KR101912148B1 - 3-알킬설피닐벤조일 유도체의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

화학식 (Ib)의 3-알킬설피닐벤조산을 염소화제 및 염기의 존재하에 화학식 (II)의 화합물과 반응시키는 것을 특징으로 하는, 화학식 (IIIa)의 3-알킬설피닐벤조일 유도체의 제조방법이 개시된다:
Figure 112013066926625-pct00011

상기 반응식에서,
Y는 피라졸릴 및 사이클로헥산디오닐과 같은 래디칼이고,
R1, R2 및 R3은 할로겐, 니트로, 시아노 및 알킬과 같은 래디칼이다.

Description

3-알킬설피닐벤조일 유도체의 제조방법{Process for preparing 3-alkylsulfinylbenzoyl derivatives}
본 발명은 작물 보호제의 제조 기술분야에 관한 것이다.
특정의 3-알킬설피닐벤조일 유도체가 제초성을 가지고 있다는 것이 여러 문헌에서 이미 알려졌다. 예를 들어, EP 2 167 473 A1, EP　2 127 521 A1, WO　2008/125214 A1, WO　2009/149806 A1 및 WO　2011/012246 A1의 각 호에 3-알킬설피닐벤조일피라졸이 제초제로서 기술되었다. WO 2011/012247 A1호에, 3-알킬설피닐벤조일사이클로헥산디온이 각 경우 제초제로서 기술되었다. WO 2011/035874 A1호에는 특히, 페닐 환의 3 위치에 3-알킬설피닐 그룹을 가지는 N-(1,2,5-옥사디아졸-3-일)벤즈아미드가 기재되었다.
이들 문헌에 특정된 제조방법은, 예를 들어, 반응식 1에 예시된 축합 공정에 관한 것으로서, 여기에서는 화학식 (I)의 3-알킬설피닐벤조산을 화학식 (II)의 화합물과 물 제거제(water-withdrawing agent), 예컨대 N-(3-디메틸아미노프로필)-N 1-에틸카보디이미드 하이드로클로라이드(EDCl), 및 임의로 시아나이드의 존재하에 반응시켜 목적하는 화학식 (III)의 3-알킬설피닐벤조일 유도체를 제공한다.
반응식 1
Figure 112013066926625-pct00001
상기 반응식에서, 래디칼들은 다음의 의미를 갖는다:
X1은 알킬이고, X2는 각종 래디칼이며, R*-H는 각 경우 임의로 치환된 5-하이드록시피라졸 또는 사이클로헥산디온이고, n은 0, 1 또는 2이다.
그밖에, 상기 언급된 일부 문헌에는 반응식 2에 예시된 바와 같은 제조방법이 언급되었으며, 여기에서는, 제1 단계에서, 화학식 (I)의 3-알킬설피닐벤조산을, 예를 들어, 티오닐 클로라이드와 반응시켜 화학식 (Ia)의 3-알킬설피닐벤조산 클로라이드를 제공한 후, 염기 및 시아나이드의 존재하에 화학식 (II)의 화합물과 반응시켜 화학식 (III)의 3-알킬설피닐벤조일 유도체를 제공한다.
반응식 2
Figure 112013066926625-pct00002
그러나, 이들 문헌으로부터 공지된 방법들은 다수의 단점을 가진다. 예를 들어, 반응식 1에 따른 방법은 비용이 매우 많이 들고, 독성인 물 제거제가 사용된다. 이들 제제는 촉매량으로 사용되지 않고 동몰량으로 사용되어 다량의 폐기물을 형성한다. 반응식 2에 따른 방법은 목적하는 화학식　(III)의 3-알킬설피닐벤조일 유도체가 저수율로만 얻어진다는 단점이 있다. 저수율의 요인은 당업자들에게 알려진 바와 같이 화학식 (Ia)의 3-알킬설피닐벤조산 클로라이드가 화학 안정성이 부족하여 매우 신속히 상응하는 3-알킬설페닐벤조일 유도체로 환원되기 때문이다. 또한, 예를 들어 ["Nachrichten aus der Chemie, Technik und Laboratorium", 1983, 31, 11, 892-896]에 따르면, 염소화제를 사용하여 화학식 (Ia)의 화합물을 제조하려는 경우, 염소화제는 보통 불안정한 설피늄 클로라이드 (Q)를 생성하여 목적 생성물 (III)에 이르지 않고 푸메러 재배열(Pummerer rearrangement)에 의해 화학식 (W)의 화합물을 제공한다고 알려져 있다(반응식 2b).
