KR101883140B1 - 픽셀 규정 층을 갖는 디스플레이 기판 및 제조 방법, 및 그를 포함하는 디스플레이 장치 - Google Patents

픽셀 규정 층을 갖는 디스플레이 기판 및 제조 방법, 및 그를 포함하는 디스플레이 장치 Download PDF

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Abstract

기판(100) 상에 픽셀 규정 층(20)을 형성시키는 것을 포함하는, 디스플레이 기판의 제조 방법이 제공된다. 픽셀 규정 층(20)의 제조 방법은, 기판(100) 상에 픽셀 규정 층 기본 패턴(200)을 형성시키는 단계이며, 상기 픽셀 규정 층 기본 패턴(200)은 무기 재료의 제1 패턴(200a)을 포함하고, 제1 패턴(200a)은 픽셀 규정 층 기본 패턴(200)의 최상 위치에 위치하는 것인 단계; 및 제1 패턴(200a) 상에서 자가-조립된 단분자 층 표면 처리를 수행하고, 제1 패턴의 표면 상에 플루오로 단분자 층(210)을 형성하여 픽셀 규정 층(20)을 형성시키는 단계를 포함한다. 상기 방법에 의해 형성된 픽셀 규정 층의 소액성(lyophobicity)은 장기간 유지될 수 있다.

Description

픽셀 규정 층을 갖는 디스플레이 기판 및 제조 방법, 및 그를 포함하는 디스플레이 장치 {DISPLAY SUBSTRATE WITH PIXEL DEFINITION LAYER AND PREPARATION METHOD, AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME}
본 발명의 실시양태는 픽셀 규정 층을 갖는 디스플레이 기판 및 제조 방법, 및 그를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다.
최근 몇 년간, 연구원들은 평면 기능성 재료의 제조, 예컨대 유기 전기발광성 발광 다이오드 디스플레이의 유기 재료 기능성 층의 제조, 액정 디스플레이의 컬러 필터 층의 제조 등에 잉크-젯 인쇄 기술을 적용하고자 하였다. 일반적으로 디스플레이 기판에서 픽셀 규정 층을 제조하는 것이 필요하다.
본 발명의 실시양태는 픽셀 규정 층의 소액(lyophobic) 성능이 장기간 유지될 수 있게 하는, 픽셀 규정 층을 포함하는 디스플레이 기판 및 제조 방법, 및 그를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 실시양태는 하기 기술적 해결책을 사용한다.
픽셀 규정 층을 포함하는 디스플레이 기판이며, 여기서
픽셀 규정 층은 픽셀 규정 층의 기본 패턴의 상단 부분인 무기 재료의 제1 패턴을 포함하는 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 포함하고;
픽셀 규정 층은 제1 패턴의 표면 상에 자가-조립된 플루오린화 단분자 층을 추가로 포함하는 것인 디스플레이 기판.
한 측면에서, 기판 상에 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 단계이며, 상기 픽셀 규정 층의 기본 패턴은 픽셀 규정 층의 기본 패턴의 상단 부분인 무기 재료의 제1 패턴을 포함하는 것인 단계; 및 제1 패턴에 대해 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하여 제1 패턴의 표면 상에 플루오린화 단분자 층을 형성함으로써 픽셀 규정 층을 형성시키는 단계를 포함하는, 픽셀 규정 층의 제조 방법.
일부 실시양태에서, 제1 패턴에 대해 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하는 것은, 픽셀 규정 층의 기본 패턴 사이에 제1 패턴을 노광시키는 감광성 유기 수지 층을 형성시키는 단계; 노광된 제1 패턴에 대해 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하는 단계를 포함하며; 제1 패턴의 표면 상에 플루오린화 단분자 층이 형성된 후, 상기 방법은 감광성 유기 수지 층을 제거하는 단계를 추가로 포함한다.
상기를 기초로, 하나의 가능한 구현은 기판 상에 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 것이 기판 상에 무기 재료의 제1 필름을 형성시키는 단계; 및 제1 필름에 대해 패턴화 공정을 수행하여 제1 패턴 및 제2 패턴으로 구성된 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 단계를 포함하는 것이다.
일부 실시양태에서, "픽셀 규정 층의 기본 패턴 사이에 제1 패턴을 노광시키는 감광성 유기 수지 층을 형성시키는 것"은, 상부에 픽셀 규정 층의 기본 패턴이 형성된 기판 상에, 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 피복하는 감광성 유기 수지 재료의 제2 필름을 형성시키는 단계; 및 제2 필름을 플라즈마에 의해 에칭하여, 픽셀 규정 층의 기본 패턴 사이의 제2 필름이 감광성 유기 수지 층으로 형성되도록 제1 패턴을 노광시키는 단계를 포함한다.
또 다른 가능한 구현은 기판 상에 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 것이 기판 상에 제1 패턴 및 유기 재료의 제3 패턴으로 구성된 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 단계를 포함하는 것이다.
일부 실시양태에서, 기판 상에 제1 패턴 및 유기 재료의 제3 패턴으로 구성된 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 것은, 기판 상에 네거티브(negative) 감광성 유기 수지 재료의 제3 필름, 무기 재료의 제4 필름 및 네거티브 감광성 유기 수지 재료의 제5 필름을 순차적으로 형성시키는 단계; 상부에 제3 필름, 제4 필름 및 제5 필름이 형성된 기판을, 제3 필름 내 경화된 부분이 제3 패턴을 형성하고 제5 필름 내 경화된 부분이 제5 패턴을 형성하도록 통상의 마스크를 사용하여 노광시키고, 제5 필름 내 비경화된 부분을 현상 후 제거하는 단계; 및 제4 필름을 마스크로서의 제5 패턴을 사용하여 에칭함으로써 제1 패턴을 형성시키는 단계이며, 여기서 제3 패턴 및 제1 패턴은 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 구성하는 것인 단계를 포함하며;
픽셀 규정 층의 기본 패턴 사이에 감광성 유기 수지 층을 형성시키는 것은 제3 필름 내 비경화된 부분을 제5 패턴 제거 후 감광성 유기 수지 층으로 형성시키는 단계를 포함한다.
