벤젠)술폰아미드
1-73 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-tert-부틸벤젠)술폰아미드
1-74 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-n-펜틸벤젠)술폰아미드
1-75 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-n-헥실벤젠)술폰아미드
1-76 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-시클로헥실벤젠)술폰아미드
1-77 N-(3-하이드록시페닐)-(3',4'-디메틸벤젠)술폰아미드
1-78 N-(3-하이드록시페닐)-(3'-메톡시벤젠)술폰아미드
1-79 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-메톡시벤젠)술폰아미드
1-80 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-에톡시벤젠)술폰아미드
1-81 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-이소프로폭시벤젠)술폰아미드
1-82 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-n-부톡시벤젠)술폰아미드
1-83 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-n-펜틸옥시벤젠)술폰아미드
1-84 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-n-헥실옥시벤젠)술폰아미드
1-85 N-(3-하이드록시페닐)-(3'-플루오로벤젠)술폰아미드
1-86 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-플루오로벤젠)술폰아미드
1-87 N-(3-하이드록시페닐)-(2'-클로로벤젠)술폰아미드
1-88 N-(3-하이드록시페닐)-(3'-클로로벤젠)술폰아미드
1-89 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-클로로벤젠)술폰아미드
1-90 N-(3-하이드록시페닐)-(4'-페닐벤젠)술폰아미드
1-91 N-(3-하이드록시페닐)-(1'-나프탈렌)술폰아미드
1-92 N-(3-하이드록시페닐)-(2'-나프탈렌)술폰아미드
1-93 N-(2-메틸-3-하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드
1-94 N-(4-메틸-3-하이드록시페닐)-(4'-클로로벤젠)술폰아미드
1-95 N-(5-메톡시-3-하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드
1-96 N-(4-메톡시-3-하이드록시페닐)벤젠술폰아미드
1-97 N-(5-클로로-3-하이드록시페닐)벤젠술폰아미드
1-98 N-(3,5-디하이드록시페닐)벤젠술폰아미드
1-99 N-(3,5-디하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드
1-100 N-(3,5-디하이드록시페닐)-(4'-클로로벤젠)술폰아미드
1-101 N-메틸-N-(3-하이드록시페닐)벤젠술폰아미드
1-102 N-메틸-N-(3-하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드
1-103 N-메틸-N-(3-하이드록시페닐)-(4'-클로로벤젠)술폰아미드
1-104 N-에틸-N-(3-하이드록시페닐)벤젠술폰아미드
1-105 N-에틸-N-(3-하이드록시페닐)-(4'-메톡시벤젠)술폰아미드
1-106 N-n-프로필-N-(3-하이드록시페닐)-(4'-에틸벤젠)술폰아미드
1-107 N-n-부틸-N-(3-하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드
1-108 N-n-부틸-N-(3-하이드록시페닐)-(4'-페닐벤젠)술폰아미드
1-109 N-(2-하이드록시페닐)벤젠술폰아미드
1-110 N-(2-하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드
1-111 N-(2-하이드록시페닐)-(4'-클로로벤젠)술폰아미드
1-112 N-(2-하이드록시페닐)-(4'-메톡시벤젠)술폰아미드
1-113 N-(4-메틸-2-하이드록시페닐)벤젠술폰아미드
1-114 N-(5-메톡시-2-하이드록시페닐)-(4'-메톡시벤젠)술폰아미드
1-115 N-메틸-N-(2-하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드.
본 발명에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 예를 들면, 일본국 특허공보 소 57-200340호 및 동 평 2-145560호, 그리고, J. Orga. Chem.,19, 1708(1954)에 개시된 공지의 방법에 의해 제조할 수 있다.
즉, 상기 화합물은, 예를 들면, 하기 일반식(a)로 표시되는 화합물과 하기 일반식(b)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 제조할 수 있다:
(식중, X1, Z1및 R1은 일반식(1)에서 정의한 것과 동일하고, Y1은 할로겐원자임).
본 발명에서 사용가능한 대표적인 다가금속화합물로서는, 예를 들면, 황산아연, 황산마그네슘, 황산칼슘, 황산알루미늄 등의 황산염류; 염화아연, 염화마그네슘, 염화칼슘, 염화바륨, 염화니켈, 염화코발트, 염화알루미늄 등의 염화물류; 아세트산아연, 아세트산마그네슘 등의 아세트산염류; 질산아연 등의 질산염류 등을 들 수 있다.
본 발명에서 사용가능한 산화방지제의 예로서는, 2,6-디이소프로필-4-메틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀, 2,5-디-tert-4-메톡시페놀, 2,5-디-tert-옥틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-tert-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-tert-옥틸하이드로퀴논, 1,1,3-트리스(2'-메틸-4'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)부탄, 1,1,3-트리스(2'-메틸-4'-하이드록시-5'-시클로헥실페닐)부탄, 1,1,3-트리스(2'-에틸-4'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)부탄, 1,1,3-트리스(3',5'-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)부탄, 1,1,3-트리스(2'-메틸-4'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)프로판, 1,1-비스(2'-메틸-5'-tert-부틸-4'-하이드록시페닐)부탄, 테트라키스[메틸렌-3-(3',5'-디-tert-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 비스(3-tert-부틸-5-메틸-2-하이드록시페닐)메탄, 비스(3-tert-부틸-5-에틸-2-하이드록시페닐)메탄, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3',5'-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)벤젠, 1,3,5-트리스(4'-tert-부틸-3'-하이드록시-2',6'-디메틸벤질)이소시아누르산, 1,3,5-트리스(4'-tert-부틸-3'-하이드록시-2'-메틸-6'-에틸벤질)이소시아누르산, 비스(2-메틸-4-하이드록시-5-tert-부틸페닐)술피드 등의 페놀계 화합물;
2,2'-메틸렌비스(4"-메틸-6"-tert-부틸페닐)포스페이트, 2,2'-메틸렌비스(4"-에틸-6"-tert-부틸페닐)포스페이트, 2,2'-메틸렌비스(4",6"-디-tert-부틸페닐)포스페이트, 디페닐포스페이트, 비스(4-tert-부틸페닐)포스페이트, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐)포스페이트, 비스(4-클로로페닐)포스페이트, 비스(2-페닐페닐)포스페이트, 비스(4-페닐페닐)포스페이트 등의 인산계 화합물류, 이들의 칼륨, 나트륨, 아연, 칼슘, 마그네슘, 알루미늄염 등의 금속염류 등을 들 수 있다.
본 발명에서 사용가능한 환원제로서는, 예를 들면, 아황산나트륨, 아황산수소나트륨, 황화아연, 염화제1주석, 티오황산나트륨, 옥살산나트륨, 칼슘, 마그네슘, 아연 등을 들 수 있다.
본 발명의 현상제조성물은, 상기 일반식(1)로 표시되는 1종이상의 화합물과, 다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제로부터 선택된 1종이상의 구성성분으로 이루어져 있고, 이것을, 이하, 간단히 "현상제조성물 A"라 칭한다.
상기 현상제조성물 A에 있어서, 다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제로부터 선택된 1종이상의 구성성분의 양에 대해서는 특히 제한은 없다.
다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제로부터 선택된 1종이상의 구성성분의 양은, 통상 상기 일반식(1)로 표시되는 1종이상의 화합물 100중량부에 대해서 0.1 내지 5중량부, 바람직하게는, 0.2 내지 3중량부, 보다 바람직하게는, 0.3 내지 2중량부이다.
다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제로부터 선택된 1종이상의 화합물의 종류에 대해서는 특히 제한은 없으나, 비교적 소량의 해당 구성성분에 의해 본 발명의 효과를 발휘할 수 있으므로, 다가금속화합물이 바람직하다.
상기 현상제조성물 A에 있어서, 일반식 (1)로 표시되는 화합물, 다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제는 각각 단독으로 혹은 혼합해서 사용해도 된다.
감열기록재에 사용되는 현상제조성물 A는, 전자수용체로서, 일반식(1)로 표시되는 1종이상의 화합물과, 다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제로부터 선택된 1종이상의 구성성분을 함유해서 이루어진다.
상기 현상제조성물 A의 제조방법은 특히 제한은 없고, 예를 들면, 상기 일반식(1)로 표시되는 1종이상의 화합물과, 다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제로부터 선택된 1종이상의 구성성분을 소정의 비율을 얻도록 고체상태로 혼합함으로써 제조할 수 있다. 또는, 상기 일반식(1)로 표시되는 1종이상의 화합물과, 다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제로부터 선택된 1종이상의 구성성분을 미립자화·분산시킴으로써 물의 존재하에 해당 조성물의 수성 분산액을 제조하는 방법도 있다.
물의 존재하에 혼합할 경우, 공지의 분산제, 예를 들면, 다가알콜, 폴리아크릴산나트륨, 폴리스티렌술폰산나트륨 또는 메틸셀룰로스를 첨가해서 분산성을 향상시켜도 된다.
분산제를 사용할 경우, 그 양은, 통상, 상기 일반식(1)로 표시되는 1종 이상의 화합물 100중량부에 대해서 0.01중량부이상, 바람직하게는, 0.1 내지 20중량부이다.
상기 현상제조성물의 양은, 통상, 해당 현상제조성물의 수성 분산액 100중량부에 대해서 10 내지 60중량부, 바람직하게는, 20 내지 50중량부이다.
