JPH02145560A - 新規なフェノール系化合物 - Google Patents
新規なフェノール系化合物Info
- Publication number
- JPH02145560A JPH02145560A JP63299143A JP29914388A JPH02145560A JP H02145560 A JPH02145560 A JP H02145560A JP 63299143 A JP63299143 A JP 63299143A JP 29914388 A JP29914388 A JP 29914388A JP H02145560 A JPH02145560 A JP H02145560A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydroxyphenyl
- formula
- compound
- acid chloride
- methyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 title claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 claims 1
- -1 halide compound Chemical class 0.000 abstract description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 7
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- FRYHCSODNHYDPU-UHFFFAOYSA-N ethanesulfonyl chloride Chemical compound CCS(Cl)(=O)=O FRYHCSODNHYDPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C=C1 ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 5
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- DTJVECUKADWGMO-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybenzenesulfonyl chloride Chemical compound COC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 DTJVECUKADWGMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 3
- TVKZDKSHNITMRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(ethylamino)phenol Chemical compound CCNC1=CC=CC(O)=C1 TVKZDKSHNITMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWLKGDAVCFYWJK-UHFFFAOYSA-N 3-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC(O)=C1 CWLKGDAVCFYWJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LACFLXDRFOQEFZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethylbenzenesulfonyl chloride Chemical compound CCC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 LACFLXDRFOQEFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZVNPWFOVUDMGRP-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol sulfate Chemical compound OS(O)(=O)=O.CNC1=CC=C(O)C=C1.CNC1=CC=C(O)C=C1 ZVNPWFOVUDMGRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 4-toluenesulfonyl chloride Chemical compound CC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N butane-1-sulfonamide Chemical compound CCCCS(N)(=O)=O OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- RACBQYWVYPUGKT-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)butane-1-sulfonamide Chemical compound CCCCS(=O)(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RACBQYWVYPUGKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- NWRBCVOWIUGFTA-UHFFFAOYSA-N (4-chlorosulfonylphenyl) acetate Chemical compound CC(=O)OC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 NWRBCVOWIUGFTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHKKTXXMAQLGJB-UHFFFAOYSA-N 2-(methylamino)phenol Chemical compound CNC1=CC=CC=C1O JHKKTXXMAQLGJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVKDNDRCUYIBLB-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=C(O)C(N)=C1 NVKDNDRCUYIBLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUUUGHXWCICIAZ-UHFFFAOYSA-N 3-(butylamino)phenol Chemical compound CCCCNC1=CC=CC(O)=C1 SUUUGHXWCICIAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DODDSXTWDSJCDN-UHFFFAOYSA-N 3-(trifluoromethoxy)benzenesulfonyl chloride Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=CC(S(Cl)(=O)=O)=C1 DODDSXTWDSJCDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940018563 3-aminophenol Drugs 0.000 description 1
- IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRAMAYNJUAGJIC-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxybenzenesulfonyl chloride Chemical compound CCOC1=CC=CC(S(Cl)(=O)=O)=C1 KRAMAYNJUAGJIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHJKSEKUZNJKGO-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybenzenesulfonyl chloride Chemical compound COC1=CC=CC(S(Cl)(=O)=O)=C1 JHJKSEKUZNJKGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJWHLERCFNIFNJ-UHFFFAOYSA-N 4-(ethylamino)phenol Chemical compound CCNC1=CC=C(O)C=C1 UJWHLERCFNIFNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLYBFBAHAQEEQQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzenesulfonyl chloride Chemical compound ClC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 ZLYBFBAHAQEEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIWSSFMVSKKXRJ-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxybenzenesulfonyl chloride Chemical compound CCOC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 XIWSSFMVSKKXRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSRMZMNENQZINF-UHFFFAOYSA-N 4-hexoxybenzenesulfonyl chloride Chemical compound CCCCCCOC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 LSRMZMNENQZINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CETRNHJIXGITKR-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylbenzenesulfonyl chloride Chemical compound CC(C)C1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 CETRNHJIXGITKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- CSKNSYBAZOQPLR-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonyl chloride Chemical compound ClS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 CSKNSYBAZOQPLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003842 bromide salts Chemical class 0.000 description 1
- WEDIIKBPDQQQJU-UHFFFAOYSA-N butane-1-sulfonyl chloride Chemical compound CCCCS(Cl)(=O)=O WEDIIKBPDQQQJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000005165 hydroxybenzoic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- JKRIULAJORWCLQ-UHFFFAOYSA-N n-(3-hydroxyphenyl)-4-methylbenzenesulfonamide Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=CC(O)=C1 JKRIULAJORWCLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIJXOMIZQUNIRL-UHFFFAOYSA-N n-(3-hydroxyphenyl)-n-methylethanesulfonamide Chemical compound CCS(=O)(=O)N(C)C1=CC=CC(O)=C1 RIJXOMIZQUNIRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMOBYFRCKHKXDW-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)-4-methylbenzenesulfonamide Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 GMOBYFRCKHKXDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNXOCVACSIOVSL-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)-n-methylethanesulfonamide