KR102241216B1 - 광학 적층 부재 - Google Patents

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다케키 호소카와
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Abstract

본 발명은, 디스플레이의 화상 표시부에 있어서 요구되는 방현 성능 및 화상 비표시부에 있어서 요구되는 의장성의 양방을 제공하는 광학 적층 부재를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은, 투명 고분자 기재의 적어도 한쪽 면 상에, 방현 하드 코트층 및 클리어 하드 코트층이 순차적으로 적층된 광학 적층 부재로서, 방현 하드 코트층은, 방현층 형성용 코팅 조성물의 경화층으로서, 그 표면에 연속된 랜덤한 요철을 갖는 층이고, 방현 하드 코트층 표면의 십점 평균 거칠기 RzJIS가 0.1∼2μm이며, 클리어 하드 코트층은, 클리어 하드 코팅 조성물의 경화층이고, 클리어 하드 코트층은, 상기 방현 하드 코트층의 일부 상에 적층되어 있고, 방현 하드 코트층은, 두께가 1∼10μm이고, 클리어 하드 코트층은, 두께가 0.01∼10μm이고, 방현 하드 코트층은, 헤이즈값 Ha가 2∼45%이고, 또한 내부 헤이즈값 Hi가 0.01∼2%이며, 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 적층된 부분의 헤이즈값 Hm은, 0.05∼20%이고, Ha 및 Hm은 소정 수치 범위인, 광학 적층 부재를 제공한다.

Description

광학 적층 부재
본 발명은 광학 적층 부재에 관한 것이다.
디스플레이는 컴퓨터, 텔레비전, 휴대 전화, 휴대 정보 단말 기기(태블릿 퍼스컴, 모바일 기기 및 전자 수첩 등), 그리고 디지털 미터, 인스트루먼트 패널, 내비게이션, 콘솔 패널, 센터 클러스터 및 히터 컨트롤 패널 등의 차재용 표시 패널 등의 다양한 분야에서 사용되고 있다. 이들 디스플레이에 있어서는, 디스플레이 표면 상에, 표면을 조면화하는 방현(AG: Anti Glare)층이 마련되는 경우가 많다. 디스플레이 표면 상에 방현층을 마련하는 것에 의해, 방현층의 표면의 요철에 의해 외광을 난반사시켜, 디스플레이 표면에 반사된 상의 윤곽을 바림할 수 있다. 이에 의해, 디스플레이 표면 상에 있어서의 반사상의 시인성을 저하시킬 수 있고, 그리고 디스플레이 사용 시에 있어서의 반사상의 비침에 의한 화면 시인성의 장애를 해소할 수 있다.
상기와 같은 디스플레이(예를 들면 액정 디스플레이 등)는 일반적으로 화상 표시부 및 화상 비표시부를 갖는다. 예를 들면, 다른 주변 부재에 디스플레이가 짜 넣어져 있는 경우에 있어서, 디스플레이 표면 상에 방현층을 마련하는 경우는, 방현층 형성 수단에 따라서는, 화상 표시부 및 화상 비표시부의 양방에 방현층이 형성되게 된다. 한편, 예를 들면 차재용 표시 패널 등에 있어서는, 다른 차 내장 주변 부재와의 일체감을 유지하면서 고급감을 자아내는 등의 이유에 의해, 화상 비표시부는 흑색 등의 농색을 갖는 경우가 많다. 차재용 표시 패널에 있어서, 화상 비표시부인 농색부에도 방현층이 형성되는 것에 의해, 농색부의 광택감(艶感), 고급감이 저감되는 경우가 있다.
일본 특허공개 2014-41244호 공보(특허문헌 1)는, 기재 필름 상에, 크랙 신도가 5% 이상인 하드 코트층 및 굴절률이 1.47 이하인 저굴절률층을 이 순서로 갖는 것을 특징으로 하는 성형용 적층 필름에 대하여 기재하고 있다. 이 성형용 적층 필름은, 시감 반사율이 낮아, 외광의 비침이나 번쩍임감이 작고, 또한 희읍스름함이 경감되어 투과율이 높다고 기재되어 있다. 한편, 특허문헌 1의 성형용 적층 필름은, 디스플레이(예를 들면 액정 디스플레이 등)의 화상 표시부에 있어서 요구되는 방현 성능 및 화상 비표시부에 있어서 요구되는 의장성의 양방을 제공하는 것은 아니다.
일본 특허공개 2015-57655호 공보(특허문헌 2)에는, 투명 플라스틱 필름 기재의 적어도 한쪽 면에, 미립자를 함유하는 방현성 하드 코트층을 갖는 방현성 하드 코트 필름으로서, 상기 방현성 하드 코트 필름의 전체 헤이즈값 및 방현성 하드 코트층 표면의 표면 거칠기 등이 특정 범위 내에 있는 것 등을 조건으로 하는, 방현성 하드 코트 필름에 대하여 기재되어 있다. 이 방현성 하드 코트 필름은, 극히 저헤이즈이고, 또한 우수한 방현성을 가지며, 희부옇게 바램을 방지하여, 흑표시 시에 있어서의 흑의 진함이 우수하다고 기재되어 있다. 한편 이 방현성 하드 코트 필름도 또한, 특허문헌 1과 마찬가지로, 디스플레이의 화상 표시부에 있어서 요구되는 방현 성능 및 화상 비표시부에 있어서 요구되는 의장성의 양방을 제공하는 것은 아니다.
일본 특허공개 2014-41244호 공보 일본 특허공개 2015-57655호 공보
본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하는 것으로, 그 목적으로 하는 바는, 디스플레이의 화상 표시부에 있어서 요구되는 방현 성능 및 화상 비표시부에 있어서 요구되는 의장성의 양방을 제공하는 광학 적층 부재를 제공하는 것에 있다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 하기 태양을 제공한다.
[1]
투명 고분자 기재의 적어도 한쪽 면 상에, 방현 하드 코트층 및 클리어 하드 코트층이 순차적으로 적층된 광학 적층 부재로서,
상기 방현 하드 코트층은, 방현층 형성용 코팅 조성물의 경화층으로서, 그 표면에 연속된 랜덤한 요철을 갖는 층이고, 상기 방현 하드 코트층 표면의 십점 평균 거칠기 RzJIS가 0.1∼2μm이며,
상기 클리어 하드 코트층은, 클리어 하드 코팅 조성물의 경화층이고,
상기 클리어 하드 코트층은, 상기 방현 하드 코트층의 일부 상에 적층되어 있고,
상기 방현 하드 코트층은, 두께가 1∼10μm이고,
상기 클리어 하드 코트층은, 두께가 0.01∼10μm이고,
상기 방현 하드 코트층은, 헤이즈값 Ha가 2∼45%이고, 또한 내부 헤이즈값 Hi가 0.01∼2%이며,
상기 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 적층된 부분의 헤이즈값 Hm은, 0.05∼20%이고,
상기 Ha 및 Hm은, 하기 식
5 ≤ (Ha-Hm)/Ha × 100 ≤ 99
를 만족시키는,
광학 적층 부재.
[2]
상기 광학 적층 부재에 있어서,
상기 방현층 형성용 코팅 조성물은, 제 1 성분 및 제 2 성분을 포함하고,
상기 방현 하드 코트층의 표면 요철은, 상기 제 1 성분 및 제 2 성분의 상분리에서 유래하는 표면 요철인
것이 바람직하다.
[3]
상기 광학 적층 부재에 있어서,
상기 제 1 성분은, 다작용 (메트)아크릴레이트 화합물 및 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하고,
상기 제 2 성분은, 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체인
것이 바람직하다.
[4]
상기 광학 적층 부재에 있어서,
상기 제 1 성분 및 제 2 성분의 질량비는, 제 1 성분:제 2 성분=98.5:1.5∼60:40의 범위 내인
것이 바람직하다.
[5]
상기 광학 적층 부재에 있어서,
상기 방현 하드 코트층의 표면 자유 에너지는 30∼50mN/m이고,
상기 클리어 하드 코팅 조성물을 상기 방현 하드 코트층의 표면에 적하했을 때에 있어서의 액적의 접촉각이 5∼75°의 범위 내인
것이 바람직하다.
[6]
상기 광학 적층 부재에 있어서,
상기 클리어 하드 코팅 조성물은, 20℃에 있어서의 점도가 2∼2000mPa·s인
것이 바람직하다.
[7]
상기 광학 적층 부재에 있어서,
투명 고분자 기재의 한쪽 면 상에, 상기 방현 하드 코트층 및 상기 클리어 하드 코트층이 순차적으로 적층되어 있고, 또한
투명 고분자 기재의 다른 한쪽 면 상에, 가식층이 적층되어 있는
것이 바람직하다.
[8]
상기 광학 적층 부재가, 디스플레이부에 배치되는 광학 적층 부재로서,
투명 고분자 기재의 한쪽 면 상에, 상기 방현 하드 코트층 및 상기 클리어 하드 코트층이 순차적으로 적층되어 있고,
투명 고분자 기재의 다른 한쪽 면, 또는 투명 고분자 기재의 다른 한쪽 면 상에 적층된 가식층이, 디스플레이부의 표면과 대향하도록 배치되는
것이 바람직하다.
[9]
상기 광학 적층 부재는, 차재 기기 터치 패널 디스플레이용 광학 적층 부재인 것이 바람직하다.
[10]
본 발명은 또한, 광학 적층 부재의 제조 방법으로서, 하기 공정
투명 고분자 기재의 면 상에 방현층 형성용 코팅 조성물을 도포하여 경화시키는 것에 의해, 표면에 연속된 랜덤한 요철을 갖는 방현 하드 코트층을 형성하는 공정,
얻어진 방현 하드 코트층의 일부 상에, 클리어 하드 코팅 조성물을 도포하고 경화시키는 것에 의해, 방현 하드 코트층의 일부 상에 클리어 하드 코트층을 형성하는 공정
을 포함하고,
상기 방현 하드 코트층 표면의 십점 평균 거칠기 RzJIS가 0.1∼2μm이며,
상기 방현 하드 코트층은, 두께가 1∼10μm이고,
상기 클리어 하드 코트층은, 두께가 0.01∼10μm이고,
상기 방현 하드 코트층은, 헤이즈값 Ha가 2∼45%이고, 또한 내부 헤이즈값 Hi가 0.01∼2%이며,
상기 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 적층된 부분의 헤이즈값 Hm은, 0.05∼20%이고,
상기 Ha 및 Hm은, 하기 식
5 ≤ (Ha-Hm)/Ha × 100 ≤ 99
를 만족시키는,
광학 적층 부재의 제조 방법도 제공한다.
[11]
본 발명의 1 태양으로서, 상기 방현층 형성용 코팅 조성물은, 중합성 불포화기 함유 바인더 성분을 포함하고,
상기 방현 하드 코트층은, 방현층 형성용 코팅 조성물의 미경화 도포층에 대해서, 표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재를 면접촉시키고, 그 후, 주형 기재를 박리하는 것에 의해, 표면에 요철 형상이 형성된 층인, 상기 광학 적층 부재를 들 수 있다.
[12]
상기 광학 적층 부재의 1 태양에 있어서, 상기 방현 하드 코트층은, 방현층 형성용 코팅 조성물의 미경화 도포층에 대해서, 표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재를 면접촉시킨 상태로 경화시키고, 그 후, 주형 기재를 박리하는 것에 의해, 표면에 요철 형상이 형성된 층인 태양을 들 수 있다.
