JPH01141786A - 記録材料 - Google Patents
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
- B41M5/333—Colour developing components therefor, e.g. acidic compounds
- B41M5/3333—Non-macromolecular compounds
- B41M5/3335—Compounds containing phenolic or carboxylic acid groups or metal salts thereof
- B41M5/3336—Sulfur compounds, e.g. sulfones, sulfides, sulfonamides
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は電子供与性無色染料と電子受容性化合物との間
の発色反応を利用した記録材料に関するものであり、特
に、電子受容性化合物として特定の新規な化合物を用い
た記録材料に関する。
の発色反応を利用した記録材料に関するものであり、特
に、電子受容性化合物として特定の新規な化合物を用い
た記録材料に関する。
本発明の記録材料は、感熱記録材料または感圧記録材料
として有用であり、従来これらの記録方式が用いられる
分野のほか、通電感熱記録シート、感光性記録シート、
超音波記録シート、電子線記録シート、静電記録シート
、感光性印刷版材等にも応用できる。
として有用であり、従来これらの記録方式が用いられる
分野のほか、通電感熱記録シート、感光性記録シート、
超音波記録シート、電子線記録シート、静電記録シート
、感光性印刷版材等にも応用できる。
[従来の技術およびその問題点]
最近、情報記録分野においては、種々の記録方式が研究
・開発されミ実用に供されているが、中でも、感熱ある
いは感圧記録材料は現像、定着等の煩雑な処理を施すこ
となく、比較的簡単な装置で短時間に記録ができ、騒音
の発生がなく、比較的安価である等の利点を有し、コン
ピコ、−ターのアウトプット、電卓等のプリンター、医
療計測用のレコーダー、ファクシミリ、自動券売機、ラ
ベル分野、複写等において広く用いられている。
・開発されミ実用に供されているが、中でも、感熱ある
いは感圧記録材料は現像、定着等の煩雑な処理を施すこ
となく、比較的簡単な装置で短時間に記録ができ、騒音
の発生がなく、比較的安価である等の利点を有し、コン
ピコ、−ターのアウトプット、電卓等のプリンター、医
療計測用のレコーダー、ファクシミリ、自動券売機、ラ
ベル分野、複写等において広く用いられている。
これらの記録方式の基本原理は、電子供与性の無色染料
と電子受容性化合物とが化学的に接触することにより染
料がa電体に変化することにあると言われており、上記
化学的な接触を熱ヘツド、熱ペン、レーザー光等で加熱
することあるいは鉛筆等で押圧することにより行わせし
め発色画像を得ることができる。
と電子受容性化合物とが化学的に接触することにより染
料がa電体に変化することにあると言われており、上記
化学的な接触を熱ヘツド、熱ペン、レーザー光等で加熱
することあるいは鉛筆等で押圧することにより行わせし
め発色画像を得ることができる。
上述の電子受容性化合物(一般に顕色剤と呼ばれる)と
してはフェノール性OH基をもつ化合物が種々提案され
ている(例えば、特公昭40−9309号公報、特公昭
43−4160号公報、特公昭45−14039号公報
、特公昭51−29830号公報、特開昭56−144
K93号公報等)、通常ビスフェノール系化合物や4
−ヒドロキシ安息香酸エステル類等が実用に供されてい
る。
してはフェノール性OH基をもつ化合物が種々提案され
ている(例えば、特公昭40−9309号公報、特公昭
43−4160号公報、特公昭45−14039号公報
、特公昭51−29830号公報、特開昭56−144
K93号公報等)、通常ビスフェノール系化合物や4
−ヒドロキシ安息香酸エステル類等が実用に供されてい
る。
これら顕色剤の望、tLい特性として、0)1i子供与
性無色染料と反応して高濃度の発色像を与える。
性無色染料と反応して高濃度の発色像を与える。
(2)発色像が安定であり、経時、湿気、光等による退
色が少ない。
色が少ない。
(3)水溶性が少ない。
(4)昇華性がない。
(5)工業的に製造が容易で、高収率・高純度で、比較
的安価に得られる。
的安価に得られる。
等が挙げられるが、上述のような従来の材料では、例え
ば熱応答性が低く、高速記録の際に充分な発色濃度が得
られなかったり、記録後に発色像の濃度が経時的に低下
したり、いわゆる粉吹きと呼ばれる白色粉末状物の表面
析出が生じる等の問題があった。
ば熱応答性が低く、高速記録の際に充分な発色濃度が得
られなかったり、記録後に発色像の濃度が経時的に低下
したり、いわゆる粉吹きと呼ばれる白色粉末状物の表面
析出が生じる等の問題があった。
このような欠点を補う方法として、増感剤または安定剤
等を用いる方法が、例えば特開昭49−3/1842号
公報、特開昭52−106746号公報、特開昭53−
11036号公報、特開昭53−39139号公報等に
開示されているが、いずれも性能の改善効果が不充分で
あったり、発色濃度が低下してしまう等の副次的な問題
を生じる結果となっている。
等を用いる方法が、例えば特開昭49−3/1842号
公報、特開昭52−106746号公報、特開昭53−
11036号公報、特開昭53−39139号公報等に
開示されているが、いずれも性能の改善効果が不充分で
あったり、発色濃度が低下してしまう等の副次的な問題
を生じる結果となっている。
[発明の目的]
本発明の目的は、上記のような問題点を解決し、電子供
与性無色染料と組み合わせて使用した時、発色感度が大
きく、かつ、発色後の発色像の耐環境性、安定性が充分
な記録材料を提供することである。
与性無色染料と組み合わせて使用した時、発色感度が大
きく、かつ、発色後の発色像の耐環境性、安定性が充分
な記録材料を提供することである。
[問題点を解決するための手段]
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を行っ
た結果、電子受容性化合物として、特定のスルフすンア
ミド構造を有するフェール化合物を用いることにより、
感熱または感圧記録材料特に感熱記録材料として好適な
記録材料が得られることを見出し、本発明に至った。
た結果、電子受容性化合物として、特定のスルフすンア
ミド構造を有するフェール化合物を用いることにより、
感熱または感圧記録材料特に感熱記録材料として好適な
記録材料が得られることを見出し、本発明に至った。
即ち、本発明は電子供与性無色染料と電子受容性化合物
とを使用する記録材料において、電子受容性化合物が式 [式中、R1は水X原子、炭素数1〜8個を有し、置換
されていてもよい直鎖もしくは分岐のアルキル基、シク
ロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル
基のいずれかを表わし、R3は、炭素rIi、1−io
個を有し、置換されていてもよい直鎖もしくは分岐のア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルケニル基のいずれかを表わ11、 Yはハロゲン原子、ニトリル基、炭素数1〜4のアルキ
ル基のいずれかを表わし、eは0〜2の整数である]で
表わされる化合物であることを特徴とする記録材料を提
供するものである。
とを使用する記録材料において、電子受容性化合物が式 [式中、R1は水X原子、炭素数1〜8個を有し、置換
されていてもよい直鎖もしくは分岐のアルキル基、シク
ロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル
基のいずれかを表わし、R3は、炭素rIi、1−io
個を有し、置換されていてもよい直鎖もしくは分岐のア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルケニル基のいずれかを表わ11、 Yはハロゲン原子、ニトリル基、炭素数1〜4のアルキ
