KR102299369B1 - 열선 차폐 미립자 분산체, 열선 차폐 적층 투명 기재, 및 이들의 제조방법 - Google Patents

열선 차폐 미립자 분산체, 열선 차폐 적층 투명 기재, 및 이들의 제조방법 Download PDF

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타케시 초난
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Abstract

창문재 등의 구조체에 적용된 경우에, 열선 차폐특성을 발휘하여 피부로의 쨍쨍한 감(sizzling feeling)을 억제함에 따라 상기 열선 차폐 필름 또는 열선 차폐 유리를 통한 근적외광을 사용하는 통신기기, 촬영기기, 센서 등의 사용을 가능하게 하는 열선 차폐 미립자 분산체 및 열선 차폐 적층 투명 기재를 제공한다. 투명한 열가소성 수지를 포함한 열선 차폐 미립자 분산체이며, 원소 L 및 M과, 텅스텐 산소를 가지며, 일반식 (LAMB)WCOD로 표기되며, 육방정계의 결정 구조를 가지며, 상기 원소 L은 K, Rb, Cs로부터 선택되는 원소이며, 상기 원소 M은 K, Rb, Cs로부터 선택되는 상기 원소 L과는 다른 1종 이상의 원소인 열선 차폐 미립자가 상기 투명한 열가소성 수지 중에 분산하고 있는 것을 특징으로 하는 열선 차폐 미립자 분산체를 제공한다.

Description

열선 차폐 미립자 분산체, 열선 차폐 적층 투명 기재, 및 이들의 제조방법
본 발명은 가시광선 투과성이 양호하고, 또한 뛰어난 열선 차폐 기능을 가지면서, 소정의 파장을 갖는 근적외광을 투과하는 열선 차폐 미립자 분산체 및 열선 차폐 적층 투명 기재 및 이들의 제조 방법에 관한 것이다.
양호한 가시광선 투과율을 갖고 투명성을 유지하면서 일사 투과율을 저하시키는 열선 차폐 기술로서 지금까지 다양한 기술이 제안되어 왔다. 그 중에서도, 도전성 미립자, 도전성 미립자의 분산체 및 적층 투명 기재를 사용한 열선 차폐 기술은 그 외의 기술과 비교하여 열선 차폐 특성이 뛰어나고 저비용이며 전파 투과성이 있으며, 또한, 내후성이 높다는 등의 메리트가 있다.
예를 들면 특허 문헌 1에는, 산화 주석 미분말을 분산 상태로 함유시킨 투명 수지나, 산화 주석 미분말을 분산 상태로 함유시킨 투명 합성 수지를 시트 또는 필름에 성형한 것을, 투명 합성 수지 기재에 적층하여 이루어진 적외선 흡수성 합성 수지 성형품이 제안되고 있다.
특허 문헌 2에는 적어도 2매의 대향하는 판유리의 사이에, Sn, Ti, Si, Zn, Zr, Fe, Al, Cr, Co, Ce, In, Ni, Ag, Cu, Pt, Mn, Ta, W, V, Mo라는 금속, 상기 금속의 산화물, 상기 금속의 질화물, 상기 금속의 황화물, 상기 금속으로의 Sb나 F의 도프물, 또는 이들 혼합물을 분산시킨 중간층을 끼운 강화 유리가 제안되고 있다.
또, 출원인은 특허 문헌 3에서 질화 티탄 미립자, 붕화 란탄 미립자 중 적어도 1종을 분산한 선택 투과막용 도포액이나 선택 투과막을 개시하고 있다.
그러나, 특허 문헌 1∼3에 개시되어 있는 적외선 흡수성 합성 수지 성형품 등의 열선 차폐 구조체에는 모두 높은 가시광선 투과율이 요구되었을 때의 열선 차폐 성능이 충분하지 않다는 문제점이 존재했다. 예를 들면, 특허 문헌 1∼3에 개시되어 있는 열선 차폐 구조체가 갖는 열선 차폐 성능의 구체적인 수치의 예로서 JIS R 3106에 근거하여 산출되는 가시광선 투과율(본 발명에서, 간단히 「가시광선 투과율」이라고 기재하기도 함)이 70%일 때, 동일하게 JIS R 3106에 근거하여 산출되는 일사 투과율(본 발명에서, 간단히 「일사 투과율」이라고 기재하기도 함)은 50%를 넘어 버리고 있었다.
따라서, 출원인은 적외선 차폐 재료 미립자가 매체 중에 분산하여 이루어진 적외선 차폐 재료 미립자 분산체이며, 상기 적외선 차폐 재료 미립자가 일반식 MxWyOz(단, 원소 M은, H, He, 알칼리 금속, 알칼리 토류 금속, 희토류 원소, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, I 중에서 선택되는 1 종류 이상의 원소, W는 텅스텐, O는 산소, 0.001≤x/y≤1, 2.2≤z/y≤3.0)으로 표기되는 복합 텅스텐 산화물 미립자를 함유하고, 상기 복합 텅스텐 산화물 미립자가 육방정, 정방정, 또는 입방정의 결정 구조를 갖는 미립자 중 어느 1종류 이상을 포함하며, 상기 적외선 차폐 재료 미립자의 입자 지름이 1nm 이상 800nm 이하인 것을 특징으로 하는 열선 차폐 분산체를 특허 문헌 4로서 개시했다.
특허 문헌 4에 개시한 바와 같이, 상기 일반식 MxWyOz로 나타내는 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 열선 차폐 분산체는 높은 열선 차폐 성능을 나타내고, 가시광선 투과율이 70%일 때의 일사 투과율은 50%를 밑도는 것까지 개선되었다. 특히 원소 M로서 Cs나 Rb, Tl 등 특정의 원소로부터 선택되는 적어도 1종류를 채용하고, 결정 구조를 육방정으로 한 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 열선 차폐 미립자 분산체는 탁월한 열선 차폐 성능을 나타내며, 가시광선 투과율이 70%일 때의 일사 투과율은 37%를 밑도는 것까지 개선되었다.
또, 출원인은 일반식 MaWOc(단, 0.001≤a≤1.0, 2.2≤c≤3.0, M원소는, Cs, Rb, K, Tl, In, Ba, Li, Ca, Sr, Fe, Sn 중에서 선택되는 1 종류 이상의 원소)로 나타내며, 또한 육방정의 결정 구조를 갖는 복합 텅스텐 산화물 미립자를 함유하고, 상기 일반식 MaWOc로 나타내는 복합 텅스텐 산화물의 분체색을 L*a*b*표 색계로 평가했을 때, L*가 25∼80, a*가 -10∼10, b*가 -15∼15인 것을 특징으로 하는 자외·근적외광 차폐 분산체를 특허 문헌 5로서 개시했다.
특허 문헌 1 JP H02－136230 A 특허 문헌 2 JP H08－259279 A 특허 문헌 3 JP JPH11－181336 A 특허 문헌 4 WO 2005/037932 A 특허 문헌 5 JP 2008－231164 A
상기 일반식 MxWyOz로 나타내는 복합 텅스텐 산화물 미립자나, 이를 사용한 열선 차폐 필름, 열선 차폐 유리, 열선 차폐 미립자 분산체나 적층 투명 기재가 시장에서의 사용 범위를 확대한 결과, 새로운 과제가 발견되었다.
그 과제는, 상기 일반식 MxWyOz로 기재된 복합 텅스텐 산화물 미립자, 상기 복합 텅스텐 산화물 미립자를 함유한 열선 차폐 필름이나 열선 차폐 유리, 상기 복합 텅스텐 산화물 미립자를 함유한 분산체나 열선 차폐 적층 투명 기재를, 창문재 등의 구조체에 적용한 경우, 상기 창문재 등을 통과하는 광에서 파장 700∼1200nm의 근적외광의 투과율도 크게 저하되는 것이다.
상기 파장 영역의 근적외광은 인간의 눈에 대해서 거의 불가시이며, 또 염가의 근적외 LED 등의 광원에 의해 발진이 가능한 것으로부터, 근적외광을 사용한 통신, 촬상 기기, 센서 등에 널리 사용되고 있다. 그런데, 상기 일반식 MxWyOz로 나타내는 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 창문재 등의 구조체, 열선 차폐체나 열선 차폐 기재, 분산체나 적층 투명 기재 등의 구조체는 상기 파장 영역의 근적외광도 열선에 따라 강하게 흡수해 버린다.
그 결과, 상기 일반식 MxWyOz로 나타내는 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 창문재 등의 구조체, 열선 차폐 필름이나 열선 차폐 유리, 분산체나 적층 투명 기재를 통한 근적외광을 사용한 통신, 촬상 기기, 센서 등의 사용이 제한되는 사태가 되는 경우도 생기고 있었다.
예를 들면, 특허 문헌 4에 기재된 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 열선 차폐 필름을 일반 주택의 창에 붙였을 경우, 실내에 놓여진 적외선 발진기와 실외에 놓여진 적외선 수신기로 이루어진 침입 탐지 장치 사이의 근적외광에 의한 통신이 방해되어 장치는 정상적으로 동작하지 않았다.
상기 과제가 존재하는 것에도 불구하고, 복합 텅스텐 산화물 미립자 등을 사용한 열선 차폐 필름이나 창문재 등의 구조체, 분산체나 열선 차폐 적층 투명 기재는 열선을 크게 커트하는 능력이 높고, 열선 차폐를 원하는 시장 분야에서는 사용이 확대되었다. 그러나, 이와 같은 열선 차폐 필름이나 창문재 등의 구조체, 분산체나 열선 차폐 적층 투명 기재를 사용했을 경우는, 근적외광을 사용하는 무선통신, 촬상 기기, 센서 등을 사용할 수 할 수 없는 것이었다.
더하여, 상기 일반식 MxWyOz로 나타내는 복합 텅스텐 산화물 미립자나, 이를 사용한 열선 차폐 필름, 열선 차폐 유리, 열선 차폐 미립자 분산체나 적층 투명 기재는 파장 2100nm의 열선의 차폐가 충분하지 않았다.
예를 들면, 특허 문헌 4에 기재된 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 열선 차폐 필름을 일반 주택의 창에 붙였을 경우, 실내에서 피부에 쨍쨍한 더위를 느꼈다.
본 발명은, 상술한 상황하에서 이루어진 것이다. 그리고, 그 해결하려고 하는 과제는 창문재 등의 구조체에 적용되었을 경우에, 열선 차폐 특성을 발휘하여, 피부로의 쨍쨍한 감을 억제함과 동시에, 상기 구조체, 상기 열선 차폐 필름 또는 열선 차폐 유리, 상기 분산체나 적층 투명 기재를 통한 근적외광을 사용하는 통신 기기, 촬상 기기, 센서 등의 사용을 가능하게 하는, 열선 차폐 미립자, 및 상기열선 차폐 미립자를 함유하는 열선 차폐 미립자 분산체, 열선 차폐 적층 투명 기재 및 이들 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위하여 다양한 검토를 실시했다.
예를 들면, 열선 차폐 필름, 열선 차폐 유리, 열선 차폐 미립자 분산체 및 열선 차폐 적층 투명 기재를 통한 경우라도, 근적외광을 사용하는 통신 기기, 촬상 기기, 센서 등의 사용을 가능하게 하려면, 파장 800∼900nm의 영역에 있어서의 근적외광의 투과율을 향상시키면 좋다고 생각되었다. 그리고, 상기 파장 영역에 있어서의 근적외광의 투과율을 단지 향상시키는 것 뿐이라면, 복합 텅스텐 산화물 미립자의 막 중 농도, 열선 차폐 필름이나 열선 차폐 유리에 있어서의 복합 텅스텐 산화물 미립자의 농도, 열선 차폐 미립자 분산체나 열선 차폐 적층 투명 기재에 있어서의 복합 텅스텐 산화물 미립자의 막 중 농도를 적절히 감소시키면 좋다고도 생각되었다.