[13]
본 발명은 또한, 광학 적층 부재의 제조 방법으로서, 하기 공정
투명 고분자 기재의 면 상에, 중합성 불포화기 함유 바인더 성분을 포함하는 방현층 형성용 코팅 조성물을 도포하고, 얻어진 미경화 도포층에 대해서, 표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재를 면접촉시킨 상태로 경화시키고, 그 후, 주형 기재를 박리하는 것에 의해, 표면에 연속된 랜덤한 요철을 갖는 방현 하드 코트층을 형성하는 공정,
얻어진 방현 하드 코트층의 일부 상에, 클리어 하드 코팅 조성물을 도포하고 경화시키는 것에 의해, 방현 하드 코트층의 일부 상에 클리어 하드 코트층을 형성하는 공정
을 포함하고,
상기 방현 하드 코트층 표면의 십점 평균 거칠기 RzJIS가 0.1∼2μm이며,
상기 방현 하드 코트층은, 두께가 1∼10μm이고,
상기 클리어 하드 코트층은, 두께가 0.01∼10μm이고,
상기 방현 하드 코트층은, 헤이즈값 Ha가 2∼45%이고, 또한 내부 헤이즈값 Hi가 0.01∼2%이며,
상기 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 적층된 부분의 헤이즈값 Hm은, 0.05∼20%이고,
상기 Ha 및 Hm은, 하기 식
5 ≤ (Ha-Hm)/Ha × 100 ≤ 99
를 만족시키는,
광학 적층 부재의 제조 방법도 제공한다.
본 발명의 광학 적층 부재는, 디스플레이의 화상 표시부에서는 우수한 방현 성능을 제공하는 한편, 화상 비표시부에서는 방현 성능이 저감되어 있어 고급감 있는 의장을 제공할 수 있다. 본 발명의 광학 적층 부재는, 디스플레이의 화상 표시부에 있어서 요구되는 방현 성능 및 화상 비표시부에 있어서 요구되는 의장성의 양방을 제공하는 것을 특징으로 한다.
도 1은 본 발명의 광학 적층 부재의 개략 설명도이다.
도 2는 본 발명의 광학 적층 부재의 개략 설명도이다.
도 3은 본 발명의 광학 적층 부재의 개략 설명도이다.
본 발명의 광학 적층 부재는, 투명 고분자 기재의 적어도 한쪽 면 상에, 방현 하드 코트층 및 클리어 하드 코트층이 순차적으로 적층된 부재이다.
여기에서, 상기 방현 하드 코트층은, 방현층 형성용 코팅 조성물의 경화층으로서, 그 표면에 연속된 랜덤한 요철을 갖는 층이고, 상기 방현 하드 코트층 표면의 십점 평균 거칠기 RzJIS가 0.1∼2μm이며,
상기 클리어 하드 코트층은, 클리어 하드 코팅 조성물의 경화층이고,
상기 클리어 하드 코트층은, 상기 방현 하드 코트층의 일부 상에 적층되어 있고,
상기 방현 하드 코트층은, 두께가 1∼10μm이고,
상기 클리어 하드 코트층은, 두께가 0.01∼10μm이고,
상기 방현 하드 코트층은, 헤이즈값 Ha가 2∼45%이고, 또한 내부 헤이즈값 Hi가 0.01∼2%이며,
상기 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 적층된 부분의 헤이즈값 Hm은, 0.05∼20%이고,
상기 Ha 및 Hm은, 하기 식
5 ≤ (Ha-Hm)/Ha × 100 ≤ 99
를 만족시키는 것을 특징으로 한다.
한편 본 명세서의 방현 하드 코트층의 표면에 있어서의 「연속된 랜덤한 요철」이란, 방현 성능을 발휘할 정도의 크기의 연속적인 요철 형상으로서, 코팅 조성물의 도포 및 경화에 의해 형성되는 요철 형상을 의미한다. 즉 본 발명에 있어서의 방현 하드 코트층의 표면 요철은, 예를 들면 절삭 방법 등에 의해 형성되는 규칙적인 표면 형상은 의도하고 있지 않다.
도 1은 본 발명의 광학 적층 부재의 개략 설명도이다. 도 1에 개략적으로 나타나는 대로, 본 발명의 광학 적층 부재(1)는, 투명 고분자 기재(5)의 적어도 한쪽 면 상에, 방현 하드 코트층(3)이 적층된다. 그리고, 클리어 하드 코트층(7)은, 방현 하드 코트층(3)의 일부 상에 적층된다. 이하, 각 구성 등에 대하여 상술한다.
투명 고분자 기재
본 발명에 있어서의 투명 고분자 기재로서는, 예를 들면 폴리카보네이트계 필름, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트 등의 폴리에스터계 필름; 다이아세틸 셀룰로스, 트라이아세틸 셀룰로스 등의 셀룰로스계 필름; 폴리메틸 메타크릴레이트 등의 아크릴계 필름과 같은, 투명 폴리머로 이루어지는 기재를 들 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서의 투명 고분자 기재로서는, 폴리스타이렌, 아크릴로나이트릴·스타이렌 공중합체 등의 스타이렌계 필름; 폴리염화 바이닐, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 환상 내지 노보넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌·프로필렌 공중합체 등의 올레핀계 필름; 나일론, 방향족 폴리아마이드 등의 아마이드계 필름과 같은, 투명 폴리머로 이루어지는 기재도 들 수 있다.
또한 추가로, 본 발명에 있어서의 투명 고분자 기재로서는, 폴리이미드, 폴리설폰, 폴리에터설폰, 폴리에터 에터 케톤, 폴리페닐렌 설파이드, 폴리바이닐 알코올, 폴리염화 바이닐리덴, 폴리바이닐 뷰티랄, 폴리아릴레이트, 폴리옥시메틸렌, 에폭시 수지, 및 상기 폴리머의 브렌드물과 같은, 투명 폴리머로 이루어지는 기재 등도 들 수 있다.
또, 투명 고분자 기재는, 투명 폴리머로 이루어지는 복수의 기재가 적층된 것이어도 된다. 예를 들면, 아크릴계 수지로 이루어지는 필름 및 폴리카보네이트계 수지로 이루어지는 필름의 적층체 또는 시트의 적층체여도 된다.
본 발명에 있어서의 투명 고분자 기재에는, 이들 투명 고분자 기재 중, 광학적으로 복굴절이 적은 것, 혹은 위상차를 파장(예를 들면 550nm)의 1/4(λ/4) 또는 파장의 1/2(λ/2)로 제어한 것, 나아가서는 복굴절을 전혀 제어하고 있지 않는 것을, 용도에 따라서 적절히 선택할 수 있다.
투명 고분자 기재의 두께는, 광학 적층 부재의 용도 및 부재 가공 방법 등에 따라서 적절히 선택할 수 있다. 일반적으로는 강도 및 취급성 등의 작업성 등의 점에서, 10∼5000μm 정도이고, 특히 20∼3000μm가 바람직하며, 30∼3000μm가 보다 바람직하다.
방현 하드 코트층
본 발명의 광학 적층 부재는, 투명 고분자 기재의 적어도 한쪽 면 상에 방현 하드 코트층을 갖는다. 이 방현 하드 코트층은, 방현층 형성용 코팅 조성물을, 투명 고분자 기재의 적어도 한쪽 면 상에 도포하여 경화시키는 것에 의해 형성된다. 상기 방현 하드 코트층은, 그 표면에 요철을 갖는 층이다. 표면에 요철을 갖는 것에 의해, 층 표면에 있어서 배경이 반사되는 비침을 막는 성능이 발휘된다.
본 발명의 광학 적층 부재에 있어서, 방현 하드 코트층은 두께(막 두께)가 1∼10μm이다. 방현 하드 코트층의 두께가 상기 범위인 것에 의해, 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층을 마련한 부분에 있어서, 도막의 평활성이 향상되어, 방현 성능이 저감된다. 이에 의해, 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층을 마련한 부분에 있어서, 경면감 그리고 광택감 등을 효과적으로 회복할 수 있는 이점이 있다. 방현 하드 코트층의 두께(막 두께)가 10μm를 초과하는 경우는, 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층을 마련한 부분에 있어서, 도막의 평활성이 향상되지 않아, 방현 성능 저감 효과가 얻어지지 않는다. 또한, 방현 하드 코트층의 두께(막 두께)가 1μm 미만인 경우는, 방현 하드 코트층에 있어서 충분한 방현 성능이 발휘되지 않는다.
한편 본 명세서에 있어서, 방현 하드 코트층의 두께는, 오목부 10점 및 볼록부 10점의 막 두께를 측정하고, 그 평균값을 산출하는 것에 의해 구해진다. 막 두께의 측정은, 예를 들면 마이크로톰 등의 기구를 이용하여 단면을 석출시키고, 레이저 현미경을 이용하여 단면 관찰을 행하는 것에 의해 측정할 수 있다.
상기 방현 하드 코트층은, 층 표면의 십점 평균 거칠기 RzJIS가 0.1∼2μm의 범위 내이다. 여기에서 「십점 평균 거칠기 RzJIS」란, JIS B0601;2001의 부속서 JA에 규정되는, 표면의 요철 형상(거칠기 형상)을 나타내는 파라미터의 1종이다. 십점 평균 거칠기 RzJIS는, 컷오프값 위상 보상 대역 통과 필터를 적용하여 얻은 기준 길이의 거칠기 곡선에 있어서, 최고의 산정(볼록부)으로부터 높은 순서로 5번째까지의 산 높이의 평균과, 최심의 곡저(오목부)로부터 깊은 순서로 5번째까지의 곡 깊이의 평균의 합이다. 십점 평균 거칠기 RzJIS는, 예를 들면 레이저 현미경을 이용하여, JIS B0601;2001의 규정에 준거하여 구해진다.
상기 방현 하드 코트층은, 층 표면의 거칠기 곡선 요소의 평균 길이 RSm이 20μm∼200μm인 것이 바람직하다. 여기에서 「거칠기 곡선 요소의 평균 길이 RSm」이란, JIS B0601;2001에 규정되는, 표면의 요철 형상(거칠기 형상)의 크기·분포를 나타내는 파라미터의 1종이다. 거칠기 곡선 요소의 평균 길이 RSm은, 기준 길이에 있어서의 윤곽 곡선(거칠기 곡선) 요소의 길이의 평균을 의미한다. 거칠기 곡선 요소의 평균 길이 RSm은, 예를 들면 레이저 현미경(VK-8700, KEYENCE제 등)을 이용하여, JIS B0601;2001 규정에 준거하여 구해진다.
상기 방현 하드 코트층은, 헤이즈값 Ha가 2∼45%이고, 또한 내부 헤이즈값 Hi가 0.01∼2%이다. 헤이즈값 Ha가 상기 범위인 것에 의해, 디스플레이부에 있어서 요구되는 방현 성능이 발휘된다. 내부 헤이즈값 Hi가 상기 범위 내인 것에 의해, 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트를 적층한 부분에 있어서, 광택감 및 고급감이 우수한 의장을 얻을 수 있다.
여기에서 「헤이즈값 Ha」란, 표면의 요철 형상을 포함시킨, 방현 하드 코트층 전체에 있어서의 헤이즈값, 즉 전체 헤이즈값이다. 또한 「내부 헤이즈값 Hi」란, 방현 하드 코트층에 있어서의 표면의 요철 형상에 영향을 받지 않는 헤이즈값으로서, 층을 구성하는 성분 자체에서 유래하는 헤이즈값이다. 헤이즈값 Ha 및 내부 헤이즈값 Hi는, 헤이즈 미터(닛폰덴쇼쿠제 NDH2000)를 이용하여, JIS K7136에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다. 구체적으로는, 헤이즈 미터를 이용하여, JIS K7136에 따라 방현 하드 코트층의 헤이즈값 Ha(전체 헤이즈값)를 측정한다.
그 후, 방현 하드 코트층의 표면에, 글리세린 0.01ml를 적하하고, 이어서 유리 플레이트를 얹는다. 이에 의해, 방현 하드 코트층의 표면의 요철 형상이 찌부러져, 방현 하드 코트층의 표면이 평탄하게 된다. 그리고 이 상태에서, 헤이즈 미터를 이용하여, JIS K7136에 따라 헤이즈값을 측정하는 것에 의해, 내부 헤이즈값 Hi를 구할 수 있다.