상기에 비추어, 일부 실시양태에서, 제1 패턴에 대해 플루오로실란을 사용하여 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하고; 제1 패턴에 대해 플루오로실란을 사용하여 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하기 전에, 상기 방법은 제1 패턴에 대해 히드록실화 처리를 수행하는 것을 추가로 포함한다.
추가 측면에서, 픽셀 규정 층은 픽셀 규정 층의 기본 패턴의 상단 부분인 무기 재료의 제1 패턴을 포함하는 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 포함하고, 제1 패턴의 표면 상에 자가-조립된 플루오린화 단분자 층을 추가로 포함한다.
일부 실시양태에서, 픽셀 규정 층의 기본 패턴은 무기 재료의 제1 패턴 및 무기 재료의 제2 패턴을 포함하고, 제1 패턴 및 제2 패턴은 일체형으로 형성된다.
일부 실시양태에서, 픽셀 규정 층의 기본 패턴은 무기 재료의 제1 패턴 및 유기 재료의 제3 패턴을 포함한다.
일부 실시양태에서, 제3 패턴의 재료는 경화된 후 감광성 유기 수지 재료이다.
추가 측면에서, 상기 기재된 바와 같은 픽셀 규정 층을 포함하는 디스플레이 기판이 제공된다.
추가 측면에서, 기판 상에 픽셀 규정 층을 형성시키는 것을 포함하는, 디스플레이 기판의 제조 방법이 제공되며, 여기서 픽셀 규정 층을 제조하는 방법은 상기 기재된 바와 같은 픽셀 규정 층을 제조하는 방법이다.
추가 측면에서, 상기 기재된 바와 같은 디스플레이 기판을 포함하는 디스플레이 장치가 제공된다.
본 발명의 실시양태는 픽셀 규정 층 및 그의 제조 방법, 디스플레이 기판 및 그의 제조 방법, 및 디스플레이 장치를 제공하며, 상기 픽셀 규정 층의 제조 방법은, 기판 상에 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 단계이며, 상기 픽셀 규정 층의 기본 패턴은 픽셀 규정 층의 기본 패턴의 상단 부분인 무기 재료의 제1 패턴을 포함하는 것인 단계; 및 제1 패턴에 대해 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하여 제1 패턴의 표면 상에 플루오린화 단분자 층을 형성함으로써 픽셀 규정 층을 형성시키는 단계를 포함한다. 자가-조립된 플루오린화 단분자 층은 공유 결합을 통해 제1 패턴에 연결되기 때문에, 장기간에 걸친 배치(placement), 통상적인 세정 단계 (플라즈마 제외), 및 어닐링(annealing)과 같은 공정은 그의 소액 성능에 영향을 미치지 않을 것이다. 따라서, 상기와 같은 방법에 의해 형성된 픽셀 규정 층의 소액 성능은 그의 서비스 불능(out-of-service)에 관한 염려 없이 장기간 유지될 수 있다. 또한, 자가-조립된 플루오린화 단분자 층의 접촉각은 110°까지 달성될 수 있다.
본 발명의 실시양태의 기술적 해결책을 보다 명확하게 예시하기 위해, 실시양태의 도면을 하기에 간단히 기재한다. 분명히, 하기 기재된 도면은 본 발명의 단지 일부 실시양태에 관한 것이고, 본 발명을 제한하는 것이 아니다.
도 1은 유기 전기발광성 발광 다이오드 디스플레이의 개략적 평면도(top view)이다.
도 2는 픽셀 규정 층의 개략적 구조도이다.
도 3a 및 3b는 본 발명의 실시양태에 따른 픽셀 규정 층을 제조하기 위한 공정의 개략도 I이다.
도 4는 본 발명의 실시양태에 따른 무기 재료의 제1 패턴 상의 자가-조립 플루오로옥틸 트리클로로실란에 대한 원리의 개략도이다.
도 5a 및 5b는 본 발명의 실시양태에 따른 픽셀 규정 층을 제조하기 위한 공정의 개략도 II이다.
도 6은 본 발명의 실시양태에 따른 픽셀 규정 층의 기본 패턴 사이에 감광성 유기 수지 층을 형성시키기 위한 공정의 개략도이다.
도 7a 내지 7e는 본 발명의 실시양태에 따른 픽셀 규정 층을 제조하기 위한 공정의 개략도 III이다.
도 8a 내지 8d는 본 발명의 실시양태에 따른 유기 발광 다이오드 (OLED)용 디스플레이 기판을 제조하기 위한 공정의 개략도이다.
<도면 부호의 설명>
01 - 픽셀 영역; 02 - 비-픽셀 영역; 20 - 픽셀 규정 층; 100 - 기판; 200 - 픽셀 규정 층의 기본 패턴; 200a - 제1 패턴; 200b - 제2 패턴; 210 - 플루오린화 단분자 층; 300 - (감광성) 유기 수지 층; 300a - 감광성 유기 수지 재료의 제2 필름; 400 - 네거티브 감광성 유기 수지 재료의 제3 필름; 400a - 제3 패턴; 500 - 무기 재료의 제4 필름; 600 - 네거티브 감광성 유기 수지 재료의 제5 필름; 600a - 제5 패턴; 700 - 제1 전극; 800 - 유기 재료 기능성 층; 900 - 제2 전극 층.
목적을 보다 명확히 하기 위해, 본 발명의 실시양태의 기술적 해결책 및 이점, 본 발명의 실시양태의 기술적 해결책의 명확하고 완전한 설명은 본 발명의 실시양태의 첨부된 도면을 들어 이루어질 것이다. 명백하게, 기재된 실시양태는 본 발명의 실시양태의 전부가 아니라 단지 일부이다. 기재된 본 발명의 실시양태에 기반하여, 창의적인 노력이 전혀 없이 관련 기술분야의 통상의 기술자에 의해 획득되는 모든 다른 실시양태는 본 발명의 보호 범위 내에 속한다.