그러나, 복합 텅스텐 산화물 미립자의 농도, 열선 차폐 미립자 분산체나 열선 차폐 적층 투명 기재에 있어서의 복합 텅스텐 산화물 미립자의 막 중 농도를 감소시켰을 경우, 파장 1200∼1800nm의 영역을 보텀으로 하는 열선 흡수 능력도 동시에 저하되고, 열선 차폐 효과를 저하시키게 되어, 피부로의 쨍쨍한 감도 느끼게 되어 버린다.
따라서, 태양광이 피부로의 쨍쨍한 감을 주는 것은 파장 1500∼2100nm의 열선의 영향이 크기 때문이라고 생각된다(예를 들면, 오제키 요시카즈 외, 자동차 기술회 학술 강연회 전쇄집 No.33－99, 13(1999) 참조). 이것은, 인간의 피부가 갖는 흡광도가 파장 700∼1200nm의 근적외광에 대해서는 작은 반면, 파장 1500∼2100nm의 열선에 대해서는 크기 때문이라고 생각된다.
이상의 지견을 바탕으로, 본 발명자들은 여러 가지 연구를 거듭한 결과, 일반식 NB'WCOD로 나타내는 복합 텅스텐 산화물 미립자에서는 그 근적외 흡수능이 플라스몬 공명 흡수와 폴라론 흡수와의 2종류의 요소로 구성되어 있는 것에 주목했다. 그리고, 상기 2종류의 구성요소가 흡수하는 근적외광의 파장 영역이 다른 것에 상도했다. 그리고, 복합 텅스텐 산화물 미립자에서 플라스몬 공명 흡수는 보존한 채로, 폴라론 흡수의 크기를 제어한다는 획기적인 구성에 상도하였다.
그리고, 상기 일반식 NB'WCOD로 나타내는 복합 텅스텐 산화물에 있어서의 원소 N 대신에, K, Rb, Cs로부터 2종 이상의 원소 L, M을 선택하며, 상기 2종 이상의 원소 L, M의 배합비를 제어함으로써, 상기 복합 텅스텐 산화물 미립자의 폴라 론 흡수를 제어하는 구성에도 상도하였다.
구체적으로는, 복합 텅스텐 산화물 미립자의 근적외 흡수 밴드는 파장 1200∼1800nm를 보텀으로 하는 플라스몬 공명 흡수와, 파장 700∼1200nm 영역의 폴라론 흡수로 구성되어 있기 때문에, 플라스몬 공명 흡수는 보존한 채로, 폴라론 흡수의 크기를 제어하는 것에 의해서, 파장 1200∼1800nm의 영역을 보텀으로 하는 열선 흡수 능력은 유지한 채로, 파장 800∼900nm의 흡수를 제어하고, 파장 2100nm의 영역에 있어서의 흡수 능력이 향상한 복합 텅스텐 산화물 미립자를 얻을 수 있다는 지견을 얻은 것이다.
그러나, 상기 폴라론 흡수능을 제어하는 것으로, 파장 800∼900nm의 영역에 근적외광의 투과율을 향상시킨 복합 텅스텐 산화물 미립자는 열선 차폐 미립자의 분산체에 있어서의 열선 차폐 성능의 평가 기준으로서 종래 사용되고 있던 지표(예를 들면, JIS R 3106로 평가되는 가시광선 투과율에 대한 일사 투과율)를 사용하여 평가했을 경우, 종래의 기술에 관한 복합 텅스텐 산화물과 비교하여 떨어지는 것은 아닌지도 염려되었다.
따라서, 상기 관점으로부터, 폴라론 흡수의 크기를 제어하는 것에 의해서, 파장 800∼900nm의 근적외광의 투과율을 향상시킨 복합 텅스텐 산화물 미립자에 대해 더욱 검토했다.
그리고, 상술한 폴라론 흡수의 크기를 제어하는 것에 의해서 파장 800∼900nm의 근적외광의 투과율을 향상시킨 복합 텅스텐 산화물 미립자는, 종래의 기술에 관한 복합 텅스텐 산화물 미립자와 비교하여, 열선 차폐 미립자로서의 성능에 대해 떨어지는 것은 아닌 것이 지견되었다.
이것은 폴라론 흡수의 크기를 제어하는 것에 의해서 파장 800∼900nm의 근적외광의 투과율을 향상시킨 복합 텅스텐 산화물 미립자에서 플라스몬 흡수의 절대값은 감소하지만, 가시광선으로의 투과율이 커져 단위면적당 복합 텅스텐 산화물 미립자 농도를 높게 할 수 있어 파장 1500∼2100nm의 열선의 투과를 억제할 수 있기 때문이다.
이상의 검토의 결과, 본 발명자들은 열선 차폐 기능을 가지며 원소 L 및 M과 텅스텐과 산소를 가지며, 일반식 (LAMB)WCOD로 표기되며, 육방정계의 결정 구조를 갖는 복합 텅스텐 산화물 미립자에 상도하여 본 발명을 완성했다.
단, 상기 원소 L은 K, Rb, Cs로부터 선택되는 원소이며, 상기 원소 M은 K, Rb, Cs로부터 선택되는 상기 원소 L과는 다른 1종 이상의 원소이다.
또한, 본 발명자들은 상술한 본 발명에 관한 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 열선 차폐 재료, 열선 차폐 미립자 분산체나 적층 투명 기재에서도, 열선 차폐체로서의 성능에 대해 떨어지는 것이 아니고, 피부로의 쨍쨍한 감을 억제하는 관점에서도, 종래의 기술에 관한 복합 텅스텐 산화물 미립자와 동등한 것도 지견 하여 본 발명을 완성했다.
즉, 상술한 과제를 해결하는 제1 발명은,
투명한 열가소성 수지를 포함한 열선 차폐 미립자 분산체이며,
원소 L 및 M과, 텅스텐 산소를 가지며, 일반식 (LAMB)WCOD로 표기되며, 육방정계의 결정 구조를 가지며,
상기 원소 L은 K, Rb, Cs로부터 선택되는 원소이며,
상기 원소 M은 K, Rb, Cs로부터 선택되는 상기 원소 L과는 다른 1종 이상의 원소인 열선 차폐 미립자가, 상기 투명한 열가소성 수지 중에 분산하고 있는 것을 특징으로 하는 열선 차폐 미립자 분산체이다.
제2 발명은,
상기 열선 차폐 미립자만에 의한 광흡수를 산출하고, 그 가시광선 투과율을 85%로 했을 때에, 파장 800∼900nm의 범위에 있어서의 투과율의 평균값이 30% 이상 60% 이하이며, 또한 파장 1200∼1500nm의 범위에 있어서의 투과율의 평균값이 20%이하이며, 또한, 파장 2100nm에 있어서의 투과율이 22% 이하인 열선 차폐 미립자를 포함하는 것을 특징으로 하는 제1 발명에 기재된 열선 차폐 미립자 분산체이다.
제3 발명은,
상기 투명한 열가소성 수지가, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지, 폴리카보네이트 수지, 아크릴 수지, 스티렌 수지, 폴리아미드 수지, 폴리에틸렌 수지, 염화 비닐 수지, 올레핀 수지, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지, 불소 수지, 에틸렌·초산비닐 공중합체, 폴리비닐아세탈 수지라는 수지군으로부터 선택되는 1종 수지,
또는 상기 수지군으로부터 선택되는 2종 이상의 수지의 혼합물,
또는 상기 수지군으로부터 선택되는 2종 이상의 수지의 공중합체 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 제1 또는 제2 발명에 기재된 열선 차폐 미립자 분산체이다.
제4 발명은,
상기 열선 차폐 미립자를, 0.5질량% 이상 80.0질량% 이하 포함하는 것을 특징으로 하는 제1 내지 제3 중 어느 하나에 기재된 열선 차폐 미립자 분산체이다.
제5 발명은,
상기 열선 차폐 미립자 분산체가, 시트 형상, 보드 형상 또는 필름 형상인 것을 특징으로 하는 제1 내지 제4 발명 중 어느 하나에 기재된 열선 차폐 미립자 분산체이다.
제6 발명은,
상기 열선 차폐 미립자 분산체에 포함되는 단위 투영 면적당 상기 열선 차폐 미립자의 함유량은 0.1g/㎡이상 5.0g/㎡ 이하인 것을 특징으로 하는 제1 내지 제5발명 중 어느 하나에 기재된 열선 차폐 미립자 분산체이다.
제7 발명은,
가시광선 투과율이 70%일 때에, 파장 800∼900nm의 범위에 있어서의 투과율의 평균값이 10% 이상 45% 이하이며, 또한, 파장 1200∼1500nm의 범위에 존재하는 투과율의 평균값이 8% 이하이며, 또한, 파장 2100nm의 투과율이 5% 이하인 것을 특징으로 하는 제1 내지 제6 발명 중 어느 하나에 기재된 열선 차폐 미립자 분산체이다.
제8 발명은,
복수 매의 투명 기재 간에, 제1 내지 제7 발명 중 어느 하나에 기재된 열선 차폐 미립자 분산체가 존재하고 있는 것을 특징으로 하는 열선 차폐 적층 투명 기재이다.
제9 발명은,
가시광선 투과율이 70%일 때에, 파장 800∼900nm의 범위에 있어서의 투과율의 평균값이 10% 이상 45% 이하이며, 한편, 파장 1200∼1500nm의 범위에 존재하는 투과율의 평균값이 8% 이하이며, 한편, 파장 2100nm의 투과율이 8.0% 이하인 것을 특징으로 하는 제8의 발명에 기재된 열선 차폐 적층 투명 기재이다.
제10 발명은,
원소 L 및 M과, 텅스텐과, 산소를 가지며, 일반식 (LAMB)WCOD로 표기되며, 육방정계의 결정 구조를 가지며,
상기 원소 L은 K, Rb, Cs로부터 선택되는 원소이며,
상기 원소 M은 K, Rb, Cs로부터 선택되는 상기 원소 L과는 다른 1종 이상의 원소인 열선 차폐 미립자를
투명한 열가소성 수지 중에 균일하게 혼합하여 열선 차폐 미립자 분산체를 얻는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 열선 차폐 미립자 분산체의 제조 방법이다.
제11 발명은,
제10 발명에 기재된 열선 차폐 미립자 분산체의 제조 방법에 의해 제조된 열선 차폐 미립자 분산체를 투명 기재에 끼우는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 열선 차폐 적층 투명 기재의 제조 방법이다.
제12 발명은,
제10 발명에 기재된 열선 차폐 미립자 분산체의 제조 방법에 의해 제조된 열선 차폐 미립자 분산체를, 필름 형태 또는 보드 형태로 성형하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 열선 차폐 적층 투명 기재의 제조 방법이다.
본 발명에 관한 열선 차폐 미립자 분산체 또는 열선 차폐 적층 투명 기재는 열선 차폐 특성을 발휘하고, 피부로의 쨍쨍한 감(sizzling feeling)을 억제함과 동시에, 이들 구조체 등을 개재한 경우라도 근적외광을 사용한 통신 기기, 촬상 기기, 센서 등의 사용이 가능하다.
도 1은 실시예 1에 관한 분말 A의 X선 회절 프로파일이다.
도 2는 실시예 2에 관한 분말 B의 X선 회절 프로파일이다.
도 3은 실시예 3에 관한 분말 C의 X선 회절 프로파일이다.
도 4는 실시예 4에 관한 분말 D의 X선 회절 프로파일이다.
도 5는 실시예 5에 관한 분말 E의 X선 회절 프로파일이다.
도 6은 실시예 6에 관한 분말 F의 X선 회절 프로파일이다.