Chemical compound CCS(=O)(=O)N(C)C1=CC=C(O)C=C1 XNXOCVACSIOVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFVFSOODBVLPJB-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-(4-hydroxyphenyl)butane-1-sulfonamide Chemical compound CCCCS(=O)(=O)N(CC)C1=CC=C(O)C=C1 UFVFSOODBVLPJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- SJMCLWCCNYAWRQ-UHFFFAOYSA-N propane-2-sulfonamide Chemical compound CC(C)S(N)(=O)=O SJMCLWCCNYAWRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRINJBFRTLBHNF-UHFFFAOYSA-N propane-2-sulfonyl chloride Chemical compound CC(C)S(Cl)(=O)=O DRINJBFRTLBHNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は感熱記録材料または感圧記録材料においてロイ
コ染料と組合せて使用される顕色剤として有用な新規フ
ェノール系化合物に関するものである。
コ染料と組合せて使用される顕色剤として有用な新規フ
ェノール系化合物に関するものである。
感熱あるいは感圧記録材料は現像、定着等の煩雑な処理
を施すことなく、比較的簡単な装置で短時間に記録がで
き、騒音の発生がなく、比較的安価である等の利点を有
し、コンピューターのアウトプット、電卓等のプリンタ
ー、医療計測用のレコーダー、ファクシミlハ自動券売
機、ラベル分野、複写機等において広く用いられている
。
を施すことなく、比較的簡単な装置で短時間に記録がで
き、騒音の発生がなく、比較的安価である等の利点を有
し、コンピューターのアウトプット、電卓等のプリンタ
ー、医療計測用のレコーダー、ファクシミlハ自動券売
機、ラベル分野、複写機等において広く用いられている
。
これらの記録方式の基本原理は、電子供与性の無色染料
と電子受容性化合物とが化学的に接触することにより染
料が有色体に変化することにあると言われており、上記
化学的な接触を熱ヘツド、熱ペン、レーザー光等で加熱
することあるいは鉛筆等で押圧するごとにより行わせる
。
と電子受容性化合物とが化学的に接触することにより染
料が有色体に変化することにあると言われており、上記
化学的な接触を熱ヘツド、熱ペン、レーザー光等で加熱
することあるいは鉛筆等で押圧するごとにより行わせる
。
上述の電子受容性化合物(一般に顕色剤と呼ばれる)と
してはフェノール性OH基を6つ化合物が種々提案され
ている(例えば、特公昭40−9309号公報、特公昭
43−4160号公報、特公昭45−14039号公報
、特公昭51−29830号公報、特開昭56−144
193号公報等)。通常ビスフェノール系化合物や4−
ヒドロキシ安息香酸エステル類等が実用に供されている
が、これら以外にも数多くの化合物が提案されている。
してはフェノール性OH基を6つ化合物が種々提案され
ている(例えば、特公昭40−9309号公報、特公昭
43−4160号公報、特公昭45−14039号公報
、特公昭51−29830号公報、特開昭56−144
193号公報等)。通常ビスフェノール系化合物や4−
ヒドロキシ安息香酸エステル類等が実用に供されている
が、これら以外にも数多くの化合物が提案されている。
(紙パルプ技術タイムス30巻6号p33.7号p56
.8号p40.10号p48.11号p50.12号p
53.13号p8(1987)、31巻1号p58.2
号pi(1988)。)これら顕色剤の望ましい特性と
して、 (1)電子供与性無色染料と反応して高濃度に発色像を
与える。
.8号p40.10号p48.11号p50.12号p
53.13号p8(1987)、31巻1号p58.2
号pi(1988)。)これら顕色剤の望ましい特性と
して、 (1)電子供与性無色染料と反応して高濃度に発色像を
与える。
(2)発色像が安定であり、経時、湿気、光等による退
色が少ない。
色が少ない。
(3)水溶性が少ない。
(4)昇華性がない。
(5)工業的に製造が容易で、高収率・高純度で、比較
的安価に得られる。
的安価に得られる。
等が挙げられるが、上述のような従来の材料では、例え
ば熱応答性が低く、高速記録の際に充分な発色濃度が得
られなかったり、記録後に発色像の濃度が経時的に低下
したり、いわゆる粉吹きと呼ばれる白色粉末状物の表面
析出が生じる等の問題があった。
ば熱応答性が低く、高速記録の際に充分な発色濃度が得
られなかったり、記録後に発色像の濃度が経時的に低下
したり、いわゆる粉吹きと呼ばれる白色粉末状物の表面
析出が生じる等の問題があった。
本発明の目的は、上記のような問題点を解決し、電子供
与性無色染料と組み合わせて使用した時、発色感度が大
きく、かつ、発色後の発色像の耐環境性、安定性に優れ
、合成容易な新規フェノール系化合物を提供することに
ある。
与性無色染料と組み合わせて使用した時、発色感度が大
きく、かつ、発色後の発色像の耐環境性、安定性に優れ
、合成容易な新規フェノール系化合物を提供することに
ある。
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を行っ
た結果、感熱または感圧記録材料、特に感熱記録材料に
おいて好適な記録材料を得るについて、電子受容性化合
物として特定のスルフォンアミド構造を有するフェノー
ル系化合物が有効であることを見出し本発明に至った。
た結果、感熱または感圧記録材料、特に感熱記録材料に
おいて好適な記録材料を得るについて、電子受容性化合
物として特定のスルフォンアミド構造を有するフェノー
ル系化合物が有効であることを見出し本発明に至った。
即ち、本発明は式
〔式中、R1は水素原子又は炭素数1〜4個をaし、置
換されていてもよい直鎖もしくは分岐のアルキル基を表
し、R2は、炭素数2〜12個を有し、置換されていて
もよい、直鎖もしくは分岐のアルキル基又はアリール基
のいずれかを表す。〕で表される新規なフェノール系化
合物を提供するものである。
換されていてもよい直鎖もしくは分岐のアルキル基を表
し、R2は、炭素数2〜12個を有し、置換されていて
もよい、直鎖もしくは分岐のアルキル基又はアリール基
のいずれかを表す。〕で表される新規なフェノール系化
合物を提供するものである。
以下に、式(1)で表わされる化合物の具体例を示すが
、本発明はこれらに限定されるしのではない。
、本発明はこれらに限定されるしのではない。
即ち、
N−(4−ヒドロキシフェニル)−エタンスルフォンア
ミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)エタンス
ルフォンアミド N−エチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)エタンス
ルフォンアミド N−ブチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)エタンス
ルフォンアミド N−メチル−N−(3−ヒドロキシフェニル)エタンス
ルフォンアミド N−メヂルーN−(4−ヒドロキンフェニル)2−プロ
パンスルフォンアミド N−(4−ヒドロキシフェニル)−ブタンスルフォンア
ミド N−メチル−N−(4−ヒドロキンフェニル)ブタンス
ルフォンアミド N−エチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ブタン
スルフォンアミド N−ブヂルーN−(4−ヒドロキンフェニル)ブタンス
ルフォンアミド N−(3−ヒドロキシフェニル)−ブタンスルフォンア
ミド N−(3−ヒドロキシフェニル)−ヘキサンスルフォン
アミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ヘキサ
ンスルフォンアミド N−(4−ヒドロキシフェニル)−ベンゼンスルフォン
アミド N−エチル−N−(4−ヒドロキノフェニル)ベンゼン
スルフォンアミド N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−トルエンスルフ
ォンアミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)p−トル
エンスルフォンアミド N−エチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)p−トル
エンスルフォンアミド N−ブチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−)
ルエンスルフォンアミド N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−トルエンスルフ
ォンアミド N−メチル−N−(3−ヒドロキシフェニル)=p−ト
ルエンスルフォンアミド N−エチル−N−(3−ヒドロキシフェニル)p−トル
エンスルフォンアミド N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−エチルベンゼン
スルフォンアミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−エ
チルベンゼンスルフォンアミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−m−エ
チルベンゼンスルフォンアミド N−エチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)p−エチ
ルベンゼンスルフォンアミド N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−エチルベンゼン
スルフォンアミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)p−イソ
プロピルベンゼンスルフォンアミドN−(4−ヒドロキ
シフェニル)−p−メトキシベンゼンスルフォンアミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)p−メト
キシベンゼンスルフォンアミドN−エチル−N−(4−
ヒドロキシフェニル)m−メトキシベンゼンスルフォン
アミドN−(3−ヒドロキシフェニル)−p−メトキシ
ベンゼンスルフォンアミド N−エチル−N−(3−ヒドロキシフェニル)p−メト
キシベンゼンスルフォンアミドN(4−ヒドロキシフェ
ニル)−p−エトキンベンゼンスルフォンアミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−エ
トキシベンゼンスルフォンアミドN−エチル−N−(4
−ヒドロキシフェニル)−m−エトキシベンゼンスルフ
ォンアミドN(4−ヒドロキシフェニル)−p−)リフ
ルオロメトキシベンゼンスルフォンアミドN−エチル−
N−(4−ヒドロキシフェニル)−m−トリフルオロメ
トキシベンゼンスルフォンアミド N−メチル−N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−ト
リフルオロメトキシベンゼンスルフォンアミド N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−へキシルオキシ
ベンゼンスルフォンアミド N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−へキシルオキシ
ベンゼンスルフォンアミド N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−アセトキシベン
ゼンスルフォンアミド N−メヂルーN−(4−ヒドロキシフェニル)p−アセ
トキシベンゼンスルフォンアミド等である。
ミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)エタンス
ルフォンアミド N−エチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)エタンス
ルフォンアミド N−ブチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)エタンス
ルフォンアミド N−メチル−N−(3−ヒドロキシフェニル)エタンス
ルフォンアミド N−メヂルーN−(4−ヒドロキンフェニル)2−プロ
パンスルフォンアミド N−(4−ヒドロキシフェニル)−ブタンスルフォンア
ミド N−メチル−N−(4−ヒドロキンフェニル)ブタンス
ルフォンアミド N−エチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ブタン
スルフォンアミド N−ブヂルーN−(4−ヒドロキンフェニル)ブタンス
ルフォンアミド N−(3−ヒドロキシフェニル)−ブタンスルフォンア
ミド N−(3−ヒドロキシフェニル)−ヘキサンスルフォン
アミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ヘキサ
ンスルフォンアミド N−(4−ヒドロキシフェニル)−ベンゼンスルフォン
アミド N−エチル−N−(4−ヒドロキノフェニル)ベンゼン
スルフォンアミド N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−トルエンスルフ
ォンアミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)p−トル