상기 현상제조성물 A의 제조온도는 특히 한정되는 것은 아니고, 10℃에서부터 상기 일반식(1)로 표시되는 1종이상의 화합물, 다가금속화합물, 산화방지제 및환원제의 융점미만까지가 바람직하다. 그러나, 상기 일반식(1)로 표시되는 1종이상의 화합물, 다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제의 융점보다도 높은 온도에서 제조하는 것도 가능하다.
혼합은, 바람직하게는, 예를 들면, 막자사발, 프로펠러교반기, 터빈교반기, 패들믹서, 균질기, 호모믹서, 라인믹서, 라인호모믹서 등의 매체없는 교반혼합기; 또는 마멸밀, 원심밀 등의 교반탱크식 밀, 샌드밀, 그래인밀, 펄밀, 다이노밀(dyno mill) 등의 유동식 밀, 원추형 볼밀, 환형밀 등의 유리비드, 세라믹볼 또는 강구 등의 매체가 충전된 환형상의 연속형 습식교반밀 등의 교반식 믹서로 행할 수 있다.
상기에서 제조한 현상제조성물 A는 수화물 등의 용매화물을 형성할 경우도 있다. 이러한 용매화물도, 상기 현상제조성물 A중에 내포되어 본 발명의 감열기록재에 있어서의 전자수용체화합물로 이용될 수 있다. 물론, 상기 용매화물로부터 물 등의 용매를 제거함으로써 얻어진 현상제조성물 A도 본 발명의 감열기록재에 사용할 수 있다.
본 발명의 감열기록재중의 전자수용체구성성분에 사용되는 현상제조성물 A의 양은 특히 제한은 없다.
그 양은, 통상, 전자공여성의 발색화합물 100중량부에 대해서 50 내지 700중량부, 바람직하게는 100 내지 500중량부이다.
용어 "전자수용체화합물(현상제)"이란, 승온에서 전자공여성의 발색화합물의 색채를 발현시키는 기능을 지닌 화합물을 의미한다.
본 발명의 감광기록재에 사용가능한 전자공여성의 발색화합물은 특히 제한은 없고, 예를 들면, 트리아릴메탄, 비닐프탈리드, 디아릴메탄, 로다민락탐, 티아진, 플루오렌, 피리딘, 스피로 및 플루오렌계 화합물 등의 각종 공지의 전자공여성의 발색화합물을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 플루오란계 화합물, 가장 바람직하게는 하기 일반식(A):
(식중, A 및 B는 C1내지 C8알킬기, C5내지 C8시클로알킬기, C3내지 C8알콕시알킬기, C6내지 C10아릴기 또는 테트라하이드로푸르푸릴기이고, A 및 B는 질소원자와 결합해서 헤테로고리를 형성할 수 있고, Z11은 수소원자 혹은 할로겐원자 혹은 C1내지 C4알킬기 또는 알콕시기이며, Z12및 Z13은 수소원자 혹은 할로겐원자 혹은 C1내지 C4알킬기 또는 트리플루오로메틸기임)로 표시되는 플루오란계 화합물이다.
전자공여성의 발색화합물의 구체예에 대해서, 트리아릴메탄계 화합물의 예로서는, 3,3-비스(4-디메틸아미노페닐)-6-디메틸아미노프탈리드["크리스탈 바이올렛 락톤"],
3,3-비스(4-디메틸아미노페닐)프탈리드,
3-(4-디메틸아미노페닐)-3-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)-6-디메틸아미노프탈리드,
3-(4-디메틸아미노페닐)-3-(1,2-디메틸인돌-3-일)프탈리드,
3-(4-디메틸아미노페닐)-3-(2-메틸인돌-3-일)프탈리드,
3,3-비스(1,2-디메틸인돌-3-일)-5-디메틸아미노프탈리드,
3,3-비스(1,2-디메틸인돌-3-일)-6-디메틸아미노프탈리드,
3,3-비스(9-에틸카르바졸-3-일)-6-디메틸아미노프탈리드,
3,3-비스(2-페닐인돌-3-일)-6-디메틸아미노프탈리드,
3-(4-디메틸아미노페닐)-3-(1-메틸피롤-3-일)-6-디메틸아미노프탈리드 등을 들 수 있다.
유용한 비닐프탈리드계 화합물로서는, 예를 들면,
3,3-비스[1,1-비스(4-디메틸아미노페닐)에틸렌-2-일]-4,5,6,7-테트라클로로프탈리드,
3,3-비스[1,1-비스(4-피롤리디노페닐)에틸렌-2-일]-4,5,6,7-테트라브로모프탈리드,
3,3-비스[1-(4-디메틸아미노페닐)-1-(4-메톡시페닐)에틸렌-2-일]-4,5,6,7-테트라클로로프탈리드,
3,3-비스[1-(4-피롤리디노페닐)-1-(4-메톡시페닐)에틸렌-2-일]-4,5,6,7-테트라클로로프탈리드,
3-[1,1-디(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)에틸렌-2-일]-3-(4-디에틸아미노페닐)프탈리드,
3-[1,1-디(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)에틸렌-2-일]-3-(4-N-에틸-N-페닐아미노페닐)프탈리드 등을 들 수 있다.
디아릴메탄계 화합물의 예로서는, 4,4-비스디메틸아미노벤즈하이드린벤질에테르, N-할로페닐-로이코아우라민, N-2,4,5-트리클로로페닐로이코아우라민 등을 들 수 있다.
로다민-락탐계 화합물의 예로서는, 로다민-B-아닐리노락탐, 로다민-(4-니트로아닐리노)락탐, 로다민-B-(4-클로로아닐리노)락탐 등을 들 수 있다.
티아진계 화합물의 예로서는, 3,7-비스(디에틸아미노)-10-벤조일페녹사진, 벤조일로이코에틸렌블루, 4-니트로벤조일메틸렌블루 등을 들 수 있다.
대표적인 플루오란계 화합물의 예로서는,
3-디메틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-디에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-디-n-펜틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-에틸-N-메틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-n-프로필-N-메틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-n-프로필-N-에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-n-부틸-N-메틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-n-부틸-N-에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-이소부틸-N-메틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-이소부틸-N-에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-이소펜틸-N-에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-n-헥실-N-메틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-시클로헥실-N-에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-시클로헥실-N-n-프로필아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-시클로헥실-N-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-시클로헥실-N-n-헥실아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-시클로헥실-N-n-옥틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-(2'-메톡시에틸)-N-메틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-(2'-메톡시에틸)-N-에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-(2'-메톡시에틸)-N-이소부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-(2'-에톡시에틸)-N-메틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-(2'-에톡시에틸)-N-에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-(3'-메톡시프로필)-N-메틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-(3'-메톡시프로필)-N-에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-(3'-에톡시프로필)-N-메틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-(3'-에톡시프로필)-N-에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-2'-테트라하이드로푸르푸릴-N-에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-N-(4'-메틸페닐)-N-에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-디에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란,
3-디에틸아미노-6-메틸-7-(3'-메틸페닐아미노)플루오란,
3-디에틸아미노-6-메틸-7-(2',6'-디메틸페닐아미노)플루오란,
3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-(2',6'-디메틸페닐아미노)플루오란,
3-디-n-부틸아미노-7-(2',6'-디메틸페닐아미노)플루오란,
2,2-비스[4'-(3-N-시클로헥실-N-메틸아미노-6-메틸플루오란)-7-일-아미노페닐]프로판
3-[4'-(4-페닐아미노페닐)아미노페닐]아미노-6-메틸-7-클로로플루오란, 3-[4'-(디메틸아미노페닐)]아미노-5,7-디메틸플루오란 등을 들 수 있다.
피리딘계 화합물의 예로서는,
3-(2-에톡시-4-디에틸아미노페닐)-3-(1-옥틸-2-메틸인돌-3-일)-4- 또는 7-아자프탈리드,
3-(2-에톡시-4-디에틸아미노페닐)-3-(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)-4- 또는 7-아자프탈리드,
3-(2-헥실옥시-4-디에틸아미노페닐)-3-(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)-4- 또는 7-아자프탈리드,
3-(2-에톡시-4-디에틸아미노페닐)-3-(1-에틸-2-페닐인돌-3-일)-4- 또는 7-아자프탈리드,
3-(2-부톡시-4-디에틸아미노페닐)-3-(1-에틸-2-페닐인돌-3-일)-4- 또는 7-아자프탈리드 등을 들 수 있다.
스피로계 화합물의 예로서는,
3-메틸-스피로-디나프토피렌, 3-에틸-스피로-디나프토피렌, 3-페닐-스피로-디나프토피렌, 3-벤질-스피로-디나프토피렌, 3-메틸나프토-3-(메톡시벤조)-스피로피렌, 3-프로필-스피로-디벤조피렌 등을 들 수 있다.
플루오렌계 화합물의 예로서는, 3,6-비스(디메틸아미노)플루오렌-9-스피로-3'-(6'-디메틸아미노)프탈리드, 3,6-비스(디에틸아미노)플루오렌-9-스피로-3'-(6'-디메틸아미노)프탈리드 등을 들 수 있다.
물론, 본 발명의 상기 전자공여성의 발색화합물은, 이들 예시화합물로 제한되는 것은 아니고, 단독으로 혹은 혼합물로서 사용할 수 있다.