ル基のいずれかを表わし、eは0〜2の整数である]で
表わされる化合物であることを特徴とする記録材料を提
供するものである。
式(1)で表わされる化合物としては、50℃以上、特
に70〜・200℃の融点を持つものが好ましい。
に70〜・200℃の融点を持つものが好ましい。
式(1)における置換基R,,R,,はハロゲン原子あ
るいは骨格中に酸素原子又はイオウ原子を1個以上含む
基で置換されていてもよい。
るいは骨格中に酸素原子又はイオウ原子を1個以上含む
基で置換されていてもよい。
更に1?+又は/及びR1がアリール基である場合には
、フェール性OH基をもつ基であってもよい。
、フェール性OH基をもつ基であってもよい。
以下に、式(1)で表わされる化合物の具体例を示すが
、本発明はこれらに限定されるものではない。
、本発明はこれらに限定されるものではない。
即ち、
・N−ベンジル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ト
リフルオロメタンスルフォンアミド・N−(3−ヒドロ
キシフェニル)−トリフルオロメタンスルフォンアミド ・N−ブチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−メタ
ンスルフォンアミド ・N−(2−エチルヘキシル)−N−(4−ヒドロキシ
フェニル)−メタンスルフォンアミド・N−(4−ヒド
ロキシフェニル)−エタンスルフォンアミド ・N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−エタ
ンスルフォンアミド ・N−エヂルーN−(4−ヒドロキシフェニル)−ゴタ
ンスルフ]−ンアミド ・N−ブチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−エタ
ンスルフォンアミド ・N−ベンジル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−エ
タンスルフォンアミド ・N−メチル−N−(3−ヒドロキシフェニル)−エタ
ンスルフ(−ンアミド ・N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−2−
プロパンスルフォンアミド ・N−(4−ヒドロキシフェニル)−ブタンスルフォン
アミド ・N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ブタ
ンスルフォンアミド ・N−エチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ブタ
ンスルフォンアミド ・N−ブチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ブタ
ンスルフォンアミド ・N−ベンジル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ブ
タンスルフォンアミド ・N−(3−ヒドロキシフェニル)−ブタンスルフォン
アミド ・N−(3−ヒドロキシフェニル)−ヘキサンスルフォ
ンアミド ・N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ヘキ
サンスルフォンアミド ・N−ブチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−シク
ロヘキサンスルフォンアミド ・N−(4−ヒドロキシフェニル)−ベンゼンスルフォ
ンアミド ・N−エチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ベン
ゼンスルフォンアミド ・N−(4−ヒドロキシフェニル)−1)−)ルエンス
ルフォンアミド ・N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
)ルエンスルフォンアミド ・N−エチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
)ルエンスルフォンアミド ・N−ブチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
トルエンスルフィ・ンアミド ・N−ベンジル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p
−)ルエンスルフォンアミド ・N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−トルエンスル
フ舖・ンアミド ・N−メチル−N−(3−ヒドロキシフェニル)−P−
トルエンスルフォンアミド ・N−エヂルーN−(3−ヒドロキシフェニル)−1)
−1”ルエンスルフオンアミド ・N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−エチルベンゼ
ンスルフォンアミド ・N−メヂルーN−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
エチルベンゼンスルフォンアミド・N−メチル−N−(
4−ヒドロキシフェニル)1rエチルベンゼンスルフオ
ンアミド ・N−エチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
エチルベンゼンスルフォンアミド・N−ベンジル−N−
(4−ヒドロキシフェニル)−p−エチルベンゼンスル
フォンアミド・N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−
エチルベンゼンスルフォンアミド ・N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
イソプロピルベンゼンスルフォンアミド・N−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−p−メトキシベンゼンスルフォン
アミド ・N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
メトキシベンゼンスルフォンアミド・N−エチル−N−
(4−ヒドロキシフェニル)−m−メトキシベンゼンス
ルフォンアミド・N−ベンジル−N−(4−ヒドロキシ
フェニル)−p−メトキシベンゼンスルフォンアミド・
N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−メトキシベンゼ
ンスルフォンアミド ・N−ベンジル−N−(3−ヒドロキシフェニル)−=
aミーメトキシベンゼンスルフ・ンアミド・N−(4−
ヒドロキシフェニル)−p−エトキシベンゼンスルフォ
ンアミド ・N−メヂルーN−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
エトキシベンゼンスルフ]・ンアミド・N−エチル−N
−(4−ヒドロキシフェニル)−m−エトキシベンゼン
スルフォンアミド・N−ベンジル−N−(4・−ヒドロ
キシフェニル)−p−エトキシベンゼンスルフォンアミ
ド・N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−)リフルオ
ロメトキシベンゼンスルフォンアミド・N−エチル−N
−(4−ヒドロキシフェニル)−喝−トリフルオロメト
キシベンゼンスルフォンアミド ・N−メヂルーN−(3−ヒドロキシフェニル)−p−
トリフルオロメトキシベンゼンスルフォンアミド ・N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−ヘキシルオキ
シベンゼンスルフォンアミド ・N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−へキシルオキ
シベンゼンスルフォンアミド 等である。
リフルオロメタンスルフォンアミド・N−(3−ヒドロ