도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같은 유기 전기발광성 발광 다이오드 디스플레이 (OLED)를 예로 들면, 유기 전기발광성 발광 다이오드는 픽셀 영역(01) 및 비-픽셀 영역(02)을 포함하며, 상기 픽셀 영역(01)은 복수의 픽셀(10)로 이루어지고, 여기서 각각의 픽셀(10)은 기판(100) 상에 순차적으로 배치된 애노드, 유기 재료 기능성 층 및 캐소드를 포함한다 (도 1 및 도 2에 도시하지 않음). 잉크-젯 인쇄에 의해 애노드 상에 유기 재료 기능성 층의 형성 시, 잉크의 유동성으로 인해, 그리고 인접 픽셀(10)에 인쇄되는 잉크-젯인 잉크의 과류를 감소시키기 위해, 픽셀 규정 층(20)은 전형적으로 비-픽셀 영역(02) 내에 제공되어 각각의 픽셀(10)을 에워싸는 복수의 공간을 형성하며, 잉크-젯 인쇄되는 유기 재료 기능성 층의 잉크는 잉크-젯 인쇄에 의해 상기 에워싸는 공간에 분무되고, 즉, 애노드 표면 상에 분무된다.
픽셀 규정 층(20)은 기판(100) 상에 형성된 픽셀 규정 층의 기본 패턴으로 이루어진다. 픽셀 규정 층(20)의 소액성을 달성하기 위해, 현재 가장 통상적인 소액 처리 방법은 상기 픽셀 규정 층의 기본 패턴에 대해 플루오린-함유 플라즈마 처리를 수행하는 것이다. 그러나, 플라즈마의 특성으로 인해, 그 성능은 일반적으로 장기간 유지될 수 없다. 이에 따라, 장기간의 제조 공정 또는 고온의 어닐링 공정의 수행 시 비효율성이 야기될 수 있다.
본 발명의 실시양태는 하기 단계들을 포함하는, 픽셀 규정 층의 제조 방법을 제공한다:
S01. 도 3a에 나타낸 바와 같이, 기판(100) 상에 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)을 형성시키는 단계이며, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)의 상단 부분인 무기 재료의 제1 패턴(200a)을 포함하는 것인 단계.
즉, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 제1 패턴(200a) 이외에 다른 패턴을 추가로 포함하며, 제1 패턴은 다른 패턴 상에 또는 그 위쪽에 위치한다.
"픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)의 상단 부분인 무기 재료의 제1 패턴(200a)을 포함한다"는 것은 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)이 무기 재료의 제1 패턴(200a) 이외에 무기 재료의 제2 패턴(200b)을 추가로 포함하며, 제1 패턴(200a)은 제2 패턴(200b) 상에 또는 그 위쪽에 위치한다는 것일 수 있다.
본원에서, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)의 제1 패턴(200a) 및 제2 패턴(200b)이 동일한 재료를 갖는 상황 하에서는, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)이 동일한 무기 재료 필름에 의해 형성될 수 있고, 즉, 층의 무기 재료 필름의 두께는 제1 패턴(200a)의 두께 및 제2 패턴(200b)의 두께의 합이다. 이러한 경우, 제1 패턴(200a)과 제2 패턴(200b)의 구별은 단지 후속적으로 플루오린화 단분자 층(210)의 구조를 편리한 방식으로 기술하기 위한 것이다. 도 3a 및 도 3b에서 제1 패턴(200a)과 제2 패턴(200b)을 구별하는 파선은 실제로는 존재하지 않는 것이다.
물론, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)의 제1 패턴(200a) 및 제2 패턴(200b)이 동일한 재료를 갖는 상황 하에서는, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 또한 두 무기 재료 필름에 의해 형성될 수 있고, 즉, 무기 재료 필름 중 하나는 제1 패턴(200a)을 형성하는데 사용되고, 다른 하나의 무기 재료 필름은 제2 패턴(200b)을 형성하는데 사용되며, 이는 구체적으로 실제 조건에 좌우될 수 있고, 본원에서 제한되지 않을 것이다.
대안적으로, "픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)의 상단 부분인 무기 재료의 제1 패턴(200a)을 포함한다"는 것은 또한, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)이 무기 재료의 제1 패턴(200a) 이외에, 유기 재료와 같은 다른 재료의 제3 패턴을 추가로 포함하고, 제1 패턴(200a)은 제3 패턴 상에 또는 그 위쪽에 위치한다는 것일 수 있다. 이러한 경우, 제2 패턴(200b)과 제3 패턴 간의 차이는 단지 재료에 있다.
물론 본 발명의 실시양태는, 무기 재료의 제1 패턴(200a) 이외에, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 단지 제3 패턴만을 포함하지만, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 또한, 제1 패턴(200a)이 그의 상단 부분인 경우, 이들 패턴이 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)을 구성할 수 있는 한 다른 패턴도 포함하는 것으로 제한되지 않는다.
상기 상황을 기초로, 실제 조건에 따라 설정될 수 있으며, 본원에서 제한되지 않을 것이다.
S02. 도 3b에 나타낸 바와 같이, 제1 패턴(200a)에 대해 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하여 제1 패턴(200a)의 표면 상에 플루오린화 단분자 층(210)을 형성함으로써 픽셀 규정 층(20)을 형성시키는 단계.
본원에서, 관련 기술분야의 통상의 기술자는 자가-조립 후, 플루오린화 단분자 층(210)은 공유 결합을 통해 제1 패턴(200a)에 연결됨을 알아야 한다.
일부 실시양태에서, 플루오로실란, 예컨대 플루오로옥틸 트리클로로실란을 자가-조립된 소액 재료로서 선택하여 제1 패턴(200a)에 대해 자가-조립된 표면 처리를 수행하며, 재료의 자가-조립을 위한 원리는 도 4에 나타낸 바와 같다. 플루오로실란은 화학식 Si(R1)4 (여기서, 각각의 R1은 할로겐 및 플루오로알킬로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고, 적어도 하나의 R1은 할로겐이고, 적어도 하나의 R1은 플루오로알킬임)를 가질 수 있다. 일부 실시양태에서, 2개의 R1은 할로겐이고, 2개의 R1은 플루오로알킬이다. 일부 실시양태에서, 3개의 R1은 할로겐이고, 1개의 R1은 플루오로알킬이다. 일부 실시양태에서, 1개의 R1은 할로겐이고, 3개의 R1은 플루오로알킬이다.