방현층 형성용 코팅 조성물
방현 하드 코트층의 형성에 이용되는 방현층 형성용 코팅 조성물은, 우수한 경도가 얻어지는 등의 관점에서, 방사선 경화형 방현층 형성용 코팅 조성물인 것이 바람직하고, 그 중에서도 자외선 경화형 방현층 형성용 코팅 조성물인 것이 보다 바람직하다.
방사선 경화형 방현층 형성용 코팅 조성물은, 코팅층을 형성하는 수지 성분을 포함한다. 이와 같은 수지 성분으로서, 방사선 경화성 성분을 포함하는 것이 바람직하다. 방사선 경화성 성분은, 방사선(예를 들면 자외선)에 의해 가교하고, 경화시킬 수 있는, 모노머, 올리고머, 혹은 폴리머이다. 이와 같은 방사선 경화성 성분의 구체예로서, 불포화 이중 결합기를 적어도 1개 갖는 모노머, 올리고머 또는 폴리머, 보다 구체적으로는, 불포화 이중 결합기를 적어도 1개 갖는, (메트)아크릴레이트 모노머, (메트)아크릴레이트 올리고머, (메트)아크릴레이트 폴리머, 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머, 유레테인 (메트)아크릴레이트 올리고머, 유레테인 (메트)아크릴레이트 폴리머, 및 이들의 변성 모노머, 올리고머, 폴리머 등을 들 수 있다. 한편 「(메트)아크릴레이트」는 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 나타낸다.
본 발명에 있어서의 방사선 경화성 성분으로서는, 경화 후의 가교 밀도를 높게 할 수 있어, 표면 경도의 향상 효과를 높게 할 수 있고, 또한 투명성의 향상 효과를 높게 할 수 있다는 관점에서, 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머, 다작용 (메트)아크릴레이트 올리고머 또는 다작용 (메트)아크릴레이트 폴리머 등의 다작용 (메트)아크릴레이트 화합물; 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머, 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 올리고머, 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 폴리머 등의 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 화합물; 등의, 다작용 (메트)아크릴레이트 화합물 및 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.
불포화 이중 결합기를 1개 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머 또는 올리고머로서, 시판품을 이용해도 된다. 시판품으로서, 예를 들면, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 n-뷰틸, (메트)아크릴산 아이소뷰틸, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, 아크릴산, 메타크릴산, (메트)아크릴산 아이소스테아릴, 에톡시화 o-페닐페놀 아크릴레이트, 메톡시 폴리에틸렌 글라이콜 아크릴레이트, 메톡시 폴리에틸렌 글라이콜 아크릴레이트, 페녹시 폴리에틸렌 글라이콜 아크릴레이트, 2-아크릴로일옥시에틸 석시네이트, (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산 2-하이드록시프로필, 에틸렌 글라이콜 모노(메트)아크릴레이트, 프로필렌 글라이콜 모노(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-메톡시프로필 (메트)아크릴레이트, N-메틸올 (메트)아크릴아마이드, N-하이드록시 (메트)아크릴아마이드 등을 들 수 있다.
다작용 (메트)아크릴레이트 모노머 또는 올리고머로서, 시판품을 이용해도 된다. 시판품으로서, 예를 들면, DPHA(다이셀·올넥스사제), PETRA(다이셀·올넥스사제: 펜타에리트리톨 트라이아크릴레이트), PETIA(다이셀·올넥스사제), 아로닉스 M-403(도아합성사제: 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트), 아로닉스 M-402(도아합성사제: 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트), 아로닉스 M-400(도아합성사제: 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트), SR-399(사토마사제: 다이펜타에리트리톨 하이드록시펜타아크릴레이트), KAYARAD DPHA(닛폰화약사제), KAYARAD DPHA-2C(닛폰화약사제), 아로닉스 M-404, M-405, M-406, M-450, M-305, M-309, M-310, M-315, M-320, TO-1200, TO-1231, TO-595, TO-756(이상, 도아합성사제), KAYARD D-310, D-330, DPHA, DPHA-2C(이상, 닛폰화약사제), 니카락 MX-302(산와케미컬사제) 등을 이용할 수 있다.
단작용 혹은 다작용 (메트)아크릴레이트 폴리머로서는, 상기 단작용 혹은 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머 또는 올리고머의 고분자량 화합물 등을 들 수 있다.
다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머 또는 올리고머로서, 시판품을 이용해도 된다. 시판품으로서, 예를 들면, 2작용 유레테인 (메트)아크릴레이트(닛폰화약사제의 「UX-2201」, 「UX-8101」, 「UX-6101」, 교에이샤화학사제의 「UF-8001」, 「UF-8003」, 다이셀·올넥스사제의 「Ebecryl244」, 「Ebecryl284」, 「Ebecryl2002」, 「Ebecryl4835」, 「Ebecryl4883」, 「Ebecryl8807」, 「Ebecryl6700」), 3작용 유레테인 (메트)아크릴레이트(다이셀·올넥스사제의 「Ebecryl254」, 「Ebecryl264」, 「Ebecryl265」), 4작용 유레테인 (메트)아크릴레이트(다이셀·올넥스사제의 「Ebecryl8210」), 6작용 유레테인 (메트)아크릴레이트(다이셀·올넥스사제의 「Ebecryl1290k」, 「Ebecryl5129」, 「Ebecryl220」, 「KRM8200」, 「Ebecryl1290N」), 9작용 유레테인 (메트)아크릴레이트(다이셀·올넥스사제의 「KRM7804」), 10작용 유레테인 (메트)아크릴레이트(다이셀·사이텍사제의 「KRM8452」, 「KRM8509」), 15작용 유레테인 (메트)아크릴레이트(다이셀·올넥스사제의 「KRM8655」) 등을 이용할 수 있다.
단작용 혹은 다작용의 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머 또는 올리고머는 또한, 예를 들면 폴리카보네이트 다이올과, 분자 중에 수산기와 불포화 이중 결합기를 함유하는 (메트)아크릴레이트 화합물과, 폴리아이소사이아네이트를 반응시키는 것에 의해 조제할 수도 있다.
단작용 혹은 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 폴리머로서는, 상기 단작용 혹은 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머 또는 올리고머의 고분자량 화합물 등을 들 수 있다.
방현층 형성용 코팅 조성물의 바람직한 1 태양으로서, 방현층 형성용 코팅 조성물은 제 1 성분 및 제 2 성분을 포함하는 태양을 들 수 있다. 이 경우, 방현 하드 코트층의 표면 요철은, 제 1 성분 및 제 2 성분의 상분리에 의해 형성되는 표면 요철이 된다. 상기 상분리가 생기는 제 1 성분 및 제 2 성분의 조합으로서, 제 1 성분의 SP값(SP1) 및 제 2 성분의 SP값(SP2)에 있어서, 하기 조건
SP2<SP1
SP1-SP2 ≥ 0.5
를 만족시키는 태양을 들 수 있다.
상기 조건을 만족시키는 제 1 성분 및 제 2 성분을 포함하는 방현층 형성용 하드 코팅 조성물을 기재 상에 도포하면, 제 1 성분 및 제 2 성분의 SP값의 차에 기초하여 제 1 성분과 제 2 성분이 상분리되어, 표면에, 연속된 랜덤한 요철을 갖는 도막을 형성할 수 있다.
SP값이란, solubility parameter(용해성 파라미터)의 약어이고, 용해성의 척도가 되는 것이다. SP값은 수치가 클수록 극성이 높고, 반대로 수치가 작을수록 극성이 낮은 것을 나타낸다.
예를 들면, SP값은 다음의 방법에 의해 실측할 수 있다[참고문헌: SUH, CLARKE, J. P. S. A-1, 5, 1671∼1681(1967)].
측정 온도: 20℃
샘플: 수지 0.5g을 100ml 비커에 칭량하고, 양용매 10ml를 홀 피펫을 이용하여 가하고, 마그네틱 스터러에 의해 용해시킨다.
용매:
양용매…다이옥세인, 아세톤 등
빈용매…n-헥세인, 이온 교환수 등
탁점 측정: 50ml 뷰렛을 이용하여 빈용매를 적하하고, 탁함이 생긴 점을 적하량으로 한다.
수지의 SP값 δ는 다음 식에 의해 주어진다.
Figure 112019034675672-pct00001
Figure 112019034675672-pct00002
Figure 112019034675672-pct00003
Vi: 용매의 분자용(容)(ml/mol)
φi: 탁점에 있어서의 각 용매의 체적 분율
δi: 용매의 SP값
ml: 저SP 빈용매 혼합계
mh: 고SP 빈용매 혼합계
제 1 성분의 SP값과 제 2 성분의 SP값의 차는 0.5 이상인 것이 바람직하고, 0.8 이상인 것이 보다 바람직하다. 이 SP값의 차의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로는 15 이하이다. 제 1 성분의 SP값과 제 2 성분의 SP값의 차가 0.5 이상인 경우는, 서로의 성분의 상용성이 낮고, 그에 의해 방현층 형성용 하드 코팅 조성물의 도포 후에 제 1 성분과 제 2 성분의 상분리가 초래된다고 생각된다.
이 실시태양에 있어서는, 상기 방사선 경화성 성분이 제 1 성분으로서 이용되는 것이 바람직하다. 그리고, 제 2 성분으로서, 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체가 이용되는 것이 바람직하다.
제 1 성분으로서, 불포화 이중 결합기를 적어도 1개 갖는 모노머, 올리고머 또는 폴리머를 바람직하게 이용할 수 있다. 제 1 성분의 구체예로서, 불포화 이중 결합기를 적어도 1개 갖는, (메트)아크릴레이트 모노머, (메트)아크릴레이트 올리고머, (메트)아크릴레이트 폴리머, 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머, 유레테인 (메트)아크릴레이트 올리고머, 유레테인 (메트)아크릴레이트 폴리머 및 이들의 변성 모노머, 올리고머 또는 폴리머 등을 들 수 있다. 제 1 성분은, 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머, 다작용 (메트)아크릴레이트 올리고머, 다작용 (메트)아크릴레이트 폴리머, 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머, 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 올리고머, 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 폴리머 등의, 다작용 (메트)아크릴레이트 화합물 및 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 이와 같은 화합물을 포함하는 것에 의해, 경화 후의 가교 밀도를 높게 할 수 있어, 표면 경도의 향상 효과를 높게 할 수 있는 이점이 있다.
상기 (메트)아크릴레이트 모노머, 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머, 그리고 (메트)아크릴레이트 올리고머, 유레테인 (메트)아크릴레이트 올리고머는, 중량 평균 분자량이 5000 미만인 것이 바람직하다. 예를 들면 (메트)아크릴레이트 모노머, 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머는, 분자량이 70 이상이며 중량 평균 분자량이 3000 미만인 것이 바람직하고, 분자량이 70 이상이며 중량 평균 분자량이 2500 미만인 것이 바람직하다. 또한, (메트)아크릴레이트 올리고머, 유레테인 (메트)아크릴레이트 올리고머는, 중량 평균 분자량이 100 이상이며 5000 미만인 것이 바람직하다. 또한 상기 (메트)아크릴레이트 폴리머, 유레테인 (메트)아크릴레이트 폴리머는, 중량 평균 분자량이 50000 미만인 것이 바람직하다.
제 2 성분인, 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체는, 예를 들면 (메트)아크릴 모노머와 다른 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 모노머를 공중합한 수지, (메트)아크릴 모노머와 다른 에틸렌성 불포화 이중 결합 및 에폭시기를 갖는 모노머를 반응시킨 수지, (메트)아크릴 모노머와 다른 에틸렌성 불포화 이중 결합 및 아이소사이아네이트기를 갖는 모노머를 반응시킨 수지 등에 아크릴산 또는 글라이시딜 아크릴레이트 등의 불포화 이중 결합을 갖고 또한 다른 작용기를 갖는 성분을 부가시킨 것 등을 들 수 있다. 이들 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체는 1종을 단독으로 이용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 이용해도 된다. 이 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체는, 중량 평균 분자량으로 3000∼100000인 것이 바람직하고, 3000∼50000인 것이 보다 바람직하다.