반응식 2b
Figure 112013066926625-pct00003
본 발명의 목적은 선행기술에서 공지된 방법의 단점들을 해결한 3-알킬설피닐벤조일 유도체의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 따라, 3-알킬설피닐벤조산과 각 경우 비치환되거나 치환된 5-하이드록시피라졸, 사이클로헥산디온, 4-아미노-1,2,5-옥사디아졸, 5-아미노-1H-1,2,4-트리아졸 및 5-아미노-1H-테트라졸로 구성된 그룹으로부터 선택된 화합물을 염소화제, 염기 및 임의로 시아나이드 공급원의 존재하에 반응시킴으로써 특정의 3-알킬설피닐벤조일 유도체가 비용 효율적인 방식에 의해 고수율로 제조될 수 있다는 것이 밝혀졌다.
따라서, 본 발명은 화학식 (Ib)의 3-알킬설피닐벤조산을 염소화제 및 염기의 존재하에 화학식 (II)의 화합물과 반응시켜 화학식 (IIIa)의 3-알킬설피닐벤조일 유도체를 제조하는 방법을 제공한다:
Figure 112013066926625-pct00004
상기 반응식에서, 래디칼, 부호 및 및 지수는 다음의 의미를 가진다:
R1은 각 경우 할로겐, (C1-C2)-알콕시 및 할로-(C1-C2)-알킬로 구성된 그룹으로부터 선택된 s개의 래디칼에 의해 치환된 (C1-C8)-알킬, (C3-C8)-사이클로알킬 또는 벤질이고,
R2는 수소, 머캅토, 니트로, 할로겐, 시아노, 로다노(rhodano), (C1-C6)-알킬, (C1-C6)-할로알킬, (C2-C6)-알케닐, (C2-C6)-할로알케닐, (C2-C6)-알키닐, (C3-C6)-할로알키닐, (C3-C6)-사이클로알킬, OR4, OCOR4, OSO2R4, S(O)nR4, SO2OR4, SO2N(R4)2, NR4SO2R4, NR4COR4, (C1-C6)-알킬-S(O)nR4, (C1-C6)-알킬-OR4, (C1-C6)-알킬-OCOR4, (C1-C6)-알킬-OSO2R4, (C1-C6)-알킬-SO2OR4, (C1-C6)-알킬-SO2N(R4)2 또는 (C1-C6)-알킬-NR4COR4이며,
R3은 불소, 염소, 브롬, 요오드, 니트로, CF3 또는 그룹 SO2R이고,
R4는 수소, 또는 각각 하이드록시, 머캅토, 아미노, 시아노, 니트로, 로다노, OR5, SR5, N(R5)2, NOR5, OCOR5, SCOR5, NR5COR5, CO2R5, COSR5, CON(R5)2, (C1-C4)-알킬이미노옥시, (C1-C4)-알킬카보닐, (C1-C4)-알콕시-(C2-C6)-알콕시카보닐 및 (C1-C4)-알킬설포닐 그룹으로부터의 s개의 래디칼에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬, (C2-C6)-알케닐, (C2-C6)-알키닐, (C3-C6)-사이클로알킬, 페닐 또는 페닐-(C1-C6)-알킬이며,
R5는 수소, (C1-C6)-알킬, (C2-C6)-알케닐 또는 (C2-C6)-알키닐이고,
R은 (C1-C4)-알킬이며,
n은 0, 1 또는 2이고,
s는 0, 1, 2 또는 3이며,
Y는 하기 래디칼 Y1, Y2, Y3, Y4, Y5 또는 Y6이고:
Figure 112013066926625-pct00005
R6은 (C1-C4)-알킬이며,
R7은 수소 또는 (C1-C4)-알킬이고,
R8은 수소, (C1-C6)-알킬설포닐, (C1-C4)-알콕시-(C1-C6)-알킬설포닐, 또는 각 경우 할로겐, (C1-C4)-알킬 및 (C1-C4)-알콕시로 구성된 그룹으로부터 선택된 s개의 래디칼에 의해 치환된 페닐설포닐, 티오페닐-2-설포닐, 벤조일, 벤조일-(C1-C6)-알킬 또는 벤질이며,
R9는 수소, (C1-C6)-알킬, (C3-C7)-사이클로알킬, 할로-(C1-C6)-알킬, (C2-C6)-알케닐, 할로-(C2-C6)-알케닐, (C2-C6)-알키닐, 할로-(C2-C6)-알키닐, CH2R18 또는 할로겐, 니트로, 시아노, (C1-C6)-알킬, 할로-(C1-C6)-알킬, (C3-C6)-사이클로알킬, S(O)n-(C1-C6)-알킬, (C1-C6)-알콕시, 할로-(C1-C6)-알콕시, (C1-C6)-알콕시-(C1-C4)-알킬의 그룹으로부터 선택된 s개의 래디칼에 의해 치환된 페닐이고,