도 7은 실시예 7에 관한 분말 G의 X선 회절 프로파일이다.
도 8은 비교예 1에 관한 분말 H의 X선 회절 프로파일이다.
이하, 본 발명의 실시의 형태에 대해서,［a］열선 차폐 미립자,［b］열선 차폐 미립자의 제조 방법,［c］열선 차폐 미립자 분산체의 제조 방법,［d］열선 차폐 적층 투명 기재의 제조 방법의 순서로 설명한다.
［a］열선 차폐 미립자
(복합 텅스텐 산화물 미립자)
본 발명에 관한 열선 차폐 미립자는, 원소 L 및 M과, 텅스텐과, 산소를 가지며, 일반식 (LAMB)WCOD로 표기되며, 육방정계의 결정 구조를 갖는 복합 텅스텐 산화물 미립자이며, 상기 원소 L은 K, Rb, Cs로부터 선택되는 원소이며, 상기 원소 M은 K, Rb, Cs로부터 선택되는 상기 원소 L과는 다른 1종 이상의 원소이다. 구체적으로는, 원소 L 및 M으로서 예를 들면 KRb, KCs, RbCs, KRbCs(각 원소의 순서는 변경 가능하다.)의 조합을 취할 수 있다.
그리고, 상기 복합 텅스텐 산화물 미립자만에 의한 따른 광흡수를 산출하고, 그 가시광선 투과율을 85%로 했을 때에, 파장 800∼900nm의 범위에 있어서의 투과율의 평균값이 30% 이상 60% 이하이며, 또한, 파장 1200∼1500nm의 범위에 있어서의 투과율의 평균값이 20% 이하이며, 또한, 파장 2100nm에 있어서의 투과율이 22% 이하인 열선 차폐 미립자이다.
그리고, 일반식 (LAMB)WCOD로 표기되며 상기 복합 텅스텐 산화물 미립자에서, 원소 L 및 M과 텅스텐과의 원자비가, 0.001≤(A＋B)/C≤1.0인 것이 바람직하고, 0.25≤(A＋B)/C≤0.35인 것이 더욱 바람직하다. (A＋B)/C의 값이 0.001 이상 1.0 이하, 더욱 바람직하게는 0.25 이상 0.35 이하면, 복합 텅스텐 산화물의 육방 결정 단상을 얻을 쉬우며, 열선 흡수 효과가 충분히 발현하기 때문이다. 한편, D의 값은 복합 텅스텐 산화물이 육방정이 될 수 있는 것이라면 된다. 또한, 복합 텅스텐 산화물에서 육방정 이외에, 정방정이나 사방정이 석출하기도 한다. 이들 육방정 이외의 석출물의 열선 흡수 효과는 육방정의 복합 텅스텐 산화물의 흡수 특성에는 미치지 않는다. 또한 이들 육방정 이외의 석출물이, 육방정의 복합 텅스텐 산화물 단체가 발휘하는 열선 흡수 효과에 영향을 주지 않는 정도로 포함되어 있어도 특별히 문제는 없다.
복합 텅스텐 산화물에는 그 외의 불순물이 포함되지 않은 것이 바람직하다.상기 불순물이 포함되지 않은 것은, 복합 텅스텐 산화물 분말의 XRD 측정을 실시했을 때에, 불순물의 피크가 관찰되지 않는 것에 의해 확인된다.
또한 본 발명에 관한 복합 텅스텐 산화물에서 열선 흡수 효과 등의 저하가 없는 한, 산소의 일부가 다른 원소로 치환되고 있을 수 있다. 상기 다른 원소로서는 예를 들면, 질소나 유황, 할로겐 등을 들 수 있다.
본 발명에 관한 복합 텅스텐 산화물 미립자의 입자 지름은 상기 복합 텅스텐 산화물 미립자나, 그 분산액을 사용하여 제조되는 열선 차폐막/열선 차폐기재의 사용 목적에 의해서 적절히 선정할 수 있지만, 1nm 이상 800nm 이하인 것이 바람직하다. 이것은 입자 지름이 800nm 이하면, 본 발명에 관한 복합 텅스텐 산화물 미립자에 의한 강력한 근적외 흡수를 발휘할 수 있고, 또 입자 지름이 1nm 이상이면, 공업적인 제조가 용이하기 때문이다.
열선 차폐막을 투명성이 요구되는 용도에 사용하는 경우는, 상기 복합 텅스텐 산화물 미립자가 40nm 이하의 분산 입자 지름을 갖고 있는 것이 바람직하다. 상기 복합 텅스텐 산화물 미립자가 40nm보다 작은 분산 입자 지름을 가지고 있으면, 미립자의 미-산란 및 레일리 산란에 의한 광의 산란이 충분히 억제되어 가시광선 파장 영역의 시인성을 유지하고, 동시에 효율 좋게 투명성을 유지할 수 있기 때문이다. 자동차의 방풍 등 특별히 투명성이 요구되는 용도에 사용하는 경우는, 더욱 산란을 억제하기 위해, 복합 텅스텐 산화물 미립자의 분산 입자 지름을 30nm 이하, 바람직하게는 25nm 이하로 하는 것이 좋다.
［b］열선 차폐 미립자의 제조 방법
본 발명에 관한 복합 텅스텐 산화물 미립자는 텅스텐 화합물 출발 원료를 불활성 가스 분위기 또는 환원성 가스 분위기 중에서 열처리 하여 얻을 수 있다.
우선, 텅스텐 화합물 출발 원료에 대해 설명한다.
본 발명에 관한 텅스텐 화합물 출발 원료는 텅스텐, 원소 L, 원소 M 각각의 단체 또는 화합물을 함유하는 혼합물이다. 텅스텐 원료로서는 텅스텐산 분말, 삼산화 텅스텐 분말, 이산화 텅스텐 분말, 산화 텅스텐의 수화물 분말, 6염화 텅스텐 분말, 텅스텐산 암모늄 분말, 또는, 6염화 텅스텐 분말을 알코올 중에 용해시킨 후 건조하여 얻어지는 텅스텐 산화물의 수화물 분말, 또는, 6염화 텅스텐을 알코올 중에 용해시킨 후 물을 첨가하여 침전시키고 이를 건조하여 얻어지는 텅스텐 산화물의 수화물 분말, 또는 텅스텐산 암모늄 수용액을 건조하여 얻어지는 텅스텐 화합물 분말, 금속 텅스텐 분말로부터 선택된 어느 하나의 1종류 이상인 것이 바람직하다. 원소 L 및 M의 원료로서는, 원소 L 또는 원소 M의 단체, 원소 L 또는 원소 M의 염화물염, 질산염, 유산염, 옥살산염, 초산염, 산화물, 탄산염, 텅스텐산염, 수산화물 등을 들 수 있지만, 이들로는 한정되지 않는다.
상술한 텅스텐, 원소 L 및 M에 관한 각각의 원료를 칭량, 텅스텐 화합물 출발 원료, 원소 L 및 M을 0.001≤(A＋B)/C≤1.0을 만족하는 소정량을 갖고 배합하여 혼합한다. 이때, 원소 L 및 M, 텅스텐에 관한 각각의 원료가 가능한 한 균일하게, 가능하면 분자 레벨로 균일 혼합하고 있는 것이 바람직하다. 따라서 전술한 각 원료는 용액의 형태로 혼합하는 것이 가장 바람직하고, 각 원료가 물이나 유기용제 등의 용매에 용해 가능하다는 것이 바람직하다.
각 원료가 물이나 유기용제 등의 용매에 가용이면, 각 원료와 용매를 충분히 혼합한 후 용매를 휘발시키는 것으로, 본 발명에 관한 텅스텐 화합물 출발 원료를 제조할 수 있다. 무엇보다 각 원료에 가용인 용매가 없더라도, 각 원료를 볼 밀 등의 공지의 수단으로 충분히 균일하게 혼합하는 것으로, 본 발명에 관한 텅스텐 화합물 출발 원료를 제조할 수 있다.
이어서, 불활성 가스 분위기 또는 환원성 가스 분위기 중에 있어서의 열처리에 대해 설명한다. 우선, 불활성 가스 분위기 중에 있어서의 열처리 조건으로서는, 400℃ 이상 1000℃ 이하가 바람직하다. 400℃ 이상에서 열처리된 출발 원료는 충분한 열선 흡수력을 가지며, 열선 차폐 미립자로서 효율이 좋다. 불활성 가스로서는 Ar, N2 등의 불활성 가스를 사용하는 것이 좋다.
또, 환원성 분위기 중에 있어서의 열처리 조건으로서는, 출발 원료를 300℃이상 900℃ 이하로 열처리하는 것이 바람직하다. 300℃ 이상이면 본 발명에 관한 육방정 구조를 갖는 복합 텅스텐 산화물의 생성 반응이 진행하고, 900℃ 이하이면 육방정 이외의 구조를 갖는 복합 텅스텐 산화물 미립자나 금속 텅스텐이라는 의도하지 않는 부반응물이 생성하기 어려워 바람직하다.
이 때의 환원성 가스는 특별히 한정되지 않지만, H2가 바람직하다. 그리고, 환원성 가스로서 H2를 사용하는 경우는, 환원성 분위기의 조성으로서 예를 들면, Ar, N2 등의 불활성 가스에 H2를 체적비로 0.1% 이상을 혼합하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.2% 이상 혼합한 것이다. H2가 체적비로 0.1% 이상이면 효율적으로 환원을 진행시킬 수 있다. 상기 환원 온도 및 환원 시간, 환원성 가스의 종류와 농도라고 하는 조건에 의해, 일반식 (LAMB)WCOD로 표기되며 육방정계의 결정 구조를 갖는 복합 텅스텐 산화물 미립자(단, 원소 L은 K, Rb, Cs로부터 선택되는 원소이며, 원소 M은 K, Rb, Cs로부터 선택되며, 또한 상기 원소 L과는 다른 1종 이상의 원소이다)를 생성시킬 수 있다. 상술한 바와 같이, 상기 복합 텅스텐 산화물의 구조 중에 있어서의, 원소 L 및 M과, W와의 원자수비가 0.001≤(A＋B)/C≤1.0인 것이 바람직하며, 0.25≤(A＋B)/C≤0.35인 것이 더욱 바람직하지만, 상술한 처리 조건을 적절히 조정하는 것으로 실현될 수 있다.
필요에 따라, 환원성 가스 분위기 중에서 환원 처리를 실시한 후, 불활성 가스 분위기 중에서 열처리를 실시할 수도 있다. 이 경우의 불활성 가스 분위기 중에서의 열처리는 400℃ 이상 1200℃ 이하의 온도로 실시하는 것이 바람직하다.
본 발명에 관한 열선 차폐 미립자가 표면 처리되어 Si, Ti, Zr, Al로부터 선택되는 1 종류 이상을 함유하는 화합물, 바람직하게는 산화물로 피복되어 있는 것은, 내후성 향상의 관점에서 바람직하다. 상기 표면 처리를 실시하려면, Si, Ti, Zr, Al로부터 선택되는 1 종류 이상을 함유하는 유기 화합물을 사용하여, 공지의 표면 처리를 실시하면 좋다. 예를 들면, 본 발명에 관한 열선 차폐 미립자와 유기 규소 화합물을 혼합하여, 가수분해 처리를 실시하면 좋다.
［c］열선 차폐 미립자 분산체의 제조 방법
열선 차폐 미립자 분산체의 제조 방법에 대해 (1) 분립체 형태의 열선 차폐 미립자 분산체의 제조 방법, (2) 시트 형상 또는 필름 형상의 열선 차폐 미립자 분산체(열선 차폐 필름, 열선 차폐 시트)의 제조 방법의 순서로 설명한다.