일부 실시양태에서, 할로겐은 F, Cl, Br 및 I로 이루어진 군으로부터 선택된다. 일부 실시양태에서, 플루오로알킬은 플루오로 C1-20 알킬이다. 일부 실시양태에서, 플루오로알킬은 플루오로 C3-18 알킬이다. 일부 실시양태에서, 플루오로알킬은 플루오로 C4-12 알킬이다.
플루오로옥틸 트리클로로실란은 하기 화학식을 갖는다:
Figure 112018057472806-pat00001
일부 실시양태에서, 상부에 제1 패턴(200a)이 형성된 기판을 플루오로옥틸 트리클로로실란 분위기에 놓고 100 내지 250℃ 범위의 온도에서 2시간 동안 유지시킨다.
첫 번째로, 상기 기판(100)은 제한이 없고, 상부에 상응하는 패턴 층이 형성된 기판이거나 또는 상부에 패턴 층이 형성되지 않은 베이스 기판일 수 있음을 참고하여야 한다.
두 번째로, 제1 패턴(200a)의 두께는 제한이 없고, 실제 조건에 따라 설정될 수 있다.
세 번째로, 종래 기술의 픽셀 규정 층에는 플루오린화 단분자 층(210)이 추가로 제공되어 있지 않기 때문에, 본 발명의 실시양태의 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 사실상 종래 기술에 기재된 바와 같은 픽셀 규정 층이다.
본 발명의 실시양태는, 기판(100) 상에 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)을 형성시키는 단계이며, 상기 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)의 상단 부분인 무기 재료의 제1 패턴(200a)을 포함하는 것인 단계; 및 제1 패턴(200a)에 대해 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하여 제1 패턴(200a)의 표면 상에 플루오린화 단분자 층(210)을 형성함으로써 픽셀 규정 층(20)을 형성시키는 단계를 포함하는, 픽셀 규정 층의 제조 방법을 제공한다. 자가-조립된 플루오린화 단분자 층(210)은 공유 결합을 통해 제1 패턴(200a)에 연결되기 때문에, 장기간에 걸친 배치, 일반 세정 단계 (플라즈마 제외), 및 어닐링과 같은 공정은 그의 소액 성능에 영향을 미치지 않을 것이다. 따라서, 상기와 같은 방법에 의해 형성된 픽셀 규정 층(20)의 소액 성능은 그의 서비스 불능에 관한 염려 없이 장기간 유지될 수 있다. 또한, 자가-조립된 플루오린화 단분자 층(210)의 접촉각은 110°까지 달성될 수 있다.
일부 실시양태에서, 상기 S02는 구체적으로 하기 단계들을 포함할 수 있다:
S201. 도 5a에 나타낸 바와 같이, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200) 사이에 제1 패턴(200a)을 노광시키는 감광성 유기 수지 층(300)을 형성시키는 단계.
S202. 노광된 제1 패턴(200a)에 대해 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하는 단계.
S203. 도 5b에 나타낸 바와 같이, 제1 패턴(200a)의 표면 상에 플루오린화 단분자 층(210)을 형성하여 픽셀 규정 층(20)을 형성시키는 단계.
S204. 감광성 유기 수지 층(300)을 제거하여 도 3b에 나타낸 바와 같은 구조를 형성하는 단계.
한 측면에서, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)이 위치한 영역 이외의 영역에서 감광성 유기 수지 층(300)을 형성시키면 플루오린화 단분자 층(210)의 형성 시 다른 영역의 패턴 층을 보호할 수 있고; 그 외에도, 감광성 유기 수지 층(300)의 두께를 설정함으로써, 플루오린화 단분자 층(210)의 형성을 위한 범위가 결정되도록 제1 패턴(200a)의 두께를 결정할 수 있다.
또 다른 측면에서, 다른 비-감광성 유기 재료와 비교하여, 본 발명의 실시양태에 사용된 감광성 유기 수지 재료는 유기 수지 층(300)의 형성 시 공정을 단순화할 수 있다.
이를 기초로, 하기 두 조건에 기반하여 설명할 수 있다. 제1 조건은 다음과 같다.
일부 실시양태에서, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)의 높이에 대한 요건이 높지 않은 상황 하에서는, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)을 형성시키기 위해 무기 재료를 직접 사용할 수 있고, 즉, 상기 S01은 구체적으로 하기 단계들을 포함할 수 있다:
S101. 기판(100) 상에 무기 재료의 제1 필름을 형성시키는 단계.
S102. 제1 필름에 대해 패턴화 공정을 수행하여 제1 패턴(200a) 및 제2 패턴(200b)으로 구성된 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)을 형성시키는 단계.
즉, 제1 패턴(200a) 및 제2 패턴(200b)은 일체형으로 형성된다.
단계 S101 및 S102에 의해 형성된 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 실제로는 도 3a에서 제1 패턴(200a)과 제2 패턴(200b)의 구별을 위한 파선은 함유하지 않음을 참고하여야 한다. 파선은 본 발명의 도면에서 주로 플루오린화 단분자 층(210)의 형성을 위한 범위의 기술을 용이하게 하기 위해 제공된다.
이와 같은 상황 하에, 일부 실시양태에서, 상기 S201은 구체적으로 하기 단계들을 포함할 수 있다:
S201a. 도 6a에 나타낸 바와 같이, 상부에 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)이 형성된 기판 상에, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)을 피복하는 감광성 유기 수지 재료의 제2 필름(300a)을 형성시키는 단계.
본원에서, 감광성 유기 수지 재료는 예를 들어 유기 포토레지스트일 수 있다.
S201b. 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200) 사이의 제2 필름 (즉, 픽셀 규정 층에 의해 규정된 픽셀 영역 내 제2 필름)이 도 5a에 나타낸 바와 같은 감광성 유기 수지 층(300)으로 형성되도록 제2 필름(300a)을 플라즈마로 에칭하여 제1 패턴(200a)을 노광시키는 단계.