R9*는 수소, 니트로, 할로겐, 시아노, 로다노, (C1-C6)-알킬, 할로-(C1-C6)-알킬, (C2-C6)-알케닐, 할로-(C2-C6)-알케닐, (C2-C6)-알키닐, 할로-(C2-C6)-알키닐, (C3-C6)-사이클로알킬, (C3-C6)-사이클로알케닐, 할로-(C3-C6)-사이클로알킬, (C3-C6)-사이클로알킬-(C1-C6)-알킬, 할로-(C3-C6)-사이클로알킬-(C1-C6)-알킬, COR1, COOR1, OCOOR1, NR1COOR1, C(O)N(R1)2, NR1C(O)N(R1)2, OC(O)N(R1)2, CO(NOR1)R1, NR1SO2R2, NR1COR1, OR1, OSO2R2, S(O)nR2, SO2OR1, SO2N(R1)2, (C1-C6)-알킬-S(O)nR2, (C1-C6)-알킬-OR1, (C1-C6)-알킬-OCOR1, (C1-C6)-알킬-OSO2R2, (C1-C6)-알킬-CO2R1, (C1-C6)-알킬-CN, (C1-C6)-알킬-SO2OR1, (C1-C6)-알킬-CON(R1)2, (C1-C6)-알킬-SO2N(R1)2, (C1-C6)-알킬-NR1COR1, (C1-C6)-알킬-NR1SO2R2, N(R1)2, P(O)(OR5)2, CH2P(O)(OR5)2, (C1-C6)-알킬페닐, (C1-C6)-알킬헤테로아릴, (C1-C6)-알킬헤테로사이클릴, 페닐, 헤테로아릴 또는 헤테로사이클릴이며, 여기에서 (C1-C6)-알킬페닐, (C1-C6)-알킬헤테로아릴, (C1-C6)-알킬헤테로사이클릴, 페닐, 헤테로아릴 또는 헤테로사이클릴은 각 경우 할로겐, 니트로, 시아노, (C1-C6)-알킬, 할로-(C1-C6)-알킬, (C3-C6)-사이클로알킬, S(O)n-(C1-C6)-알킬, (C1-C6)-알콕시, 할로-(C1-C6)-알콕시, (C1-C6)-알콕시-(C1-C4)-알킬 및 시아노메틸의 그룹으로부터 선택된 s개의 래디칼에 의해 치환되고, 헤테로사이클릴은 0 내지 2개의 옥소 그룹을 가지며,
R10은 하이드록시 또는 SR17이고,
R11 및 R16은 서로 독립적으로 수소 또는 (C1-C4)-알킬이거나, 또는
래디칼 R11 및 R16은 함께, 산소 원자 또는 황 원자 또는 1 내지 4개의 메틸렌 그룹인 단위 Z를 형성하며,
R12 및 R15는 서로 독립적으로 수소 또는 (C1-C4)-알킬이고,
R13 및 R14는 서로 독립적으로 수소 또는 (C1-C4)-알킬이거나, 또는 이들이 결합된 탄소 원자와 함께, 카보닐 그룹을 형성하며,
R17은 (C1-C4)-알킬, 또는 니트로, 시아노, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-할로알킬, (C1-C4)-알콕시 및 (C1-C4)-할로알콕시로 구성된 그룹으로부터 선택된 s개의 래디칼에 의해 치환된 페닐, 또는 부분 또는 완전 할로겐화된 페닐이고,
R18은 아세톡시, 아세트아미도, N-메틸아세트아미도, 벤조일옥시, 벤즈아미도, N-메틸벤즈아미도, 메톡시카보닐, 에톡시카보닐, 벤조일, 메틸카보닐, 피페리디닐카보닐, 모르폴리닐카보닐, 트리플루오로메틸카보닐, 아미노카보닐, 메틸아미노카보닐, 디메틸아미노카보닐, (C1-C6)-알콕시, (C3-C6)-사이클로알킬, 또는 메틸, 에틸, 메톡시, 트리플루오로메틸 및 할로겐의 그룹으로부터 선택된 s개의 래디칼에 의해 치환된 페닐이다.
상기 언급된 래디칼 Y1 내지 Y6에서, 화살표는 각 경우 나머지 분자 부분에 대한 결합을 의미한다.
본 발명에 따른 방법으로 제조될 수 있는 화학식 (IIIa)의 화합물은 래디칼 Y의 의미에 따라, 화학식 (IIIa1), (IIIa2), (IIIa3), (IIIa4), (IIIa5) 및 (IIIa6)의 구조를 가진다:
Figure 112013066926625-pct00006
본 발명에 따른 방법의 특정 이점은 또한 중간체의 분리없이, 단일-단계의 반응으로 수행될 수 있다는 것이다.