본 발명의 감열기록재는, 전자수용체화합물로서 본 발명의 현상제조성물 A를 함유하는 것을 특징으로 한다. 다른 전자수용체화합물도 본 발명의 소망의 효과를 저해하지 않는 범위내에서 동시에 사용할 수 있다.
이러한 경우, 전체 전자수용체화합물중의 현상제조성물 A의 비율은 통상 20중량%이상, 바람직하게는 50중량%이상, 보다 바람직하게는 60중량%이상이다.
본 발명의 현상제조성물 A이외의 다른 전자수용체화합물은 특히 제한은 없으나, 예를 들면, 페놀유도체 또는 그의 금속염, 유기산유도체 또는 그의 금속염, 착체, 요소유도체 및 유기 혹은 무기전자수용체화합물 등의 각종 공지의 전자수용체화합물을 들 수 있다.
본 발명의 현상제조성물 A이외의 다른 전자수용체화합물의 구체적인 화합물의 예로서는, 4-tert-부틸페놀, 4-tert-옥틸페놀, 4-페닐페놀, 1-나프톨, 2-나프톨, 하이드로퀴논, 레조르시놀, 4-tert-옥틸카테콜, 2,2'-디하이드록시비페놀, 4,4'-디하이드록시디페놀에테르, 2,2-비스(4'-하이드록시페닐)프로판["비스페놀 A"], 1,1-비스(4'-하이드록시페닐)시클로헥산, 2,2-비스(4'-하이드록시-3'-메틸페닐)프로판, 1,3-비스(4'-하이드록시)벤젠, 1,4-비스(4'-하이드록시큐밀)벤젠,1,3,5-트리스(4'-하이드록시큐밀)벤젠, 비스(4-하이드록시페닐)아세트산 n-부틸, 2,2-비스(4'-하이드록시페닐)아세트산 에틸, 4,4-비스(4'-하이드록시페닐)펜트산 n-부틸, 4-하이드록시벤조산 벤질, 4-하이드록시벤조산 페네틸, 2,4-디하이드록시벤조산 페녹시에틸, 4-하이드록시프탈산 디메틸, 갈산 n-프로필, 갈산 n-옥틸, 갈산 n-도데실, 갈산 n-옥타데실, 하이드로퀴논모노벤질에테르, 비스(3-메틸-4-하이드록시페닐)술피드, 비스(2-메틸-4-하이드록시페닐)술피드, 비스(3-페닐-4-하이드록시페닐)술피드, 비스(3-시클로헥실-4-하이드록시페닐)술피드, 비스(4-하이드록시페닐)술폭시드, 비스(4-하이드록시페닐)술폰, 비스(3-알릴-4-하이드록시페닐)술폰, 비스(3-페닐-4-하이드록시페닐)술폰, 4-하이드록시-4'-메틸디페닐술폰, 4-하이드록시-4'-tert-부틸디페닐술폰, 4-하이드록시-4'-클로로디페닐술폰산, 4-하이드록시-4'-메톡시디페닐술폰, 4-하이드록시-4'-n-프로폭시디페닐술폰, 4-하이드록시-4'-이소프로폭시디페닐술폰, 4-하이드록시-4'-n-부톡시디페닐술폰, 4-하이드록시-4'-클로로디페닐술폰, 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐술폰, 3,4-디하이드록시-4'-메틸디페닐술폰, 2,4'-디하이드록시디페닐술폰, 2-메톡시-4'-하이드록시디페닐술폰, 2-에톡시-2'-하이드록시디페닐술폰, 4-하이드록시-3-메틸-4'-n-프로폭시디페닐술폰, 비스(2-하이드록시-5-tert-부틸페닐)술폰, 비스(2-하이드록시-5-클로로페닐)술폰, 비스[4-(3'-하이드록시페닐옥시)페닐]술폰, 4-하이드록시벤조페논, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2,4'-디하이드록시벤조페논, 4,4'-디하이드록시벤조페논, 1,7-디(4'-하이드록시페닐티오)-3,5-디옥사헵탄, 1,5-디(4'-하이드록시페닐티오)-3-옥사펜탄, 2,4-디하이드록시-2'-메톡시벤조아닐리드 등의 페놀유도체; 이들 페놀유도체의 니켈, 아연, 알루미늄, 칼슘염 등의 금속염;
5-[4'-{2-(4-메톡시페녹시)에톡시}큐밀]살리실산, 4-[3'-(4-메틸페닐술폰)프로폭시]살리실산, 4-[2'-(4-메톡시페녹시)에톡시]살리실산, 4-n-부틸옥시카르보닐아미노살리실산, 4-n-옥틸옥시카르보닐아미노살리실산, 4-n-노닐옥시카르보닐아미노살리실산, 4-n-데실옥시카르보닐아미노살리실산, 5-시클로헥실카르보닐아미노살리실산, 1-나프토산, 2-나프토산, 1-하이드록시-2-나프토산, 2-하이드록시-3-나프토산, 2-하이드록시-6-나프토산, 1-아세틸옥시-2-나프토산, 2-아세틸옥시-1-나프토산, 2-아세틸옥시-3-나프토산, 모노벤질프탈레이트, 모노페닐프탈레이트, 이소프탈산, 테레프탈산, 4-메틸벤조산, 4-tert-부틸벤조산, 2-벤조일벤조산, 2-(4'-클로로-벤조일)벤조산, 4-니트로벤조산, 4-클로로벤조산, 4-트리플루오로메틸벤조산, 4-포르밀벤조산, 4-시아노벤조산, 스테아르산 등의 유기산유도체 및 이들의 니켈, 아연, 알루미늄 또는 칼슘염 등의 금속염;
안티피린-아연티오시아네이트착체, 아세틸아세톤-몰리브덴산착체 등의 착체;
N,N-디페닐티오우레아, N,N'-디(3-트리플루오로페닐페닐)티오우레아, N,N-디(3-클로로페닐)티오우레아, 1,4-디(3'-클로로페닐)-3-티오세미카르보자이드, N-페닐-N'-(4-메틸페닐술폰)우레아, 4,4'-비스(4"-메틸페닐술폰아미노카르보닐아미노)디페닐메탄 등의 요소유도체; 및
점토, 아파타르가이트(apatargaite), 활성점토, 염화알루미늄, 염화아연, 브롬화아연 등의 무기전자수용체화합물 등을 들 수 있다. 상기 전자공여성 화합물은, 이들 예시화합물로 한정되지 않고, 또, 혼합해서 사용하는 것도 가능하다.
고속기록에 적합한 감열기록재를 얻기 위해서는, 감열기록재에 증감제로서 융점이 70 내지 150℃, 바람직하게는 80 내지 130℃인 열가융성 화합물을 첨가하는 것이 바람직하다.
열가융성 화합물의 첨가량은, 특히 제한은 없으나, 통상, 전자공여성의 발색화합물 100중량부에 대해서 10 내지 700중량부, 바람직하게는 20 내지 500중량부이다.
열가융성 화합물의 구체예로서는, 카프론아미드, 카프린아미드, 팔미트아미드, 스테아르아미드, 올레아미드, 에루카미드, 리놀아미드, 리놀렌아미드, N-에틸카프린아미드, N-부틸로우르아미드, N-메틸스테아르아미드, N-메틸올레아미드, N-스테아릴시클로헥실아미드, N-옥타데실아세트아미드, N-올레일아세트아미드, 스테아르우레아, 스테아르아닐리드, 리놀아닐리드, N-에틸카르바졸, 4-메톡시디페닐아민, N-하이드록시메틸스테아르아미드, 메틸렌비스 스테아르아미드, 에틸렌비스스테아르아미드, 아세트아닐리드, 2-벤조일아세트아닐리드, 아세토아세트아닐리드, 2'-메틸아세토아세트아닐리드, 4'-메틸아세토아세트아닐리드, 2',4'-디메틸아세토아세트아닐리드, 2'-메톡시아세토아세트아닐리드, 4'-메톡시아세토아세트아닐리드, 2'-클로로아세토아세트아닐리드, 4'-클로로아세토아닐리드, 4'-클로로-2',5'-디메톡시아세토아세트아닐리드 등의 질소함유 화합물;
4-벤질옥시벤조산 벤질, 2-나프토산 페닐, 1-하이드록시-2-나프토산 페닐, 옥살산 디벤질, 옥살산 디(4-메틸벤질), 옥살산 디(4-클로로벤질), 아디프산 디페닐, 글구타르산 디펜아실, 카르본산 디(4-메틸페닐), 테레프탈산 디페닐, 테레프탈산 디벤질, 4-벤조일옥시벤조산 메틸 등의 에스테르화합물;
4-벤질비페닐, m-테르페닐, 1,2-비스(3',4'-디메틸페닐)에탄, 플루오렌, 플루오렌텐, 2,6-디이소프로필나프탈렌, 3-벤질아세나프텐 등의 탄화수소화합물;
2-벤질옥시나프탈렌, 2-(4'-메틸벤질옥시)나프탈렌, 1,4-디에톡시나프탈렌, 1,2-디페녹시에탄, 1,2-비스(3'-메틸페녹시)에탄, 1-페녹시-2-(4'-메틸페녹시)에탄, 1-페녹시-2-(4'-에틸페녹시)에탄, 1-(4'-메톡시페녹시)-2-페녹시에탄, 1-(4'-메톡시페녹시)-2-(3'-메틸페녹시)에탄, 1-(4'-메톡시페녹시)-2-(2'-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(4'-메톡시페닐티오)에탄, 1,5-비스(4'-메톡시페녹시)-3-옥사펜탄, 1,4-비스(2'-비닐옥시메톡시)벤젠, 4-(4'-메틸페녹시)비페닐, 1,4-디벤질옥시벤젠, 1,4-비스(2'-클로로벤질옥시)벤젠, 4,4'-디-n-부톡시디페닐술폰, 4,4'-디알릴옥시디페닐술폰, 1,2-비스(페녹시메틸)벤젠, 1,2-디페녹시벤젠, 1,4-비스(2'-클로로페녹시)벤젠, 1,4-비스(4'-메틸페녹시)벤젠, 1,4-비스(3'-메틸페녹시메틸)벤젠, 4-클로로벤질옥시-(4'-에톡시벤젠), 4,4'-비스(페녹시)디페닐에테르, 4,4'-비스(페녹시)디페닐티오에테르, 1,4-비스(4'-벤질페녹시)벤젠, 1,4-비스[(4'-메틸페닐옥시)메톡시메틸]벤젠 등의 에테르화합물;
1,4-디글리시딜옥시벤젠, 4-벤질옥시-4'-(2-메틸글리시딜옥시)디페닐술폰, 4-(4-메틸벤질옥시)-4'-글리시딜옥시디페닐술폰, N-글리시딜프탈이미드 등의 에폭시화합물 등을 들 수 있다.