본원에서, 플라즈마 에칭 시기를 제어함으로써, 감광성 유기 수지 층(300)의 높이를 제어하여 제1 패턴(200a)의 높이를 결정할 수 있다.
이에 따라, 유기 수지 층(300)을 직접 형성시키는 것과 비교하여, 유기 수지 층(300)의 형성 시 비-균일한 침착에 의해 야기되는 후속 자가-조립 동안의 다른 영역 내 패턴 층에 대한 손상을 피할 수 있다.
제2 조건은 다음과 같다:
일부 실시양태에서, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)의 높이에 대한 요건이 엄격한 상황 하에서는, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 유기 재료 및 무기 재료를 사용하여 형성되고, 즉, 상기 단계 S01은 구체적으로 다음과 같을 수 있다: 기판(100) 상에 제1 패턴(200a) 및 유기 재료의 제3 패턴으로 구성된 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)을 형성시키는 단계이며, 여기서 제1 패턴(200a)은 제3 패턴 상에 또는 그 위쪽에 위치하는 것인 단계.
일부 실시양태에서, 상기 기재된 바와 같은 제1 패턴(200a) 및 유기 재료의 제3 패턴으로 구성된 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)을 형성시키는 것은 구체적으로 하기 단계들에 의해 달성될 수 있다:
S111. 도 7a에 나타낸 바와 같이, 기판(100) 상에 네거티브 감광성 유기 수지 재료의 제3 필름(400), 무기 재료의 제4 필름(500) 및 네거티브 감광성 유기 수지 재료의 제5 필름(600)을 순차적으로 형성시키는 단계.
일부 실시양태에서, 최종적으로 형성된 제3 패턴이 노광 후 경화된 부분이도록, 즉, 기판 상에 보유된 부분이 경화된 부분이고 기판 상에 보유되지 않은 부분이 비경화된 부분이도록, 제3 필름(400)의 재료를 위해 네거티브 감광성 유기 수지 재료를 사용한다. 이에 따라, 후속 세정 및 사용 동안, 그의 구조는 잘 유지될 수 있고, 우수한 안정성을 얻을 수 있다.
S112. 도 7b에 나타낸 바와 같이, 상부에 제3 필름(400), 제4 필름(500) 및 제5 필름(600)이 형성된 기판을 제3 필름(400) 내 경화된 부분이 제3 패턴(400a)을 형성하고 제5 필름(600) 내 경화된 부분이 제5 패턴(600a)을 형성하도록 통상의 마스크를 사용하여 노광시키고, 제5 필름 내 비경화된 부분을 현상 후 제거하는 단계.
본원에서, 상부에 제3 필름(400), 제4 필름(500) 및 제5 필름(600)이 형성된 기판을 통상의 마스크를 사용하여 노광시키는 상황 하에, 제3 패턴(400a)을 형성하는 제3 필름(400) 내 경화된 부분, 제5 필름(600) 내 경화된 부분, 즉, 제5 패턴(600a)은 반드시 제3 패턴(400a)의 상단에 위치한다. 따라서, 제3 패턴(400a)이 규정되는 한, 제5 패턴(600a)의 위치는 상응하게 규정된다.
기판의 노광된 영역은 기판 내 마스크 개구부의 투영 위치를 제어함으로써 제어될 수 있다.
S113. 도 7c에 나타낸 바와 같이, 제5 패턴(600a)을 마스크로서 사용하여 제4 필름(500)을 에칭함으로써 제1 패턴(200a)을 형성시키는 단계이며, 여기서 제3 패턴(400a) 및 제1 패턴(200a)은 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)을 구성하는 것인 단계.
그 후에, 도 7d에 나타낸 바와 같이, 제3 패턴(400) 내 비경화된 부분이 감광성 유기 수지 층(300)으로 형성되도록 제5 패턴(600a)을 제거하는 단계.
이에 따라, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 마스크를 단지 한번만 사용하여 형성될 수 있고, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200) 사이의 감광성 유기 수지 층(300) (즉, 픽셀 규정 층에 의해 규정되는 픽셀 영역 내 감광성 유기 수지 층(300))이 형성된다.
이러한 경우, 일부 실시양태에서, 플루오린화 단분자 층(210)을 제1 패턴(200a)의 표면 상에 형성시켜 픽셀 규정 층(20)을 형성한다. 이어서, 감광성 유기 수지 층(300)을 제거하여 도 7e에 나타낸 바와 같은 구조를 형성한다.
상기를 기초로, 제1 패턴(200a)에 대해 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하기 위해 플루오로실란을 사용할 수 있다. 이를 기초로, 제1 패턴(200a)에 대해 플루오로실란을 사용하여 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하기 전에, 상기 방법은 제1 패턴(200a)에 대해 히드록실화 처리를 수행하는 것을 추가로 포함한다.
히드록실화 처리 후, 제1 패턴(200a)은 실란과 보다 용이하게 반응할 수 있다.
본 발명의 실시양태는 도 3b 및 도 7e에 나타낸 바와 같은 픽셀 규정 층(20)을 추가로 제공하며, 상기 픽셀 규정 층(20)은 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)의 상단 부분인 무기 재료의 제1 패턴(200a)을 포함하는 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)을 포함하고, 제1 패턴의 표면 상에 자가-조립된 플루오린화 단분자 층(210)을 추가로 포함한다.
일부 실시양태에서, 도 3b에 나타낸 바와 같이, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 무기 재료의 제1 패턴(200a) 이외에 무기 재료의 제2 패턴(200b)을 추가로 포함할 수 있다. 또한, 제1 패턴(200a)은 제2 패턴(200b) 상에 또는 그 위쪽에 위치한다. 본원에서, 제1 패턴(200a)과 제2 패턴(200b)의 구별은 단지 후속적으로 플루오린화 단분자 층(210)의 구조에 대한 기술을 용이하게 하기 위한 것이다. 도 3b에서 제1 패턴(200a)과 제2 패턴(200b)을 구별하는 파선은 실제로는 존재하지 않는 것이다.