エンスルフォンアミド N−エチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)p−トル
エンスルフォンアミド N−ブチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−)
ルエンスルフォンアミド N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−トルエンスルフ
ォンアミド N−メチル−N−(3−ヒドロキシフェニル)=p−ト
ルエンスルフォンアミド N−エチル−N−(3−ヒドロキシフェニル)p−トル
エンスルフォンアミド N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−エチルベンゼン
スルフォンアミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−エ
チルベンゼンスルフォンアミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−m−エ
チルベンゼンスルフォンアミド N−エチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)p−エチ
ルベンゼンスルフォンアミド N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−エチルベンゼン
スルフォンアミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)p−イソ
プロピルベンゼンスルフォンアミドN−(4−ヒドロキ
シフェニル)−p−メトキシベンゼンスルフォンアミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)p−メト
キシベンゼンスルフォンアミドN−エチル−N−(4−
ヒドロキシフェニル)m−メトキシベンゼンスルフォン
アミドN−(3−ヒドロキシフェニル)−p−メトキシ
ベンゼンスルフォンアミド N−エチル−N−(3−ヒドロキシフェニル)p−メト
キシベンゼンスルフォンアミドN(4−ヒドロキシフェ
ニル)−p−エトキンベンゼンスルフォンアミド N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−エ
トキシベンゼンスルフォンアミドN−エチル−N−(4
−ヒドロキシフェニル)−m−エトキシベンゼンスルフ
ォンアミドN(4−ヒドロキシフェニル)−p−)リフ
ルオロメトキシベンゼンスルフォンアミドN−エチル−
N−(4−ヒドロキシフェニル)−m−トリフルオロメ
トキシベンゼンスルフォンアミド N−メチル−N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−ト
リフルオロメトキシベンゼンスルフォンアミド N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−へキシルオキシ
ベンゼンスルフォンアミド N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−へキシルオキシ
ベンゼンスルフォンアミド N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−アセトキシベン
ゼンスルフォンアミド N−メヂルーN−(4−ヒドロキシフェニル)p−アセ
トキシベンゼンスルフォンアミド等である。
本発明のフェノール系化合物の合成法は特に限定される
ものではなく、例えば通常のスルフォンアミド化反応に
より、アミノフェノール化合物(又はその塩)とスルフ
ォン酸ハライド化合物とから得ることができる。例えば
次式の如くである。
ものではなく、例えば通常のスルフォンアミド化反応に
より、アミノフェノール化合物(又はその塩)とスルフ
ォン酸ハライド化合物とから得ることができる。例えば
次式の如くである。
[式中、R1およびR9は前記と同意義。コ上記原料で
あるアミノフェノール化合物としては、例えばp−アミ
ノフェノール、p−メチルアミノフェノール、p−エチ
ルアミノフェノール、p−トリフルオロメチルアミノフ
ェノール、p−ブチルアミノフェノール、m−アミノフ
ェノール、m−メチルアミノフェノール、m−エチルア
ミノフェノール、m−ブチルアミノフェノール等が挙げ
られ、これらの塩酸塩、硫酸塩等の塩も使用することが
できる。
あるアミノフェノール化合物としては、例えばp−アミ
ノフェノール、p−メチルアミノフェノール、p−エチ
ルアミノフェノール、p−トリフルオロメチルアミノフ
ェノール、p−ブチルアミノフェノール、m−アミノフ
ェノール、m−メチルアミノフェノール、m−エチルア
ミノフェノール、m−ブチルアミノフェノール等が挙げ
られ、これらの塩酸塩、硫酸塩等の塩も使用することが
できる。
また、もう一方の原料であるスルフォン酸ハライド化合
物としては、エタンスルフオン酸クロライド、2−プロ
パンスルフオン酸クロライド、1ブタンスルフオン酸ク
ロライド、■−ヘキサンスルフォン酸クロライド、ベン
ゼンスルフオン酸クロライド、m−クロロベンゼンスル
フオン酸クロライド、p−クロロベンゼンスルフすン酸
クロライド、p−トルエンスルフオン酸クロライド、p
−エチルベンゼンスルフオン酸クロライド、p−イソプ
ロピルベンゼンスルフオン酸クロライド、p−メトキシ
ベンゼンスルフオン酸クロライド、mメトキシベンゼン
スルフオン酸クロライド、pエトキシベンゼンスルフォ
ン酸クロライド、mエトキシベンゼンスルフオン酸クロ
ライド、pトリフルオロメトキシベンゼンスルフオン酸
クロライド、m−トリフルオロメトキシベンゼンスルフ
オン酸クロライド、p−へキシルオキシベンゼンスルフ
オン酸クロライド、p−アセトキシベンゼンスルフオン
酸クロライド、l−ナフタレンスルフオン酸クロライド
等の塩化物、あるいはこれらに対応する臭化物もしくは
フッ化物が挙げられる。
物としては、エタンスルフオン酸クロライド、2−プロ
パンスルフオン酸クロライド、1ブタンスルフオン酸ク
ロライド、■−ヘキサンスルフォン酸クロライド、ベン
ゼンスルフオン酸クロライド、m−クロロベンゼンスル
フオン酸クロライド、p−クロロベンゼンスルフすン酸
クロライド、p−トルエンスルフオン酸クロライド、p
−エチルベンゼンスルフオン酸クロライド、p−イソプ
ロピルベンゼンスルフオン酸クロライド、p−メトキシ
ベンゼンスルフオン酸クロライド、mメトキシベンゼン
スルフオン酸クロライド、pエトキシベンゼンスルフォ
ン酸クロライド、mエトキシベンゼンスルフオン酸クロ
ライド、pトリフルオロメトキシベンゼンスルフオン酸
クロライド、m−トリフルオロメトキシベンゼンスルフ
オン酸クロライド、p−へキシルオキシベンゼンスルフ
オン酸クロライド、p−アセトキシベンゼンスルフオン