본 발명에 따른 방법의 추가 이점은 또한 반응동안 화학식 (Ib)의 화합물의 입체화학적 정보가 손실됨이 없이 화학식 (IIIa)의 화합물을 제공한다는 것이고, 즉, 라세미화가 일어나지 않고, 특히 설피닐 그룹 S(=O)R1 상에서 전혀 일어나지 않는다.
화학식 (I) 및 이후의 모든 화학식에서, 탄소 원자를 2개 초과로 가지는 알킬 래디칼은 직쇄 또는 분지형일 수 있다. 알킬 래디칼은, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필 또는 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, t-부틸 또는 2-부틸, 펜틸, 헥실, 예컨대 n-헥실, 이소헥실 및 1,3-디메틸부틸이다. 할로겐은 불소, 염소, 브롬 또는 요오드이다. 토실은 4-메틸페닐설포닐이다.
헤테로사이클릴은 3 내지 6개의 환 원자를 가지며, 그 중 1 내지 4개는 그룹 산소, 질소 및 황에서 비롯되며, 추가로 벤조 환에 의해 융합될 수 있는 포화, 부분 포화 또는 완전 불포화된 사이클릭 래디칼이다. 예를 들어, 헤테로사이클릴은 피페리디닐, 피롤리디닐, 테트라하이드로푸라닐, 디하이드로푸라닐 및 옥세타닐이다.
헤테로아릴은 3 내지 6개의 환 원자를 가지며, 그 중 1 내지 4개는 그룹 산소, 질소 및 황에서 비롯되며, 추가로 벤조 환에 의해 융합될 수 있는 방향족 사이클릭 래디칼이다. 예를 들어, 헤테로아릴은 벤즈이미다졸-2-일, 푸라닐, 이미다졸릴, 이속사졸릴, 이소티아졸릴, 옥사졸릴, 피라지닐, 피리미디닐, 피리다지닐, 피리디닐, 벤즈이속사졸릴, 티아졸릴, 피롤릴, 피라졸릴, 티오페닐, 1,2,3-옥사디아졸릴, 1,2,4-옥사디아졸릴, 1,2,5-옥사디아졸릴, 1,3,4-옥사디아졸릴, 1,2,4-트리아졸릴, 1,2,3-트리아졸릴, 1,2,5-트리아졸릴, 1,3,4-트리아졸릴, 1,2,4-트리아졸릴, 1,2,4-티아디아졸릴, 1,3,4-티아디아졸릴, 1,2,3-티아디아졸릴, 1,2,5-티아디아졸릴, 2H-1,2,3,4-테트라졸릴, 1H-1,2,3,4-테트라졸릴, 1,2,3,4-옥사트리아졸릴, 1,2,3,5-옥사트리아졸릴, 1,2,3,4-티아트리아졸릴 및 1,2,3,5-티아트리아졸릴이다.
그룹이 래디칼에 의해 2 이상으로 치환된다면, 이는 상기 그룹이 상술된 하나 이상의 동일하거나 상이한 래디칼에 의해 치환됨을 의미하는 것이다.
이하 모든 화학식에서, 치환체, 부호 및 지수는 달리 정의되지 않으면, 상기 언급된 화학식 (Ib), (II), (IIIa), (IIIa1), (IIIa2), (IIIa3), (IIIa4), (IIIa5), Y1, Y2, Y3, Y4 및 Y5에 대해서 기술된 것과 동일한 의미를 가진다.
본 발명에 따른 방법에서, 래디칼, 부호 및 지수는 바람직하게는 다음의 의미를 가진다:
R1은 (C1-C4)-알킬이고,
R2는 니트로, 할로겐, (C1-C4)-알킬, 트리플루오로메틸, (C1-C4)-알콕시, 메틸설포닐, 메톡시메틸, 메톡시메톡시메틸, 에톡시에톡시메틸, 에톡시메톡시메틸, 메톡시에톡시메틸, 메톡시프로폭시메틸, 메틸설포닐메틸, 메틸설포닐에톡시메틸, 메톡시에틸설포닐메틸, 메틸설포닐에틸설포닐메틸이며,
R3은 불소, 염소, 브롬, 요오드, CF3 또는 그룹 SO2R이고,
Y는 하기 래디칼 Y1, Y2, Y3, Y4, Y5 또는 Y6이며:
Figure 112013066926625-pct00007
R6은 메틸, 에틸, n-프로필 또는 이소프로필이고,
R7은 수소, 메틸, 에틸, n-프로필 또는 이소프로필이며,
R8은 수소, (C1-C3)-알킬설포닐, (C1-C2)-알콕시-(C1-C4)-알킬설포닐, 또는 각 경우 s개의 메틸 그룹에 의해 치환된 페닐설포닐, 티오페닐-2-설포닐, 벤조일, 벤조일-(C1-C6)-알킬 또는 벤질이고,
s는 0, 1, 2 또는 3이며,
R9는 (C1-C6)-알킬, (C3-C7)-사이클로알킬, 할로-(C1-C6)-알킬, (C3-C7)-사이클로알킬메틸, 메톡시카보닐메틸, 에톡시카보닐메틸, 아세틸메틸, 메톡시메틸, 또는 메틸, 메톡시, 트리플루오로메틸 및 할로겐의 그룹으로부터 선택된 s개의 래디칼에 의해 치환된 페닐 또는 벤질이고,
R9*는 수소, (C1-C6)-알킬, 할로-(C1-C6)-알킬, (C3-C6)-사이클로알킬, COR1, OR1, COOR1 또는 (C1-C6)-알킬페닐이며,
R10은 하이드록시이고,
R11 및 R16은 서로 독립적으로 수소 또는 (C1-C4)-알킬이거나, 또는
래디칼 R11 및 R16은 함께, 메틸렌 그룹 또는 에틸렌 그룹을 형성하며,
R12 및 R15는 서로 독립적으로 수소, 메틸 또는 에틸이고,
R13 및 R14는 서로 독립적으로 수소, 메틸 또는 에틸이다.