도 7e 에 나타낸 바와 같이, 무기 재료의 제1 패턴(200a) 이외에, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 유기 재료의 제3 패턴(400a)을 추가로 포함하며, 제1 패턴(200a)은 제3 패턴(400a) 상에 또는 그 위쪽에 위치한다.
본 발명의 실시양태는 추가로, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)의 상단 부분인 무기 재료의 제1 패턴(200a)을 포함하는 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)을 포함하고, 제1 패턴의 표면 상에 자가-조립된 플루오린화 단분자 층(210)을 추가로 포함하는 픽셀 규정 층(20)을 제공한다. 자가-조립된 플루오린화 단분자 층(210)은 공유 결합을 통해 제1 패턴(200a)에 연결되기 때문에, 장기간에 걸친 배치, 일반 세정 단계 (플라즈마 제외), 및 어닐링과 같은 공정은 그의 소액 성능에 영향을 미치지 않을 것이다. 따라서, 상기와 같은 방법에 의해 형성된 픽셀 규정 층(20)의 소액 성능은 그의 서비스 불능 관련 염려 없이 장기간 유지될 수 있다.
일부 실시양태에서, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)의 높이에 대한 요건이 엄격하지 않은 상황 하에서는, 도 3b에 나타낸 바와 같이, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 무기 재료를 직접 사용하여 형성되고, 즉, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 무기 재료의 제1 패턴(200a) 및 무기 재료의 제2 패턴(200b)을 포함하고, 제1 패턴(200a) 및 제2 패턴(200b)은 일체형으로 형성된다. 즉, 제1 패턴(200a) 및 제2 패턴(200b)은 1개의 필름 층에 대해 패턴화 공정을 수행함으로써 형성된다.
도 3b에서 제1 패턴(200a)과 제2 패턴(200b)을 구별하는 파선은 실제로는 존재하지 않는 것임을 참고하여야 한다. 파선은 본 발명의 도면에서 주로 플루오린화 단분자 층(210)의 형성을 위한 범위의 기술을 용이하게 하기 위해 제공된다
일부 실시양태에서, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)의 높이에 대한 요건이 엄격한 상황 하에서는, 도 7e에 나타낸 바와 같이, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 유기 재료 및 무기 재료를 사용하여 형성되고, 즉, 픽셀 규정 층의 기본 패턴(200)은 무기 재료의 제1 패턴(200a) 및 유기 재료의 제3 패턴(400a)을 포함한다.
일부 실시양태에서, 제3 패턴(400a)의 재료는 경화된 후 감광성 유기 수지 재료이다.
본 발명의 실시양태는 추가로 상기 픽셀 규정 층(20)을 포함하는 디스플레이 기판을 제공한다.
디스플레이 기판은 잉크-젯 인쇄에 의해 상응하는 패턴 층을 형성할 수 있는 디스플레이 기판, 예컨대 OLED용 어레이 기판 또는 액정 디스플레이용 컬러 필터 기판일 수 있다.
본 발명의 실시양태는 추가로 상기 디스플레이 기판을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
디스플레이 장치는 액정 디스플레이, 전자 페이퍼, OLED, 중합체 발광 다이오드 (PLED) 등과 같은 디스플레이 장치, 및 이들 디스플레이 장치를 포함하는 TV 셋, 디지털 카메라, 이동 전화 또는 태블릿 컴퓨터와 같은 디스플레이 기능을 갖는 임의의 제품 또는 구성요소일 수 있다.
본 발명의 실시양태는 추가로 기판(100) 상에 픽셀 규정 층(20)을 형성시키는 것을 포함하는, 디스플레이 기판의 제조 방법을 제공하며, 여기서 픽셀 규정 층(20)의 제조 방법은 상기 픽셀 규정 층(20)의 제조 방법이다.
예시적으로, OLED용 디스플레이 기판을 예로 들면 상기 제조 방법은 하기 단계들을 포함한다:
S301. 도 8a에 나타낸 바와 같이, 패턴화 공정에 의해 기판(100)의 픽셀 영역 상에 제1 전극(700)을 형성시키는 단계.
제1 전극(700)은 일반적으로 애노드, 또는 때로는 캐소드일 수 있다.
S302. 도 8b에 나타낸 바와 같이, 기판(100)의 비-픽셀 영역 상에 픽셀 규정 층(20)을 형성시키는 단계.
픽셀 규정 층(20)의 제조 방법은 통상 상기 픽셀 규정 층(20)의 제조 방법을 사용하며, 추가 세부사항은 본원에서 제공되지 않을 것이다.
S303. 도 8c에 나타낸 바와 같이, 픽셀 규정 층(20)에 의해 규정된 픽셀 영역 내 제1 전극 상에 유기 재료 기능성 층(800)을 형성시키는 단계.
유기 재료 기능성 층(800)에 관해서, 그것은 적어도 발광 층을 포함할 수 있고, 전자 수송 층 및 정공 수송 층을 추가로 포함할 수 있다. 이를 기초로, 발광 층으로의 전자 및 정공의 주입 효율을 개선시키기 위해, 유기 재료 기능성 층은 캐소드와 전자 수송 층 사이에 배치된 전자 주입 층, 및 정공 수송 층과 애노드 사이에 배치된 정공 주입 층을 추가로 포함할 수 있다.
유기 재료 기능성 층(800)은 잉크-젯 인쇄에 의해 형성될 수 있다.
S303. 도 8d에 나타낸 바와 같이, 유기 재료 기능성 층(800) 상에 제2 전극 층(900)을 형성시키는 단계.
제2 전극 층(900)은 일반적으로 캐소드, 또는 때로는 애노드일 수 있다.
본 발명은 하기 실시양태들을 포함한다:
실시양태 1:
픽셀 규정 층을 포함하는 디스플레이 기판이며, 여기서
픽셀 규정 층은 픽셀 규정 층의 기본 패턴의 상단 부분인 무기 재료의 제1 패턴을 포함하는 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 포함하고;
픽셀 규정 층은 제1 패턴의 표면 상에 자가-조립된 플루오린화 단분자 층을 더 포함하는 것인 디스플레이 기판.