(1) 분립체 형태의 열선 차폐 미립자 분산체의 제조 방법
본 발명에 관한 열선 차폐 미립자와, 지방산 및/또는 지방산 아미드와 액상의 매체에, 소망에 의한 적당량의 분산제, 커플링제, 계면활성제 등을 첨가하여 분산 처리를 실시하는 것으로, 본 발명에 관한 열선 차폐 미립자 분산액을 얻을 수 있다. 열선 차폐 미립자를 액상의 매체에 분산하는 방법은 상기 미립자가 균일하게 액상의 매체에 분산하는 방법이면 임의로 선택할 수 있다. 예로서는, 비즈 밀, 볼 밀, 샌드 밀, 초음파 분산 등의 방법을 사용할 수 있다.
매체로서는 물, 유기용매, 석유계 용제, 유지, 액상 수지, 플라스틱용의 액상 가소제, 또는 이들 혼합물을 선택하여 열선 차폐 분산액을 제조할 수 있다. 상기의 요구를 만족하는 유기 용매로서는, 알코올계, 케톤계, 탄화수소계, 글리콜계, 수계 등, 여러 가지의 것을 선택하는 것이 가능하다. 구체적으로는, 메탄올, 에탄올, 1－프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 펜탄올, 벤질 알코올, 디아세톤알코올 등의 알코올계 용제； 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 이소포론 등의 케톤계 용제； 3－메틸메톡시프로피오네이트 등의 에스테르계 용제；에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜이소프로필에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트등의 글리콜 유도체； 포름아미드, N－메틸포름아미드, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N－메틸-2－피롤리돈 등의 아미드류； 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류；에틸렌 클로라이드, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 극성의 낮은 유기용제가 바람직하고, 특히, 이소프로필알코올, 에탄올, 1－메톡시-2－프로판올, 디메틸케톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 톨루엔, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트, 초산 n－부틸 등이 보다 바람직하다. 이들 용매는 1종 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
석유계 용제로서는, ISOPAR-E, Exor Hexane, Exor Heptane, Exor E, Exor D30, Exor D40, Exor D60, Exor D80, Exor D95, Exor D110, Exor D130(이상, 엑손모빌 제조) 등이 바람직하다.
액상의 수지로서는, 메타크릴산 메틸 등이 바람직하다. 플라스틱용 액상 가소제로서는, 1가 알코올과 유기산 에스테르와의 화합물인 가소제나, 다가 알코올 유기산 에스테르 화합물등의 에스테르계인 가소제, 유기 인산계 가소제 등의 인산계인 가소제 등이 바람직한 예로서 들 수 있다. 그 중에서도 트리에틸렌글리콜디-2－에틸헥사네오네이트, 트리에틸렌글리콜디-2－에틸부틸레이트, 테트라에틸렌글리콜디-2－에틸헥사네오네이트는, 가수분해성이 낮기 때문에 더욱 바람직하다.
분산제, 커플링제, 계면활성제는 용도에 맞추어 선정 가능하지만, 아민을 함유하는 기, 수산기, 카르복실기, 또는, 에폭시기를 관능기로서 갖는 것이 바람직하다. 이들 관능기는 복합 텅스텐 산화물 미립자의 표면에 흡착하여, 복합 텅스텐 산화물 미립자의 응집을 막아, 열선 차폐막 중에서도 본 발명에 관한 열선 차폐 미립자를 균일하게 분산시키는 효과를 갖는다.
매우 적합하게 사용할 수 있는 분산제로서는, 인산 에스테르 화합물, 고분자계 분산제, 실란계 커플링제, 티타네이트계 커플링제, 알루미늄계 커플링제 등이 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 고분자계 분산제로서는, 아크릴계 고분자 분산제, 우레탄계 고분자 분산제, 아크릴·블록 코폴리머계 고분자 분산제, 폴리 에테르류 분산제, 폴리에스테르계 고분자 분산제 등을 들 수 있다.
상기 분산제의 첨가량은 열선 차폐 미립자 100중량부에 대해 10중량부∼1000중량부의 범위인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 20중량부∼200중량부의 범위이다. 분산제 첨가량이 상기 범위에 있으면, 열선 차폐 미립자가 액 중에서 응집을 일으키지 않아 분산 안정성이 유지된다.
분산 처리의 방법은 상기 열선 차폐 미립자가 균일하게 액상 매체 중에 분산하는 방법이면 공지의 방법으로부터 임의로 선택할 수 있고, 예를 들어 비즈 밀, 볼 밀, 샌드 밀, 초음파 분산 등의 방법을 사용할 수 있다.
균일한 열선 차폐 미립자 분산액을 얻기 위해서, 각종 첨가제나 분산제를 첨가하거나 pH조정하거나 할 수도 있다.
상술한 열선 차폐 미립자 분산액 중에 있어서의 열선 차폐 미립자의 함유량은 0.01질량%∼50질량%인 것이 바람직하다. 0.01질량% 이상이면 후술하는 플라스틱 성형체 등의 제조에 매우 적합하게 사용할 수 있으며, 50질량% 이하이면 공업적인 생산이 용이하다. 더욱 바람직하게는 1질량% 이상 35질량% 이하이다.
열선 차폐 미립자 분산액으로부터 휘발 성분을 제거하는 것으로, 본 발명에 관한 분산분이나 가소제 분산액을 얻을 수 있다. 열선 차폐 미립자 분산액으로부터 휘발 성분을 제거하는 방법으로서는, 상기 열선 차폐 미립자 분산액을 감압 건조하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 열선 차폐 미립자 분산액을 교반하면서 감압 건조하고, 열선 차폐 미립자 함유 조성물과 휘발 성분을 분리한다. 상기 감압 건조하게 사용하는 장치로서는, 진공 교반형의 건조기를 들 수 있지만, 상기 기능을 갖는 장치면 되고, 특별히 한정되지 않는다. 또, 건조 공정의 감압 시의 압력값은 적절히 선택된다.
상기 감압 건조법을 사용하는 것으로, 열선 차폐 미립자 분산액으로부터의 휘발 성분의 제거 효율이 향상함과 동시에, 본 발명에 관한 분산분이나 가소제 분산액이 장시간 고온에 노출되는 것이 없기 때문에, 분산분이나 가소제 분산액 중에 분산하고 있는 열선 차폐 미립자의 응집이 일어나지 않아 바람직하다. 또한 분산분이나 가소제 분산액의 생산성도 올라, 증발한 휘발 성분을 회수하는 것도 용이하여 환경적 배려로부터도 바람직하다.
상기 건조 공정 후에 얻어진 본 발명에 관한 분산분이나 가소제 분산액에서 잔류하는 휘발 성분은 5질량% 이하인 것이 바람직하다. 잔류하는 휘발 성분이 5질량% 이하이면, 상기 분산분이나 가소제 분산액을 열선 차폐 적층 투명 기재에 가공했을 때에 기포가 발생하지 않아, 외관이나 광학 특성이 양호하게 유지되기 때문이다.
또, 열선 차폐 미립자나 전기 분산분과 열가소성 수지의 분립체 또는 펠릿 및 필요에 따라 다른 첨가제를 균일하게 혼합한 후, 벤트 1축 또는 2축 압출기로 혼련하여, 일반적인 용융 압출된 스트랜드를 커트하는 방법에 의해 펠릿 형태로 가공하는 것에 의해서, 본 발명에 관한 마스터 배치를 얻을 수 있다. 이 경우, 그 형상으로서는 원주 형태나 각주 형태의 것을 들 수 있다. 또, 용융 압출물을 직접 커트하는 이른바 핫 커트법을 채용하는 것도 가능하다. 이 경우에는 구 형태에 가까운 형상을 취하는 것이 일반적이다.
투명한 열가소성 수지로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리카보네이트 수지, 아크릴 수지, 스티렌 수지, 폴리아미드 수지, 폴리에틸렌 수지, 염화 비닐 수지, 올레핀 수지, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지, 불소 수지, 에틸렌·초산 비닐 공중합체라는 수지군으로부터 선택되는 수지, 또는 상기 수지군으로부터 선택되는 2종 이상의 수지의 혼합물, 또는 상기 수지군으로부터 선택되는 2종 이상의 수지의 공중합체로부터 바람직한 수지의 선택을 실시할 수 있다.
(2) 시트 형태 또는 필름상의 열선 차폐 미립자 분산체의 제조 방법
본 발명에 관한 분산분, 가소제 분산액, 또는 마스터 배치를 투명 수지 중에 균일하게 혼합함으로써, 본 발명에 관한 시트 형태 또는 필름 형태의 열선 차폐 미립자 분산체를 제조할 수 있다. 상기 시트 형태 또는 필름 형태의 열선 차폐 미립자 분산체로부터는 종래의 기술에 관한 복합 텅스텐 산화물 미립자가 갖는 열선 차폐 특성을 담보하여, 내습열성이 뛰어난, 본 발명에 관한 열선 차폐 시트나 열선 차폐 필름을 제조할 수 있다.
본 발명에 관한 열선 차폐 시트나 열선 차폐 필름을 제조하는 경우, 상기 시트나 필름을 구성하는 수지에는 다양한 열가소성 수지를 사용할 수 있다. 그리고, 본 발명에 관한 열선 차폐 시트나 열선 차폐 필름이 각종 창문재에 적용되는 것을 생각하면, 충분한 투명성을 갖는 열가소성 수지인 것이 바람직하다.
구체적으로는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지, 폴리카보네이트 수지, 아크릴 수지, 스티렌 수지, 폴리아미드 수지, 폴리에틸렌 수지, 염화 비닐 수지, 올레핀 수지, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지, 불소 수지, 에틸렌·초산 비닐 공중합체라는 수지군으로부터 선택되는 수지, 또는 상기 수지군으로부터 선택되는 2종 이상의 수지의 혼합물, 또는 상기 수지군으로부터 선택되는 2종 이상의 수지의 공중합체로부터 바람직한 수지의 선택을 실시할 수 있다.
또한, 본 발명에 관한 열선 차폐 시트를 그대로 보드 형태의 창재로서 사용하는 경우는, 투명성이 높고, 또한, 창문재로서 요구되는 일반적인 특성, 즉 강성, 경량성, 장기 내구성, 코스트 등의 점을 고려하면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리카보네이트 수지, 아크릴 수지인 것이 바람직하고, 폴리카보네이트수지인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 본 발명에 관한 열선 차폐 시트나 열선 차폐 필름을 후술하는 열선 차폐 강화 유리의 중간층으로서 사용하는 경우는, 투명 기재와의 밀착성, 내후성, 내관통성 등의 관점에서 폴리비닐아세탈 수지나 에틸렌·초산 비닐 공중합체가 바람직하고, 폴리비닐부티랄 수지인 것이 더욱 바람직하다.
또, 열선 차폐 시트 또는 열선 차폐 필름을 중간층으로서 사용하는 경우이며, 상기 시트나 필름을 구성하는 열가소성 수지가 단독으로는 유연성이나 투명 기재와의 밀착성을 충분히 갖지 않는 경우, 예를 들면 열가소성 수지가 폴리비닐 아세탈 수지인 경우는, 또한 가소제를 첨가하는 것이 바람직하다.
가소제로서는, 본 발명에 관한 열가소성 수지에 대해서 가소제로서 사용되는 물질을 사용할 수 있다. 예를 들면 폴리비닐아세탈 수지로 구성된 열선 차폐 필름에 사용되는 가소제로서는, 일가 알코올과 유기산 에스테르와의 화합물인 가소제, 다가 알코올 유기산 에스테르 화합물 등의 에스테르계인 가소제, 유기 인산계 가소제등의 인산계인 가소제를 들 수 있다. 어느 가소제라도 실온에서 액상인 것이 바람직하다. 그 중에서도, 다가 알코올과 지방산으로부터 합성된 에스테르 화합물인 가소제가 바람직하다.