酸クロライド、l−ナフタレンスルフオン酸クロライド
等の塩化物、あるいはこれらに対応する臭化物もしくは
フッ化物が挙げられる。
反応は通常溶媒の存在下に行なわれる。使用し得る溶媒
は反応試薬を溶解し得るものであり、例えば、テトロヒ
ドロフラン、ジオキサン、N、Nジメチルホルムアミド
、アセトン、塩化メチレン、クロロポルム等の有機溶媒
の他、場合によっては水系溶媒も用いることができる。
は反応試薬を溶解し得るものであり、例えば、テトロヒ
ドロフラン、ジオキサン、N、Nジメチルホルムアミド
、アセトン、塩化メチレン、クロロポルム等の有機溶媒
の他、場合によっては水系溶媒も用いることができる。
反応は室温から溶媒の還流温度までの範囲で適宜行うこ
とができ、通常1〜5時間でほぼ終結する。反応は無触
媒でも行い得るが、必要に応じ、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムあるいはピリジン等の塩基性触媒を用いる
ことができる。
とができ、通常1〜5時間でほぼ終結する。反応は無触
媒でも行い得るが、必要に応じ、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムあるいはピリジン等の塩基性触媒を用いる
ことができる。
反応終了後、通常の後処理をして粗生成物を得、これを
適当な溶媒から再結晶により精製物を得る。
適当な溶媒から再結晶により精製物を得る。
反応生成物は電子供与性染料の顕色剤として発色感度が
高い。
高い。
(実施例)
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
明はこれらに限定されるものではない。
なお、実施例中に示す部及び%はすべで重量基準である
。
。
命灰皿1
CN−(4−ヒドロキシフェニル)−ブタンスルフォン
アミド〕 p−アミノフェノール32.74g(0,3モル)をテ
トラヒドロフラン150mρに溶解し、窒素雰囲気中、
室温で撹拌下、■−ブタンスルフォン酸クロライド23
.49g(0,15モル)の塩化メチレン(150m&
)溶液を10分間で滴下した。次にピリジン24.92
g(0,315モル)を5分間で滴下し、更にl−ブタ
ンスルフオン酸クロライド23.96g(0,153モ
ル)の塩化メチレン(150I+IQ)溶液を、10分
間で滴下し、1時間室温で撹拌を続けた後、昇温しで1
時間還流させた。冷却後、沈澱物を濾別し、′a液を順
次5%塩酸、水、続いて飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、
溶媒を留去して、白色粉末55.5gを得た(収率8I
%)。
アミド〕 p−アミノフェノール32.74g(0,3モル)をテ
トラヒドロフラン150mρに溶解し、窒素雰囲気中、
室温で撹拌下、■−ブタンスルフォン酸クロライド23
.49g(0,15モル)の塩化メチレン(150m&
)溶液を10分間で滴下した。次にピリジン24.92
g(0,315モル)を5分間で滴下し、更にl−ブタ
ンスルフオン酸クロライド23.96g(0,153モ
ル)の塩化メチレン(150I+IQ)溶液を、10分
間で滴下し、1時間室温で撹拌を続けた後、昇温しで1
時間還流させた。冷却後、沈澱物を濾別し、′a液を順
次5%塩酸、水、続いて飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、
溶媒を留去して、白色粉末55.5gを得た(収率8I
%)。
これは分析の結果はぼ純粋なN−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−ブタンスルフォンアミドであっノこ。
ニル)−ブタンスルフォンアミドであっノこ。
更にトルエンから再結晶により精製し、融点を求めたと
ころ89℃であった。
ころ89℃であった。
合成例2
〔N−メヂルーN−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
トルエンスルフォンアミド〕 p−メチルアミノフェノール硫酸塩51.66g(0,
15モル)とピリジン24.2gC0,306モル)を
テトラヒドロフラン150mCに溶解し、窒素雰囲気中
、室温で撹拌下、p−トルエンスルフオン酸クロライド
28.6g(0,15モル)の塩化メチレン(loom
Q)溶液を、10分間で滴下した。
トルエンスルフォンアミド〕 p−メチルアミノフェノール硫酸塩51.66g(0,
15モル)とピリジン24.2gC0,306モル)を
テトラヒドロフラン150mCに溶解し、窒素雰囲気中
、室温で撹拌下、p−トルエンスルフオン酸クロライド
28.6g(0,15モル)の塩化メチレン(loom
Q)溶液を、10分間で滴下した。
次にピリジン24.92g(0,315モル)を5分間
で滴下し、更にp−)ルエンスルフオン酸クロライド3
0.03g(0,157モル)の塩化メチレン(100
m12)溶液を10分間かけて滴下し、1時間室温で撹
拌した後、昇温しで2時間還流させた。
で滴下し、更にp−)ルエンスルフオン酸クロライド3
0.03g(0,157モル)の塩化メチレン(100
m12)溶液を10分間かけて滴下し、1時間室温で撹
拌した後、昇温しで2時間還流させた。
冷却後、沈澱物を濾別し、濾液を水、続いて5%塩酸、
飽和重炭酸ナトリウム水で洗浄し、乾燥後溶媒を留去し
て白色粉末73.3gを得た(収率88%)。
飽和重炭酸ナトリウム水で洗浄し、乾燥後溶媒を留去し
て白色粉末73.3gを得た(収率88%)。
これは分析の結果、目的とするN−メチル−N(4−ヒ
ドロキシフェニル)−p−トルエンスルフォンアミドで
あった。
ドロキシフェニル)−p−トルエンスルフォンアミドで
あった。
トルエンから再結晶により精製し、融点を求めたところ
138℃であった。
138℃であった。
合成例3
CN−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−エタ
ンスルフォンアミド〕 p−メチルアミノフェノール硫酸塩34.44g(0,
1モル)と水酸化ナトリウム8.0g(0,2モル)を
テトラヒドロフラン500mgに加え、窒素雰囲気中、
室温で4時間撹拌した。この混合物にエタンスルフオン
酸クロライド25.71g(0,2モル)のテトラヒド
ロフラン(25m12)溶液を、10分間で滴下した。
ンスルフォンアミド〕 p−メチルアミノフェノール硫酸塩34.44g(0,
1モル)と水酸化ナトリウム8.0g(0,2モル)を
テトラヒドロフラン500mgに加え、窒素雰囲気中、
室温で4時間撹拌した。この混合物にエタンスルフオン
酸クロライド25.71g(0,2モル)のテトラヒド
ロフラン(25m12)溶液を、10分間で滴下した。
滴下終了後2時間室温で撹拌した後、−晩装置した。沈
澱物を濾別し、濾液を水、続いて5%塩酸、飽和重炭酸
ナトリウム水で洗浄し、乾燥後溶媒を留去して白色粉末
36.6gを得た(収率85%)。
澱物を濾別し、濾液を水、続いて5%塩酸、飽和重炭酸