본 발명에 따른 방법은 일반적으로 화학식 (Ib) 및 (II)의 화합물이 유기 용매에서 염기의 존재하에 염소화제와 반응하도록 수행된다. 화학식 (Ib) 및 (II)의 화합물의 반응성에 따라, 본 발명에 따른 방법은 또한 시아나이드 공급원의 존재하에 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법은 사용되는 반응물의 반응성에 따라, 넓은 온도 범위에서 수행될 수 있다. 보통은 -100 내지 -5 ℃, 바람직하게는 -80 내지 -15 ℃, 특히 바람직하게는 -50 내지 -20 ℃의 온도에서 수행된다.
적합한 염소화제는 티오닐 클로라이드, 옥시염화인, 옥살릴 클로라이드 및 포스겐이다. 바람직한 염소화제는 티오닐 클로라이드 및 포스겐이다. 특히 바람직한 염소화제는 티오닐 클로라이드이다.
사용되는 염기는 일반적으로 약염기, 즉 pKB 값이 4.75를 초과하는 것이다. 바람직한 염기는 유기 아민이다. 특히 바람직한 염기는 피리딘, 알킬피리딘, 예컨대 3-메틸피리딘 및 디알킬피리딘, 예컨대 3,5-디메틸피리딘 또는 2-메틸-5-에틸피리딘이다.
적합한 용매는 비프로톤성 및 쌍극성 비프로톤성 용매, 예컨대 알칸산 알킬 에스테르, 클로로알칸, 클로로방향족, 클로로알킬방향족, 알킬니트릴 및 아릴니트릴이다. 바람직한 용매는 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 이소프로필 아세테이트, 부틸 아세테이트, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로톨루엔, 아세토니트릴, 부티로니트릴 및 벤조니트릴이다. 특히 바람직한 용매는 에틸 아세테이트, 디클로로메탄 및 디클로로에탄이다.
사용되는 시아나이드 공급원은 일반적으로 상기 언급된 용매에서 시아나이드 분리가 가능한 시아나이드 화합물이다. 바람직한 시아나이드 공급원은 아세톤 시아노히드린 및 알칼리 금속 시아나이드, 예컨대 시안화칼륨 및 시안화나트륨이다. 특히 바람직한 시아나이드 공급원은 아세톤 시아노히드린이다.
본 발명에 따른 방법에서, 화학식 (Ib) 및 (II)의 화합물은 일반적으로 화학양론적 비로 사용된다. 염소화제는 일반적으로 화학식 (Ib)의 화합물에 대해 1:1 내지 1.5:1의 비로 사용된다. 염기는 일반적으로 화학식 (Ib)의 화합물에 대해 1:1 내지 6:1의 비로 사용된다. 필요에 따라, 시아나이드 공급원이 촉매량, 즉 화학식 (Ib)의 화합물에 대해 약 1 내지 10 mol%로 사용된다.
일반적으로, 본 발명에 따른 방법은 저온에서 조차 신속하면서 고수율로 진행된다. 이하, 본 발명에 따른 방법을 더욱 상세히 설명하기 위하여 실시예가 제시된다.