キシフェニル)−トリフルオロメタンスルフォンアミド ・N−ブチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−メタ
ンスルフォンアミド ・N−(2−エチルヘキシル)−N−(4−ヒドロキシ
フェニル)−メタンスルフォンアミド・N−(4−ヒド
ロキシフェニル)−エタンスルフォンアミド ・N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−エタ
ンスルフォンアミド ・N−エヂルーN−(4−ヒドロキシフェニル)−ゴタ
ンスルフ]−ンアミド ・N−ブチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−エタ
ンスルフォンアミド ・N−ベンジル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−エ
タンスルフォンアミド ・N−メチル−N−(3−ヒドロキシフェニル)−エタ
ンスルフ(−ンアミド ・N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−2−
プロパンスルフォンアミド ・N−(4−ヒドロキシフェニル)−ブタンスルフォン
アミド ・N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ブタ
ンスルフォンアミド ・N−エチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ブタ
ンスルフォンアミド ・N−ブチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ブタ
ンスルフォンアミド ・N−ベンジル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ブ
タンスルフォンアミド ・N−(3−ヒドロキシフェニル)−ブタンスルフォン
アミド ・N−(3−ヒドロキシフェニル)−ヘキサンスルフォ
ンアミド ・N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ヘキ
サンスルフォンアミド ・N−ブチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−シク
ロヘキサンスルフォンアミド ・N−(4−ヒドロキシフェニル)−ベンゼンスルフォ
ンアミド ・N−エチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−ベン
ゼンスルフォンアミド ・N−(4−ヒドロキシフェニル)−1)−)ルエンス
ルフォンアミド ・N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
)ルエンスルフォンアミド ・N−エチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
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トルエンスルフィ・ンアミド ・N−ベンジル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p
−)ルエンスルフォンアミド ・N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−トルエンスル
フ舖・ンアミド ・N−メチル−N−(3−ヒドロキシフェニル)−P−
トルエンスルフォンアミド ・N−エヂルーN−(3−ヒドロキシフェニル)−1)
−1”ルエンスルフオンアミド ・N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−エチルベンゼ
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エチルベンゼンスルフォンアミド・N−メチル−N−(
4−ヒドロキシフェニル)1rエチルベンゼンスルフオ
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エチルベンゼンスルフォンアミド・N−ベンジル−N−
(4−ヒドロキシフェニル)−p−エチルベンゼンスル
フォンアミド・N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−
エチルベンゼンスルフォンアミド ・N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
イソプロピルベンゼンスルフォンアミド・N−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−p−メトキシベンゼンスルフォン
アミド ・N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
メトキシベンゼンスルフォンアミド・N−エチル−N−
(4−ヒドロキシフェニル)−m−メトキシベンゼンス
ルフォンアミド・N−ベンジル−N−(4−ヒドロキシ
フェニル)−p−メトキシベンゼンスルフォンアミド・
N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−メトキシベンゼ
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ヒドロキシフェニル)−p−エトキシベンゼンスルフォ
ンアミド ・N−メヂルーN−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
エトキシベンゼンスルフ]・ンアミド・N−エチル−N
−(4−ヒドロキシフェニル)−m−エトキシベンゼン
スルフォンアミド・N−ベンジル−N−(4・−ヒドロ
キシフェニル)−p−エトキシベンゼンスルフォンアミ
ド・N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−)リフルオ
ロメトキシベンゼンスルフォンアミド・N−エチル−N
−(4−ヒドロキシフェニル)−喝−トリフルオロメト
キシベンゼンスルフォンアミド ・N−メヂルーN−(3−ヒドロキシフェニル)−p−
トリフルオロメトキシベンゼンスルフォンアミド ・N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−ヘキシルオキ
シベンゼンスルフォンアミド ・N−(3−ヒドロキシフェニル)−p−へキシルオキ
シベンゼンスルフォンアミド 等である。
これらは、本発明における電子受容性化合物として、1
種のみを用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用い
てらよい。また、従来公知の電子受容性化合物(例えば
、ビスフェノールA、ビス゛フェノールS、4−ヒドロ
キシ安息香酸ベンジル等)と混合して用いてもよい。
種のみを用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用い
てらよい。また、従来公知の電子受容性化合物(例えば
、ビスフェノールA、ビス゛フェノールS、4−ヒドロ
キシ安息香酸ベンジル等)と混合して用いてもよい。
本発明で用いる上記化合物の合成法は特に限定されるも
のではなく、例えば通常のスルフィ・ンアミド化反応に
より、アミノフェノール化合物(又はその塩)とスルフ
1−ン酸ハライド化合物とから得ることができる。例え
ば次式の如くである。
のではなく、例えば通常のスルフィ・ンアミド化反応に
より、アミノフェノール化合物(又はその塩)とスルフ
1−ン酸ハライド化合物とから得ることができる。例え
ば次式の如くである。
また、式(1)でRl = 1−1の化合物を予め合成
した後、更に他の置換基R1を導入する方法も可能であ
る。上記原料であるアミノフェノール化合物としては、
例えばp−アミノフェノール、p−メチルアミノフェノ
ール、p−エチルアミノフェノール、p−トリフルオロ
メヂルアミノフェノール、p−ブチルアミノフェノール
、p−2−エチルへキシルアミノフェノール、p−ベン