그러나, 열가융성 화합물은 이들 화합물로 한정되지 않고, 또, 단독으로 혹은 혼합해서 사용할 수 있다.
본 발명의 감열기록재의 제조는, 특별한 기술을 요하지 않고, 공지의 방법에 의해 행할 수 있다. 일반적으로, 감열기록층에 사용되는 도포액은, 전자공여성의 발색화합물, 본 발명의 현상제조성물 A, 그리고, 소망에 따라, 열가융성 화합물을, 모두 함께 혹은 개별적으로, 볼밀, 수직 혹은 수평샌드밀, 교반밀, 콜로이드밀 등의 분쇄혼합장비에 의해, 입자크기가 통상 3㎛이하, 바람직하게는 2㎛이하로 되도록 분쇄, 분산 및 혼합해서 물의 존재하에 제조할 수 있다.
감열기록층에 사용되는 도포액은, 통상 바인더 및 안료를 함유한다.
바인더의 양은 특히 제한은 없으나, 통상 전체 고형분에 대해서 5 내지 50중량%이다.
일반적으로 수가용성 바인더 및 수불용성 바인더를 사용할 수 있으나, 수가용성 바인더가 바람직하다.
수가용성 바인더의 예로서는, 폴리비닐알콜, 카르복시변성 폴리비닐알콜, 술폰화 폴리비닐알콜, 알킬화 폴리비닐알콜 등의 폴리비닐알콜유도체; 메틸셀룰로스, 카르복시메틸셀룰로스, 하이드록시에틸셀룰로스, 하이드록시프로필셀룰로스 등의 셀룰로스유도체; 에피클로로하이드린변성 폴리아미드, 에틸렌-무수말레산공중합체, 스티렌-무수말레산공중합체, 이소부틸렌-무수말레산공중합체, 폴리아크릴산, 폴리아크릴아미드, 메틸올변성 폴리아크릴아미드, 전분, 산화전분, 에테르화전분 등의 전분유도체; 카제인, 젤라틴, 아라비아고무 등을 들 수 있따.
수불용성 바인더로서는, 합성 고무라텍스, 합성수지에멀젼 등이 일반적으로 알려져 있고, 예를 들면, 스티렌-부타디엔고무라텍스, 아크릴로니트릴-부타디엔라텍스, 메틸아크릴레이트-부타디엔고무라텍스, 아세트산비닐에멀젼 등을 들 수 있다.
이들 바인더는, 단독으로 혹은 혼합해서 사용해도 된다. 수가용성 바인더와 수불용성 바인더를 조합해서 사용하는 것도 가능함은 물론이다.
안료의 사용량은, 특히 제한은 없으나, 통상, 전자공여성의 발색화합물 100중량부에 대해서 50 내지 700중량부, 바람직하게는 100 내지 500중량부이다.
본 발명에서 사용가능한 안료의 예로서는, 탄산칼슘, 무정형 실리카, 무정형 규산칼슘, 탄산바륨, 탄산마그네슘, 탄산아연, 산화아연, 산화알루미늄, 산화티탄, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 황산바륨, 탤크, 아갈마토라이트(agalmatolite), 카올린, 점토, 규조토, 실리카 등의 무기안료; 스티렌미소구, 나일론입자, 우레아-포름알데하이드충전물, 폴리에틸렌입자, 셀룰로스충전제, 전분입자, 실리콘수지입자 등의 유기안료 등을 들 수 있다. 그러나, 안료는 이들 예시화합물로 한정되지 않고, 단독으로 혹은 혼합해서 사용할 수 있다.
감열기록재의 각종 특성, 예를 들면, 열헤드의 적합성을 고려해서, 바람직한 안료의 오일흡수량은 JIS K-5101에 따라 50㎖/100g이상이다. 상기와 동일 범위의 오일흡수량을 지닌 무기안료를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 상기와 동일한 오일흡수범위를 지닌 탄산칼슘, 무정형 실리카 및 무정형 규산칼슘을 이용하는 것이 보다 바람직하다.
또한, 필요에 따라, 감열기록층에 사용되는 도포액에는, 금속비누, 왁스, 계면활성제, 초음파흡수제(초음파안정제), 가교제, 힌더드페놀화합물, 인계 화합물및 발포방지제를 첨가할 수 있다.
예를 들면, 감열기록층에 대한 자외선흡수제(자외선안정제) 또는 힌더드페놀화합물의 첨가는, 감열기록재의 특성, 예를 들면, 현상된 상의 보존안정성을 향상시킬 수 있으므로 바람직하다.
금속비누의 예로서는, 스테아르산아연, 스테아르산칼슘, 스테아르산알루미늄, 올레산아연 등의 고급지방산의 금속염을 들 수 있다.
왁스의 예로서는, 파라핀왁스, 미소결정성 확스, 카르복시변성 파라핀왁스, 카르나우바왁스, 폴리에틸렌왁스, 폴리스티렌왁스, 칸델릴라왁스, 몬탄왁스 등의 고급지방산에스테르류 등을 들 수 있다.
계면활성제(분산제)의 예로서는, 디(n-헥실)술포숙신산나트륨, 디(2-에틸헥실)술포숙신산나트륨 등의 술포숙신산계 알칼리금속염, 도데실벤젠술폰산나트륨, 라우릴알콜황산에스테르의 나트륨염, 지방산의 금속염, 계면활성제함유 불소 등을 들 수 있다.
자외선흡수제(자외선안정제)란, 파장 약 300㎜ 내지 약 400㎜의 자외방사선의 적어도 일부를 흡수할 수 있는 화합물이다.
자외선흡수제의 예로서는, 신남산유도체, 벤조페논유도체, 트리아졸유도체, 살리실산유도체, 시아노아크릴레이트유도체, 힌더드아민유도체 등을 들 수 있다. 자외선흡수제로서는, 티아졸유도체가 특히 바람직하다.
티아졸유도체의 예로서는,
2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸,
2-(2'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸,
2-(2'-하이드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)벤조트리아졸,
2-(2'-하이드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸,
2-(2'-하이드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸,
2-(2'-하이드록시-3',5'-디-tert-아밀페닐)벤조트리아졸,
2-(2'-하이드록시-5'-tert-옥틸페닐)벤조트리아졸 등을 들 수 있다. 그러나, 트리아졸유도체는 이들 예시화합물로 한정되는 것은 아니며, 단독으로 혹은 혼합해서 사용할 수 있다.
자외선흡수제의 사용량에는 특히 제한은 없고, 통상, 전자공여성의 발색화합물 100중량부에 대해서 10 내지 400중량부, 바람직하게는 20 내지 300중량부이다.
가교제의 예로서는, 글리옥살 등의 알데하이드유도체, 에폭시화합물, 폴리아미드수지, 디글리시딜화합물, 아지리딘화합물, 염화마그네슘, 염화 제2철 등을 들 수 있다.
힌더드페놀화합물로서는, 페놀성 수산기에 대한 한쪽 혹은 양쪽 오르토위치상에 분기된 알킬기를 지닌 페놀유도체가 바람직하다.
대표적인 힌더드페놀화합물의 예로서는,
2,6-디이소프로필-4-메틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀,
2-tert-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-tert-옥틸-4-메톡시페놀,
2,5-디-tert-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-tert-옥틸하이드로퀴논,
1,1,3-트리스(2'-메틸-4'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)부탄,
1,1,3-트리스(2'-메틸-4'-하이드록시-5'-시클로헥실페닐)부탄,
1,1,3-트리스(2'-에틸-4'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)부탄,
1,1,3-트리스(3',5'-디-tert-부틸-4'-하이드록시페닐)부탄,
1,1,3-트리스(2'-메틸-4'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)프로판,
1,1-비스(2'-메틸-5'-tert-부틸-4'-하이드록시페닐)부탄,
테트라키스[메틸렌-3-(3',5'-디-tert-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄,
비스(3-tert-부틸-5-메틸-2-하이드록시페닐)메탄,
비스(3-tert-부틸-5-에틸-2-하이드록시페닐)메탄,
1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3',5'-디-tert-부틸-4'-하이드록시벤질)벤젠,
1,3,5-트리스(4'-tert-부틸-3'-하이드록시-2',6'-디메틸벤질)이소시아누르산,
1,3,5-트리스(4'-tert-부틸-3'-하이드록시-2'-메틸-6'-에틸벤질)이소시아누르산,
비스(2-메틸-4-하이드록시-5-tert-부틸페닐)술피드 등을 들 수 있다. 그러나, 힌더드페놀화합물은, 이들 예시화합물로 한정되지 않고, 단독으로 혹은 혼합해서 사용할 수 있다.