분산분 또는 가소제 분산액 또는 마스터 배치와 열가소성 수지와 소망에 따라 가소제 그 외 첨가제를 혼련한 후, 상기 혼련물을 압출 성형법, 사출 성형법 등의 공지의 방법에 의해, 예를 들면, 평면 형태나 곡면 형태의 시트재에 성형하는 것으로써, 열선 차폐 시트를 제조할 수 있다.
열선 차폐 시트나 열선 차폐 필름의 형성 방법에는, 공지의 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면, 캘린더 롤법, 압출법, 캐스팅법, 인플레이션법 등을 사용할 수 있다.
［d］열선 차폐 적층 투명 기재의 제조 방법
본 발명에 관한 열선 차폐 시트나 열선 차폐 필름을 판유리 또는 플라스틱의 재질로 이루어진 복수 매의 투명 기재 간에, 중간층으로서 개재시켜서 이루어진 열선 차폐 적층 투명 기재에 대해 설명한다.
열선 차폐 적층 투명 기재는 중간층을 그 양측에서 투명 기재를 사용하여 사이에 끼워 맞춘 것이다. 상기 투명 기재로서는, 가시광선 영역에서 투명한 판 유리, 또는, 판 형태의 플라스틱, 또는 필름 형태의 플라스틱이 사용된다. 플라스틱의 재질은 특별히 한정되는 것은 아니며 용도에 따라 선택 가능하지만, 예를 들면, 자동차 등의 수송기기에 사용하는 경우는, 상기 수송기기의 운전자나 탑승자의 투시성을 확보하는 관점에서, 폴리카보네이트 수지, 아크릴 수지, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지라는 투명 수지가 바람직하지만, 그 밖에도, PET 수지, 폴리아미드 수지, 염화 비닐 수지, 올레핀 수지, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지, 불소 수지 등이 사용 가능하다.
본 발명에 관한 열선 차폐 적층 투명 기재는 본 발명에 관한 열선 차폐 시트나 열선 차폐 필름을 끼워 존재시킨 대향하는 복수 매의 무기 유리를, 공지의 방법으로 접착시켜서 일체화하는 것에 의해서도 얻어진다. 얻어진 열선 차폐 차폐층 무기 유리는 주로 자동차의 프런트용 무기 유리나, 건물의 창으로서 사용할 수 있다.
상기 열선 차폐 시트, 열선 차폐 필름 및 열선 차폐 적층 투명 기재에 포함되는 상기 열선 차폐 미립자의 농도는 특별히 한정되지 않지만, 시트/필름의 투영 면적당 함유량이 0.1g/㎡ 이상 5.0g/㎡ 이하인 것이 바람직하다. 이것은 0.1g/㎡ 이상이면 열선 차폐 미립자를 함유하지 않는 경우와 비교하여 유의하게 열선 차폐 특성을 발휘할 수 있고, 5.0g/㎡ 이하이면 열선 차폐 시트/필름이 가시광선의 투과성을 완전하게는 잃지 않기 때문이다.
본 발명에 관한 열선 차폐 미립자 분산체, 및 열선 차폐 적층 투명 기재의 광학 특성은 가시광선 투과율이 70%일 때에, 파장 800∼900nm의 범위에 있어서의 투과율의 평균값이 13% 이상 45% 이하이며, 한편, 파장 1200∼1500nm의 범위에 존재하는 투과율의 평균값이 8% 이하이며, 또한 파장 2100nm의 투과율이 5% 이하이다. 또한, 가시광선 투과율을 70%로 조정하는 것은, 열가소성 수지 중의 열선 차폐 미립자 농도의 조정, 또는, 열가소성 수지의 막 두께의 조정에 의해, 용이하게 이루어진다.
또, 본 발명에 관한 열선 차폐 미립자 분산체나 열선 차폐 적층 투명 기재에 더욱 자외선 차폐 기능을 부여시키기 위해, 무기계의 산화 티탄이나 산화 아연, 산화 세륨 등의 입자, 유기계의 벤조페논이나 벤조트리아졸 등의 적어도 1종 이상을 첨가할 수도 있다.
또, 본 발명에 관한 열선 차폐 미립자 분산체나 열선 차폐 적층 투명 기재의 가시광선 투과율을 향상시키기 위해서, 열가소성 수지중에 ATO, ITO, 알루미늄 첨가 산화 아연, 인듐 주석 복합 산화물 등의 입자를 다시 혼합할 수도 있다. 이들 투명 입자가 코팅층에 첨가되는 것으로, 파장 750nm 부근의 투과율이 증가하는 한편, 1200nm 보다 장파장의 적외광을 차폐하기 위해, 근적외광의 투과율이 높고, 또한 열선 차폐 특성이 높은 열선 차폐 미립자 분산체나 열선 차폐 적층 투명 기재가얻어진다.
실시예
이하, 실시예를 참조하면서 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다.
단, 본 발명은 이하의 실시예로 한정되는 것은 아니다.
실시예, 비교예에 있어서의 열선 차폐 미립자 분산액의 파장 300∼2100nm의 광에 대한 투과율은 분광 광도계용 셀(지엘사이언스 주식회사제, 제품번호：S10－SQ－1, 재질：합성 석영, 광로길이：1mm)에 분산액을 유지하고, 히타치 세이사쿠쇼 (주) 제조의 분광 광도계 U－4100을 사용하여 측정했다.
상기 측정 시, 분산액의 용매(메틸이소부틸케톤)를, 상술한 셀에 채운 상태에서 투과율을 측정하고 투과율 측정의 베이스 라인:(baseline)을 구했다. 이 결과, 이하에 설명하는 분광 투과율 및 가시광선 투과율은 분광 광도계용 셀 표면의 광반사나, 용매의 광흡수에 의한 기여가 제외되어 열선 차폐 미립자에 의한 광흡수만이 산출되게 된다.
가시광선 투과율은 파장 380∼780nm의 광에 대한 투과율로부터 JIS R 3106에 근거하여 산출했다. 열선 차폐 미립자의 평균 분산 입자 지름은 닛키소(주) 제조의 마이크로 트럭 입도 분포계를 사용하여 측정했다.
실시예, 비교예에 있어서의 열선 차폐 시트 및 적층 투명 기재의 광학 특성은 분광 광도계 U－4000(히타치 세이사쿠쇼(주) 제조)를 사용하여 측정했다. 가시광선 투과율은 파장 380∼780nm의 광에 대한 투과율로부터 JIS R 3106에 따라서 측정을 실시했다.
［실시예 1］
(Rb/Cs/W(몰비)=0.30/0.03/1.00이 되는 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 열선 차폐 시트)
텅스텐산(H2WO4)과, 수산화 세슘(CsOH), 수산화 루비듐(RbOH)의 각 분말을 Rb/Cs/W(몰비)=0.30/0.03/1.00 상당이 되는 비율로 칭량한 후 메노우 유발로 충분히 혼합하여 혼합 분말로 했다. 상기 혼합 분말을 N2 가스를 캐리어로 한 5% H2가스를 공급하에서 가열하여 600℃의 온도로 1시간의 환원 처리를 실시한 후, N2 가스 분위기하에서 800℃, 30분간 소성하여 실시예 1에 관한 열선 차폐 미립자인 복합 텅스텐 산화물 미립자(이하, 「분말 A」라고 약칭함)을 얻었다.
분말(A)를 X선 회절법으로 측정한 결과를 도 1에 나타낸다. 얻어진 X선 회절 프로파일로부터, 분말(A)는 육방정 단상인 것이 판명되었다. 따라서, Rb성분, Cs성분, 텅스텐 성분은 육방정 복합 텅스텐 산화물 미립자의 결정 중에 완전하게 고용(固溶) 하고 있다고 판단되었다.
분말(A) 20질량%, 관능기로서 아민을 함유하는 기를 가지는 아크릴계 고분자 분산제(아민값 48mgKOH/g, 분해 온도 250℃의 아크릴계 분산제)(이하, 「분산제(a)」라고 약칭함) 10질량%, 메틸이소부틸케톤 70질량%를 칭량했다. 이들을 0.3mmφZrO2 비즈를 넣은 페인트 쉐이커에 장전하고 15시간 분쇄·분산처리하여 열선 차폐 미립자 분산액(이하, 「분산액(A)」라고 약칭함)을 얻었다. 여기서, 분산액(A) 내에 있어서의 열선 차폐 미립자의 평균 분산 입자 지름을 측정한바 26nm였다.
분산액(A)를 적절한 MIBK로 희석하고 10mm 두께의 직사각형 용기에 넣어 분광 투과율을 측정했다. 가시광선 투과율이 85%가 되도록 희석율을 조정하고 측정했을 때의, 분산액(A)의 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 37.1%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 8.2%, 파장 2100nm의 투과율은 15.2%인 것이 판명되었다.
상기 측정 결과로부터 실시예 1에 관한 복합 텅스텐 산화물 미립자는 후술하는 비교예 1에 관한 종래 방법으로 제작한 세슘 텅스텐 브론즈에 비해, 가시광선 투과 밴드가 분명하게 넓어지고 있어 파장 2100nm의 열선 차폐 성능이 향상하고 있다는 것이 확인되었다.
분산액(A)의 측정 결과를 표 1에 기재했다.
분산액(A)에, 다시 분산제(a)를 첨가하고 분산제(a)와 복합 텅스텐 산화물 미립자와의 질량비가［분산제(a)/복합 텅스텐 산화물 미립자］=3이 되도록 조제했다. 이어서, 스프레이 드라이어를 사용하여 이 복합 텅스텐 산화물 미립자 분산액 (A)로부터 메틸이소부틸케톤을 제거하고, 복합 텅스텐 산화물 미립자 분산분(이하, 분산분(A)로 약칭함)를 얻었다.
열가소성 수지인 폴리카보네이트 수지에 대해서, 제조되는 열선 차폐 시트(2.0mm 두께)의 가시광선 투과율이 70%가 되도록 소정량의 분산분(A)를 첨가하여 열선 차폐 시트의 제조용 조성물을 조제했다.
이 열선 차폐 시트의 제조용 조성물을 2축 압출기를 사용하여 280℃에서 혼련하고, T다이로 압출하여, 캘린더 롤법에 의해 2.0mm 두께의 시트재로 하고, 실시예 1에 관한 열선 차폐 시트(이하, 시트(A)로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(A)의 가시광선 투과율은 70%였다.
시트(A)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 19.6%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 1.8%, 파장 2100nm의 투과율은 2.5%, 헤이즈는 1.0%로 측정되었다. 시트(A)의 평가 결과를 표 2에 기재했다.
［실시예 2］
(Rb/K/W(몰비)=0.10/0.23/1.00이 되는 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 열선 차폐 시트)
텅스텐산(H2WO4)과, 수산화 루비듐(RbOH) 및 수산화 칼륨(KOH)의 각 분말을 Rb/K/W(몰비)=0.10/0.23/1.00 상당이 되는 비율로 칭량한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하고, 실시예 2에 관한 열선 차폐 미립자인 복합 텅스텐 산화물 미립자(이하, 「분말(B)」라고 약칭함)를 얻었다.
분말(B)를 X선 회절법으로 측정한 결과를 도 2에 나타낸다. 얻어진 X선 회절 프로파일로부터, 분말(B)는 순수한 육방정 단상인 것이 판명되었다. 따라서, Rb성분, K성분, 텅스텐 성분은 육방정 복합 텅스텐 산화물 미립자의 결정 중에 완전하게 고용하고 있다고 판단되었다.
분말(B) 20질량%, 분산제(a) 10질량%, MIBK 70질량%를 칭량했다. 이들을 0.3mmφZrO2 비즈를 넣은 페인트 쉐이커에 장전하고, 12시간 분쇄·분산처리하여 열선 차폐 미립자 분산액(이하, 「분산액(B)」라고 약칭함)을 얻었다. 여기서, 분산액(B) 내에 있어서의 열선 차폐 미립자의 평균 분산 입자 지름을 측정한바 21nm였다.