1a. (5-하이드록시-1-메틸-1H-피라졸-4-일)[2-메톡시-3-(메틸설피닐)-4-(트리플루오로메틸)페닐]메타논의 제조
3.0 g의 2-메톡시-3-메틸설피닐-4-트리플루오로메틸벤조산 및 1.02 g의 3-하이드록시-2-메틸피라졸을 불활성 분위기하에 30 ml의 에틸 아세테이트 및 4.21 ml의 피리딘에 현탁시키고, 교반하면서 -20 ℃로 냉각하였다. 이어, 1.24　g의 티오닐 클로라이드를 온도가 항상 -15 ℃ 이하로 유지되도록 천천히 적가하였다. 티오닐 클로라이드를 모두 적가한 후, 혼합물을 20 분 더 교반하고, -10 ℃로 가온하였다. 다음으로, 10 ml의 냉수를 첨가하고, 혼합물을 0 ℃로 가온하였다. 40 ml의 헵탄을 첨가한 후, 현탁액을 여과하고, 20 ml의 헵탄, 10 ml의 물 및 다시 20 ml의 헵탄으로 세척하였다. 건조하여 3.32 g의 (5-하이드록시-1-메틸-1H-피라졸-4-일)[2-메톡시-3-(메틸설피닐)-4-(트리플루오로메틸)페닐]메타논 (84% 수율)을 수득하였다.
1b. (5-하이드록시-1-메틸-1H-피라졸-4-일)[2-메톡시-3-(메틸설피닐)-4-(트리플루오로메틸)페닐]메타논의 제조
3.0 g의 2-메톡시-3-메틸설피닐-4-트리플루오로메틸벤조산 및 1.02 g의 3-하이드록시-2-메틸피라졸을 불활성 분위기하에 20 ml의 에틸 아세테이트 및 5.07 ml의 3-메틸피리딘에 현탁시키고, 교반하면서 -25 ℃로 냉각하였다. 이어, 1.24　g의 티오닐 클로라이드를 온도가 항상 -20 ℃ 이하로 유지되도록 천천히 적가하였다. 티오닐 클로라이드를 모두 적가한 후, 혼합물을 20 분 더 교반하였다. 40 ㎕의 냉수 및 20 ml의 메틸사이클로헥산을 첨가하였다. 다음으로, 혼합물을 -25 ℃에서 20 분동안 교반하였다. 현탁액을 여과하고, 10　ml의 메틸사이클로헥산으로 1회, 각 경우 10　ml의 물로 2회 세척하였다. 건조하여 3.67　g의 (5-하이드록시-1-메틸-1H-피라졸-4-일)[2-메톡시-3-(메틸설피닐)-4-(트리플루오로메틸)페닐]메타논 (86.5% 수율)을 수득하였다.
2. [3-(에틸설피닐)-2-메틸-4-(메틸설포닐)페닐](5-하이드록시-1-메틸-1H-피라졸-4-일)메타논의 제조
305 mg의 2-메틸-3-에틸설피닐-4-메틸설포닐벤조산 및 106　mg의 3-하이드록시-2-메틸피라졸을 불활성 분위기하에서 2 ml의 에틸 아세테이트 및 407 mg의 피리딘에 현탁시키고, 교반하면서 -25 ℃로 냉각하였다. 이어, 129 mg의 티오닐 클로라이드를 온도가 항상 -20 ℃ 이하로 유지되도록 천천히 적가하였다. 티오닐 클로라이드를 모두 적가한 후, 혼합물을 20 분 더 교반하였다. 27 mg의 3-하이드록시-2-메틸피라졸을 추가하고, 42 mg의 티오닐 클로라이드를 온도가 항상 -25 ℃ 이하로 유지되도록 천천히 적가하였다. 4　㎕의 냉수를 첨가하고, 혼합물을 0 ℃로 가온하였다. 수성상에서 유기상을 분리한 후, 수성상을 각 경우 5 ml의 에틸 아세테이트로 2회 추출하였다. 모아진 유기상을 건조하여 370 mg의 [3-(에틸설피닐)-2-메틸-4-(메틸설포닐)페닐](5-하이드록시-1-메틸-1H-피라졸-4-일)메타논 (91% 수율)을 수득하였다.
3. (5-하이드록시-1-메틸-1H-피라졸-4-일)[2-메틸-3-(메틸설피닐)-4-(트리플루오로메틸)페닐]메타논의 제조
3.0 g의 2-메틸-3-메틸설피닐-4-트리플루오로메틸벤조산 및 1.25 g의 3-하이드록시-2-메틸피라졸을 불활성 분위기하에서 20 ml의 에틸 아세테이트 및 4.8　g의 피리딘에 현탁시키고, 교반하면서 -25 ℃로 냉각하였다. 이어, 1.51　g의 티오닐 클로라이드를 온도가 항상 -20 ℃ 이하로 유지되도록 천천히 적가하였다. 티오닐 클로라이드를 모두 적가한 후, 혼합물을 20 분 더 교반하였다. 40 ㎕의 냉수, 10 ml의 에틸 아세테이트 및 10　ml의 물을 첨가하고, 혼합물을 0 ℃로 가열하였다. 수성상에서 유기상을 분리한 후, 수성상을 각 경우 5 ml의 에틸 아세테이트로 2회 추출하였다. 모아진 유기상을 건조하여 3.69 g의 (5-하이드록시-1-메틸-1H-피라졸-4-일)[2-메틸-3-(메틸설피닐)-4-(트리플루오로메틸)페닐]메타논 (90.7% 수율)을 수득하였다.