상기 제 1 성분 및 제 2 성분의 질량비는, 제 1 성분:제 2 성분=98.5:1.5∼60:40인 것이 바람직하고, 98.5:1.5∼85:15인 것이 보다 바람직하며, 98:2∼86:14인 것이 더 바람직하다. 이와 같은 범위로 배합비를 설정하는 것에 의해, 원하는 표면 요철 형상 및 경도를 갖는 방현 하드 코트층을 얻을 수 있다. 더욱이, 제 1 성분과 제 2 성분의 상분리에 의해 표면 요철 형상을 형성하는 것에 의해, 내부 헤이즈값 Hi를 보다 낮은 값으로 설계할 수 있는 이점이 있다.
방현층 형성용 코팅 조성물의 다른 1 태양으로서, 방현층 형성용 코팅 조성물은 상기 방사선 경화성 성분 및 입상물을 포함하는 태양을 들 수 있다. 이 태양에 있어서는, 방현 하드 코트층이 갖는 표면의 요철 형상은 입상물에 기인하여 형성되게 된다. 입상물로서, 예를 들면, 실리카(SiO2) 입자, 알루미나 입자, 타이타니아 입자, 산화 주석 입자, 안티모니 도프 산화 주석(약칭; ATO) 입자, 산화 아연 입자 등의 무기 산화물 입자, 및 폴리스타이렌 입자, 멜라민 수지 입자, 아크릴 입자, 아크릴-스타이렌 입자, 실리콘 입자, 폴리카보네이트 입자, 폴리에틸렌 입자, 폴리프로필렌 입자 등의 유기 수지 입자 등을 들 수 있다. 이들 무기 산화물 입자 및 유기 수지 입자는, 평균 입자경이 0.5∼8μm인 것이 바람직하고, 0.7∼6μm인 것이 보다 바람직하다. 한편, 본 명세서에 있어서의 입상물의 평균 입자경은, 단면 전자 현미경의 화상으로부터, 화상 처리 소프트웨어를 이용하여 측정되는 값이다.
방현층 형성용 코팅 조성물의 다른 1 태양으로서, 중합성 불포화기 함유 바인더 성분을 포함하는 태양을 들 수 있다. 중합성 불포화기 함유 바인더 성분을 포함하는 방현층 형성용 코팅 조성물은, 이 조성물을 도포하여 얻어지는 미경화 도포층에 대해서, 표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재의 표면 요철면을 면접촉시키고, 그리고, 주형 기재가 면접촉한 상태로 미경화 도포층을 경화시키고, 그 후에 주형 기재를 박리하여, 방현 하드 코트층을 형성하는 수순에 있어서 이용할 수 있다. 이 태양에 있어서는, 상기 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여 형성한, 표면에 요철 형상을 갖는 층을 갖는 기재를, 주형 기재로서 적합하게 이용할 수 있다.
방현층 형성용 코팅 조성물에 포함되는 중합성 불포화기 함유 바인더 성분으로서, 상기 다작용 (메트)아크릴레이트 올리고머, 상기 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 올리고머, 상기 단작용 혹은 다작용 (메트)아크릴레이트 폴리머, 상기 단작용 혹은 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 폴리머, 및 이들의 혼합물을 이용할 수 있다. 다작용 (메트)아크릴레이트 올리고머 및 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 올리고머의 구체예는 상기와 마찬가지이다.
상기 단작용 혹은 다작용 (메트)아크릴레이트 폴리머, 단작용 혹은 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 폴리머로서, 시판품을 이용해도 된다. 단작용 혹은 다작용 (메트)아크릴레이트 폴리머의 시판품으로서, 예를 들면, DIC사제, 유니딕 V-6840, 유니딕 V-6841, 유니딕 V-6850, 유니딕 EMS-129, 유니딕 EMS-635, 유니딕 WHV-649 등을 이용할 수 있다.
또한, 상기 유레테인 (메트)아크릴레이트 올리고머 또는 폴리머의 시판품으로서, 예를 들면, 닛폰화약사제의 UX 시리즈; 교에이샤화학사제의 UF 시리즈, UA 시리즈; 다이셀·사이텍 주식회사제의 EBECRYL 시리즈, KRM 시리즈; 닛폰합성화학사제의 자광(紫光) UV 시리즈; 사토마사제의 CN 시리즈; 신나카무라화학사제의 U 시리즈; 네가미공업사제의 아트레진 UN 시리즈; 등을 이용할 수 있다.
광중합 개시제
본 발명의 방현층 형성용 하드 코팅 조성물은 광중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제가 존재하는 것에 의해, 자외선 등의 방사선 조사에 의해 수지 성분이 양호하게 중합되게 된다. 광중합 개시제의 예로서, 예를 들면, 알킬페논계 광중합 개시제, 아실포스핀 옥사이드계 광중합 개시제, 타이타노센계 광중합 개시제, 옥심 에스터계 중합 개시제 등을 들 수 있다. 알킬페논계 광중합 개시제로서, 예를 들면 2,2-다이메톡시-1,2-다이페닐에탄-1-온, 1-하이드록시-사이클로헥실-페닐-케톤, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-하이드록시-1-{4-[4-(2-하이드록시-2-메틸-프로피온일)-벤질]페닐}-2-메틸-프로판-1-온, 2-메틸-1-(4-메틸싸이오페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-다이메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-뷰탄온-1, 2-(다이메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모폴린일)페닐]-1-뷰탄온 등을 들 수 있다. 아실포스핀 옥사이드계 광중합 개시제로서, 예를 들면 2,4,6-트라이메틸벤조일-다이페닐-포스핀 옥사이드, 비스(2,4,6-트라이메틸벤조일)-페닐포스핀 옥사이드 등을 들 수 있다. 타이타노센계 광중합 개시제로서, 예를 들면, 비스(η5-2,4-사이클로펜타다이엔-1-일)-비스(2,6-다이플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐)타이타늄 등을 들 수 있다. 옥심 에스터계 중합 개시제로서, 예를 들면, 1.2-옥테인다이온,1-[4-(페닐싸이오)-,2-(O-벤조일옥심)], 에탄온,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카바졸-3-일]-,1-(0-아세틸옥심), 옥시페닐아세트산, 2-[2-옥소-2-페닐아세톡시에톡시]에틸 에스터, 2-(2-하이드록시에톡시)에틸 에스터 등을 들 수 있다. 이들 광중합 개시제는 1종을 단독으로 이용해도 되고, 또한 2종 이상을 병용해도 된다.
상기 광중합 개시제 중, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 1-하이드록시-사이클로헥실-페닐-케톤, 2-메틸-1-(4-메틸싸이오페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-다이메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-뷰탄온-1 및 2,2-다이메톡시-1,2-다이페닐에탄-1-온 등이 보다 바람직하게 이용된다.
광중합 개시제의 바람직한 양은, 방현층 형성용 하드 코팅 조성물의 수지 성분 100질량부에 대해서, 0.01∼20질량부이고, 보다 바람직하게는 1∼10질량부이다. 상기 광중합 개시제는 단독으로 이용해도 되고, 또한 2종 이상의 광중합 개시제를 조합하여 이용해도 된다.
용매
본 발명에서 이용되는 방현층 형성용 하드 코팅 조성물은 용매를 포함해도 된다. 용매는 특별히 한정되는 것은 아니고, 조성물 중에 포함되는 성분, 도포되는 기재의 종류 및 조성물의 도포 방법 등을 고려하여 적시 선택할 수 있다. 이용할 수 있는 용매의 구체예로서는, 예를 들면, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족계 용매; 메틸 에틸 케톤, 아세톤, 메틸 아이소뷰틸 케톤, 사이클로헥산온 등의 케톤계 용매; 다이에틸 에터, 아이소프로필 에터, 테트라하이드로퓨란, 다이옥세인, 에틸렌 글라이콜 다이메틸 에터, 에틸렌 글라이콜 다이에틸 에터, 다이에틸렌 글라이콜 다이메틸 에터, 다이에틸렌 글라이콜 다이에틸 에터, 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터, 아니솔, 페네톨 등의 에터계 용매; 아세트산 에틸, 아세트산 뷰틸, 아세트산 아이소프로필, 에틸렌 글라이콜 다이아세테이트 등의 에스터계 용매; 다이메틸폼아마이드, 다이에틸폼아마이드, N-메틸피롤리돈 등의 아마이드계 용매; 메틸 셀로솔브, 에틸 셀로솔브, 뷰틸 셀로솔브 등의 셀로솔브계 용매; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 아이소프로필 알코올, 뷰탄올, 아이소뷰틸 알코올 등의 알코올계 용매; 다이클로로메테인, 클로로폼 등의 할로젠계 용매; 등을 들 수 있다. 이들 용매를 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 병용해도 된다. 이들 용매 중, 에스터계 용매, 에터계 용매, 알코올계 용매 및 케톤계 용매가 바람직하게 사용된다.
상기 방현층 형성용 하드 코팅 조성물은, 필요에 따라서, 여러 가지 첨가제를 첨가할 수 있다. 이와 같은 첨가제로서, 예를 들면, 대전 방지제, 가소제, 계면 활성제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 표면 조정제, 레벨링제 등의 상용의 첨가제를 들 수 있다.
방현층 형성용 하드 코팅 조성물은, 당업자에 있어서 통상 행해지는 수법에 의해 조제할 수 있다. 예를 들면, 페인트 셰이커, 믹서 등의 통상 이용되는 혼합 장치를 이용하여, 상기 각 성분을 혼합하는 것에 의해 조제할 수 있다.
방현 하드 코트층의 형성
본 발명의 1 태양에 있어서, 방현 하드 코트층은, 투명 고분자 기재 상에, 상기의 방현층 형성용 하드 코팅 조성물을 도포하는 것에 의해 형성된다. 방현층 형성용 하드 코팅 조성물의 도포 방법은, 방현층 형성용 하드 코팅 조성물 및 도포 공정의 상황에 따라서 적시 선택할 수 있고, 예를 들면 딥 코팅법, 에어 나이프 코팅법, 커튼 코팅법, 롤러 코팅법, 와이어 바 코팅법, 다이 코팅법, 잉크젯법, 그라비어 코팅법 또는 익스트루전 코팅법(미국 특허 2681294호 명세서) 등에 의해 도포할 수 있다.
방현층 형성용 하드 코팅 조성물의 도포에 의해 얻어진 도막을 경화시키는 것에 의해, 방현 하드 코트층이 형성된다. 이 경화는, 필요에 따른 파장의 방사선(활성 에너지선)을 발하는 광원을 이용하여 조사하는 것에 의해 행할 수 있다. 조사하는 방사선으로서, 예를 들면, 적산 광량 50∼1500mJ/cm2의 광을 이용할 수 있다. 또한 이 조사광의 파장은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 360nm 이하의 파장을 갖는 자외광 등을 이용할 수 있다. 이와 같은 광은 고압 수은등, 초고압 수은등 등을 이용하여 얻을 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 방현 하드 코트층은, 상기 제 1 성분 및 제 2 성분을 포함하는 방현층 형성용 하드 코팅 조성물의 경화층인 태양이 바람직하다. 이 태양에 있어서는, 방현 하드 코트층은, 상기 제 1 성분 및 제 2 성분의 상분리에 의해 형성된 표면 요철 형상을 갖게 된다. 그 때문에, 방현 하드 코트층의 내부에 있어서의 층 형성 성분에서 유래하는 헤이즈(즉 내부 헤이즈)를 낮게 설계할 수 있다. 이에 의해, 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층을 마련한 부분에 있어서, 헤이즈값이 효과적으로 저감되어, 경면감 그리고 광택감 등을 효과적으로 높일 수 있는 이점이 있다.