실시양태 2: 픽셀 규정 층의 기본 패턴이 무기 재료의 제2 패턴을 더 포함하고, 제1 패턴 및 제2 패턴은 일체형으로 형성된 것인, 실시양태 1의 디스플레이 기판.
실시양태 3: 픽셀 규정 층의 기본 패턴이 무기 재료의 제1 패턴 및 유기 재료의 제3 패턴을 포함하는 것인, 실시양태 1의 디스플레이 기판.
실시양태 4: 제3 패턴의 재료가 경화된 후 감광성 유기 수지 재료인 것인, 실시양태 3의 디스플레이 기판.
실시양태 5: 픽셀 규정 층의 기본 패턴이 제1 패턴 및 제3 패턴으로 구성된 것인, 실시양태 3 또는 4의 디스플레이 기판.
실시양태 6: 제1 패턴의 무기 재료가 제2 패턴의 무기 재료와 동일한 것인, 실시양태 2의 디스플레이 기판.
실시양태 7: 디스플레이 기판이 픽셀 영역 및 비-픽셀 영역을 포함하고, 픽셀 규정 층의 기본 패턴은 비-픽셀 영역에 상응하는 것인, 실시양태 1 내지 6 중 어느 하나의 디스플레이 기판.
실시양태 8: OLED용 어레이 기판 또는 액정 디스플레이용 컬러 필터 기판인, 실시양태 1 내지 7 중 어느 하나의 디스플레이 기판.
실시양태 9: 무기 재료가 규소 (Si), 규소 이산화물 (SiO2), 규소 질화물 (SiNx), 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것인, 실시양태 1의 디스플레이 기판.
실시양태 10: 감광성 유기 수지 재료가 포지티브(positive) 포토레지스트 또는 네거티브 포토레지스트로부터 선택된 것인, 실시양태 4의 디스플레이 기판. 통상적인 포지티브 포토레지스트는 널리 사용되는 BP212 시리즈 등을 포함하며, 통상적인 네거티브 포토레지스트는 널리 사용되는 SU 8 시리즈 등을 포함함. 추가의 예로는 동진 세미켐 캄파니 리미티드(DONGJIN SEMICHEM Co., Ltd.)로부터의 포지티브 포토레지스트: DSAM3037 및 DSAM3020과 같은 포지티브 포토레지스트 시리즈; 동진 세미켐 캄파니 리미티드로부터의 네거티브 포토레지스트: DNR-L300D1과 같은 네거티브 포토레지스트 시리즈가 포함됨.
실시양태 11: 기판 상에 픽셀 규정 층을 형성시키는 것을 포함하는, 디스플레이 기판의 제조 방법이며, 여기서 픽셀 규정 층을 형성시키는 것은,
기판 상에 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 단계이며, 상기 픽셀 규정 층의 기본 패턴은 픽셀 규정 층의 기본 패턴의 상단 부분인 무기 재료의 제1 패턴을 포함하는 것인 단계; 및
제1 패턴에 대해 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하여 제1 패턴의 표면 상에 플루오린화 단분자 층을 형성함으로써 픽셀 규정 층을 형성시키는 단계
를 포함하는 것인 방법.
실시양태 12: 제1 패턴에 대해 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하는 것이,
픽셀 규정 층의 기본 패턴 사이에 제1 패턴을 노광시키는 감광성 유기 수지 층을 형성시키는 단계 (즉, 픽셀 규정 층에 의해 규정된 픽셀 영역 내 감광성 유기 수지 층을 형성시키는 단계);
제1 패턴에 대해 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하여 플루오린화 단분자 층을 형성시키는 단계; 및
제1 패턴의 표면 상에 플루오린화 단분자 층이 형성된 후 감광성 유기 수지 층을 제거하는 단계
를 포함하는 것인, 실시양태 11의 방법.
실시양태 13: 기판 상에 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 것이,
기판 상에 무기 재료의 제1 필름을 형성시키는 단계; 및
제1 필름에 대해 패턴화 공정을 수행하여 제1 패턴 및 제2 패턴으로 구성된 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는, 실시양태 12의 방법.
실시양태 14: "픽셀 규정 층의 기본 패턴 사이에 제1 패턴을 노광시키는 감광성 유기 수지 층을 형성시키는 것"이,
상부에 픽셀 규정 층의 기본 패턴이 형성된 기판 상에, 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 피복하는 감광성 유기 수지 재료의 제2 필름을 형성시키는 단계; 및
제2 필름을 플라즈마로 에칭하여, 픽셀 규정 층의 기본 패턴 사이의 제2 필름이 감광성 유기 수지 층으로 형성되도록 제1 패턴을 노광시키는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는, 실시양태 13의 방법.
실시양태 15: 기판 상에 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 것이,
기판 상에 제1 패턴 및 유기 재료의 제3 패턴으로 구성된 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 단계를 포함하는 것인, 실시양태 12의 방법.
실시양태 16: 기판 상에 제1 패턴 및 유기 재료의 제3 패턴으로 구성된 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 것이,
기판 상에 네거티브 감광성 유기 수지 재료의 제3 필름, 무기 재료의 제4 필름 및 네거티브 감광성 유기 수지 재료의 제5 필름을 순차적으로 형성시키는 단계;
상부에 제3 필름, 제4 필름 및 제5 필름이 형성된 기판을, 제3 필름 내 경화된 부분이 제3 패턴을 형성하고 제5 필름 내 경화된 부분이 제5 패턴을 형성하도록 통상의 마스크를 사용하여 노광시키고, 제5 필름 내 비경화된 부분을 현상 후 제거하는 단계; 및
제4 필름을 마스크로서의 제5 패턴을 사용하여 에칭함으로써 제1 패턴을 형성시키는 단계이며, 여기서 제3 패턴 및 제1 패턴은 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 구성하는 것인 단계
를 포함하며;
픽셀 규정 층의 기본 패턴 사이에 감광성 유기 수지 층을 형성시키는 것은
제3 필름 내 비경화된 부분을 제5 패턴 제거 후 감광성 유기 수지 층으로 형성시키는 단계를 포함하는 것인, 실시양태 15의 방법.