4. 3-[2-메톡시-3-(메틸설피닐)-4-(트리플루오로메틸)벤조일옥시]사이클로헥스-2-엔-1-온의 제조
3.0 g의 2-메톡시-3-메틸설피닐-4-트리플루오로메틸벤조산 및 1.68 g의 1,3-사이클로헥산디온을 불활성 분위기하에서 20 ml의 에틸 아세테이트 및 5.61 ml의 피리딘에 현탁시키고, 교반하면서 -25 ℃로 냉각하였다. 이어, 1.73　g의 티오닐 클로라이드를 온도가 항상 -20 ℃ 이하로 유지되도록 천천히 적가하였다. 티오닐 클로라이드를 모두 적가한 후, 혼합물을 20 분 더 교반하였다. 38 ㎕의 냉수를 첨가하고, 혼합물을 0 ℃로 가온하였다. 10 ml의 에틸 아세테이트 및 10 ml의 물을 첨가하였다. 수성상에서 유기상을 분리한 후, 수성상을 각 경우 5 ml의 에틸 아세테이트로 2회 추출하였다. 모아진 유기상을 건조하여 3.57 g의 3-[2-메톡시-3-(메틸설피닐)-4-(트리플루오로메틸)벤조일옥시]사이클로헥스-2-엔-1-온 (85.5% 수율)을 수득하였다.

Claims (15)

  1. 화학식 (Ib)의 3-알킬설피닐벤조산을 염소화제 및 염기의 존재하에 화학식 (II)의 화합물과 단일-단계로 반응시키고, 상기 반응을 -80 내지 -15℃의 온도에서 수행하는 것을 특징으로 하는, 화학식 (IIIa)의 3-알킬설피닐벤조일 유도체의 제조방법::
    Figure 112018077603028-pct00008

    상기 반응식에서, 래디칼, 부호 및 및 지수는 다음의 의미를 가진다:
    R1은 각 경우 할로겐, (C1-C2)-알콕시 및 할로-(C1-C2)-알킬로 구성된 그룹으로부터 선택된 s개의 래디칼에 의해 치환된 (C1-C8)-알킬, (C3-C8)-사이클로알킬 또는 벤질이고,
    R2는 수소, 머캅토, 니트로, 할로겐, 시아노, 로다노, (C1-C6)-알킬, (C1-C6)-할로알킬, (C2-C6)-알케닐, (C2-C6)-할로알케닐, (C2-C6)-알키닐, (C3-C6)-할로알키닐, (C3-C6)-사이클로알킬, OR4, OCOR4, OSO2R4, S(O)nR4, SO2OR4, SO2N(R4)2, NR4SO2R4, NR4COR4, (C1-C6)-알킬-S(O)nR4, (C1-C6)-알킬-OR4, (C1-C6)-알킬-OCOR4, (C1-C6)-알킬-OSO2R4, (C1-C6)-알킬-SO2OR4, (C1-C6)-알킬-SO2N(R4)2 또는 (C1-C6)-알킬-NR4COR4이며,
    R3은 불소, 염소, 브롬, 요오드, 니트로, CF3 또는 그룹 SO2R이고,
    R4는 수소, 또는 각 경우 하이드록시, 머캅토, 아미노, 시아노, 니트로, 로다노, OR5, SR5, N(R5)2, NOR5, OCOR5, SCOR5, NR5COR5, CO2R5, COSR5, CON(R5)2, (C1-C4)-알킬이미노옥시, (C1-C4)-알킬카보닐, (C1-C4)-알콕시-(C2-C6)-알콕시카보닐 및 (C1-C4)-알킬설포닐 그룹으로부터의 s개의 래디칼에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬, (C2-C6)-알케닐, (C2-C6)-알키닐, (C3-C6)-사이클로알킬, 페닐 또는 페닐-(C1-C6)-알킬이며,
    R5는 수소, (C1-C6)-알킬, (C2-C6)-알케닐 또는 (C2-C6)-알키닐이고,
    R은 (C1-C4)-알킬이며,
    n은 0, 1 또는 2이고,
    s는 0, 1, 2 또는 3이며,
    Y는 하기 래디칼 Y1 또는 Y6이고:
    Figure 112018077603028-pct00012

    R6은 (C1-C4)-알킬이며,
    R7은 수소 또는 (C1-C4)-알킬이고,
    R8은 수소, (C1-C6)-알킬설포닐, (C1-C4)-알콕시-(C1-C6)-알킬설포닐, 또는 각 경우 할로겐, (C1-C4)-알킬 및 (C1-C4)-알콕시로 구성된 그룹으로부터 선택된 s개의 래디칼에 의해 치환된 페닐설포닐, 티오페닐-2-설포닐, 벤조일, 벤조일-(C1-C6)-알킬 또는 벤질이며,
    R10은 하이드록시 또는 SR17이고,
    R11 및 R16은 서로 독립적으로 수소 또는 (C1-C4)-알킬이거나, 또는
    래디칼 R11 및 R16은 함께 -O-, -S-, 또는 -(CH2)1-4-를 형성하며,
    R12 및 R15는 서로 독립적으로 수소 또는 (C1-C4)-알킬이고,
    R13 및 R14는 서로 독립적으로 수소 또는 (C1-C4)-알킬이거나, 또는 이들이 결합된 탄소 원자와 함께, 카보닐 그룹을 형성하며,
    R17은 (C1-C4)-알킬, 또는 니트로, 시아노, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-할로알킬, (C1-C4)-알콕시 및 (C1-C4)-할로알콕시로 구성된 그룹으로부터 선택된 s개의 래디칼에 의해 치환된 페닐, 또는 부분 또는 완전 할로겐화된 페닐이다.