본 발명의 다른 1 태양에 있어서는, 중합성 불포화기 함유 바인더 성분을 포함하는 방현층 형성용 코팅 조성물을 도포하고, 얻어진 미경화 도포층에 대해서, 표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재를 면접촉시키고, 그 후, 주형 기재를 박리하는 것에 의해, 표면에 요철 형상이 형성된 방현 하드 코트층을 형성한다.
상기 태양의 보다 바람직한 태양으로서, 예를 들면, 중합성 불포화기 함유 바인더 성분을 포함하는 방현층 형성용 코팅 조성물을 도포하고, 얻어진 미경화 도포층에 대해서, 표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재를 면접촉시킨 상태로 경화시키고, 그 후, 주형 기재를 박리하는 것에 의해, 방현 하드 코트층을 형성하는 태양을 들 수 있다. 이 태양에서는, 주형 기재의 요철 형상 면을, 미경화 도포층의 면에 대해서, 대향하는 방향으로 면접촉시키고, 그리고 이 면접촉시킨 상태로 경화시키는 것에 의해, 요철 형상이 전사되어, 표면에 요철 형상이 형성되게 된다. 그리고 경화시킨 후에, 주형 기재를 박리하는 것에 의해, 표면에 연속된 랜덤한 요철을 갖는 방현 하드 코트층을 형성할 수 있다. 이 태양에 있어서, 방현층 형성용 코팅 조성물의 도포 방법 및 경화 방법은 상기와 마찬가지의 방법에 의해 행할 수 있다.
이 태양에서는, 표면에 요철 형상을 가지면서, 높은 경도를 갖는 방현 하드 코트층을 형성할 수 있는 이점이 있다.
주형 기재로서, 표면에 연속된 랜덤한 요철을 갖는 주형 기재를, 특별히 제한됨이 없이 이용할 수 있다. 주형 기재로서, 상기 방현층 형성용 하드 코팅 조성물의 도포 및 경화에 의해 얻어지는, 표면에 요철 형상을 갖는 층을 갖는 기재를 이용하는 것이 보다 바람직하다.
클리어 하드 코트층
본 발명의 광학 적층 부재는, 상기 방현 하드 코트층의 일부 상에 적층된 클리어 하드 코트층을 갖는다. 상기 클리어 하드 코트층은, 클리어 하드 코팅 조성물의 경화층이다. 한편 본 발명에 있어서, 상기 클리어 하드 코트층은, 두께가 0.01∼10μm인 것을 조건으로 한다.
본 발명에 있어서, 상기 클리어 하드 코트층은, 상기 방현 하드 코트층의 일부 상에 적층되어 있다. 즉, 본 발명의 광학 적층 부재에 있어서는, 그 표면에, 방현 성능이 발휘되는 부분(방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 마련되어 있지 않은 부분)과, 방현 성능이 발휘되지 않거나 또는 방현 성능이 저감된 부분(방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 마련된 부분)을 갖는다. 그리고 본 발명의 광학 적층 부재에 있어서는, 상기 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 적층된 부분의 헤이즈값 Hm은, 0.05∼20%이고,
상기 Ha 및 Hm은, 하기 식
5 ≤ (Ha-Hm)/Ha × 100 ≤ 99
를 만족시킨다.
이와 같이 본 발명에 있어서는, 특정 물성값을 갖는 방현 하드 코트층의 일부 상에, 클리어 하드 코트층을 적층하는 것에 의해, 클리어 하드 코트층을 마련한 부분에 있어서 헤이즈값의 저감 및 제어를 효과적으로 행할 수 있는 이점이 있다.
방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 적층된 부분의 헤이즈값 Hm은, 헤이즈 미터(닛폰덴쇼쿠제 NDH2000)를 이용하여, JIS K7136에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다. 구체적으로는, 헤이즈 미터를 이용하여, JIS K7136에 따라, 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 적층된 부분의 헤이즈값 Hm(전체 헤이즈값)을 측정하는 것에 의해 구할 수 있다.
상기 (Ha-Hm)/Ha × 100의 값은, 15 이상 98 이하인 것이 바람직하고, 20 이상 98 이하인 것이 보다 바람직하다.
클리어 하드 코트층은, 클리어 하드 코팅 조성물을, 상기 방현 하드 코트층의 일부 상에 도포하여 경화시키는 것에 의해 형성된다. 클리어 하드 코팅 조성물은, 상기 방사선 경화성 성분, 상기 광중합 개시제, 및 필요에 따른 상기 용매를 포함하는 것이 바람직하다. 클리어 하드 코팅 조성물에 포함되는 방사선 경화성 성분으로서, 불포화 이중 결합기를 적어도 1개 갖는 모노머, 올리고머 또는 폴리머의 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.
불포화 이중 결합기를 적어도 1개 갖는 모노머로서, 상기 (메트)아크릴레이트 모노머 및 상기 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머를 들 수 있다. 불포화 이중 결합기를 적어도 1개 갖는 올리고머로서, 상기 (메트)아크릴레이트 올리고머 및 상기 유레테인 (메트)아크릴레이트 올리고머를 들 수 있다. 불포화 이중 결합기를 적어도 1개 갖는 폴리머로서, 상기 (메트)아크릴레이트 폴리머 및 상기 유레테인 (메트)아크릴레이트 폴리머를 들 수 있다. 클리어 하드 코팅 조성물에 포함되는 방사선 경화성 성분은, 상기의 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머, 다작용 (메트)아크릴레이트 올리고머, 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머, 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 올리고머 등의, 다작용 (메트)아크릴레이트 화합물 및 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 이와 같은 화합물을 포함하는 것에 의해, 경화 후의 가교 밀도를 높게 할 수 있어, 표면 경도의 향상 효과를 높게 할 수 있는 이점이 있다.
클리어 하드 코팅 조성물의 조제는, 방현층 형성용 하드 코팅 조성물과 마찬가지로 하여 조제할 수 있다.
클리어 하드 코트층은, 상기 방현 하드 코트층의 일부 상에, 클리어 하드 코팅 조성물을 도포하는 것에 의해 형성된다. 클리어 하드 코팅 조성물의 도포 방법은, 클리어 하드 코팅 조성물 및 도포 공정의 상황에 따라서 적시 선택할 수 있다. 클리어 하드 코팅 조성물의 도포 방법으로서, 예를 들면, 잉크젯 기기를 이용한 잉크젯법, 롤러 코팅법, 와이어 바 코팅법, 에어 나이프 코팅법, 커튼 코팅법, 딥 코팅법, 그라비어 코팅법 또는 익스트루전 코팅법(미국 특허 2681294호 명세서) 등에 의해 도포할 수 있다. 클리어 하드 코팅 조성물의 도포 방법으로서 잉크젯법을 이용하는 것이, 방현 하드 코트층 상의 원하는 개소에, 간편하게 클리어 하드 코트층을 마련할 수 있어, 보다 바람직하다.
상기 클리어 하드 코팅 조성물은, 20℃에 있어서의 점도가 2∼2000mPa·s인 것이 바람직하다. 클리어 하드 코팅 조성물의 20℃에 있어서의 점도가 상기 범위 내인 것에 의해, 클리어 하드 코트층을 마련한 부분에 있어서의 헤이즈값의 저감 및 제어를 효과적으로 행할 수 있는 이점이 있다.
클리어 하드 코팅 조성물의 20℃에 있어서의 점도의 측정은, B형 점도계(TVB-22L, 도키산업 주식회사제)에 의해 측정할 수 있다. B형 점도계로서, 예를 들면, TVB-22L(도키산업 주식회사제) 등을 들 수 있다.
클리어 하드 코팅 조성물의 점도의 조정은, 예를 들면, 희석 용매를 이용하여 코팅 조성물의 고형분 농도를 변경하는 것에 의해 행할 수 있다.
본 발명의 광학 적층 부재에 있어서, 상기 방현 하드 코트층의 표면 자유 에너지는 30∼50mN/m이고, 그리고 상기 클리어 하드 코팅 조성물을 방현 하드 코트층의 표면에 적하했을 때에 있어서의 액적의 접촉각이 5∼75°의 범위 내인 것이 바람직하다.
클리어 하드 코팅 조성물을 방현 하드 코트층의 표면에 적하했을 때에 있어서의 액적의 접촉각은, JIS R3257에 준거하여 구할 수 있다. 구체적으로는, 클리어 하드 코팅 조성물 2μl의 액적을, 수평으로 놓인 방현 하드 코트층 상에 착적(着滴)시킨다. 다음으로, 방현 하드 코트층 표면에 수평한 방향(바로 옆)으로부터, 클리어 하드 코팅 조성물의 액적을, CCD 카메라를 이용하여 확대 촬영하고, 얻어진 화상으로부터, 액적의 윤곽 형상을 해석하여 접촉각을 산출하는 것에 의해 측정할 수 있다.
방현 하드 코트층의 표면 자유 에너지 및 클리어 하드 코팅 조성물의 접촉각이 상기 범위인 것에 의해, 방현 하드 코트층의 일부 상에 클리어 하드 코트층을 적층할 때에, 원하는 두께를 갖는 클리어 하드 코트층을, 원하는 위치에, 간편하게 형성할 수 있는 등의 이점이 있다.
본 발명의 광학 적층 부재는, 필요에 따라서, 상기 방현 하드 코트층 및 클리어 하드 코트층 상에 색차 조정층을 가져도 된다. 색차 조정층으로서, 예를 들면, 저굴절률층, 고굴절률층, 또는 저굴절률층 및 고굴절률층을 포함하는 복층을 들 수 있다. 저굴절률층으로서, 일반적으로 이용되는 수지 성분(예를 들면 상기 방사성 경화 성분 등) 및 금속 산화물 입자를 포함하는 코팅 조성물을 경화시켜 얻어지는 층을 들 수 있다. 또한 고굴절률층으로서, 일반적으로 이용되는 수지 성분(예를 들면 상기 방사성 경화 성분 등) 및 금속 불화물 입자를 포함하는 코팅 조성물을 경화시켜 얻어지는 층을 들 수 있다. 색차 조정층 전체의 두께는 30∼300nm인 것이 바람직하고, 50nm∼200nm인 것이 보다 바람직하다. 색차 조정층의 형성은, 상기 코팅 조성물을, 방현층 형성용 코팅 조성물과 도포하여 경화시키는 것에 의해 형성할 수 있다.
가식층
본 발명의 광학 적층 부재에 있어서는, 투명 고분자 기재의 한쪽 면 상에 상기 방현 하드 코트층 및 클리어 하드 코트층이 순차적으로 적층되어 있고, 또한 투명 고분자 기재의 다른 한쪽 면 상에, 가식층이 적층되어 있어도 된다. 이와 같은 가식층을 갖는 광학 적층 부재는, 예를 들면, 성형 가식용 적층 부재로서 이용할 수 있다.
도 2는 가식층을 갖는 광학 적층 부재의 개략 설명도이다. 도 2에 개략적으로 나타나는 대로, 투명 고분자 기재(5)의 한쪽 면 상에, 방현 하드 코트층(3)이 적층되고, 그리고 이 방현 하드 코트층(3)의 일부 상에 클리어 하드 코트층(7)이 적층된다. 그리고 투명 고분자 기재(5)의 다른 한쪽 면 상에, 가식층(9)이 적층된다.
도 3은 가식층을 갖는 광학 적층 부재의 다른 1 태양의 개략 설명도이다. 도 3에 개략적으로 나타나는 태양에 있어서는, 클리어 하드 코트층(7)의 두께가 변화하는 부분, 즉 두께의 구배부를 갖는다. 이 두께의 구배부에 있어서는, 헤이즈값이 단계적으로 변화하게 된다. 예를 들면 도 3에 나타나는 바와 같이, 클리어 하드 코트층(7)의 두께의 구배부가 가식층(9)의 경계부를 따라 마련되는 것에 의해, 가식의 경계부에 있어서 헤이즈값을 단계적으로 변화시킬 수 있다.