ジルアミノフェノール、m−アミノフェノール、醜−メ
チルアミノフェノール、m−エチルアミノフェノール、
m−ブチルアミノフェノール、m−ベンジルアミノフェ
ノール等が挙げられ、これらの塩酸塩、硫酸塩等の塩も
使用することができる。
した後、更に他の置換基R1を導入する方法も可能であ
る。上記原料であるアミノフェノール化合物としては、
例えばp−アミノフェノール、p−メチルアミノフェノ
ール、p−エチルアミノフェノール、p−トリフルオロ
メヂルアミノフェノール、p−ブチルアミノフェノール
、p−2−エチルへキシルアミノフェノール、p−ベン
ジルアミノフェノール、m−アミノフェノール、醜−メ
チルアミノフェノール、m−エチルアミノフェノール、
m−ブチルアミノフェノール、m−ベンジルアミノフェ
ノール等が挙げられ、これらの塩酸塩、硫酸塩等の塩も
使用することができる。
また、もう一方の原料であるスルフォン酸ハライド化合
物としては、トリフルオロメタンスルフォン酸クロライ
ド、メタンスルフオン酸クロライド、エタンスルフオン
酸クロライド、2−プロパンスルフオン酸クロライド、
1−ブタンスルフオン酸クロライド、1−ヘキサンスル
フォン酸クロライド、シクロヘキサンスルフオン酸クロ
ライド、ベンゼンスルフオン酸クロライド、m−クロロ
ベンゼンスルフオン酸クロライド、p−クロロベンゼン
スルフオン酸クロライド、p−トルエンスルフオン酸ク
ロライド、p−エチルベンゼンスルフォン酸クロライド
、p−イソプロピルベンゼンスルフオン酸クロライド、
p−メトキシベンゼンスルフオン酸クロライド、l−メ
トキシベンゼンスルフオン酸クロライド、p−エトキシ
ベンゼンスルフオン酸クロライド、■−エトキシベンゼ
ンスルフォン酸クロライド、p−トリフルオロメトキシ
ベンゼンスルフオン酸クロライド、p−へキシル才キシ
ベンゼンスルフォン酸クロライド、I−ナフクレンスル
フオン酸クロライド等の塩化物、あるいはこれらに対応
する臭化物もしくはフッ化物が挙げられる。
物としては、トリフルオロメタンスルフォン酸クロライ
ド、メタンスルフオン酸クロライド、エタンスルフオン
酸クロライド、2−プロパンスルフオン酸クロライド、
1−ブタンスルフオン酸クロライド、1−ヘキサンスル
フォン酸クロライド、シクロヘキサンスルフオン酸クロ
ライド、ベンゼンスルフオン酸クロライド、m−クロロ
ベンゼンスルフオン酸クロライド、p−クロロベンゼン
スルフオン酸クロライド、p−トルエンスルフオン酸ク
ロライド、p−エチルベンゼンスルフォン酸クロライド
、p−イソプロピルベンゼンスルフオン酸クロライド、
p−メトキシベンゼンスルフオン酸クロライド、l−メ
トキシベンゼンスルフオン酸クロライド、p−エトキシ
ベンゼンスルフオン酸クロライド、■−エトキシベンゼ
ンスルフォン酸クロライド、p−トリフルオロメトキシ
ベンゼンスルフオン酸クロライド、p−へキシル才キシ
ベンゼンスルフォン酸クロライド、I−ナフクレンスル
フオン酸クロライド等の塩化物、あるいはこれらに対応
する臭化物もしくはフッ化物が挙げられる。
本発明において用いられる電子供与性無色染料としては
、トリフェニルメタン系、フルオラン系、フェノチアジ
ン系、オーラミン系、スピロピラン系、インドリノフタ
リド系等のロイコ染料が好ましく、単独または二種以上
混合して用いられる。
、トリフェニルメタン系、フルオラン系、フェノチアジ
ン系、オーラミン系、スピロピラン系、インドリノフタ
リド系等のロイコ染料が好ましく、単独または二種以上
混合して用いられる。
具体的には3.3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル
)−フタリド、3.3−ビス(p−ジブチルアミノフェ
ニル)−6−シメチルアミノフタリド、3゜3−ビス(
p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジブチルアミノフ
ェニル、3.3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)
−6−クロロフタリド、3.3−ビス(p−ジブチルア
ミノフェニル)−フタリド、3−シクロへキシルアミノ
−6−クロロフルオラン、3−ジメチルアミノ−5,フ
ージメヂルフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−クロ
ロフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−メチルフルオ
ラン、3−ジエチルアミノ−7,8−ベンズフルオラン
、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−クロロフルオ
ラン、3−(N−p−)−リルーN−エヂルアミノ)−
6−メヂルー7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ
−6−メヂルー7−アニリノフルオラン、2−(N−(
3’ −)リフルオロメチルフェニル)アミノ)−6
−ジエチルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6
−メヂルー7−(m−トリクロロメチルアニリノ)フル
オラン、3−ジエチルアミノ−7−(o−クロロアニリ
ノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−7−(o−クロ
ロアニリノ)フルオラン、3−N−メチル−N−アミル
アミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N
−メチル−N−シクロへキシルアミノ−6・−メヂル〜
7−アニリツフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メ
チル−7−アニリノフルオラン、3−(N、N−ジエチ
ルアミノ)−5−メヂルー7−(N、N−ジベンジルア
ミノ)フルオラン、ペンゾイルロイコメヂレ゛ンプルー
、6′−クロロ−8′ −メトキシ−ベンゾインドリノ
−ピリロスビラン、6′−ブロモー3′−メトキシ−ベ
ンゾインドリノ−ピリロスビラン、3−(2−−ヒドロ
キシ−4′−ジメチルアミノフェニル)−3−(2’−
メトキシ−5′−クロルフェニル)フタリド、3−(2
′ −ヒドロキシ−4′ −ジメチルアミノフェニル)
−3−(2’ −メトキシ−5′ −二トロフェニル)
フタリド、3−(2’ −ヒドロキシ−4′ −ジエ
チルアミノフェニル)−3−(2’ −メトキシ−5′
−メチルフェニル)フタリド、3−(2’ −メトキシ
−4′ −ジブチルアミノフェニル)−3−(2′−ヒ
ドロキシ−4′−クロロ−5′−メチルフェニル)フタ
リド、3−モルホリノ−7−(N−プロピル−p−)リ
フルオロメチルアニリノ)フルオラン、3−ピロリジノ
−7−p−)リフルオロメチルアニリノフルオラン、3
−ジエチルアミノ−5−クロロ−7−(N−ベンジル−
p−トリフルオロメヂルアニリノンフルオラン、3−ピ
ロリジノ−7−(ジ−p−クロロフェニル)メヂルアミ
ノフルオラン、3−ジエチルアミノ−5−クロロ−7−
(α−フェニルエチルアミノ)フルオラン、3−(N−
エチル−p−トルイジノ)−7−(α−フェニルエチル
アミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(o−
メトキシカルボニルフェニルアミノ)フルオラン、3−
ジエチルアミノ−5−メヂルー7−(α−フェニルエチ
ルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−ピペ
リジノフルオラン、2−クロロ−3−(N−メチルトル
イジノ)−7−(p−n−プヂルアニリノ)フルオラン
、3−(N−ベンジル−N−シクロへキシルアミノ)−
5,6−ペンゾー7−α−ナフチルアミノ−4′−ブロ
モフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−
メシチジノー4’ 、5’ −ベンゾフルオラン、3.