분산액(B)를 적절한 MIBK로 희석하여 10mm두께의 직사각형 용기에 넣어 분광 투과율을 측정했다. 가시광선 투과율이 85%가 되도록 희석율을 조정하여 측정했을 때의, 분산액(B)의 투과율 프로파일로부터 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 58.3%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 19.4%, 파장 2100nm의 투과율은 16.2%인 것이 판명되었다.
분산액(B)의 측정 결과를 표 1에 기재했다.
분산액(B)에 다시 분산제(a)를 첨가한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하고, 복합 텅스텐 산화물 미립자 분산분(이하, 분산분(B)로 약칭함)를 얻었다.
분산분(B)를 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하고, 실시예 2에 관한 열선 차폐 시트(이하, 시트(B)로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(B)의 가시광선 투과율은 70%였다.
시트(B)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 39.2%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 7.0%, 파장 2100nm의 투과율은 2.7%, 헤이즈는 1.2%로 측정되었다. 시트(B)의 평가 결과를 표 2에 기재했다.
［실시예 3］
(Rb/K/W(몰비)=0.20/0.13/1.00이 되는 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 열선 차폐 시트)
텅스텐산(H2WO4)과, 수산화 루비듐(RbOH), 수산화 칼륨(KOH)의 각 분말을 Rb/K/W(몰비)=0.20/0.13/1.00 상당이 되는 비율로 칭량한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2에 관한 열선 차폐 미립자인 복합 텅스텐 산화물 미립자(이하, 「분말(C)」라고 약칭함)를 얻었다.
분말(C)를 X선 회절법으로 측정한 결과를 도 3에 나타낸다. 얻어진 X선 회절 프로파일로부터 분말(C)를 육방정 단상인 것이 판명되었다. 따라서, Rb성분, K성분, 텅스텐 성분은 육방정 복합 텅스텐 산화물 미립자의 결정 중에 완전하게 고용하고 있다고 판단되었다.
분말(C) 20질량%, 분산제(a) 10질량%, MIBK 70질량%를 칭량했다. 이들을 0.3mmφZrO2 비즈를 넣은 페인트 쉐이커에 장전하여 12시간 분쇄·분산처리를 하고 열선 차폐 미립자 분산액(이하, 「분산액(C)」라고 약칭함)을 얻었다. 여기서, 분산액(C) 내에 있어서의 열선 차폐 미립자의 평균 분산 입자 지름을 측정한바 18nm였다.
분산액(C)를 적절한 MIBK로 희석하여 10mm두께의 직사각형 용기에 넣어 분광 투과율을 측정했다. 가시광선 투과율이 85%가 되도록 희석율을 조정하여 측정했을 때의 분산액(C)의 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 53.3%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 13.2%, 파장 2100nm의 투과율은 11.5%인 것이 판명되었다.
분산액(C)의 측정 결과를 표 1에 기재했다.
분산액(C)에, 다시 분산제(a)를 첨가하여, 분산제(a)와 복합 텅스텐 산화물 미립자와의 질량비가［분산제(a)/복합 텅스텐 산화물 미립자］=3이 되도록 조제했다. 이어서, 교반형 진공 건조기(츠키시마 제조 유니버설 믹서)를 사용하고, 감압 조작도 가한 가열 증류를 80℃에서 2시간 실시하여 메틸이소부틸케톤을 제거하고, 복합 텅스텐 산화물 미립자 분산분(이하, 분산분(C)로 약칭함)을 얻었다.
분산분(C)를 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 3에 관한 열선 차폐 시트(이하, 시트(C)로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(C)의 가시광선 투과율은 70%였다.
시트(C)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 34.2%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 3.9%, 파장 2100nm의 투과율은 1.6%, 헤이즈는 1.1%로 측정되었다.
시트(C)의 평가 결과를 표 2에 기재했다.
［실시예 4］
(Cs/K/W(몰비)=0.05/0.28/1.00이 되는 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 열선 차폐 시트)
텅스텐산(H2WO4)과, 수산화 세슘(CsOH) 및 수산화 칼륨(KOH)의 각 분말을 Cs/K/W(몰비)=0.05/0.28/1.00 상당이 되는 비율로 칭량한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 4에 관한 열선 차폐 미립자인 복합 텅스텐 산화물 미립자(이하, 「분말(D)」라고 약칭함)을 얻었다.
분말(D)를 X선 회절법으로 측정한 결과를 도 4에 나타낸다. 얻어진 X선 회절 프로파일로부터, 분말(D)는 육방정 단상인 것이 판명되었다. 따라서, Cs성분, K성분, 텅스텐 성분은 육방정 복합 텅스텐 산화물 미립자의 결정 중에 완전하게 고용 하고 있다고 판단되었다.
분말(D) 20질량%, 분산제(a) 10질량%, MIBK 70질량%를 칭량했다. 이들을 0.3mmφ ZrO2 비즈를 넣은 페인트 쉐이커에 장전하여 12시간 분쇄·분산 처리하여 열선 차폐 미립자 분산액(이하, 「분산액(D)」라고 약칭함)을 얻었다. 여기서, 분산액(D) 내에 있어서의 열선 차폐 미립자의 평균 분산 입자 지름을 측정한바 23nm였다.
분산액(D)를 적절한 MIBK로 희석하여 10mm두께의 직사각형 용기에 넣어 분광 투과율을 측정했다. 가시광선 투과율이 85%가 되도록 희석율을 조정하여 측정했을 때의 분산액(D)의 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 57.7%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 15.7%, 파장 2100nm의 투과율은 13.3%인 것이 판명되었다.
분산액(D)의 측정 결과를 표 1에 기재했다.
분산액(D)에 다시 분산제(a)를 첨가한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 복합 텅스텐 산화물 미립자 분산분(이하, 분산분(D)로 약칭함)을 얻었다.
분산분(D)를 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 4에 관한 열선 차폐 시트(이하, 시트(D)로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(D)의 가시광선 투과율은 70%였다. 시트(D)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 38.6%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 5.0%, 파장 2100m의 투과율은 2.0%, 헤이즈는 1.0%로 측정되었다.
시트(D)의 평가 결과를 표 2에 기재했다.
［실시예 5］
(Cs/K/W(몰비)=0.10/0.23/1.00이 되는 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 열선 차폐 시트)
텅스텐산(H2WO4)과, 수산화 세슘(CsOH) 및 수산화 칼륨(KOH)과의 각 분말을 Cs/K/W(몰비)=0.10/0.23/1.00 상당이 되는 비율로 칭량한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 5에 관한 열선 차폐 미립자인 복합 텅스텐 산화물 미립자(이하, 「분말(E)」라고 약칭함)를 얻었다.
분말(E)를 X선 회절법으로 측정한 결과를 도 5에 나타낸다. 얻어진 X선 회절 프로파일로부터, 분말(E)는 육방정 단상인 것이 판명되었다. 따라서, Cs성분, K성분, 텅스텐 성분은 육방정복합 텅스텐 산화물 미립자의 결정 중에 완전하게 고용하고 있다고 판단되었다.
분말(E) 20질량%, 분산제(a) 10질량%, MIBK 70질량%를 칭량했다. 이들을 0.3mmφ ZrO2 비즈를 넣은 페인트 쉐이커에 장전하여 12시간 분쇄·분산처리하여 열선 차폐 미립자 분산액(이하, 「분산액(E)」라고 약칭함)을 얻었다. 여기서, 분산액(E) 내에 있어서의 열선 차폐 미립자의 평균 분산 입자 지름을 측정한바 24nm였다.
분산액(E)를 적절한 MIBK로 희석하여 10mm두께의 직사각형 용기에 넣어 분광 투과율을 측정했다. 가시광선 투과율이 85%가 되도록 희석율을 조정하여 측정했을 때의, 분산액(E)의 투과율 프로파일로부터, 파장800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 50.7%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 10.9%, 파장 2100nm의 투과율은 10.7%인 것이 판명되었다.
분산액(E)의 측정 결과를 표 1에 기재했다.
분산액(E)에 다시 분산제(a)를 첨가한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 복합 텅스텐 산화물 미립자 분산분(이하, 분산분(E)로 약칭함)을 얻었다.
분산분(E)를 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 5에 관한 열선 차폐 시트(이하, 시트(E)로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(E)의 가시광선 투과율은 70%였다.
시트(E)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 31.7%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 2.9%, 파장 2100nm의 투과율은 1.4%, 헤이즈는 1.0%로 측정되었다. 시트(E)의 평가 결과를 표 2에 기재했다.
［실시예 6］
(Cs/K/W(몰비)=0.20/0.13/1.00이 되는 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 열선 차폐 시트)
텅스텐산(H2WO4)과, 수산화 세슘(CsOH) 및 수산화 칼륨(KOH)과의 각 분말을 Cs/K/W(몰비)=0.20/0.13/1.00 상당이 되는 비율로 칭량한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 6에 관한 열선 차폐 미립자인 복합 텅스텐 산화물 미립자(이하, 「분말(F)」라고 약칭함)를 얻었다.
분말(F)를 X선 회절법으로 측정한 결과를 도 6에 나타낸다. 얻어진 X선 회절 프로파일로부터 분말(F)는 육방정 단상인 것이 판명되었다. 따라서, Cs성분, K성분, 텅스텐 성분은 육방정 복합 텅스텐 산화물 미립자의 결정 중에 완전하게 고용 하고 있다고 판단되었다.
분말(F) 20질량%, 분산제(a) 10질량%, MIBK 70질량%를 칭량했다. 이들을 0.3mmφ ZrO2 비즈를 넣은 페인트 쉐이커에 장전 해, 12시간 분쇄·분산처리하여, 열선 차폐 미립자 분산액(이하, 「분산액(F)」라고 약칭함)을 얻었다. 여기서, 분산액(F) 내에 있어서의 열선 차폐 미립자의 평균 분산 입자 지름을 측정한바 28nm였다.
분산액(F)를 적절한 MIBK로 희석하여 10mm 두께의 직사각형 용기에 넣어 분광 투과율을 측정했다. 가시광선 투과율이 85%가 되도록 희석율을 조정하여 측정했을 때의 분산액(F)의 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 42.5%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 8.0%, 파장 2100nm의 투과율은 10.7%인 것이 판명되었다.
분산액(F)의 측정 결과를 표 1에 기재했다.
분산액(F)에 다시 분산제(a)를 첨가한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 복합 텅스텐 산화물 미립자 분산분(이하, 분산분(F)로 약칭함)을 얻었다.
분산분(F)를 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 6에 관한 열선 차폐 시트(이하, 시트(F)로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(F)의 가시광선 투과율은 70%였다.
시트(E)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 24.2%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 1.8%, 파장 2100nm의 투과율은 1.4%, 헤이즈는 1.1%로 측정되었다. 시트(F)의 평가 결과를 표 2에 기재했다.
［실시예 7］
(Cs/K/W(몰비)=0.25/0.08/1.00이 되는 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 열선 차폐 시트)
텅스텐산(H2WO4)과, 수산화 세슘(CsOH) 및 수산화 칼륨(KOH)과의 각 분말을 Cs/K/W(몰비)=0.25/0.08/1.00 상당이 되는 비율로 칭량한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 7에 관한 열선 차폐 미립자인 복합 텅스텐 산화물 미립자(이하, 「분말(G)」라고 약칭함)를 얻었다.
분말(G)를 X선 회절법으로 측정한 결과를 도 7에 나타낸다. 얻어진 X선 회절 프로파일로부터, 분말(G)는 육방정 단상인 것이 판명되었다. 따라서, Cs성분, K성분, 텅스텐 성분은 육방정복합 텅스텐 산화물 미립자의 결정 중에 완전하게 고용 하고 있다고 판단되었다.