상기 가식층은, 성형 가식용 적층 필름에 모양, 문자 또는 금속 광택 등의 가식을 실시하는 층이다. 이와 같은 가식층으로서, 예를 들면 인쇄층 또는 증착층 등을 들 수 있다. 인쇄층 및 증착층은 모두 가식을 실시하기 위한 층이다. 본 발명에 있어서는, 가식층으로서 인쇄층 또는 증착층의 어느 하나만을 마련해도 되고, 혹은 인쇄층 및 증착층의 양방을 마련해도 된다. 또한 인쇄층은 복수의 층으로 구성되는 층이어도 된다. 작업 공정의 용이성 등으로부터, 상기 가식층은 인쇄층인 것이 바람직하다.
인쇄층은, 성형체 표면에 모양 및/또는 문자 등의 가식을 실시하는 것이다. 인쇄층으로서, 예를 들면, 나뭇결, 돌결, 옷감결, 모래결, 기하학 모양, 문자, 전면(全面) 민인쇄 등으로 이루어지는 도안을 들 수 있다. 인쇄층의 재료로서는, 염화 바이닐/아세트산 바이닐계 공중합체 등의 폴리바이닐계 수지, 폴리아마이드계 수지, 폴리에스터계 수지, 폴리아크릴계 수지, 폴리유레테인계 수지, 폴리바이닐 아세탈계 수지, 폴리에스터 유레테인계 수지, 셀룰로스 에스터계 수지, 알키드 수지, 염소화 폴리올레핀계 수지 등의 수지를 바인더로 하고, 적절한 색의 안료 또는 염료를 착색제로서 함유하는 착색 잉크를 이용하면 된다. 인쇄층에 이용되는 잉크의 안료로서는, 예를 들면, 다음의 것을 사용할 수 있다. 통상, 안료로서, 황색 안료로서는 폴리아조 등의 아조계 안료, 아이소인돌리논 등의 유기 안료 또는 타이타늄 니켈 안티모니 산화물 등의 무기 안료, 적색 안료로서는 폴리아조 등의 아조계 안료, 퀴나크리돈 등의 유기 안료 또는 변병 등의 무기 안료, 청색 안료로서는 프탈로사이아닌 블루 등의 유기 안료 또는 코발트 블루 등의 무기 안료, 흑색 안료로서는 아닐린 블랙 등의 유기 안료, 백색 안료로서는 이산화 타이타늄 등의 무기 안료를 사용할 수 있다.
인쇄층에 이용되는 잉크의 염료로서는, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서, 각종 공지의 염료를 사용할 수 있다. 또한, 잉크의 인쇄 방법으로서는, 오프셋 인쇄법, 그라비어 인쇄법, 스크린 인쇄법 등의 공지의 인쇄법 또는 롤 코팅법, 스프레이 코팅법 등의 공지의 코팅법을 이용하는 것이 좋다. 이때, 본 발명에 있어서와 같이, 저분자량의 가교성 화합물을 사용하는 것이 아니라, 폴리머끼리를 가교시키는 구성의 광경화성 수지 조성물을 이용한 경우에는, 표면에 점착성이 없어, 인쇄 시의 트러블이 적어, 수율이 양호하다.
증착층은, 알루미늄, 니켈, 금, 백금, 크로뮴, 철, 구리, 인듐, 주석, 은, 타이타늄, 납, 아연 등의 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 금속, 또는 이들의 합금 혹은 화합물을 사용하여, 진공 증착법 또는 스퍼터링법, 이온 플레이팅법, 도금법 등의 방법에 의해 형성할 수 있다.
이들 가식을 위한 인쇄층 또는 증착층은, 원하는 성형체의 표면 외관이 얻어지도록, 성형 시의 신장 정도에 따라서, 통상 이용되는 방법에 의해 적절히 그 두께를 선택할 수 있다.
광학 적층 부재
본 발명의 광학 적층 부재는, 디스플레이부에 배치되는 부재로서 적합하게 이용할 수 있다. 디스플레이로서, 예를 들면, 액정 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 플라즈마 디스플레이 등을 들 수 있다. 본 발명의 광학 적층 부재를 디스플레이부에 배치하는 경우는, 투명 고분자 기재의 한쪽 면 상에 방현 하드 코트층 및 클리어 하드 코트층이 순차적으로 적층되어 있는 광학 적층 부재에 있어서, 투명 고분자 기재의 다른 한쪽 면, 또는 투명 고분자 기재의 다른 한쪽 면 상에 적층된 가식층이, 디스플레이부의 표면과 대향하도록 배치한다.
본 발명의 광학 적층 부재는, 예를 들면 차재 기기 터치 패널 디스플레이용 광학 적층 부재로서 적합하게 이용할 수 있다.
실시예
이하의 실시예에 의해 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들로 한정되지 않는다. 실시예 중, 「부」 및 「%」는, 달리 언급이 없는 한, 질량 기준에 의한다.
조제예 1 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체의 조제
아이소보론일 메타크릴레이트 171.6부, 메틸 메타크릴레이트 2.6부, 메타크릴산 9.2부로 이루어지는 혼합물을 혼합했다. 이 혼합액을, 교반 날개, 질소 도입관, 냉각관 및 적하 깔때기를 구비한 1000ml 반응 용기 중의, 질소 분위기하에서 110℃로 가온한 메틸 아이소뷰틸 케톤 330.0부에, 터셔리뷰틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 1.8부를 포함하는 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터 80.0부 용액과 동시에 3시간에 걸쳐 등속으로 적하하고, 그 후, 110℃에서 30분간 반응시켰다. 그 후, 터셔리뷰틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 0.2부를 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터 17.0부의 용액을 적하하고 테트라뷰틸암모늄 브로마이드 1.4부와 하이드로퀴논 0.1부를 포함하는 5.0부의 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터 용액을 가하고, 공기 버블링하면서, 4-하이드록시뷰틸 아크릴레이트 글라이시딜 에터 22.4부와 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터 5.0부의 용액을 2시간에 걸쳐 적하하고, 그 후 5시간에 걸쳐 더 반응시켰다. 수 평균 분자량 5,500, 중량 평균 분자량 18,000의 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체를 얻었다. 이 수지는 Sp값: 10.0이었다.
실시예 1
방현층 형성용 코팅 조성물의 제조
메틸 아이소뷰틸 케톤 13.24부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 36.98부, 제 2 성분인 조제예 1의 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체 2.52부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.26부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
클리어 하드 코팅 조성물의 제조
메틸 아이소뷰틸 케톤 19.72부 및 아이소뷰탄올 44.17부를 포함하는 반응기에, 방사선 경화성 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 33.90부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.21부를 혼합하여, 고형분 농도 36%의 클리어 하드 코팅 조성물을 제조했다.
방현 하드 코트층의 형성
두께 1.0mm인, PMMA 및 PC로 이루어지는 3층(PMMA/PC/PMMA) 시트(상품명: MT3LTR, 구라레이 주식회사제)의 한쪽 면에, 방현층 형성용 코팅 조성물을 도포했다. 65℃에서 4분간 건조시켜 용매를 휘발시킨 후, 적산 광량 80mJ/cm2의 자외선 조사 처리에 의해 경화시켜, 막 두께가 5μm인 방현 하드 코트층을 얻었다.
클리어 하드 코트층의 형성
얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께(즉, 0.3μm, 0.6μm 및 1.0μm의 3종의 막 두께)가 되도록 도포했다. 65℃에서 4분간 건조시켜 용매를 휘발시킨 후, 적산 광량 500mJ/cm2의 자외선 조사 처리에 의해 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성했다.
도포하는 장소는, 사전에 작성한 디자인을 따라 타겟 부분에 대해서 도포했다.
이렇게 하여, 방현 하드 코트층의 일부 상에 클리어 하드 코트층이 적층된, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 2
메틸 아이소뷰틸 케톤 7.96부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 34.72부, 제 2 성분인 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체 10.06부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.26부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 하여 방현 하드 코트층을 형성했다.
이어서, 얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께가 되도록 도포했다. 이어서 실시예 1과 마찬가지로 하여 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 3
메틸 아이소뷰틸 케톤 4.43부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 33.21부, 제 2 성분인 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체 15.09부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.26부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 하여 방현 하드 코트층을 형성했다.
이어서, 얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께가 되도록 도포했다. 이어서 실시예 1과 마찬가지로 하여 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 4
메틸 아이소뷰틸 케톤 15부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 방사선 경화성 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 36.60부, 평균 입경이 1.50μm인 아크릴 입자(상품명: SSX-101, 세이키스이화성주식회사제) 1.13부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.26부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 하여 방현 하드 코트층을 형성했다.
이어서, 얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께가 되도록 도포했다. 이어서 실시예 1과 마찬가지로 하여 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 5
메틸 아이소뷰틸 케톤 15부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 방사선 경화성 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 36.60부, 평균 입경이 4.95μm인 아크릴 입자(상품명: SSX-105, 세이키스이화성주식회사제) 1.13부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.26부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 하여 방현 하드 코트층을 형성했다.
이어서, 얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께가 되도록 도포했다. 이어서 실시예 1과 마찬가지로 하여 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 6
방현 하드 코트층의 막 두께를 2μm가 되도록 도포한 것 이외에는, 실시예 3과 마찬가지로 하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 7
메틸 아이소뷰틸 케톤 9.72부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 35.47부, 제 2 성분인 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체 7.55부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.26부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 하기 표에 기재된 두께를 갖는 방현 하드 코트층을, 실시예 1과 마찬가지로 하여 형성했다.
이어서, 얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께가 되도록 도포했다. 이어서 실시예 1과 마찬가지로 하여 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 8
메틸 아이소뷰틸 케톤 10.60부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 35.85부, 제 2 성분인 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체 6.29부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.26부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 하여 방현 하드 코트층을 형성했다.
이어서, 얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께가 되도록 도포했다. 이어서 실시예 1과 마찬가지로 하여 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 9
메틸 아이소뷰틸 케톤 7.99부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 34.55부, 제 2 성분인 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체 6.29부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.25부, 레벨링제(BYK-UV3500, 빅케미재팬제)를 0.19부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 하여 방현 하드 코트층을 형성했다.
이어서, 얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께가 되도록 도포했다. 이어서 실시예 1과 마찬가지로 하여 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 10
메틸 아이소뷰틸 케톤 8.02부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 34.39부, 제 2 성분인 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체 6.29부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.24부, 레벨링제(Additive67, 도레이·다우코닝 주식회사)를 0.37부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 하여 방현 하드 코트층을 형성했다.
이어서, 얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께가 되도록 도포했다. 이어서 실시예 1과 마찬가지로 하여 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 11
실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물 100부(고형분 농도 36%)에 대해서, 희석 용매(메틸 아이소뷰틸 케톤/아이소뷰탄올=30/70의 혼합 용매) 20부를 가하여, 고형분 농도 30%인 클리어 하드 코팅 조성물을 제조했다.
이렇게 하여 얻어진 클리어 하드 코팅 조성물을 이용한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 12
방사선 경화성 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 94.34부 및 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 5.66부를 혼합하여, 클리어 하드 코팅 조성물을 제조했다. 얻어진 클리어 하드 코팅 조성물의 고형분 농도는 100%였다.
이렇게 하여 얻어진 클리어 하드 코팅 조성물을 이용한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
비교예 1
메틸 아이소뷰틸 케톤 14.12부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 37.36부, 제 2 성분인 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체 1.26부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.26부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 하여 방현 하드 코트층을 형성했다.
이어서, 얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께가 되도록 도포했다. 이어서 실시예 1과 마찬가지로 하여 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
비교예 2
메틸 아이소뷰틸 케톤 2.67부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 32.45부, 제 2 성분인 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체 17.61부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.26부를 혼합하여 고형분 농도 40%의 방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 하여 방현 하드 코트층을 형성했다.
이어서, 얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께가 되도록 도포했다. 이어서 실시예 1과 마찬가지로 하여 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
비교예 3
메틸 아이소뷰틸 케톤 15.00부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 35.85부, 평균 입경이 4.95μm인 아크릴 입자(상품명: SSX-105, 세이키스이화성주식회사제) 1.89부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.26부를 혼합하여 고형분 농도 40%의 방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 하여 방현 하드 코트층을 형성했다.