6−シメトキシフルオラン、3−(p−ジブチルアミノ
フェニル)−3−フェニルフタリド、3−ジ(I−エチ
ル−2−メチルインドール)−3−イル−フタリド、3
−ジエチルアミノ−6−フェニル−7−アザフルオラン
、3,3−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−6−
シメチルアミノーフタリド、3−(p−ジブチルアミノ
フェニル)3−(p−ジベンジルアミノフェニル)フタ
リド、3−(N−エチル−N−n−アミル)アミノ−6
〜メチル−7−アニ゛リツフルオラン等が挙げられるが
、これらに限定されるものではない。
)−フタリド、3.3−ビス(p−ジブチルアミノフェ
ニル)−6−シメチルアミノフタリド、3゜3−ビス(
p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジブチルアミノフ
ェニル、3.3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)
−6−クロロフタリド、3.3−ビス(p−ジブチルア
ミノフェニル)−フタリド、3−シクロへキシルアミノ
−6−クロロフルオラン、3−ジメチルアミノ−5,フ
ージメヂルフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−クロ
ロフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−メチルフルオ
ラン、3−ジエチルアミノ−7,8−ベンズフルオラン
、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−クロロフルオ
ラン、3−(N−p−)−リルーN−エヂルアミノ)−
6−メヂルー7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ
−6−メヂルー7−アニリノフルオラン、2−(N−(
3’ −)リフルオロメチルフェニル)アミノ)−6
−ジエチルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6
−メヂルー7−(m−トリクロロメチルアニリノ)フル
オラン、3−ジエチルアミノ−7−(o−クロロアニリ
ノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−7−(o−クロ
ロアニリノ)フルオラン、3−N−メチル−N−アミル
アミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−N
−メチル−N−シクロへキシルアミノ−6・−メヂル〜
7−アニリツフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メ
チル−7−アニリノフルオラン、3−(N、N−ジエチ
ルアミノ)−5−メヂルー7−(N、N−ジベンジルア
ミノ)フルオラン、ペンゾイルロイコメヂレ゛ンプルー
、6′−クロロ−8′ −メトキシ−ベンゾインドリノ
−ピリロスビラン、6′−ブロモー3′−メトキシ−ベ
ンゾインドリノ−ピリロスビラン、3−(2−−ヒドロ
キシ−4′−ジメチルアミノフェニル)−3−(2’−
メトキシ−5′−クロルフェニル)フタリド、3−(2
′ −ヒドロキシ−4′ −ジメチルアミノフェニル)
−3−(2’ −メトキシ−5′ −二トロフェニル)
フタリド、3−(2’ −ヒドロキシ−4′ −ジエ
チルアミノフェニル)−3−(2’ −メトキシ−5′
−メチルフェニル)フタリド、3−(2’ −メトキシ
−4′ −ジブチルアミノフェニル)−3−(2′−ヒ
ドロキシ−4′−クロロ−5′−メチルフェニル)フタ
リド、3−モルホリノ−7−(N−プロピル−p−)リ
フルオロメチルアニリノ)フルオラン、3−ピロリジノ
−7−p−)リフルオロメチルアニリノフルオラン、3
−ジエチルアミノ−5−クロロ−7−(N−ベンジル−
p−トリフルオロメヂルアニリノンフルオラン、3−ピ
ロリジノ−7−(ジ−p−クロロフェニル)メヂルアミ
ノフルオラン、3−ジエチルアミノ−5−クロロ−7−
(α−フェニルエチルアミノ)フルオラン、3−(N−
エチル−p−トルイジノ)−7−(α−フェニルエチル
アミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(o−
メトキシカルボニルフェニルアミノ)フルオラン、3−
ジエチルアミノ−5−メヂルー7−(α−フェニルエチ
ルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−ピペ
リジノフルオラン、2−クロロ−3−(N−メチルトル
イジノ)−7−(p−n−プヂルアニリノ)フルオラン
、3−(N−ベンジル−N−シクロへキシルアミノ)−
5,6−ペンゾー7−α−ナフチルアミノ−4′−ブロ
モフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−
メシチジノー4’ 、5’ −ベンゾフルオラン、3.