실시양태 17: 제1 패턴에 대해 플루오로실란을 사용하여 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하고;
제1 패턴에 대해 플루오로실란을 사용하여 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하기 전에 제1 패턴에 대해 히드록실화 처리를 수행하는 것을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 실시양태 11 내지 16 중 어느 하나에 따른 방법.
실시양태 18: 플루오로실란이 화학식 Si(R1)4 (여기서, 각각의 R1은 할로겐 또는 플루오로알킬로부터 독립적으로 선택되고, 적어도 하나의 R1은 할로겐이고, 적어도 하나의 R1은 플루오로알킬임)을 갖는 것인, 실시양태 17의 방법.
실시양태 19: 플루오로실란이
Figure 112018057472806-pat00002
인, 실시양태 18의 방법.
실시양태 20: 실시양태 1 내지 10 중 어느 하나에 따른 디스플레이 기판을 포함하는, 디스플레이 장치.
실시양태 21: 액정 디스플레이, 전자 페이퍼, OLED, 중합체 발광 다이오드 (PLED), 또는 상기 디스플레이 장치들 중 적어도 하나를 포함하는 TV 셋, 디지털 카메라, 이동 전화 또는 태블릿 컴퓨터인, 실시양태 20의 디스플레이 장치.
상기는 단지 예시적인 본 발명의 실시양태이며, 첨부된 특허청구범위에 의해 또한 결정되는 본 발명의 보호 범위를 제한하도록 의도되지 않는다.
본 출원은 2015년 3월 12일에 제출된 중국 특허 출원 제201510108888.5호를 우선권 주장하며, 상기 중국 특허 출원에 개시된 내용은 본 출원의 일부로서 본원에 참조로 포함된다.

Claims (8)

  1. 기판 상에 픽셀 규정 층을 형성시키는 것을 포함하는, 디스플레이 기판의 준비 방법이며, 여기서 픽셀 규정 층을 준비하는 방법은,
    기판 상에 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 단계이며, 상기 픽셀 규정 층의 기본 패턴은 픽셀 규정 층의 기본 패턴의 상단 부분인 무기 재료의 제1 패턴을 포함하는 것인 단계; 및
    제1 패턴에 대해 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하여 제1 패턴의 표면 상에 플루오린화 단분자 층을 형성함으로써 픽셀 규정 층을 형성시키는 단계
    를 포함하는 것이고,
    제1 패턴에 대해 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하는 것이,
    픽셀 규정 층의 기본 패턴 사이에 제1 패턴을 노광시키는 감광성 유기 수지 층을 형성시키는 단계;
    제1 패턴에 대해 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하여 플루오린화 단분자 층을 형성시키는 단계; 및
    제1 패턴의 표면 상에 플루오린화 단분자 층이 형성된 후 감광성 유기 수지 층을 제거하는 단계
    를 포함하는 것인 방법.
  2. 제1항에 있어서, 기판 상에 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 것이,
    기판 상에 무기 재료의 제1 필름을 형성시키는 단계; 및
    제1 필름에 대해 패턴화 공정을 수행하여 제1 패턴 및 제2 패턴으로 구성된 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 단계
    를 포함하는 것인 방법.
  3. 제2항에 있어서, 픽셀 규정 층의 기본 패턴 사이에 제1 패턴을 노광시키는 감광성 유기 수지 층을 형성시키는 것이,
    상부에 픽셀 규정 층의 기본 패턴이 형성된 기판 상에, 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 피복하는 감광성 유기 수지 재료의 제2 필름을 형성시키는 단계; 및
    제2 필름을 플라즈마로 에칭하여, 픽셀 규정 층의 기본 패턴 사이의 제2 필름이 감광성 유기 수지 층으로 형성되도록 제1 패턴을 노광시키는 단계
    를 포함하는 것인 방법.
  4. 제1항에 있어서, 기판 상에 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 것이,
    기판 상에 제1 패턴 및 유기 재료의 제3 패턴으로 구성된 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 단계
    를 포함하는 것인 방법.
  5. 제4항에 있어서, 기판 상에 제1 패턴 및 유기 재료의 제3 패턴으로 구성된 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 형성시키는 것이,
    기판 상에 네거티브 감광성 유기 수지 재료의 제3 필름, 무기 재료의 제4 필름 및 네거티브 감광성 유기 수지 재료의 제5 필름을 순차적으로 형성시키는 단계;
    상부에 제3 필름, 제4 필름 및 제5 필름이 형성된 기판을, 제3 필름 내 경화된 부분이 제3 패턴을 형성하고 제5 필름 내 경화된 부분이 제5 패턴을 형성하도록 마스크를 사용하여 노광시키고, 제5 필름 내 비경화된 부분을 현상 후 제거하는 단계; 및
    제4 필름을 마스크로서의 제5 패턴을 사용하여 에칭함으로써 제1 패턴을 형성시키는 단계이며, 여기서 제3 패턴 및 제1 패턴이 픽셀 규정 층의 기본 패턴을 구성하는 것인 단계
    를 포함하며;
    픽셀 규정 층의 기본 패턴 사이에 감광성 유기 수지 층을 형성시키는 것은
    제3 필름 내 비경화된 부분을 제5 패턴 제거 후 감광성 유기 수지 층으로 형성시키는 단계
    를 포함하는 것인 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 패턴에 대해 플루오로실란을 사용하여 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리가 수행되고;
    상기 방법은
    제1 패턴에 대해 플루오로실란을 사용하여 자가-조립된 단분자 층으로써 표면 처리를 수행하기 전에 제1 패턴에 대해 히드록실화 처리를 수행하는 것
    을 추가로 포함하는 방법.
  7. 제6항에 있어서, 플루오로실란이 화학식 Si(R1)4 (여기서, 각각의 R1은 할로겐 또는 플루오로알킬로부터 독립적으로 선택되고, 적어도 하나의 R1은 할로겐이고, 적어도 하나의 R1은 플루오로알킬임)을 갖는 것인 방법.
  8. 제7항에 있어서, 플루오로실란이
    Figure 112018057472806-pat00003

    인 방법.
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