이어서, 얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께가 되도록 도포했다. 이어서 실시예 1과 마찬가지로 하여 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
비교예 4
메틸 아이소뷰틸 케톤 7.96부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 34.72부, 제 2 성분인 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체 10.06부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.26부를 혼합하여 고형분 농도 40%의 방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 하기 표에 기재된 두께를 갖는 방현 하드 코트층을, 실시예 1과 마찬가지로 하여 형성했다.
이어서, 얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께가 되도록 도포했다. 이어서 실시예 1과 마찬가지로 하여 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
비교예 5
메틸 아이소뷰틸 케톤 12.36부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 36.60부, 제 2 성분인 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체 3.77부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.26부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 하기 표에 기재된 두께를 갖는 방현 하드 코트층을, 실시예 1과 마찬가지로 하여 형성했다.
이어서, 얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께가 되도록 도포했다. 이어서 실시예 1과 마찬가지로 하여 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
비교예 6
메틸 아이소뷰틸 케톤 15.00부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 32.08부, 평균 입경이 1.50μm인 아크릴 입자(상품명: SSX-101, 세이키스이화성주식회사제) 5.66부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.26부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 하여 방현 하드 코트층을 형성했다.
이어서, 얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께가 되도록 도포했다. 이어서 실시예 1과 마찬가지로 하여 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
이하의 실시예 13∼18은, 중합성 불포화기 함유 바인더 성분을 포함하는 방현층 형성용 코팅 조성물을 도포하고, 얻어진 미경화 도포층에 대해서, 표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재를 면접촉시킨 상태로 경화시키고, 이어서 주형 기재를 박리하는 것에 의해, 표면에 연속된 랜덤한 요철을 갖는 방현 하드 코트층을 형성한 실험예이다.
실시예 13
표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재 A의 조제
메틸 아이소뷰틸 케톤 13.24부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 36.98부, 제 2 성분인 조제예 1의 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체 2.52부, 광중합 개시제(상품명: OMNIRAD184, IGM RESINS사제) 2.26부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 주형 기재 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
두께 75μ인, PET 필름(상품명: 루미러 U48, 도레이 주식회사제)의 한쪽 면에, 주형 기재 형성용 코팅 조성물을 도포했다. 65℃에서 4분간 건조시켜 용매를 휘발시킨 후, 적산 광량 1500mJ/cm2의 자외선 조사 처리에 의해 경화시켜, 막 두께가 5μm인, 표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재 A를 얻었다.
방현층 형성용 코팅 조성물의 제조
용기에 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터 29.84부, 아세트산 에틸 11.12부, 아세트산 뷰틸 11.12부, 아로닉스 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 22.24부, 유니딕 V-6850(DIC 주식회사제, 아크릴 (메트)아크릴레이트 올리고머 또는 폴리머) 11.12부, OMNIRAD 184(IGM Resins사제, 광중합 개시제, 1-하이드록시사이클로헥실 페닐 케톤) 0.98부, OMNIRAD TPO(IGM Resins사제, 광중합 개시제, 2,4,6-트라이메틸벤조일다이페닐포스핀 옥사이드) 1.31부, MIBK-AC-2140Z(닛산화학사제) 12.27부를 가하고 혼합 교반하여, 고형분 농도가 35%가 되도록 하드 코팅 조성물 3을 조제했다.
방현 하드 코트층의 형성
두께 1.0mm인, PMMA(폴리메틸 메타크릴레이트) 및 PC(폴리카보네이트)로 이루어지는 3층(PMMA/PC/PMMA) 시트(상품명: MT3LTR, 구라레이 주식회사제)의 한쪽 면에, 방현층 형성용 코팅 조성물을 도포했다. 65℃에서 4분간 건조시켜 용매를 휘발시킨 후, 주형 기재 A의 요철면과, 도포한 조성물의 건조 도막면을 라미네이트시키고, 적산 광량 140mJ/cm2의 자외선 조사 처리에 의해 경화시켰다. 이어서 주형 기재 A를 박리시켜, 막 두께가 5μm인 방현 하드 코트층을 얻었다.
클리어 하드 코트층의 형성
상기로부터 얻어진 방현 하드 코트층 상의 일부에 대해서, 실시예 1에서 제조한 클리어 하드 코팅 조성물을, 잉크젯을 이용하여, 하기 표에 기재된 경화 후 막 두께가 되도록 도포했다. 이어서 실시예 1과 마찬가지로 하여 경화시켜, 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 14
메틸 아이소뷰틸 케톤 7.96부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 34.72부, 제 2 성분인 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체 10.06부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.26부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 주형 기재 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 주형 기재 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 13과 마찬가지의 수순에 의해, 표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재 B를 조제했다.
얻어진 주형 기재 B, 및 실시예 13에서 제조한 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 13과 마찬가지의 수순에 의해, 방현 하드 코트층 및 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 15
메틸 아이소뷰틸 케톤 4.43부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, 제 1 성분으로서 M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 33.21부, 제 2 성분인 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체 15.09부, 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어 184, BASF 재팬 주식회사제) 2.26부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 주형 기재 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
얻어진 주형 기재 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 13과 마찬가지의 수순에 의해, 표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재 C를 조제했다.
얻어진 주형 기재 C, 및 실시예 13에서 제조한 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 13과 마찬가지의 수순에 의해, 방현 하드 코트층 및 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 16
표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재 D의 조제
메틸 아이소뷰틸 케톤 15.00부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 36.60부, 평균 입경이 1.50μm인 아크릴 입자(상품명: SSX-101, 세이키스이화성주식회사제) 1.13부, 광중합 개시제(상품명: OMNIRAD184, IGM RESINS사제) 2.26부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 주형 기재 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
두께 75μ인, PET 필름(상품명: 루미러 U48, 도레이 주식회사제)의 한쪽 면에, 주형 기재 형성용 코팅 조성물을 도포했다. 65℃에서 4분간 건조시켜 용매를 휘발시킨 후, 적산 광량 1500mJ/cm2의 자외선 조사 처리에 의해 경화시켜, 막 두께가 5μm인, 표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재 D를 얻었다.
얻어진 주형 기재 D, 및 실시예 13에서 제조한 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 13과 마찬가지의 수순에 의해, 방현 하드 코트층 및 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 17
표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재 E의 조제
메틸 아이소뷰틸 케톤 15.00부, 아이소프로필 알코올 28.20부 및 아이소뷰탄올 16.80부를 포함하는 반응기에, M-402(도아합성 주식회사제, 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트를 주성분으로 하는 다작용 아크릴레이트 모노머 혼합물) 36.60부, 평균 입경이 4.95μm인 아크릴 입자(상품명: SSX-105, 세이키스이화성주식회사제) 1.13부, 광중합 개시제(상품명: OMNIRAD184, IGM RESINS사제) 2.26부를 혼합하여, 고형분 농도 40%의 전사 필름방현층 형성용 코팅 조성물을 제조했다.
두께 75μ인, PET 필름(상품명: 루미러 U48, 도레이 주식회사제)의 한쪽 면에, 방현층 형성용 코팅 조성물을 도포했다. 65℃에서 4분간 건조시켜 용매를 휘발시킨 후, 적산 광량 1500mJ/cm2의 자외선 조사 처리에 의해 경화시켜, 막 두께가 5μm인, 표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재 E를 얻었다.
얻어진 주형 기재 E, 및 실시예 13에서 제조한 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 13과 마찬가지의 수순에 의해, 방현 하드 코트층 및 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
실시예 18
표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재 F의 조제
주형 기재로서, 두께 75μm인, 폴리프로필렌 필름(상품명 토레이팬 ZK-207, 도레이필름가공 주식회사제)을 이용했다.
이 주형 기재 F, 및 실시예 13에서 제조한 방현층 형성용 코팅 조성물을 이용하여, 실시예 13과 마찬가지의 수순에 의해, 방현 하드 코트층 및 클리어 하드 코트층을 형성하여, 광학 적층 부재를 얻었다.
상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 적층 부재, 및 광학 적층 부재의 조제에 이용한 코팅 조성물을 이용하여, 하기 평가를 행했다. 평가 결과를 하기 표에 나타낸다.
헤이즈값 측정 방법
방현 하드 코트층의 헤이즈값(전체 헤이즈값) Ha 및 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 적층된 부분의 헤이즈값(전체 헤이즈값) Hm은, 헤이즈 미터(닛폰덴쇼쿠제 NDH2000)를 이용하여, JIS K7136에 준거한 방법에 의해 측정을 행했다.
방현 하드 코트층의 헤이즈값(전체 헤이즈값) Ha의 측정은, 기재 상에 방현 하드 코트층이 마련된 시험 샘플을, 50mm×50mm로 잘라내고, 샘플을 시료실 내에 세팅하여, 측정했다. 측정 조건은 「방법 3」으로 했다.
방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 적층된 부분의 헤이즈값(전체 헤이즈값) Hm의 측정은, 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 적층된 시험 샘플을, 50mm×50mm로 잘라내고, 샘플을 시료실 내에 세팅하여, 측정했다. 측정 조건은 「방법 3」으로 했다.
내부 헤이즈값 측정 방법
방현 하드 코트층의 시험 샘플을 50mm×50mm로 잘라냈다. 시험 샘플의 도막 요철면에, 글리세린(특급 시약, 기시다화학 주식회사제) 0.01ml를 적하하고, 이어서 유리 플레이트(18mm×18mm, 마쓰나미글라스 주식회사제)를 얹어, 표면 요철을 찌부러뜨린 시험편을 작성했다. 상기 헤이즈 미터를 사용하여, JIS K7136에 준거한 방법에 의해, 방현 하드 코트층의 내부 헤이즈값 Hi를 측정했다. 측정 조건은 방법 3으로 했다.
방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 적층된 부분의 내부 헤이즈값도, 상기와 마찬가지로 하여 측정했다.
막 두께 측정 방법
시험 샘플을 10mm×10mm로 잘라내어, 마이크로톰(LEICA RM2265)으로 도막의 단면을 석출시켰다. 석출시킨 단면을 레이저 현미경(VK8700, KEYENCE제)으로 관찰하여, 막 두께를 측정했다.
방현 하드 코트층의 막 두께 측정에 있어서는, 오목부 10점 및 볼록부 10점의 막 두께를 상기 방법에 의해 측정하고, 그 평균값을 산출하는 것에 의해, 막 두께를 구했다.
또한 클리어 하드 코트층의 막 두께 측정에 있어서는, 10점의 막 두께를 상기 방법에 의해 측정하고, 그 평균값을 산출하는 것에 의해, 막 두께를 구했다.
Rz jis 측정 방법
시험 샘플을 50mm×50mm로 잘라내어, 접안렌즈의 배율 20배, 대물렌즈의 배율 50배를 구비한 레이저 현미경(VK8700, KEYENCE제)으로 JIS B0601;2001에 준거해서 측정하여, Rzjis값을 얻었다.
표면 자유 에너지 평가 방법
방현 하드 코트층의 시험 샘플을 50mm×50mm로 잘라내어, 환경 온도 25도에서 젖음 시약(나카라이테스크 주식회사제 젖음 지수 표준액)을 이용해서 평가하여, 표면 자유 에너지값을 얻었다.
클리어 하드 코팅 조성물의 접촉각 측정 방법
방현 하드 코트층의 시험 샘플을 50mm×50mm로 잘라냈다. 클리어 하드 코팅 조성물을 시린지에 충전했다. 환경 온도 25℃에 있어서, 방현 하드 코트층의 시험 샘플 상에, 시린지로부터 2μl를 적하했다. 자동 접촉각계(KRUSS제 DSA20)를 이용하여, JIS R3257에 준거한 화상 처리에 의해, 접촉각을 측정했다.