6−シメトキシフルオラン、3−(p−ジブチルアミノ
フェニル)−3−フェニルフタリド、3−ジ(I−エチ
ル−2−メチルインドール)−3−イル−フタリド、3
−ジエチルアミノ−6−フェニル−7−アザフルオラン
、3,3−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−6−
シメチルアミノーフタリド、3−(p−ジブチルアミノ
フェニル)3−(p−ジベンジルアミノフェニル)フタ
リド、3−(N−エチル−N−n−アミル)アミノ−6
〜メチル−7−アニ゛リツフルオラン等が挙げられるが
、これらに限定されるものではない。
以上に述べた染料及び顕色剤は分散媒中で数ミクロンの
粒径にまで微粒化して塗工液が作製される。その際分散
媒としては一般にlO%程度の濃度の水溶性高分子化合
物の水溶液が用いられる。
粒径にまで微粒化して塗工液が作製される。その際分散
媒としては一般にlO%程度の濃度の水溶性高分子化合
物の水溶液が用いられる。
具体的には、ポリビニルアルコール、デンプン及びその
誘導体、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース等のセルロース誘導体
、ポリアクリル酸ソーダ、ポリビニルピロリドン、アク
リル酸アミド/アクリル酸エステル共重合体、アクリル
酸アミド/アクリル酸エステル/メタクリル酸共重合体
等の合成高分子、アルギン酸ソーダ、カゼイン、ゼラチ
ン等の水溶液が用いられ、分散はボールミル、サンドミ
ル、アトライター等を用いて行われる。
誘導体、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース等のセルロース誘導体
、ポリアクリル酸ソーダ、ポリビニルピロリドン、アク
リル酸アミド/アクリル酸エステル共重合体、アクリル
酸アミド/アクリル酸エステル/メタクリル酸共重合体
等の合成高分子、アルギン酸ソーダ、カゼイン、ゼラチ
ン等の水溶液が用いられ、分散はボールミル、サンドミ
ル、アトライター等を用いて行われる。
上記水溶性高分子化合物は、塗工後、塗料成分を基材上
に支持結合させるバインダーとしても機能するが、塗膜
の耐水性を付与する目的で塗工液中に耐水化剤を加えた
り、スチレンブタジェンラテックス、アクリルエマルシ
ョン等のボリマーエマルシジンを添加することもできる
。
に支持結合させるバインダーとしても機能するが、塗膜
の耐水性を付与する目的で塗工液中に耐水化剤を加えた
り、スチレンブタジェンラテックス、アクリルエマルシ
ョン等のボリマーエマルシジンを添加することもできる
。
染料および顕色剤の塗コニ液には、必要に応じて各種の
添加剤が加えられる。例えば、記録ヘッドの汚れ防止の
目的でカオリン、タルク、炭酸カルシラl5、水酸化ア
ルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、
酸化チタン、微粒子状シリカ等の無機顔料が、また、ヘ
ッドの走行性向上剤として脂肪酸、金属石鹸、具体的に
はステアリン酸、ベヘニン酸、ステアリン酸アルミニウ
ム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、オレ
イン酸亜鉛等が添加される。
添加剤が加えられる。例えば、記録ヘッドの汚れ防止の
目的でカオリン、タルク、炭酸カルシラl5、水酸化ア
ルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、
酸化チタン、微粒子状シリカ等の無機顔料が、また、ヘ
ッドの走行性向上剤として脂肪酸、金属石鹸、具体的に
はステアリン酸、ベヘニン酸、ステアリン酸アルミニウ
ム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、オレ
イン酸亜鉛等が添加される。
また、従来、顕色剤の融点が高い場合に、低融点の熱可
融性物質を添加することにより、感度を向上させること
が行われているが、本発明においてもワックス類、例え
ばパラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス
、ポリオレフィンワックス、カルナバろう、本ろう、蜜
ろう、米ぬかろ゛う、高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル
、高級脂肪酸アミド等を用いることができる。これらの
ワックス類は融点が40〜120℃の範囲にあるものが
好ましい。
融性物質を添加することにより、感度を向上させること
が行われているが、本発明においてもワックス類、例え
ばパラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス
、ポリオレフィンワックス、カルナバろう、本ろう、蜜
ろう、米ぬかろ゛う、高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル
、高級脂肪酸アミド等を用いることができる。これらの
ワックス類は融点が40〜120℃の範囲にあるものが
好ましい。
これらの各成分を配合した塗工液は、紙、プラスチック
フィルム等の基材表面にブレード、エアーナイフ、ロー
ルコータ−、グラビア等の方式により塗工し、乾燥、平
滑化処理することにより、本発明の記録材料が得られる
。
フィルム等の基材表面にブレード、エアーナイフ、ロー
ルコータ−、グラビア等の方式により塗工し、乾燥、平
滑化処理することにより、本発明の記録材料が得られる
。
(実施例)
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない、なお、実施例中
に示ず部及び%はすべで重量基準である。
明はこれらに限定されるものではない、なお、実施例中
に示ず部及び%はすべで重量基準である。
合成例1
p−アミノフェノール32.74g(0,3モル)をテ
トラヒドロフラン150−に溶解し、窒素雰囲気中、室
温で撹拌下、■−ブタンスルホン酸クロライド23.4
9g(0,15モル)の塩化メチレン(150d)溶液
を10分間で滴下した。次にピリジン24.92g(0
,315モル)を5分間で滴下し、更に1−ブタンスル
ホン酸クロライド23.96g(0,153モル)の塩
化メチレン(150a&)溶液を10分間で滴下し、1
時間室温で撹拌を続けた後、昇温して1時間還流させた
。冷却後、沈殿物を濾別し、濾液を順次5%塩酸、永続
いて飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を留去して、白
色粉末55.5gを得た(収率81%)。
トラヒドロフラン150−に溶解し、窒素雰囲気中、室
温で撹拌下、■−ブタンスルホン酸クロライド23.4
9g(0,15モル)の塩化メチレン(150d)溶液
を10分間で滴下した。次にピリジン24.92g(0
,315モル)を5分間で滴下し、更に1−ブタンスル
ホン酸クロライド23.96g(0,153モル)の塩
化メチレン(150a&)溶液を10分間で滴下し、1
時間室温で撹拌を続けた後、昇温して1時間還流させた
。冷却後、沈殿物を濾別し、濾液を順次5%塩酸、永続
いて飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を留去して、白
色粉末55.5gを得た(収率81%)。
これは分析の結果はぼ純粋なN−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−ブタンスルフォンアミドであった。
ニル)−ブタンスルフォンアミドであった。
更にトルエン中から再結晶により精製し、融点を求めた
ところ89℃であった。
ところ89℃であった。
合成例2
硫酸p−メチルアミノフェノール51.66g(0゜1
5モル)とピリジン24.2g(0,306モル)をテ
トラヒドロフラン150dに溶解し、窒素雰囲気中、室
温で撹拌下、p−)ルエンスルホン酸クロライド28.