힌더드페놀화합물의 사용량은, 특히 제한은 없고, 통상, 전자공여성의 발색화합물 100중량부에 대해서 10 내지 400중량부, 바람직하게는 20 내지 300중량부이다.
바람직한 인계 화합물은 아인산염(즉, 포스파이트)이며, 예를 들면,
2,2'-메틸렌비스(4"-메틸-6"-tert-부틸페닐)포스파이트,
2,2'-메틸렌비스(4"-에틸-6"-tert-부틸페닐)포스파이트,
2,2'-메틸렌비스(4",6"-디-tert-부틸페닐)포스파이트,
디페닐포스파이트, 비스(4-tert-부틸페닐)포스파이트,
비스(2,4-디-tert-부틸페닐)포스파이트, 비스(4-클로로페닐)포스파이트,
비스(2-페닐페닐)포스파이트, 비스(4-페닐페닐)포스파이트 및 이들 화합물의 칼륨염, 나트륨염, 아연염, 칼슘염, 마그네슘염, 알루미늄염 등의 금속염을 들 수 있다.
본 발명의 감열기록재상에, 감열기록층을 형성하는 방법에 대해서는 특히 제한은 없고, 예를 들면, 종래 공지의 방법을 적용할 수 있으며, 예를 들면, 감열기록층에 사용되는 도포액을 에어나이프코터, 블레이드코터, 바코터, 숏드웰(short dwell)코터, 그라비야코터, 커튼코터, 롤코터, 와이어코터 등의 적합한 도포장치를 이용해서 담체상에 도포한 후, 건조시켜 감열기록층을 형성할 수 있다.
감열기록층의 도포량은, 특히 제한은 없으나, 통상, 건조중량으로 1.5 내지 12g/㎡, 바람직하게는 2 내지 10g/㎡이다.
담체는 특히 제한은 없다.
사용가능한 담체로서는, 예를 들면, 무목질지, 아트지, 코팅지, 내오일성 페이퍼 및 재생지 등의 종이류와; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스티렌 , 나일론 등의 플라스틱; 시트, 합성지, 플라스틱적층지, 상기 재료를 조합해서 얻어진 복합시트; 부직포시트, 성형품, 금속화 재료 등을 들 수 있다.
본 발명의 감열기록재도, 담체와 감열기록층사이에 1층이상의 언더코트층을지니는 유형이어도 된다.
언더코트층의 설치는, 발색감도를 보다 증대시키는 동시에 인쇄시의 도트재현성을 향상시킬 수 있다.
일반적으로, 언더코트층은, 안료 혹은 합성수지를 함유한다.
언더코트층에 사용가능한 안료의 예로서는, 소성 카올린, 수산화 알루미늄, 탄산칼슘, 황산바륨, 산화아연, 리토폰(lithopone), 아갈마토라이트, 카올린, 실리카, 무정형 실리카 등을 들 수 있고, 소성 카올린을 사용하는 것이 보다 바람직하다.
언더코트층에 사용가능한 합성수지의 예로서는, 스티렌-아크릴수지, 폴리스티렌수지, 폴리에틸렌수지, 폴리프로필렌수지, 폴리아세탈수지 등을 들 수 있다. 이들 합성수지는, 구형입자 혹은 구형의 중공입자의 형태로 사용하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는, 평균입자직경이 0.5 내지 3㎛인 구형의 플라스틱 혹은 구형의 중공플라스틱입자이고, 가장 바람직하게는 평균입자직경이 0.5 내지 3㎛인 수티렌아크릴수지의 구형의 플라스틱입자 혹은 구형의 중공입자이다.
안료와 합성수지는 단독으로 혹은 혼합해서 사용할 수 있다.
일반적으로, 언더코트층에 사용되는 도포액은, 안료나 합성수지이외에 바인더와 함께 혼합해서 수성 분산액의 형태로 제조된다.
상기 바인더로서는, 기록층형성시에 사용되는 것과 마찬가지의 것을 사용할 수 있다.
또, 필요한 경우, 언더코트층에 사용되는 도포액에는, 탈형제, 방수제, 알케닐숙시네이트, 알케닐케톤 이량체, 로진화합물 등의 사이징제, 파라핀왁스, 미소결정성 왁스, 카르복시변성 파라핀왁스, 카르나우바왁스, 폴리에틸렌왁스, 폴리스티렌왁스, 칸델릴라왁스, 몬탄왁스, 고급지방산에스테르 등의 왁스류 등을 함유시켜도 된다.
언더코트층에 사용되는 도포액은, 에어나이프코터, 블레이드코터, 바코터, 숏드웰코터, 그라비야코터, 커튼코터, 롤코터, 와이어바 등의 적합한 도포장치를 이용해서 담체상에 도포한 후 건조시켜 언더코트층을 형성할 수 있다.
언더코트층의 도포량은, 특히 제한은 없으나, 통상, 건조중량으로 0.5 내지 20g/㎡, 바람직하게는 1 내지 15g/㎡이다. 언더코트층의 주성분이 합성수지인 경우, 예를 들면, 피막두께가 2 내지 50㎛인 적절한 피막을 제조하는 것도 가능하다.
실시예
이하, 본 발명을 각종 제조예 및 실시예를 통해 보다 상세히 설명한다. 그러나, 이들 제조예 및 실시예로 본 발명의 범위가 제한되는 것은 아니다. 다른 언급이 없는 한 %는 중량%를 의미한다.
제조예 1
현상제조성물의 제조
디클로로에탄 200㎖에, 4-아미노페놀 22g, 4-메틸벤젠술포닐클로라이드 38g 및 피리딘 16g을 실온에서 4시간동안 교반하고, 해당 반응혼합물을 물로 세정한 후, 디클로로메탄용액을 분액하고, 감압하에 디클로로메탄을 증류제거하였다. 잔류물을 아세트산부틸로부터 재결정해서 무색 결정을 42g 얻었다. 이 결정을 고성능액체크로마토그래피로 분석하였다.
그 결과는, 거의 순수한 N-(4-하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드(예시화합물 번호 1-25)로 확인되었다.
상기 결정에, 황산아연 7수화물 0.2g을 첨가하고, 균일한 분산물이 형성될 때까지 막자사발에서 혼합해서, 결정조성물을 얻었다.
해당 조성물을 감열기록재의 전자수용체화합물용의 현상제조성물로서 사용하였다.
실시예 1
전자공여성의 발색화합물로서 3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란을 사용하고, 열가융성 화합물로서 2-벤조일옥시나프탈렌을 사용하였다. 상기 제조예 1에서 제조된 현상제조성물을 전자수용체화합물로서 사용하였다. 감열기록재는 다음과 같이 해서 제조하였다.
[감열기록재의 제조]
(액체-A 조성)
전자공여성의 발색화합물 10g
열가융성 화합물 20g
5%메틸셀룰로스수용액 10g
물 80g
총 120g
(액체-B 조성)
전자수용체화합물 40g
5%메틸셀룰로스수용액 20g
물 200g
총 260g
상기 액체-A 및 상기 액체-B를 개별적으로 평균입자크기가 1.5㎛가 되도록 샌드밀로 분쇄해서 분산액을 제조하였다.
제조예 1에서 제조한 현상제조성물을 상기 액체-B에 분산시키고, 액체-B 130g을 회수해서 대기환경중에 20℃에서 정치시키고 나서, 24시간후 액체-B의 착색상태를 육안으로 관찰하였다.
다음에, 액체-A 120g, 액체-B 130g, 30%파라핀왁스 10g, 10%폴리비닐알콜수용액(상품명: PVA-105, 쿠라레이사 제품) 170g 및 오일흡수량이 138㎖/100g인 탄산칼슘(상품명: 칼라이트(Calrite) KT, 시라이시사 제품) 25g을 혼합해서, 분산시켜 기록층용의 도포액을 제조하였다. 얻어진 도포액을 평량이 50g/㎡인 무목질지상에 건조중량이 5.5g/㎡가 되도록 도포하고, 건조해서 감열기록재를 제조하였다.
실시예 2 내지 13
각각 액체-A중의 전자공여성의 발색화합물 및 열가융성 화합물로서 표 1에 표시한 각 화합물을 사용한 이외에는 실시예 1에 기재한 바와 마찬가지 처리를 행하여 기록층용의 도포액 및 감열기록재를 제조하였다.