ナトリウム水で洗浄し、乾燥後溶媒を留去して白色粉末
36.6gを得た(収率85%)。
これは分析の結果、目的とするN−メチル−N−(4−
ヒドロキシフェニル)−エタンスルフォンアミドであっ
た。
ヒドロキシフェニル)−エタンスルフォンアミドであっ
た。
トルエンから再結晶により精製し、融点を求めたところ
87℃であった。
87℃であった。
合成例4
〔N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)p−エ
チルベンゼンスルフォンアミド〕p−メチルアミノフェ
ノール硫酸塩34.44g(0,1モル)とピリジン3
9.55g(0,5モル)を塩化メチレン200m12
に加え、窒素雰囲気中、室温で撹拌下、p−エチルベン
ゼンスルフオン酸クロライド41.75g(0,204
モル)の塩化メチレン(100mQ)溶液を10分間で
滴下した。1時間室温で撹拌した後、昇温して2時間還
流させた。
チルベンゼンスルフォンアミド〕p−メチルアミノフェ
ノール硫酸塩34.44g(0,1モル)とピリジン3
9.55g(0,5モル)を塩化メチレン200m12
に加え、窒素雰囲気中、室温で撹拌下、p−エチルベン
ゼンスルフオン酸クロライド41.75g(0,204
モル)の塩化メチレン(100mQ)溶液を10分間で
滴下した。1時間室温で撹拌した後、昇温して2時間還
流させた。
冷却後、沈澱物を濾別し、濾液を順次5%塩酸、水、続
いて飽和重炭酸ナトリウム水で洗浄し、乾燥後、溶媒を
留去して、白色粉末45.5gを得た(収率78%)。
いて飽和重炭酸ナトリウム水で洗浄し、乾燥後、溶媒を
留去して、白色粉末45.5gを得た(収率78%)。
これは分析の結果はぼ純粋なN−メチル−N(4−ヒド
ロキシフェニル)−p−エチルベンゼンスルフォンアミ
ドであった。
ロキシフェニル)−p−エチルベンゼンスルフォンアミ
ドであった。
更にトルエンから再結晶により精製し、融点を求めたと
ころ119℃であった。
ころ119℃であった。
合成例5
〔N−エチル−N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−
メトキシベンゼンスルフォンアミド〕m−エチルアミノ
フェノール18.58g(0,135モル)をテトラヒ
ドロフラン100m12と塩化メチレン100m(!の
混合溶媒に溶解し、窒素雰囲気中、室温で撹拌下、p−
メトキシベンゼンスルフオン酸クロライド13.95g
(0,068モル)の塩化メチレン(50m12)溶液
を5分間で滴下した。
メトキシベンゼンスルフォンアミド〕m−エチルアミノ
フェノール18.58g(0,135モル)をテトラヒ
ドロフラン100m12と塩化メチレン100m(!の
混合溶媒に溶解し、窒素雰囲気中、室温で撹拌下、p−
メトキシベンゼンスルフオン酸クロライド13.95g
(0,068モル)の塩化メチレン(50m12)溶液
を5分間で滴下した。
次にピリジン21.62g(0,273モル)を5分間
で滴下し、更にp−メトキシベンゼンスルフオン酸クロ
ライド14.60g(0,071モル)の塩化メチレン
(50m12)溶液を、5分間で滴下し、1時間室温で
撹拌を続けた後、昇温して3時間還流させた。冷却後、
沈澱物を濾別し、濾液を順次5%塩酸、水、続いて飽和
食塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を留去して、白色粉末4
3.7gを得た(収率78%)。
で滴下し、更にp−メトキシベンゼンスルフオン酸クロ
ライド14.60g(0,071モル)の塩化メチレン
(50m12)溶液を、5分間で滴下し、1時間室温で
撹拌を続けた後、昇温して3時間還流させた。冷却後、
沈澱物を濾別し、濾液を順次5%塩酸、水、続いて飽和
食塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を留去して、白色粉末4
3.7gを得た(収率78%)。
これは分析の結果はぼ純粋なN−エチル−N−(3−ヒ
ドロキシフェニル)−p−メトキシベンゼンスルフォン
アミドであった。
ドロキシフェニル)−p−メトキシベンゼンスルフォン
アミドであった。
更にトルエンから再結晶により精製し、融点を求めたと
ころ97℃であった。
ころ97℃であった。
合成例6〜15
合成例1〜5に準じて合成を行った。
以上、得られた目的化合物の諸物性データを第1表及び
第2表にまとめた。
第2表にまとめた。
以下、応用例として本発明の化合物を電子供与性染料(
3−N−メチル−N−ノクロへキンルアミノ−6−メチ
ル−7−アニリノフルオラン)と組合わUて感熱記録(
オ科として用いた例を示す。
3−N−メチル−N−ノクロへキンルアミノ−6−メチ
ル−7−アニリノフルオラン)と組合わUて感熱記録(
オ科として用いた例を示す。
応用例1
〔A液〕 3−N−メチル−N−10部ツク〔Jヘキン
ルアミノ−6−メチル 7−アニリノフルオラン 10%ポリビニルアルコール水溶液 20部スルフォン
アミドとして、合成例2で得られたN−メヂルーN−(
4−ヒドロキシフェニル)−pトルエンスルフォンアミ
ドを用いる以外は、応用例1と同様にして感熱記録材料
を得た。
ルアミノ−6−メチル 7−アニリノフルオラン 10%ポリビニルアルコール水溶液 20部スルフォン
アミドとして、合成例2で得られたN−メヂルーN−(
4−ヒドロキシフェニル)−pトルエンスルフォンアミ
ドを用いる以外は、応用例1と同様にして感熱記録材料
を得た。
応用例3〜IO
スルフォンアミドとして、第3表に示した化合物を用い
ろ以外は、応用例1と同様にして感熱記録材料を得た。
ろ以外は、応用例1と同様にして感熱記録材料を得た。
ブタンスルフォンアミド
炭酸カルシウム 10部IO%ポリ
ビニルアルコール水溶液 10部A液及び13液をそれ
ぞれ別々に平均粒径3μ以下になるまでザンドミルで微
粒化し、次にA液1部、B液3部を混合して塗IL液を
調製した。この塗工液を坪B50g/m2の市販上質紙
に塗工(塗工量、固形分6g/m’)L、乾燥後スーパ
ーカレンダーにて平滑処理を施し、感熱記録材料を得た
。
ビニルアルコール水溶液 10部A液及び13液をそれ
ぞれ別々に平均粒径3μ以下になるまでザンドミルで微
粒化し、次にA液1部、B液3部を混合して塗IL液を
調製した。この塗工液を坪B50g/m2の市販上質紙
に塗工(塗工量、固形分6g/m’)L、乾燥後スーパ
ーカレンダーにて平滑処理を施し、感熱記録材料を得た
。
応用例2
第3表
価を行った。結果を第4表に示す。
(評価方法)
■発色感度
大金電機(抹)製、動的発色試験装置を用い、印字エネ
ルギー0 、45 m、I /datにて発色さけ、そ
の発色濃度をマクベスRD−918型濃度計(マクベス
社製)で測定した。
ルギー0 、45 m、I /datにて発色さけ、そ
の発色濃度をマクベスRD−918型濃度計(マクベス
社製)で測定した。
■発色像安定性
■で調製した発色ザンブルを室内(25℃、60%r?