점도 측정 방법
점도를 측정할 코팅 조성물 100ml를, 온도 20℃로 유지하고, B형 점도계(도키산업 주식회사제, TVB-22L)로 측정했다. 측정 조건은, M1 Roter를 사용하고, 60rpm으로 했다.
투명성 평가 방법
방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층(클리어 하드 코트층의 막 두께: 하기 표의 「클리어 하드 코트층의 막 두께(Rzjis에 대한 비: 100%)」에 기재된 막 두께)을 적층한 부분을, 50mm×50mm로 잘라내어, 내부 헤이즈 측정값으로 판단했다.
○: 내부 헤이즈값이 2.0% 이하였다.
×: 내부 헤이즈값이 2.1% 이상이었다.
밀착성 평가 방법
상기 「투명성 평가 방법」에서 사용한 시험편을 이용하여, JIS K5400에 준거하여 밀착성 시험을 실시했다. 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층을 적층한 부분에, 커터 나이프를 이용하여, 1mm2의 컷(바둑판눈)이 100개 생기도록 크로스컷을 실시했다. 이어서, 작성한 바둑판눈 상에 셀로판 점착 테이프(엘팩 LP-24, 24mm×35m, 니치반제)를 완전히 부착시키고, 테이프의 한쪽 끝을 들어 올려 상방으로 벗겼다. 이 박리 동작을 동일 개소에서 3회 실시했다. 그 후, 벗겨진 바둑판눈의 수를, 이하에 기재된 기준을 따라 판정했다.
10: 벗겨짐 없음
8: 벗겨짐이 5눈 이내였음
6: 벗겨짐이 5눈을 초과하고 15눈 이내였음
4: 벗겨짐이 15눈을 초과하고 35눈 이내였음
2: 벗겨짐이 35눈을 초과하고 65눈 이내였음
0: 벗겨짐이 65눈을 초과하고 100눈 이내였음
평활성 평가 방법
상기 「투명성 평가 방법」에서 사용한 시험편을 이용하여 평가 시험을 행했다. 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층을 적층한 부분을, 50mm×50mm로 잘라내어, 육안 평가로 하기 기준에 기초하여 평가했다.
○: 방현 하드 코트층의 요철이 없고, 평활했다.
△: 방현 하드 코트층의 요철이 약간 확인되었다.
×: 방현 하드 코트층의 요철에서 유래하는 방현성이 확인되었다.
Figure 112019034675672-pct00004
Figure 112019034675672-pct00005
Figure 112019034675672-pct00006
실시예의 광학 적층 부재는 모두 투명성, 밀착성 및 평활성이 우수함을 확인할 수 있었다. 실시예의 광학 적층 부재에 있어서는 또한, 클리어 하드 코트층의 막 두께를 변화시키는 것에 의해, 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층을 적층한 개소의 헤이즈값을 효과적으로 변화시킬 수 있었다.
비교예 1은, 방현 하드 코트층의 헤이즈값 Ha가 1% 미만인 예이다. 이 경우는, 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층을 적층하더라도, 헤이즈값이 변화하지 않아, 본 발명의 기술적 효과를 갖고 있지 않음이 확인되었다.
비교예 2는, 방현 하드 코트층의 헤이즈값 Ha가 45%를 초과하고, 그리고 방현 하드 코트층 표면의 십점 평균 거칠기가 본 발명의 범위를 초과하는 예이다. 이 경우는, 평활성이 뒤떨어짐이 확인되었다.
비교예 3은, 방현 하드 코트층의 내부 헤이즈값 Hi가 2%를 초과하는 예이다. 이 경우는, 투명성이 뒤떨어짐이 확인되었다.
비교예 4는, 방현 하드 코트층의 두께가 1μm 미만인 예이다. 이 경우는, 방현 하드 코트층의 헤이즈값 Ha가 1% 미만이 되어, 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층을 적층하더라도, 헤이즈값이 변화하지 않아, 본 발명의 기술적 효과를 갖고 있지 않음이 확인되었다.
비교예 5는, 방현 하드 코트층의 두께가 10μm를 초과하는 예이다. 이 경우는, 방현 하드 코트층 표면의 십점 평균 거칠기가 본 발명의 범위를 초과하게 되어, 평활성이 뒤떨어지게 되었다.
비교예 6은, 방현 하드 코트층의 내부 헤이즈값 Hi가 2%를 초과하고, 그리고 방현 하드 코트층 표면의 십점 평균 거칠기가 본 발명의 범위에 미치지 않는 예이다. 이 경우는, 투명성 및 평활성이 뒤떨어지게 되었다.
본 발명의 광학 적층 부재는, 예를 들면, 디스플레이의 화상 표시부에 방현 성능을 부여하고, 또한 화상 비표시부의 의장성을 향상시키는 부재로서 이용할 수 있다. 본 발명의 광학 적층 부재는, 디스플레이의 화상 표시부에서는 우수한 방현 성능을 제공하는 한편, 화상 비표시부에서는 방현 성능이 저감되어 있어 고급감 있는 의장을 제공할 수 있다.
1: 광학 적층 부재,
3: 방현 하드 코트층,
5: 투명 고분자 기재,
7: 클리어 하드 코트층,
9: 가식층,
11: 화상 표시부.

Claims (13)

  1. 투명 고분자 기재의 적어도 한쪽 면 상에, 방현 하드 코트층 및 클리어 하드 코트층이 순차적으로 적층된 광학 적층 부재로서,
    상기 방현 하드 코트층은, 방현층 형성용 코팅 조성물의 경화층으로서, 그 표면에 연속된 랜덤한 요철을 갖는 층이고, 상기 방현 하드 코트층 표면의 십점 평균 거칠기 RzJIS가 0.1∼2μm이며,
    상기 클리어 하드 코트층은, 클리어 하드 코팅 조성물의 경화층이고,
    상기 클리어 하드 코트층은, 상기 방현 하드 코트층의 일부 상에 적층되어 있고,
    상기 방현 하드 코트층은, 두께가 1∼10μm이고,
    상기 클리어 하드 코트층은, 두께가 0.01∼10μm이고,
    상기 방현 하드 코트층은, 헤이즈값 Ha가 2∼45%이고, 또한 내부 헤이즈값 Hi가 0.01∼2%이며,
    상기 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 적층된 부분의 헤이즈값 Hm은, 0.05∼20%이고,
    상기 Ha 및 Hm은, 하기 식
    5 ≤ (Ha-Hm)/Ha × 100 ≤ 99
    를 만족시키는,
    광학 적층 부재.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 방현층 형성용 코팅 조성물은, 제 1 성분 및 제 2 성분을 포함하고,
    상기 방현 하드 코트층의 표면 요철은, 상기 제 1 성분 및 제 2 성분의 상분리에서 유래하는 표면 요철인,
    광학 적층 부재.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 성분은, 다작용 (메트)아크릴레이트 화합물 및 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하고,
    상기 제 2 성분은, 불포화 이중 결합 함유 아크릴 공중합체인,
    광학 적층 부재.
  4. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 제 1 성분 및 제 2 성분의 질량비는, 제 1 성분:제 2 성분=98.5:1.5∼60:40의 범위 내인, 광학 적층 부재.
  5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 방현 하드 코트층의 표면 자유 에너지는 30∼50mN/m이고,
    상기 클리어 하드 코팅 조성물을 상기 방현 하드 코트층의 표면에 적하했을 때에 있어서의 액적의 접촉각이 5∼75°의 범위 내인,
    광학 적층 부재.
  6. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 클리어 하드 코팅 조성물은, 20℃에 있어서의 점도가 2∼2000mPa·s인,
    광학 적층 부재.
  7. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    투명 고분자 기재의 한쪽 면 상에, 상기 방현 하드 코트층 및 상기 클리어 하드 코트층이 순차적으로 적층되어 있고, 또한
    투명 고분자 기재의 다른 한쪽 면 상에, 가식층이 적층되어 있는,
    광학 적층 부재.
  8. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    디스플레이부에 배치되는 광학 적층 부재로서,
    투명 고분자 기재의 한쪽 면 상에, 상기 방현 하드 코트층 및 상기 클리어 하드 코트층이 순차적으로 적층되어 있고,
    투명 고분자 기재의 다른 한쪽 면, 또는 투명 고분자 기재의 다른 한쪽 면 상에 적층된 가식층이, 디스플레이부의 표면과 대향하도록 배치되는,
    광학 적층 부재.
  9. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 적층 부재는, 차재 기기 터치 패널 디스플레이용 광학 적층 부재인, 광학 적층 부재.
  10. 광학 적층 부재의 제조 방법으로서, 하기 공정
    투명 고분자 기재의 면 상에 방현층 형성용 코팅 조성물을 도포하여 경화시키는 것에 의해, 표면에 연속된 랜덤한 요철을 갖는 방현 하드 코트층을 형성하는 공정,
    얻어진 방현 하드 코트층의 일부 상에, 클리어 하드 코팅 조성물을 도포하고 경화시키는 것에 의해, 방현 하드 코트층의 일부 상에 클리어 하드 코트층을 형성하는 공정
    을 포함하고,
    상기 방현 하드 코트층 표면의 십점 평균 거칠기 RzJIS가 0.1∼2μm이며,
    상기 방현 하드 코트층은, 두께가 1∼10μm이고,
    상기 클리어 하드 코트층은, 두께가 0.01∼10μm이고,
    상기 방현 하드 코트층은, 헤이즈값 Ha가 2∼45%이고, 또한 내부 헤이즈값 Hi가 0.01∼2%이며,
    상기 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 적층된 부분의 헤이즈값 Hm은, 0.05∼20%이고,
    상기 Ha 및 Hm은, 하기 식
    5 ≤ (Ha-Hm)/Ha × 100 ≤ 99
    를 만족시키는,
    광학 적층 부재의 제조 방법.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 방현층 형성용 코팅 조성물은, 중합성 불포화기 함유 바인더 성분을 포함하고,
    상기 방현 하드 코트층은, 방현층 형성용 코팅 조성물의 미경화 도포층에 대해서, 표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재를 면접촉시키고, 그 후, 주형 기재를 박리하는 것에 의해, 표면에 요철 형상이 형성된 층인,
    광학 적층 부재.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 방현 하드 코트층은, 방현층 형성용 코팅 조성물의 미경화 도포층에 대해서, 표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재를 면접촉시킨 상태로 경화시키고, 그 후, 주형 기재를 박리하는 것에 의해, 표면에 요철 형상이 형성된 층인,
    광학 적층 부재.
  13. 광학 적층 부재의 제조 방법으로서, 하기 공정
    투명 고분자 기재의 면 상에, 중합성 불포화기 함유 바인더 성분을 포함하는 방현층 형성용 코팅 조성물을 도포하고, 얻어진 미경화 도포층에 대해서, 표면에 요철 형상을 갖는 주형 기재를 면접촉시킨 상태로 경화시키고, 그 후, 주형 기재를 박리하는 것에 의해, 표면에 연속된 랜덤한 요철을 갖는 방현 하드 코트층을 형성하는 공정,
    얻어진 방현 하드 코트층의 일부 상에, 클리어 하드 코팅 조성물을 도포하고 경화시키는 것에 의해, 방현 하드 코트층의 일부 상에 클리어 하드 코트층을 형성하는 공정
    을 포함하고,
    상기 방현 하드 코트층 표면의 십점 평균 거칠기 RzJIS가 0.1∼2μm이며,
    상기 방현 하드 코트층은, 두께가 1∼10μm이고,
    상기 클리어 하드 코트층은, 두께가 0.01∼10μm이고,
    상기 방현 하드 코트층은, 헤이즈값 Ha가 2∼45%이고, 또한 내부 헤이즈값 Hi가 0.01∼2%이며,
    상기 방현 하드 코트층 상에 클리어 하드 코트층이 적층된 부분의 헤이즈값 Hm은, 0.05∼20%이고,
    상기 Ha 및 Hm은, 하기 식
    5 ≤ (Ha-Hm)/Ha × 100 ≤ 99
    를 만족시키는,
    광학 적층 부재의 제조 방법.
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