  2. 제1항에 있어서,
    R1이 (C1-C4)-알킬이고,
    R2는 니트로, 할로겐, (C1-C4)-알킬, 트리플루오로메틸, (C1-C4)-알콕시, 메틸설포닐, 메톡시메틸, 메톡시메톡시메틸, 에톡시에톡시메틸, 에톡시메톡시메틸, 메톡시에톡시메틸, 메톡시프로폭시메틸, 메틸설포닐메틸, 메틸설포닐에톡시메틸, 메톡시에틸설포닐메틸, 메틸설포닐에틸설포닐메틸이며,
    R3은 불소, 염소, 브롬, 요오드, CF3 또는 그룹 SO2R이고,
    Y는 하기 래디칼 Y1 또는 Y6이며:
    Figure 112018077603028-pct00013

    R6은 메틸, 에틸, n-프로필 또는 이소프로필이고,
    R7은 수소, 메틸, 에틸, n-프로필 또는 이소프로필이며,
    R8은 수소, (C1-C3)-알킬설포닐, (C1-C2)-알콕시-(C1-C4)-알킬설포닐, 또는 각 경우 s개의 메틸 그룹에 의해 치환된 페닐설포닐, 티오페닐-2-설포닐, 벤조일, 벤조일-(C1-C6)-알킬 또는 벤질이고,
    s는 0, 1, 2 또는 3이며,
    R10은 하이드록시이고,
    R11 및 R16은 서로 독립적으로 수소 또는 (C1-C4)-알킬이거나, 또는
    래디칼 R11 및 R16은 함께, 메틸렌 그룹 또는 에틸렌 그룹을 형성하며,
    R12 및 R15는 서로 독립적으로 수소, 메틸 또는 에틸이고,
    R13 및 R14는 서로 독립적으로 수소, 메틸 또는 에틸인 것을 특징으로 하는 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 반응이 -50 내지 -20℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 염소화제가 티오닐 클로라이드, 옥시염화인, 옥살릴 클로라이드 및 포스겐으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 염소화제가 티오닐 클로라이드 및 포스겐으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 염소화제가 티오닐 클로라이드인 것을 특징으로 하는 제조방법.
  7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 염기가 pKB 값이 4.75를 초과하는 약염기의 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  8. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 염기가 유기 아민의 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  9. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 염기가 피리딘, 3-메틸피리딘 및 3,5-디메틸피리딘으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  10. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 (Ib) 및 화학식 (II)의 화합물을 비프로톤성 용매 및 쌍극성 비프로톤성 용매의 그룹으로부터 선택되는 용매 중에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  11. 제10항에 있어서, 용매가 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 이소프로필 아세테이트, 부틸 아세테이트, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로톨루엔, 아세토니트릴, 부티로니트릴 및 벤조니트릴로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  12. 제10항에 있어서, 용매가 에틸 아세테이트, 디클로로메탄 및 디클로로에탄으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  13. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 (Ib) 및 화학식 (II)의 화합물을 아세톤 시아노히드린 및 알칼리 금속 시아나이드로 구성된 그룹으로부터 선택되는 시아나이드 공급원의 존재하에 반응시키는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  14. 제13항에 있어서, 시아나이드 공급원이 아세톤 시아노히드린인 것을 특징으로 하는 제조방법.
  15. 삭제
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