I−1)に1か月装置した後、再度、発色濃度を測定
し、その濃度の保持率を算出した。
I−1)に1か月装置した後、再度、発色濃度を測定
し、その濃度の保持率を算出した。
以」二の6例で得られた感熱記録材料について、以丁の
ようにして発色感度及び発色像安定性の評表4表 第4表からし明らかなように、本発明のフェノール系化
合物を用いた感熱記録材料は、0.45mJ/dotと
いう低印字エネルギーにもかかわらず、非常に浸れた発
色感度を示し、かつ発色像の安定性ら良好であ−また3
゜ 従って、本発明のフェノール系化合物は感熱記録材料と
して種々の分野に応用することができる。
ようにして発色感度及び発色像安定性の評表4表 第4表からし明らかなように、本発明のフェノール系化
合物を用いた感熱記録材料は、0.45mJ/dotと
いう低印字エネルギーにもかかわらず、非常に浸れた発
色感度を示し、かつ発色像の安定性ら良好であ−また3
゜ 従って、本発明のフェノール系化合物は感熱記録材料と
して種々の分野に応用することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R_1は水素原子又は炭素数1〜4個を有し、
置換されていてもよい直鎖もしくは分岐のアルキル基を
表し、R_2は、炭素数2〜12個を有し、置換されて
いてもよい、直鎖もしくは分岐のアルキル基又はアリー
ル基のいずれかを表す。〕で表されるフェノール系化合
物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63299143A JPH02145560A (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 新規なフェノール系化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63299143A JPH02145560A (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 新規なフェノール系化合物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02145560A true JPH02145560A (ja) | 1990-06-05 |
Family
ID=17868681
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63299143A Pending JPH02145560A (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 新規なフェノール系化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02145560A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001016208A1 (fr) * | 1999-08-26 | 2001-03-08 | Nippon Paint Co., Ltd. | Procede de reutilisation de pastille de polyester |
EP1138517A2 (en) * | 2000-03-27 | 2001-10-04 | Mitsui Chemicals, Inc. | Developer composition and heat sensitive recording material |
EP1195260A2 (en) * | 2000-10-03 | 2002-04-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat-sensitive recording material |
US6921740B1 (en) | 1999-08-31 | 2005-07-26 | Mitsubishi Paper Miils Ltd. | Electron-receiving compound and thermal recording material |
-
1988
- 1988-11-25 JP JP63299143A patent/JPH02145560A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001016208A1 (fr) * | 1999-08-26 | 2001-03-08 | Nippon Paint Co., Ltd. | Procede de reutilisation de pastille de polyester |
US6921740B1 (en) | 1999-08-31 | 2005-07-26 | Mitsubishi Paper Miils Ltd. | Electron-receiving compound and thermal recording material |
EP1138517A2 (en) * | 2000-03-27 | 2001-10-04 | Mitsui Chemicals, Inc. | Developer composition and heat sensitive recording material |
KR20010090730A (ko) * | 2000-03-27 | 2001-10-19 | 사토 아키오 | 현상제조성물 및 감열기록재 |
EP1138517A3 (en) * | 2000-03-27 | 2004-02-04 | Mitsui Chemicals, Inc. | Developer composition and heat sensitive recording material |
EP1195260A2 (en) * | 2000-10-03 | 2002-04-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat-sensitive recording material |
EP1195260A3 (en) * | 2000-10-03 | 2002-08-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat-sensitive recording material |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH02145560A (ja) | 新規なフェノール系化合物 | |
JPH04217657A (ja) | 4‐(n‐アリールカルバモイルアルキルチオ)フェノール系化合物及びこれを用いた感熱記録材料 | |
JPH02111760A (ja) | ヒダントイン誘導体 | |
JPS59106456A (ja) | 新規なフエノ−ル性化合物 | |
JPH01141786A (ja) | 記録材料 | |
JP3928078B2 (ja) | 芳香族カルボン酸化合物 | |
JP3887506B2 (ja) | 芳香族カルボン酸化合物 | |
US4775417A (en) | Color developer | |
JPH03169677A (ja) | 感熱記録体 | |
JP3887507B2 (ja) | 芳香族カルボン酸化合物 | |
JPS60225787A (ja) | 感熱記録紙 | |
JPH02145563A (ja) | フェノール化合物 | |
JP3395398B2 (ja) | 感熱記録体 | |
JPH03262683A (ja) | 感熱記録体 | |
JPS6034943A (ja) | 新規なフェノ−ル性化合物 | |
JPH02153783A (ja) | 感熱記録体 | |
JPH02172790A (ja) | 感熱記録材料 | |
JPH02153785A (ja) | 感熱記録体 | |
JPS6129583A (ja) | 感熱記録紙 | |
JPS62170384A (ja) | 感熱記録紙 | |
JPH02172789A (ja) | 感熱記録材料 | |
JPS61291544A (ja) | 新規なフエノ−ル性化合物 | |
JPS6112641A (ja) | 新規なナフト−ル誘導体 | |
JPS6032761A (ja) | 新規なフェノ−ル性化合物 | |
JPS62282972A (ja) | 感熱記録材料 |