6g(0,15モル)の塩化メチレン(100IIIQ
)溶液を、10分間で滴下した。次にピリジン24.9
2g(0,315モル)を5分間で滴下し、更にrl−
)ルエンスルポン酸クロライド30゜03g(0、15
7モル)ノ塩化メー71zン(100aff)溶液を1
0分間かけて滴下12.1時間室温で撹拌1、た後、昇
温Z2て2時間速流させた。冷却後、沈殿物を濾別し、
濾液を水、続いて5%塩酸、飽和重炭酸すl・リウへ水
で洗浄し、乾燥後溶媒を留去して白色粉末73.3gを
得た(収率88%)。これは分析の結果、目的とするN
−メヂルーN−(4−ヒドロキシフェニル)〜p−トル
エンスルフォンアミドであった。
5モル)とピリジン24.2g(0,306モル)をテ
トラヒドロフラン150dに溶解し、窒素雰囲気中、室
温で撹拌下、p−)ルエンスルホン酸クロライド28.
6g(0,15モル)の塩化メチレン(100IIIQ
)溶液を、10分間で滴下した。次にピリジン24.9
2g(0,315モル)を5分間で滴下し、更にrl−
)ルエンスルポン酸クロライド30゜03g(0、15
7モル)ノ塩化メー71zン(100aff)溶液を1
0分間かけて滴下12.1時間室温で撹拌1、た後、昇
温Z2て2時間速流させた。冷却後、沈殿物を濾別し、
濾液を水、続いて5%塩酸、飽和重炭酸すl・リウへ水
で洗浄し、乾燥後溶媒を留去して白色粉末73.3gを
得た(収率88%)。これは分析の結果、目的とするN
−メヂルーN−(4−ヒドロキシフェニル)〜p−トル
エンスルフォンアミドであった。
トルエン中からの再結品により精製し、融点を求めたと
ころ、138℃であった。
ころ、138℃であった。
実施例1
EA液〕3−N−メチル−N−・シクロ 10部へ
キシルアミノ−6−メチル −7−アニリノフルオラン 10%ポリビニルアルコール水溶液 20部タンスルフ
ォンアミド 炭酸カルシウム io部lO%ポリビ
ニルアルコ−・ル水溶液 lO部Δ液及びB液をそれぞ
れ別々に平均粒径3μ以下になるまでザンドミルで微粒
化し1、次にA液1部、B液3部を混合して塗工液を調
製した。この塗工液を秤量50g/i’の市販上質紙に
塗工(塗工m:固形分6g/mりし、乾燥後スーパー・
カレンダーにて平滑処理を施(2、感熱記録材料を得た
。
キシルアミノ−6−メチル −7−アニリノフルオラン 10%ポリビニルアルコール水溶液 20部タンスルフ
ォンアミド 炭酸カルシウム io部lO%ポリビ
ニルアルコ−・ル水溶液 lO部Δ液及びB液をそれぞ
れ別々に平均粒径3μ以下になるまでザンドミルで微粒
化し1、次にA液1部、B液3部を混合して塗工液を調
製した。この塗工液を秤量50g/i’の市販上質紙に
塗工(塗工m:固形分6g/mりし、乾燥後スーパー・
カレンダーにて平滑処理を施(2、感熱記録材料を得た
。
実施例2
スルフォンアミドとし、て、合成例2で得られたN−メ
チル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−トルエン
スルフォンアミドを用いる以外は、実施例1と同様にし
て感熱記録材料を得た。
チル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−トルエン
スルフォンアミドを用いる以外は、実施例1と同様にし
て感熱記録材料を得た。
実施例3〜10
合成例1又は2に準じて、N−メヂルーN−(4−ヒド
ロキシフェニル)−p−エチルベンゼンスルフォンアミ
ド(実施例3)、N〜メメチーN−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−p−メトキシベンゼンスルフォンアミド(実
施例4)、N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−トt
ffエンスルフォンアミド(実施例5)、N−(3−ヒ
ドロキシフェニル)−p−トルエンスルフォンアミド(
実施例6)、N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−エタンスルフォンアミド(実施例7)、N−(4
−ヒドロキシフェニル)−エタンスルフォンアミド(実
施例8)、N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル
)−ブタンスルフォンアミド(実施例9)、N−(3−
ヒドロキシフェニル)、ブタンスルフォンアミド(実施
例夏0)を合成し、これらを用いる以外は実施例1と同
様にして感熱記録材料を得た。
ロキシフェニル)−p−エチルベンゼンスルフォンアミ
ド(実施例3)、N〜メメチーN−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−p−メトキシベンゼンスルフォンアミド(実
施例4)、N−(4−ヒドロキシフェニル)−p−トt
ffエンスルフォンアミド(実施例5)、N−(3−ヒ
ドロキシフェニル)−p−トルエンスルフォンアミド(
実施例6)、N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−エタンスルフォンアミド(実施例7)、N−(4
−ヒドロキシフェニル)−エタンスルフォンアミド(実
施例8)、N−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル
)−ブタンスルフォンアミド(実施例9)、N−(3−
ヒドロキシフェニル)、ブタンスルフォンアミド(実施
例夏0)を合成し、これらを用いる以外は実施例1と同
様にして感熱記録材料を得た。
比較例監
実施例1においてスルフォンアミド化合物の代りに4−
ヒドロキシ安息香酸ベンジルを用いた以外は実施例1と
同様にして感熱記録材料を得た。
ヒドロキシ安息香酸ベンジルを用いた以外は実施例1と
同様にして感熱記録材料を得た。
比較例2
[C液]ビスフェノールA 10部
lO%ポリビニルアルコール水溶液 20部[D液]ス
テアリン酸アミド 10部炭酸カルシウム
IO部lO%ポリビニルアルコー
ル水溶液 10部C液及びD液をそれぞれ別々に平均粒
13μ以下になるまでザンドミルで微粒化し、次に実施
例!で調製したA液!部、C液3部、D液5部を混合し
て塗工液を!!、v似した。この塗工液を用いて、実施
例Iと同様にして感熱記録材料を得た。
lO%ポリビニルアルコール水溶液 20部[D液]ス
テアリン酸アミド 10部炭酸カルシウム
IO部lO%ポリビニルアルコー
ル水溶液 10部C液及びD液をそれぞれ別々に平均粒
13μ以下になるまでザンドミルで微粒化し、次に実施
例!で調製したA液!部、C液3部、D液5部を混合し
て塗工液を!!、v似した。この塗工液を用いて、実施
例Iと同様にして感熱記録材料を得た。
比較例3
比較例2においてステアリン酸アミドの代りにp−ベン
ジルビフェニルを用いた以外は比較例2と同様にして感
熱記録材料を得た。
ジルビフェニルを用いた以外は比較例2と同様にして感
熱記録材料を得た。
以上の各列で得られた感熱記録材料について、以下のよ
うにして発色感度及び発色像安定性の評価を行った。結
果を表−1および表−2に示す。
うにして発色感度及び発色像安定性の評価を行った。結
果を表−1および表−2に示す。
(評価方法)
■l亀蚤文
大金1ll(株)製、動的発色試験装置を用い、印字エ
ネルギー0.45mJ/dotにて発色させ、その発色
濃度をマクベスRD−918型濃度計(マクベス社製)
で測定した。
ネルギー0.45mJ/dotにて発色させ、その発色
濃度をマクベスRD−918型濃度計(マクベス社製)
で測定した。
■発色像安定性
■で調製した発色サンプルを室内(25℃。