표 1에 있어서, 각각,
열가융성 화합물 a는 2-벤질옥시나프탈렌,
열가융성 화합물 b는 1,2-비스(3'-메틸페녹시)에탄,
열가융성 화합물 c는 4-(4'-메틸페녹시)비페닐,
열가융성 화합물 d는 디(4-메틸벤질)옥살레이트,
열가융성 화합물 e는 아디프산 디페닐,
열가융성 화합물 f는 N-하이드록시메틸스테아르아미드,
열가융성 화합물 g는 2'-메틸아세트아닐리드,
열가융성 화합물 h는 4-벤질비페닐,
열가융성 화합물 i는 1,4-디벤질옥시벤젠,
열가융성 화합물 j는 4,4-디알릴옥시디페닐술폰,
열가융성 화합물 k는 테레프탈산 디메틸,
열가융성 화합물 l은 1,2-비스(3',4'-디메틸페닐)에탄이다.
| 실시예 | 전자공여성의 발색화합물 | 열가융성 화합물 |
| 2 | 3-디-n-펜틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 | a |
| 3 | 3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 | b |
| 4 | 3-디메틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 | c |
| 5 | 3-N-이소펜틸-N-에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 | d |
| 6 | 3-N-n-프로필-N-메틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 | e |
| 7 | 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(3'-메틸페닐아미노)플루오란 | f |
| 8 | 3-N-(2'-메톡시에틸-N-이소부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노)플루오란 | g |
| 9 | 3-N-(3'-에톡시프로필-N-에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노)플루오란 | h |
| 10 | 3-디에틸아미노-7-(2'-플루오로페닐아미노)플루오란 | i |
| 11 | 3-디에틸아미노-7-(2'-클로로페닐아미노)플루오란 | j |
| 12 | 3-디-n-부틸아미노-7-(2'-클로로페닐아미노)플루오란 | k |
| 13 | 3-디에틸아미노-7-(3'-트리플루오로페닐아미노)플루오란 | l |
실시예 14 내지 31
상기 제조예 1에서 제조한 현상제조성물대신에 액체-B중의 전자수용체화합물로서 표 2에 표시한 현상제조성물을 사용한 이외에는, 실시예 1에 기재한 바와 마찬가지의 처리를 행하여 기록층용의 도포액을 제조하였다.
이와 같이 해서 얻어진 도포액을 이용해서 감열기록재를 제조하였다. 하기 표 2에 있어서 단위 %는 조성물에 있어서의 중량%를 표시한다.
| 실시예 | 전자수용체화합물 (현상제조성) |
| 14 | 예시화합물번호 1-25 (99.0%)황산아연 ( 1.0%) |
| 15 | 예시화합물번호 1-25 (99.5%)황산아연 ( 0.5%) |
| 16 | 예시화합물번호 1-25 (99.0%)황산나트륨 ( 1.0%) |
| 17 | 예시화합물번호 1-22 (97.0%)2,6-디이소프로필-4-메틸페놀 ( 3.0%) |
| 18 | 예시화합물번호 1-22 (98.8%)염화아연 ( 1.2%) |
| 19 | 예시화합물번호 1-15 (98.0%)티오황산나트륨 ( 2.0%) |
| 20 | 예시화합물번호 1-15 (99.0%)비스(4-tert-부틸페닐)포스페이트 ( 1.0%) |
| 21 | 예시화합물번호 1-16 (99.4%)2,5-디-tert-부틸하이드로퀴논 ( 0.6%) |
| 22 | 예시화합물번호 1-65 (99.1%)황산마그네슘 ( 0.9%) |
| 23 | 예시화합물번호 1-109 (99.4%)아황산수소나트륨 ( 0.6%) |
| 24 | 예시화합물번호 1-110 (99.7%)황산아연 ( 0.3%) |
| 25 | 예시화합물번호 1-25 (50.0%)예시화합물번호 1-110 (49.2%)황산아연 ( 0.8%) |
| 26 | 예시화합물번호 1-22 (49.0%)예시화합물번호 1-110 (49.0%)황산아연 ( 2.0%) |
| 27 | 예시화합물번호 1-24 (49.0%)예시화합물번호 1-109 (48.5%)황산아연 ( 2.5%) |
| 28 | 예시화합물번호 1-25 (99.5%)황산아연 ( 0.2%)황산마그네슘 ( 0.3%) |
| 29 | 예시화합물번호 1-68 (98.5%)황산아연 ( 0.5%)2-tert-부틸-4-메톡시페놀 ( 1.0%) |
| 30 | 예시화합물번호 1-98 (98.1%)아세트산아연 ( 0.6%)아황산나트륨 ( 0.3%)2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 ( 1.0%) |
| 31 | 예시화합물번호 1-110 (99.0%)비스(4-tert-부틸페닐)포스파이트 ( 0.8%)염화칼슘 ( 0.2%) |
실시예 32
오일흡수량이 138㎖/100g인 칼라이트 KT대신에, 오일흡수량이 60㎖/100g인탄산칼슘(상품명: 칼리트(Carlit) 3A, 시라이시사 제품) 25g을 사용한 이외에는, 실시예 1에 기재한 바와 마찬가지의 처리를 행하여 기록층용의 도포액을 제조해서 감열기록재에 적용하였다.
실시예 33
오일흡수량이 138㎖/100g인 탄산칼슘 25g 대신에, 오일흡수량이 70㎖/100g인 무정형 실리카(상품명: P 553A, 미즈사와케미컬사 제품) 25g을 사용한 이외에는, 실시예 1에 기재한 바와 마찬가지의 처리를 행하여 기록층용의 도포액을 제조해서 감열기록재에 적용하였다.
실시예 34
오일흡수량이 138㎖/100g인 탄산칼슘 25g 대신에, 오일흡수량이 170㎖/100g인 무정형 실리카(상품명: P 527, 미즈사와케미컬사 제품) 40g을 사용한 이외에는, 실시예 1에 기재한 바와 마찬가지의 처리를 행하여 기록층용의 도포액을 제조해서 감열기록재에 적용하였다.
실시예 35
오일흡수량이 138㎖/100g인 탄산칼슘 25g 대신에, 오일흡수량이 145㎖/100g인 무정형 규산칼슘(상품명: P 832, 미즈사와케미컬사 제품) 20g을 사용한 이외에는, 실시예 1에 기재한 바와 마찬가지의 처리를 행하여 기록층용의 도포액을 제조해서 감열기록재에 적용하였다.
실시예 36
평량이 50g/㎡인 무목질지 대신에, 이하의 방법에 의해 제조한 언더코트층을지닌 종이를 사용한 이외에는, 실시예 1에 기재한 바와 마찬가지의 처리를 행하여 감열기록재를 제조하였다.
[언더코트층을 지닌 종이의 제조]
소성 카올린(상품명: 안실렉스 90, 엔겔하르트사 제품) 80g과 나트륨 헥사메타포스페이트의 0.5%수용액 160g과의 혼합물을 균질기에 의해 분산시켰다.
얻어진 분산액에, 폴리비닐알콜(상품명: PVA-105, 쿠라레이사 제품)의 10%수용액 100g을 첨가하고, 철저히 교반해서 언더코트층용의 도포액을 제조하였다.
이와 같이 해서 얻어진 도포액을 평량이 50g/㎡인 무목질지에 건조도포량이 7.0g/㎡가 되도록 도포하고, 건조한 후, 수퍼캘린더처리를 실시해서 언더코트층을 지닌 종이를 제조하였다.
실시예 37
평량이 50g/㎡인 무목질지 대신에, 이하의 방법에 의해 제조한 언더코트층을 지닌 종이를 사용한 이외에는, 실시예 1에 기재한 바와 마찬가지의 처리를 행하여 감열기록재를 제조하였다.
[언더코트층을 지닌 종이의 제조]
평균입자직경이 1.0㎛이고, 중공비가 51체적%인 25%스티렌-아크릴수지로 이루어진 구형의 중공입자의 수성 분산액 400g에, 스티렌-부타디엔고무라텍스 40g 및 물 10g을 첨가하고, 철저히 교반해서 언더코트층용의 도포액을 제조하였다.
이와 같이 해서 얻어진 도포액을 평량이 50g/㎡인 무목질지에 피막두께가 20㎛가 되도록 도포하고, 건조한 후, 수퍼캘린더처리를 실시해서 언더코트층을 지닌종이를 제조하였다.
실시예 38
실시예 1에 있어서, 액체-B중의 전자수용체화합물로서의 제조예 1에서 제조한 현상제조성물 40g 대신에, 제조예 1에서 제조한 현상제조성물 32g 및 힌더드페놀로서의 1,1,3-트리스(3'-메틸-4'-하이드록시-5'-tert-부틸옥시페닐)부탄 8g을 사용하고, 그 밖의 처리를 실시예 1과 마찬가지로 행하여 기록층용의 도포액을 제조하고, 이어서, 감열기록층을 얻었다.
실시예 39
실시예 1에 있어서, 액체-B중의 전자수용체화합물로서의 제조예 1에서 제조한 현상제조성물 40g 대신에, 제조예 1에서 제조한 현상제조성물 32g 및 자외선흡수제로서의 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸 8g을 사용하고, 그 밖의 처리를 실시예 1과 마찬가지로 행하여 기록층용의 도포액을 제조하고, 이어서, 감열기록층을 얻었다.
실시예 40
실시예 1에 있어서, 액체-B중의 전자수용체화합물로서의 제조예 1에서 제조한 현상제조성물 40g 대신에, 제조예 1에서 제조한 현상제조성물 32g 및 1,4-비스(4'-하이드록시큐밀)벤젠 8g을 사용하고, 그 밖의 처리를 실시예 1과 마찬가지로 행하여 기록층용의 도포액을 제조하고, 이어서, 감열기록층을 얻었다.