분말(G) 20질량%, 분산제(a) 10질량%, MIBK 70질량%를 칭량했다. 이들을 0.3mmφ ZrO2 비즈를 넣은 페인트 쉐이커에 장전하여 12시간 분쇄·분산처리하여, 열선 차폐 미립자 분산액(이하, 「분산액G」라고 약칭함)을 얻었다. 여기서, 분산액(G) 내에 있어서의 열선 차폐 미립자의 평균 분산 입자 지름을 측정한바 20nm였다.
분산액(G)를 적절히 MIBK로 희석하여 10mm 두께의 직사각형 용기에 넣어 분광 투과율을 측정했다. 가시광선 투과율이 85%가 되도록 희석율을 조정하여 측정했을 때의 분산액(G)의 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 34.6%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 7.0%, 파장 2100nm의 투과율은 14.1%인 것이 판명되었다.
분산액(G)의 측정 결과를 표 1에 기재했다.
분산액(G)에 다시 분산제(a)를 첨가한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 복합 텅스텐 산화물 미립자 분산분(이하, 분산분(G)로 약칭함)를 얻었다.
분산분(G)를 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 7에 관한 열선 차폐 시트(이하, 시트(G)로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(G)의 가시광선 투과율은 70%였다.
시트(E)의 광학 특성을 측정한 바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 17.6%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 1.5%, 파장 2100nm의 투과율은 2.2%, 헤이즈는 1.2%로 측정되었다. 시트(G)의 평가 결과를 표 2에 기재했다.
［비교예 1］
(Cs/W(몰비)=0.33/1.00이 되는 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 열선 차폐 시트)
텅스텐산(H2WO4)과, 수산화 세슘(CsOH)과의 각 분말을 Cs/W(몰비)=0.33/1.00 상당이 되는 비율로 칭량한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 1에 관한 열선 차폐 미립자인 복합 텅스텐 산화물 미립자(이하, 「분말 H」라고 약칭함)를 얻었다.
분말(H)를 X선 회절법으로 측정한 결과를 도 8에 나타낸다. 얻어진 X선 회절 프로파일로부터, 분말(H)는 육방정 단상인 것이 판명되었다. 따라서, Cs성분, 텅스텐 성분은 육방정복합 텅스텐 산화물 미립자의 결정 중에 완전하게 고용하고 있다고 판단되었다.
분말(H) 20질량%, 분산제(a) 10질량%, MIBK 70질량%를 칭량했다. 이들을 0.3mmφ ZrO2 비즈를 넣은 페인트 쉐이커에 장전하여 12시간 분쇄·분산처리하여 열선 차폐 미립자 분산액(이하, 「분산액H」라고 약칭한다)을 얻었다. 여기서, 분산액(H) 내에 있어서의 열선 차폐 미립자의 평균 분산 입자 지름을 측정한바 29nm였다.
분산액(H)를 적절한 MIBK로 희석하여 10mm 두께의 직사각형 용기에 넣어 분광 투과율을 측정했다. 가시광선 투과율이 85%가 되도록 희석율을 조정하여 측정했을 때의 투과율 프로파일로부터 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 21.7%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 10.9%, 파장 2100nm의 투과율은 22.3%가 되었다. 분산액(H)의 측정 결과를 표 1에 기재했다.
분산액(H)에 다시 분산제(a)를 첨가한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 복합 텅스텐 산화물 미립자 분산분(이하, 분산분(H)로 약칭함)을 얻었다.
분산분(H)를 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 1에 관한 열선 차폐 시트(이하, 시트 H로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(H)의 가시광선 투과율은 70%였다.
시트(H)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은8.5%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 2.8%, 파장 2100nm의 투과율은 4.5%, 헤이즈는 1.0%로 측정되었다. 시트(H)의 평가 결과를 표 2에 기재했다.
［실시예 8］
(열선 차폐 마스터 배치를 사용하여 제작한 열선 차폐 시트)
실시예 1에서 제작한 분산분(A)와 폴리카보네이트 수지 펠릿을 복합 텅스텐 산화물 미립자의 농도가 2.0질량%가 되도록 혼합하고, 블라인더를 사용하여 균일하게 혼합하여 혼합물로 했다. 상기 혼합물을 2축 압출기를 사용하여 290℃에서 용융 혼련하고, 압출된 스트랜드를 펠릿 형태로 커트하여 열선 차폐 투명 수지 성형체용 실시예 8에 관한 마스터 배치(이하, 마스터 배치(A)로 약칭함)를 얻었다.
폴리카보네이트 수지 펠릿에 소정량의 마스터 배치(A)를 소정량 첨가하여 실시예 8에 관한 열선 차폐 시트의 제조용 조성물을 조제했다. 또한, 상기 소정량이란 제조되는 열선 차폐 시트(2.0mm 두께)의 가시광선 투과율이 70%가 되는 양이다.
상기 실시예 8에 관한 열선 차폐 시트의 제조용 조성물을 2축 압출기를 사용하여 280℃에서 혼련하고, T다이에서 압출하여 캘린더 롤법에 의해 2.0mm두께의 시트재로서 실시예 8에 관한 열선 차폐 시트(이하, 시트(I)로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(I)의 가시광선 투과율은 70%였다.
시트(I)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 19.6%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 1.8%, 파장 2100nm의 투과율은 2.2%, 헤이즈는 1.1%로 측정되었다. 시트(I)의 평가 결과를 표 3에 기재했다.
［실시예 9］
(열선 차폐 마스터 배치를 사용하여 제작한 열선 차폐 시트)
실시예 2에서 제작한 분산분(B)을 사용한 것 이외는 실시예 8과 동일하게 하여, 실시예 9에 관한 마스터 배치(이하, 마스터 배치(B)로 약칭함)를 얻었다.
마스터 배치(B)를 사용한 것 이외는 실시예 8과 동일하게 하여 실시예 9에 관한 열선 차폐 시트(이하, 시트(J)로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(J)의 가시광선 투과율은 70%였다.
시트(J)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 39.3%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은7.0%, 파장 2100nm의 투과율은 2.4%, 헤이즈는 1.1%과 측정되었다. 시트(J)의 평가 결과를 표 3에 기재했다.
［실시예 10］
(열선 차폐 마스터 배치를 사용하여 제작한 열선 차폐 시트)
실시예 3으로 제작한 분산분(C)를 사용한 것 이외는 실시예 8과 동일하게 하여 실시예 10에 관한 마스터 배치(이하, 마스터 배치(C)로 약칭함)를 얻었다.
마스터 배치(C)를 사용한 것 이외는 실시예 8과 동일하게 하여 실시예 10에 관한 열선 차폐 시트(이하, 시트(K)로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(K)의 가시광선 투과율은 70%였다.
시트(K)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 34.3%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 3.9%, 파장 2100nm의 투과율은 1.4%, 헤이즈는 1.2%로 측정되었다. 시트(K)의 평가 결과를 표 3에 기재했다.
［실시예 11］
(열선 차폐 마스터 배치를 사용하여 제작한 열선 차폐 시트)
실시예 4에서 제작한 분산분(D)를 사용한 것 이외는 실시예 8과 동일하게 하여 실시예 11에 관한 마스터 배치(이하, 마스터 배치(D)로 약칭함)를 얻었다.
마스터 배치(D)를 사용한 것 이외는 실시예 8과 동일하게 하여, 실시예 11에 관한 열선 차폐 시트(이하, 시트(L)로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(L)의 가시광선 투과율은 70%였다.
시트(L)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 38.6%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 5.0%, 파장 2100nm의 투과율은 1.7%, 헤이즈는 1.0%로 측정되었다. 시트(L)의 평가 결과를 표 3에 기재했다.
［실시예 12］
(열선 차폐 마스터 배치를 사용하여 제작한 열선 차폐 시트)
실시예 5에서 제작한 분산분(E)를 사용한 것 이외는 실시예 8과 동일하게 하여 실시예 12에 관한 마스터 배치(이하, 마스터 배치(E)로 약칭함)를 얻었다.
마스터 배치(E)를 사용한 것 이외는 실시예 8과 동일하게 하여 실시예 12에 관한 열선 차폐 시트(이하, 시트(M)으로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(M)의 가시광선 투과율은 70%였다.
시트(M)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 31.7%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 2.9%, 파장 2100nm의 투과율은 1.3%, 헤이즈는 1.2%로 측정되었다. 시트(M)의 평가 결과를 표 3에 기재했다.
［실시예 13］
(열선 차폐 마스터 배치를 사용하여 제작한 열선 차폐 시트)
실시예 6에서 제작한 분산분(F)를 사용한 것 이외는 실시예 8과 동일하게 하여 실시예 13에 관한 마스터 배치(이하, 마스터 배치(F)로 약칭함)를 얻었다.
마스터 배치(F)를 사용한 것 이외는 실시예 8과 동일하게 하여 실시예 13에관한 열선 차폐 시트(이하, 시트(N)으로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(N)의 가시광선 투과율은 70%였다.
시트(N)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 24.2%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 1.8%, 파장 2100nm의 투과율은 1.3%, 헤이즈는 1.1%로 측정되었다. 시트(N)의 평가 결과를 표 3에 기재했다.
［실시예 14］
(열선 차폐 마스터 배치를 사용하여 제작한 열선 차폐 시트)
실시예 7에서 제작한 분산분(G)를 사용한 것 이외는 실시예 8과 동일하게 하여 실시예 14에 관한 마스터 배치(이하, 마스터 배치(G)로 약칭함)를 얻었다.
마스터 배치(G)를 사용한 것 이외는 실시예 8과 동일하게 하여 실시예 13에 관한 열선 차폐 시트(이하, 시트(P)로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(P)의 가시광선 투과율은 70%였다.
시트(P)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 17.7%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 1.5%, 파장 2100nm의 투과율은 1.9%, 헤이즈는 1.1%로 측정되었다. 시트(P)의 평가 결과를 표 3에 기재했다.
［비교예 2］
(열선 차폐 마스터 배치를 사용하여 제작한 열선 차폐 시트)
비교예 1에서 제작한 분산분(H)를 사용한 것 이외는 실시예 8과 동일하게 하여 비교예 2에 관한 마스터 배치(이하, 마스터 배치(H)로 약칭함)를 얻었다.
마스터 배치(H)를 사용한 것 이외는 실시예 8과 동일하게 하여 비교예 2에 관한 열선 차폐 시트(이하, 시트(R)로 약칭함)를 얻었다.
상술한 시트(R)의 가시광선 투과율은 70%였다.
시트(H)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 8.6%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 2.9%, 파장 2100nm의 투과율은 3.9%, 헤이즈는 1.0%로 측정되었다. 시트(R)의 평가 결과를 표 3에 기재했다.
［실시예 15］
(열선 차폐 필름 및 열선 차폐 적층 투명 기재)
폴리비닐부티랄 수지에 가소제의 트리에틸렌글리콜디-2－에틸부틸레이트를 첨가하고, 폴리비닐부티랄 수지와 가소제와의 중량비가［폴리비닐부티랄 수지/가소제］=100/40이 되도록 조제한 혼합물을 제작했다. 이 혼합물에 실시예 1에서 제작한 만큼 분산분(A)를 소정량 첨가하여 열선 차폐 필름의 제조용 조성물을 조제했다. 또한, 상기 소정량이란 제조되는 열선 차폐 적층 투명 기재의 가시광선 투과율이 70%가 되는 양이다.
이 제조용 조성물을 3개 롤의 믹서를 사용하여 70℃에서 30분 반죽하여 혼합하여 혼합물로 했다. 상기 혼합물을 형태 압출기로 180℃로 승온하여 두께 1mm 정도로 필름화하여 롤에 권취하는 것으로, 실시예 15에 관한 열선 차폐 필름을 제작했다.