60%RH)に1か月装置した後、再度、発色濃度を測
定し、その濃度の保持率を算出した。
定し、その濃度の保持率を算出した。
表からも明らかなように、本発明の感熱記録材料は、0
.45mJ/dotという低印字エネルギーにもかかわ
らず、非常に優れた発色感度を示し、かつ発色像の安定
性についても比較例に比べ有意に優れていた。
.45mJ/dotという低印字エネルギーにもかかわ
らず、非常に優れた発色感度を示し、かつ発色像の安定
性についても比較例に比べ有意に優れていた。
[発明の効果]
本発明によれば、特定のスルフォンアミド構造を有する
フェノール化合物を電子受容性化合物(顕色剤)として
用いることにより、感熱記録材料として望ましい、優れ
た発色感度並びに発色像の安定性を示した。従って、本
発明は感熱記録材料として種々の分野に応用することが
できる。
フェノール化合物を電子受容性化合物(顕色剤)として
用いることにより、感熱記録材料として望ましい、優れ
た発色感度並びに発色像の安定性を示した。従って、本
発明は感熱記録材料として種々の分野に応用することが
できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、電子供与性無色染料と電子受容性化合物とを使用す
る記録材料において、電子受容性化合物が式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、R_1は水素原子、炭素数1〜8個を有し、置
換されていてもよい直鎖もしくは分岐のアルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニ
ル基のいずれかを表わし、 R_2は、炭素数1〜10個を有し、置換されていても
よい直鎖もしくは分岐のアルキル基、シクロアルキル基
、アリール基、アラルキル基、アルケニル基のいずれか
を表わし、 Yはハロゲン原子、ニトリル基、炭素数1〜4のアルキ
ル基のいずれかを表わし、lは0〜2の整数である。]
で表わされる化合物であることを特徴とする記録材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62301683A JPH082697B2 (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | 記録材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62301683A JPH082697B2 (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | 記録材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01141786A true JPH01141786A (ja) | 1989-06-02 |
JPH082697B2 JPH082697B2 (ja) | 1996-01-17 |
Family
ID=17899879
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62301683A Expired - Lifetime JPH082697B2 (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | 記録材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH082697B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5912196A (en) * | 1995-12-20 | 1999-06-15 | Kimberly-Clark Corp. | Flame inhibitor composition and method of application |
WO2001016208A1 (fr) * | 1999-08-26 | 2001-03-08 | Nippon Paint Co., Ltd. | Procede de reutilisation de pastille de polyester |
EP1138517A2 (en) * | 2000-03-27 | 2001-10-04 | Mitsui Chemicals, Inc. | Developer composition and heat sensitive recording material |
US6921740B1 (en) | 1999-08-31 | 2005-07-26 | Mitsubishi Paper Miils Ltd. | Electron-receiving compound and thermal recording material |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62170388A (ja) * | 1986-01-24 | 1987-07-27 | Kanzaki Paper Mfg Co Ltd | 感熱記録体 |
-
1987
- 1987-11-30 JP JP62301683A patent/JPH082697B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62170388A (ja) * | 1986-01-24 | 1987-07-27 | Kanzaki Paper Mfg Co Ltd | 感熱記録体 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5912196A (en) * | 1995-12-20 | 1999-06-15 | Kimberly-Clark Corp. | Flame inhibitor composition and method of application |
WO2001016208A1 (fr) * | 1999-08-26 | 2001-03-08 | Nippon Paint Co., Ltd. | Procede de reutilisation de pastille de polyester |
US6921740B1 (en) | 1999-08-31 | 2005-07-26 | Mitsubishi Paper Miils Ltd. | Electron-receiving compound and thermal recording material |
EP1138517A2 (en) * | 2000-03-27 | 2001-10-04 | Mitsui Chemicals, Inc. | Developer composition and heat sensitive recording material |
KR20010090730A (ko) * | 2000-03-27 | 2001-10-19 | 사토 아키오 | 현상제조성물 및 감열기록재 |
EP1138517A3 (en) * | 2000-03-27 | 2004-02-04 | Mitsui Chemicals, Inc. | Developer composition and heat sensitive recording material |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH082697B2 (ja) | 1996-01-17 |
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