실시예 41
실시예 1에 있어서, 액체-B중의 전자수용체화합물로서의 제조예 1에서 제조한 현상제조성물 40g 대신에, 제조예 1에서 제조한 현상제조성물 24g 및 2,4'-디하이드록디페닐술폰 16g을 사용하고, 그 밖의 처리를 실시예 1과 마찬가지로 행하여 기록층용의 도포액을 제조하고, 이어서, 감열기록층을 얻었다.
실시예 42
실시예 1에 있어서, 액체-B중의 전자수용체화합물로서의 제조예 1에서 제조한 현상제조성물 40g 대신에, 제조예 1에서 제조한 현상제조성물 34g 및 4-하이드록시-4'-이소프로폭시디페닐술폰 6g을 사용하고, 그 밖의 처리를 실시예 1과 마찬가지로 행하여 기록층용의 도포액을 제조하고, 이어서, 감열기록층을 얻었다.
비교예 1
실시예 1에 있어서, 액체-B중의 전자수용체화합물로서의 제조예 1에서 제조한 현상제조성물 대신에, N-(4-하이드록시페닐)-(4'-메틸벤젠)술폰아미드를 사용하고, 그 밖의 처리를 실시예 1과 마찬가지로 행하여 기록층용의 도포액을 제조하고, 이어서, 감열기록층을 얻었다.
비교예 2
실시예 1에 있어서, 액체-B중의 전자수용체화합물로서의 제조예 1에서 제조한 현상제조성물 대신에, N-(4-하이드록시페닐)부탄술폰아미드를 사용하고, 그 밖의 처리를 실시예 1과 마찬가지로 행하여 기록층용의 도포액을 제조하고, 이어서, 감열기록층을 얻었다.
비교예 3
실시예 1에 있어서, 액체-B중의 전자수용체화합물로서의 제조예 1에서 제조한 현상제조성물 대신에, 비스페놀 A를 사용하고, 그 밖의 처리를 실시예 1과 마찬가지로 행하여 기록층용의 도포액을 제조하고, 이어서, 감열기록층을 얻었다.
각 예 및 비교예에서 제조한 액체-B 분산액을 24시간 정치시킨 후, 착색도를 육안으로 관찰하였다. 그 결과를 2부류로 구분해서 표 3에 표시하였다.
○: 착색이 거의 관찰되지 않음
×: 흐리지만 착색이 관찰됨
각 감열기록재에 대해서 수퍼캘린더처리를 행하여 400 내지 500초의 벡평활도(Beck smoothness)를 얻고, 이어서, 이하의 방법으로 평가를 행하였다. 그 결과를 표 3에 표시한다.
[감열기록재의 평가방법]
(발색감도 시험)
각 감열기록재상에 0.49mj/dot의 에너지로 발색, 즉, 현상을 행하였다. 얻어진 현상된 화상의 농도는 맥베드 덴시토메터(모델: TR-54)로 측정하였다. 값이 클수록 발색감도가 우수하다는 것을 나타낸다..
(미발색부상의 백화도측정)
색차계(상품명: ∑-80, 닛뽄 덴쇼쿠사 제품)를 각 감열기록재에 적용한 직후의 표면상의 미발색부의 백화도를 측정하였다. 값이 클수록 백화도가 높고, 또 보존안정성이 양호하다는 것을 나타낸다.
| 감열기록재 | 착색도 | 발색감도 c | 백화도 |
| 실시예 1 | ○ | 1.34 | 84.0 |
| 실시예 2 | ○ | 1.35 | 83.5 |
| 실시예 3 | ○ | 1.32 | 84.1 |
| 실시예 4 | ○ | 1.35 | 83.6 |
| 실시예 5 | ○ | 1.33 | 84.2 |
| 실시예 6 | ○ | 1.31 | 84.0 |
| 실시예 7 | ○ | 1.35 | 85.0 |
| 실시예 8 | ○ | 1.33 | 84.5 |
| 실시예 9 | ○ | 1.35 | 83.3 |
| 실시예 10 | ○ | 1.30 | 83.5 |
| 실시예 11 | ○ | 1.34 | 84.4 |
| 실시예 12 | ○ | 1.33 | 84.2 |
| 실시예 13 | ○ | 1.32 | 83.3 |
| 실시예 14 | ○ | 1.34 | 83.6 |
| 실시예 15 | ○ | 1.33 | 84.7 |
| 실시예 16 | ○ | 1.34 | 83.9 |
| 실시예 17 | ○ | 1.35 | 84.2 |
| 실시예 18 | ○ | 1.33 | 83.8 |
| 실시예 19 | ○ | 1.35 | 84.6 |
| 실시예 20 | ○ | 1.36 | 84.7 |
| 실시예 21 | ○ | 1.31 | 84.5 |
| 실시예 22 | ○ | 1.33 | 84.0 |
| 실시예 23 | ○ | 1.35 | 83.3 |
| 실시예 24 | ○ | 1.35 | 84.7 |
| 실시예 25 | ○ | 1.34 | 84.2 |
| 실시예 26 | ○ | 1.36 | 84.0 |
| 실시예 27 | ○ | 1.35 | 83.6 |
| 실시예 28 | ○ | 1.32 | 84.2 |
| 실시예 29 | ○ | 1.35 | 83.5 |
| 실시예 30 | ○ | 1.33 | 84.5 |
| 실시예 31 | ○ | 1.30 | 84.0 |
| 실시예 32 | ○ | 1.35 | 85.0 |
| 실시예 33 | ○ | 1.33 | 84.5 |
| 실시예 34 | ○ | 1.35 | 83.3 |
| 실시예35 | ○ | 1.31 | 84.2 |
| 실시예 36 | ○ | 1.38 | 84.4 |
| 실시예 37 | ○ | 1.38 | 84.2 |
| 실시예 38 | ○ | 1.33 | 84.0 |
| 실시예 39 | ○ | 1.35 | 83.3 |
| 실시예 40 | ○ | 1.30 | 84.7 |
| 실시예 41 | ○ | 1.34 | 84.2 |
| 실시예 42 | ○ | 1.34 | 84.2 |
| 비교예 1 | × | 1.31 | 80.8 |
| 비교예 2 | × | 1.32 | 79.6 |
| 비교예 3 | ○ | 1.19 | 82.0 |
표 3으로부터 명백한 바와 같이, 전자수용체화합물용의 본 발명의 현상제조성물을 사용해서 제조한 분산액은, 착색을 일으키지 않고 안정성도 우수하다.
본 발명의 현상제조성물을 사용해서 제조한 감열기록재는, 종래의 전자수용체화합물로부터 제조된 감열기록재에 비해서 발색감도 및 미발색부의 백화도가 우수하다.
이상, 본 발명에 의하면, 술폰아미드구조를 지닌 페놀유도체를 함유해서 미립자화된 수성 분산액의 보존안정성이 우수한 신규의 현상제조성물(특히, 감열기록재용의 현상제조성물) 및 그 현상제조성물로부터 제조된, 색채농도가 높은 동시에 기록전의 백화도도 우수한 감열기록재를 제공하는 것이 가능하다.
Claims (14)
- 하기 일반식(1):(식중, X1은 수소원자 혹은 할로겐원자, 알킬기, 알콕시기 또는 수산기이고, Z1은 수소원자 또는 알킬기이며, R1은 무치환 또는 치환된 알킬기 혹은 아릴기임)로 표시되는 1종이상의 화합물과, 다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제로부터 선택된 1종이상의 구성성분을 함유해서 이루어진 것을 특징으로 하는 현상제조성물.
- 제 1항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 1종 이상의 화합물 100중량부에 대해서, 다가금속화합물, 산화방지제 및 환원제로부터 선택된 1종이상의 구성성분을 0.1 내지 5중량부 함유하는 것을 특징으로 하는 현상제조성물.
- 하기 일반식(1):(식중, X1은 수소원자 혹은 할로겐원자, 알킬기, 알콕시기 또는 수산기이고,Z1은 수소원자 또는 알킬기이며, R1은 무치환 또는 치환된 알킬기 혹은 아릴기임)로 표시되는 1종이상의 화합물과 다가금속화합물로부터 선택된 1종이상의 구성성분을 함유하는 것을 특징으로 하는 현상제조성물.
- 제 3항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 1종 이상의 화합물 100중량부에 대해서, 다가금속화합물로부터 선택된 1종이상의 구성성분을 0.1 내지 5중량부 함유하는 것을 특징으로 하는 현상제조성물.
- 제 1항 내지 제 4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 다가금속화합물은 황산아연인 것을 특징으로 하는 현상제조성물.
- 담체상에, 전자공여성의 발색화합물과 전자수용체화합물을 함유하는 감열기록층을 구비한 감열기록재에 있어서, 상기 전자수용체화합물이 제 1항 내지 제 5항중 어느 한 항에 기재된 현상제조성물인 것을 특징으로 하는 감열기록재.
- 제 6항에 있어서, 상기 감열기록층이 부가적으로 열가융성 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 감열기록재.
- 제 6항 또는 제 7항에 있어서, 상기 감열기록층은 부가적으로 자외선흡수제를 함유하는 것을 특징으로 하는 감열기록재.
- 제 6항 내지 제 8항중 어느 한 항에 있어서, 상기 감열기록층은 부가적으로 힌더드페놀화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 감열기록재.