이 실시예 15에 관한 열선 차폐 필름을 10cm×10cm로 재단하고, 동일 치수를 갖는 두께 3mm의 무기 클리어 유리판 2매의 사이에 끼워 적층체로 했다. 이어서, 이 적층체를 고무제의 진공봉투에 넣어 봉투 내를 탈기하여 90℃에서 30분 유지한 후, 상온까지 되돌려 봉투에서 꺼냈다. 그리고, 상기 적층체를 오토클레이브 장치에 넣어 압력 12kg/c㎡, 온도 140℃에서 20분 가압 가열하여 실시예 7에 관한 열선 차폐 적층 유리 시트(이하, 적층 유리 시트(A)로 약칭함)를 제작했다.
적층 유리 시트(A)의 가시광선 투과율은 70.0%였다.
적층 유리 시트(A)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 17.8%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 1.9%, 파장 2100nm의 투과율은 4.2%, 헤이즈는 1.6%로 측정되었다. 적층 유리 시트(A)의 평가 결과를 표 4에 기재했다.
［실시예 16］
(열선 차폐 필름 및 열선 차폐 적층 투명 기재)
분산분(B)을 사용한 것 이외는, 실시예 15와 동일하게 하여 실시예 16에 관한 열선 차폐 적층 유리 시트(이하, 적층 유리 시트(B)로 약칭함)를 제작했다.
적층 유리 시트(B)의 가시광선 투과율은 70.0%였다. 적층 유리 시트(B)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 34.2%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 6.6%, 파장 2100nm의 투과율은 4.6%, 헤이즈는 1.2%로 측정되었다. 적층 유리 시트(B)의 평가 결과를 표 4에 기재했다.
［실시예 17］
(열선 차폐 필름 및 열선 차폐 적층 투명 기재)
분산분(C)를 사용한 것 이외는 실시예 15와 동일하게 하여 실시예 17에 관한 열선 차폐 적층 유리 시트(이하, 적층 유리 시트(C)로 약칭함)를 제작했다.
적층 유리 시트(C)의 가시광선 투과율은 70.0%였다. 적층 유리 시트(C)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 30.1%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 3.8%, 파장 2100nm의 투과율은 2.8%, 헤이즈는 1.5%로 측정되었다. 적층 유리 시트(C)의 평가 결과를 표 4에 기재했다.
［실시예 18］
(열선 차폐 필름 및 열선 차폐 적층 투명 기재)
분산분(D)을 사용한 것 이외는, 실시예 15와 동일하게 하여 실시예 18에 관한 열선 차폐 적층 유리 시트(이하, 적층 유리 시트(D)로 약칭함)를 제작했다.
적층 유리 시트(D)의 가시광선 투과율은 70.0%였다.
적층 유리 시트(D)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 33.6%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 4.9%, 파장 2100nm의 투과율은 3.4%, 헤이즈는 1.4%로 측정되었다. 적층 유리 시트(D)의 평가 결과를 표 4에 기재했다.
［실시예 19］
(열선 차폐 필름 및 열선 차폐 적층 투명 기재)
분산분(E)를 사용한 것 이외는, 실시예 15와 동일하게 하여 실시예 19에 관한 열선 차폐 적층 유리 시트(이하, 적층 유리 시트(E)로 약칭함)를 제작했다.
적층 유리 시트(E)의 가시광선 투과율은 70.0%였다. 적층 유리 시트(E)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 28.0%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 2.9%, 파장 2100nm의 투과율은 2.5%, 헤이즈는 1.6%로 측정되었다. 적층 유리 시트(E)의 평가 결과를 표 4에 기재했다.
［실시예 20］
(열선 차폐 필름 및 열선 차폐 적층 투명 기재)
분산분(F)를 사용한 것 이외는 실시예 15와 동일하게 하여 실시예 20에 관한열선 차폐 적층 유리 시트(이하, 적층 유리 시트(F)로 약칭함)를 제작했다.
적층 유리 시트(F)의 가시광선 투과율은 70.0%였다. 적층 유리 시트(F)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 21.7%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 1.8%, 파장 2100nm의 투과율은 2.5%, 헤이즈는 1.6%로 측정되었다. 적층 유리 시트(F)의 평가 결과를 표 4에 기재했다.
［실시예 21］
(열선 차폐 필름 및 열선 차폐 적층 투명 기재)
분산분(G)를 사용한 것 이외는 실시예 15와 동일하게 하여 실시예 21에 관한 열선 차폐 적층 유리 시트(이하, 적층 유리 시트(G)로 약칭함)를 제작했다.
적층 유리 시트(G)의 가시광선 투과율은 70.0%였다.
적층 유리 시트(G)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 16.1%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은1.5%, 파장 2100nm의 투과율은 3.8%, 헤이즈는 1.4%로 측정되었다. 적층 유리 시트(G)의 평가 결과를 표 4에 기재했다.
［비교예 3］
(열선 차폐 필름 및 열선 차폐 적층 투명 기재)
분산분(H)를 사용한 것 이외는 실시예 15와 동일하게 하여 비교예 3에 관한 열선 차폐 적층 유리 시트(이하, 적층 유리 시트(H)로 약칭함)를 제작했다.
적층 유리 시트(H)의 가시광선 투과율은 70.0%였다.
적층 유리 시트(H)의 광학 특성을 측정한바, 투과율 프로파일로부터, 파장 800∼900nm에 있어서의 투과율의 평균값은 8.1%, 파장 1200∼1500nm에 있어서의 투과율의 평균값은 2.9%, 파장 2100nm의 투과율은 7.3%, 헤이즈는 1.8%로 측정되었다. 적층 유리 시트(H)의 평가 결과를 표 4에 기재했다.
［실시예 1∼21 및 비교예 1∼3의 평가］
실시예 1∼14에 관한 열선 차폐 시트 실시예 15∼21에 관한 열선 차폐 적층 유리 시트에서는, 종래의 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 비교예 1, 2에 관한 열선 차폐 시트, 비교예 3에 관한 열선 차폐 적층 유리 시트와 비교하여 가시광선 투과율이 85%일 때, 파장 800∼900nm의 근적외광의 투과율의 평균값이 높고, 파장 1200∼1800nm, 파장 2100nm의 투과율이 낮다. 이 결과로부터, Cs, K, Tl 중에서 선택되는 1종류 이상의 원소 M와 Rb, Tl 중으로부터 선택되는 1종류 이상의 원소 N(단, 원소 M과 원소 N은 다름)을 포함하며, 육방정계의 결정 구조를 포함한 복합 텅스텐 산화물 미립자를 사용한 열선 차폐 미립자 분산체는 높은 차열특성을 담보하고, 피부로의 쨍쨍한 감을 저감하면서, 파장 800∼900nm의 근적외광으로 높은 투과율을 얻을 수 있는 것이 판명되었다.
Figure 112019003790328-pct00001
Figure 112019003790328-pct00002
Figure 112019003790328-pct00003
Figure 112019003790328-pct00004

Claims (12)

  1. 열선 차폐 미립자가 투명한 열가소성 수지 중에 분산된 열선 차폐 미립자 분산체이며, 상기 열선 차폐 미립자는:
    원소 L 및 M과, 텅스텐과 산소를 가지며, 일반식 (LAMB)WCOD로 표기되며, 육방정계의 결정 구조를 가지며,
    상기 원소 L은 Rb이며,
    상기 원소 M은 K 또는 Cs이며,
    상기 일반식 (LAMB)WCOD에서 0.25≤(A＋B)/C≤0.35이고, D는 상기 열선 차폐 미립자가 육방정이 될 수 있는 값인 것을 특징으로 하는 열선 차폐 미립자 분산체.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 열선 차폐 미립자만에 의한 광흡수를 산출하고, 그 가시광선 투과율을 85%로 했을 때에, 파장 800∼900nm의 범위에 있어서의 투과율의 평균값이 30% 이상 60% 이하이며, 또한 파장 1200∼1500nm의 범위에 있어서의 투과율의 평균값이 20%이하이며, 또한, 파장 2100nm에 있어서의 투과율이 22% 이하인 열선 차폐 미립자를 포함하는 것을 특징으로 하는 열선 차폐 미립자 분산체.
  3. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 투명한 열가소성 수지가, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지, 폴리카보네이트 수지, 아크릴 수지, 스티렌 수지, 폴리아미드 수지, 폴리에틸렌 수지, 염화 비닐 수지, 올레핀 수지, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지, 불소 수지, 에틸렌·초산비닐 공중합체, 폴리비닐아세탈 수지라는 수지군으로부터 선택되는 1종 수지,
    또는 상기 수지군으로부터 선택되는 2종 이상의 수지의 혼합물,
    또는 상기 수지군으로부터 선택되는 2종 이상의 수지의 공중합체 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 열선 차폐 미립자 분산체.
  4. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 열선 차폐 미립자를, 0.5질량% 이상 80.0질량% 이하 포함하는 것을 특징으로 하는 열선 차폐 미립자 분산체.
  5. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 열선 차폐 미립자 분산체가, 시트 형상, 보드 형상 또는 필름 형상인 것을 특징으로 하는 열선 차폐 미립자 분산체.
  6. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 열선 차폐 미립자 분산체에 포함되는 단위 투영 면적당 상기 열선 차폐 미립자의 함유량은 0.1g/㎡ 이상 5.0g/㎡ 이하인 것을 특징으로 하는 열선 차폐 미립자 분산체.
  7. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    가시광선 투과율이 70%일 때에, 파장 800∼900nm의 범위에 있어서의 투과율의 평균값이 10% 이상 45% 이하이며, 또한, 파장 1200∼1500nm의 범위에 존재하는 투과율의 평균값이 8% 이하이며, 한편, 파장 2100nm의 투과율이 5% 이하인 것을 특징으로 하는 열선 차폐 미립자 분산체.
  8. 복수 매의 투명 기재 간에, 청구항 1 또는 2에 기재된 열선 차폐 미립자 분산체가 존재하고 있는 것을 특징으로 하는 열선 차폐 적층 투명 기재.
  9. 청구항 8에 있어서,
    가시광선 투과율이 70%일 때에, 파장 800∼900nm의 범위에 있어서의 투과율의 평균값이 10% 이상 45% 이하이며, 또한, 파장 1200∼1500nm의 범위에 존재하는 투과율의 평균값이 8% 이하이며, 또한, 파장 2100nm의 투과율이 8.0% 이하인 것을 특징으로 하는 열선 차폐 적층 투명 기재.
  10. 원소 L 및 M과, 텅스텐과 산소를 가지며, 일반식 (LAMB)WCOD로 표기되며, 육방정계의 결정 구조를 가지는 열선 차폐 미립자이며,
    상기 원소 L은 Rb이며,
    상기 원소 M은 K 또는 Cs이며,
    상기 일반식 (LAMB)WCOD에서 0.25≤(A＋B)/C≤0.35이고, D는 상기 열선 차폐 미립자가 육방정이 될 수 있는 값인 열선 차폐 미립자를,
    투명한 열가소성 수지 중에 균일하게 혼합하여 열선 차폐 미립자 분산체를 얻는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 열선 차폐 미립자 분산체의 제조 방법.
  11. 청구항 10에 기재된 열선 차폐 미립자 분산체의 제조 방법에 의해 제조된 열선 차폐 미립자 분산체를 투명 기재에 끼우는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 열선 차폐 적층 투명 기재의 제조 방법.
  12. 청구항 10에 기재된 열선 차폐 미립자 분산체의 제조 방법에 의해 제조된 열선 차폐 미립자 분산체를 필름 형태 또는 보드 형태로 성형하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 열선 차폐 적층 투명 기재의 제조 방법.
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