- 제 6항 내지 제 9항중 어느 한 항에 있어서, 상기 감열기록층은 부가적으로 바인더를 함유하는 것을 특징으로 하는 감열기록재.
- 제 6항 내지 제 10항중 어느 한 항에 있어서, 상기 감열기록층은 부가적으로 안료를 함유하는 것을 특징으로 하는 감열기록재.
- 제 11항에 있어서, 상기 안료의 JIS K-5101에 따른 오일흡수도가 50㎖/100g이상인 것을 특징으로 하는 감열기록재.
- 제 6항 내지 제 12항중 어느 한 항에 있어서, 상기 담체와 감열기록층사이에는 언더코트층이 삽입되어 있는 것을 특징으로 하는 감열기록재.
- 제 1항 내지 제 5항중 어느 한 항에 기재된 현상제조성물을 물에 미립자화 분산시켜 얻어진 것을 특징으로 하는 수성 분산액.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000-85665 | 2000-03-27 | ||
| JP2000085665 | 2000-03-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20010090730A true KR20010090730A (ko) | 2001-10-19 |
Family
ID=18601958
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020010014831A KR20010090730A (ko) | 2000-03-27 | 2001-03-22 | 현상제조성물 및 감열기록재 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6579829B2 (ko) |
| EP (1) | EP1138517A3 (ko) |
| KR (1) | KR20010090730A (ko) |
| CN (1) | CN1318776A (ko) |
| BR (1) | BR0101161A (ko) |
| TW (1) | TW514608B (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014025400A1 (en) * | 2012-08-09 | 2014-02-13 | Valspar Sourcing, Inc. | Developer for thermally responsive record materials |
| US10316211B2 (en) | 2012-08-09 | 2019-06-11 | Swimc Llc | Stabilizer and coating compositions thereof |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1195260A3 (en) * | 2000-10-03 | 2002-08-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat-sensitive recording material |
| US7001091B1 (en) | 2003-10-31 | 2006-02-21 | Knight Andrew F | Ink pen for dispensing ink having time-dependent characteristics |
| AU2011239491B2 (en) | 2010-04-16 | 2016-02-25 | Swimc Llc | Coating compositions for packaging articles and methods of coating |
| KR20140048854A (ko) | 2011-02-07 | 2014-04-24 | 발스파 소싱 인코포레이티드 | 용기 및 기타 물품을 위한 코팅 조성물 및 코팅 방법 |
| EP2882401A4 (en) | 2012-08-09 | 2016-03-30 | Valspar Sourcing Inc | DENTAL MATERIALS AND MANUFACTURING METHOD |
| EP2882658B1 (en) | 2012-08-09 | 2021-09-08 | Swimc Llc | Container coating system |
| EP2882792A4 (en) | 2012-08-09 | 2016-04-13 | Valspar Sourcing Inc | POLYCARBONATE |
| RU2618704C2 (ru) | 2012-08-09 | 2017-05-11 | Вэлспар Сорсинг, Инк. | Композиции для контейнеров и других изделий и способы их применения |
| EP3053753B1 (en) * | 2013-10-04 | 2021-08-25 | Oji Holdings Corporation | Thermosensitive recording material |
| CN106536624B (zh) | 2014-04-14 | 2019-11-19 | 宣伟投资管理有限公司 | 制备用于容器和其它制品的组合物的方法以及使用所述组合物的方法 |
| TWI614275B (zh) | 2015-11-03 | 2018-02-11 | Valspar Sourcing Inc | 用於製備聚合物的液體環氧樹脂組合物 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58211493A (ja) * | 1982-06-02 | 1983-12-08 | Ricoh Co Ltd | 感熱記録材料 |
| JPS59165678A (ja) * | 1983-03-10 | 1984-09-18 | Nippon Kayaku Co Ltd | 感熱記録材料 |
| US4623391A (en) * | 1983-10-02 | 1986-11-18 | The Standard Register Company | Color developers for pressure-sensitive or heat-sensitive recording papers |
| JPH01141786A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-02 | Kao Corp | 記録材料 |
| JPH02145560A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-05 | Kao Corp | 新規なフェノール系化合物 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2948753A (en) * | 1958-05-12 | 1960-08-09 | Allied Chem | N-bis(p-dialkylaminophenyl)methyl sulfonamides |
| JPH0237572B2 (ja) * | 1981-06-24 | 1990-08-24 | Konishiroku Photo Ind | Kankonaishikannetsuseisoseibutsu |
| US4482905A (en) * | 1982-08-31 | 1984-11-13 | Hodogaya Chemical Co., Ltd. | Heat sensitive record material |
| US4531139A (en) * | 1983-10-02 | 1985-07-23 | The Standard Register Company | Color developers for pressure-sensitive or heat-sensitive recording papers |
| JPS62170388A (ja) * | 1986-01-24 | 1987-07-27 | Kanzaki Paper Mfg Co Ltd | 感熱記録体 |
| JP2734536B2 (ja) * | 1988-07-14 | 1998-03-30 | カシオ計算機株式会社 | 帳票出力装置 |
| US5328884A (en) * | 1990-03-30 | 1994-07-12 | Kanzaki Paper Manufacturing Co., Ltd. | Pressure sensitive manifold sheet containing color developer composition |
| DE59107068D1 (de) * | 1990-09-17 | 1996-01-25 | Ciba Geigy Ag | Druck- oder wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
| JPH0513071A (ja) * | 1991-07-02 | 1993-01-22 | Hitachi Maxell Ltd | アルカリ電池 |
| US5401699A (en) * | 1992-08-31 | 1995-03-28 | Kanzaki Paper Manufacturing Co., Ltd. | Heat-sensitive recording material |
| EP0665462B1 (en) * | 1994-01-28 | 2001-04-18 | New Oji Paper Co., Ltd. | Thermofixable photosensitive recording material and process for preparing thereof |
| JPH082697A (ja) * | 1994-06-17 | 1996-01-09 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成装置の縦型給紙トレイ |
-
2001
- 2001-03-22 KR KR1020010014831A patent/KR20010090730A/ko not_active Application Discontinuation
- 2001-03-26 EP EP01302746A patent/EP1138517A3/en not_active Withdrawn
- 2001-03-27 TW TW090107173A patent/TW514608B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-03-27 CN CN01116479A patent/CN1318776A/zh active Pending
- 2001-03-27 BR BR0101161-8A patent/BR0101161A/pt not_active IP Right Cessation
- 2001-03-27 US US09/817,416 patent/US6579829B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58211493A (ja) * | 1982-06-02 | 1983-12-08 | Ricoh Co Ltd | 感熱記録材料 |
| JPS59165678A (ja) * | 1983-03-10 | 1984-09-18 | Nippon Kayaku Co Ltd | 感熱記録材料 |
| US4623391A (en) * | 1983-10-02 | 1986-11-18 | The Standard Register Company | Color developers for pressure-sensitive or heat-sensitive recording papers |
| JPH01141786A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-02 | Kao Corp | 記録材料 |
| JPH02145560A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-05 | Kao Corp | 新規なフェノール系化合物 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014025400A1 (en) * | 2012-08-09 | 2014-02-13 | Valspar Sourcing, Inc. | Developer for thermally responsive record materials |
| US10316211B2 (en) | 2012-08-09 | 2019-06-11 | Swimc Llc | Stabilizer and coating compositions thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1138517A2 (en) | 2001-10-04 |
| BR0101161A (pt) | 2002-01-22 |
| CN1318776A (zh) | 2001-10-24 |
| US20010036903A1 (en) | 2001-11-01 |
| EP1138517A3 (en) | 2004-02-04 |
| TW514608B (en) | 2002-12-21 |
| US6579829B2 (en) | 2003-06-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100920590B1 (ko) | 감열기록체 | |
| KR20090128551A (ko) | 감열 기록체 | |
| EP1079356B1 (en) | Adhesive label for thermosensitive recording | |
| US6579829B2 (en) | Developer composition and heat sensitive recording material | |
| WO2023100900A1 (ja) | 感熱記録組成物 | |
| KR100713422B1 (ko) | 감열 기록체 | |
| JPH09142029A (ja) | 感熱記録体 | |
| JPS6255189A (ja) | 感熱記録材料 | |
| JP7286053B1 (ja) | 感熱記録組成物 | |
| JP3631153B2 (ja) | 顕色剤組成物および感熱記録材料 | |
| JP2002113951A (ja) | 感熱記録材料 | |
| JP3058757B2 (ja) | 感熱記録材料 | |
| JPH04250093A (ja) | 感熱記録体 | |
| JP2002264534A (ja) | 顕色剤組成物及び感熱記録材料 | |
| JP3258459B2 (ja) | 感熱記録材料およびカルボン酸多価金属塩 | |
| JP3720724B2 (ja) | 顕色剤組成物および感熱記録材料 | |
| JP3578530B2 (ja) | 感熱記録材料 | |
| JP4021789B2 (ja) | 感熱記録体 | |
| JP2003080851A (ja) | 感熱記録材料 | |
| JP2001287467A (ja) | 電子受容性化合物水分散液の製造方法及び保存方法 | |
| JP2008001046A (ja) | 感熱記録体 | |
| JP2002187364A (ja) | 感熱記録紙 | |
| JP2002321460A (ja) | 感熱記録材料 | |
| JPH0725160A (ja) | 感熱記録体 | |
| JP2000343833A (ja) | 感熱記録紙 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E601 | Decision to refuse application |