CN104659287A - 像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置 - Google Patents

像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明实施例提供一种像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可使像素界定层的疏液性能长久保持。该像素界定层的制备方法，包括：在基板上形成像素界定层基本图案；所述像素界定层基本图案包括无机材料的第一图案，且所述第一图案位于所述像素界定层基本图案的最上方；对所述第一图案进行自组装单分子层表面处理，在所述第一图案表面形成氟代单分子层，形成所述像素界定层。用于可使用喷墨打印方式制造的任何显示装置。

Description

像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置。
背景技术
近年来，研究人员开始尝试把喷墨打印技术应用于平面功能材料的制备中，如制备有机电致发光二极管显示器的有机材料功能层、液晶显示器的彩色滤光层等。
以有机电致发光二极管显示器(OLED)为例，如图1和图2所示，该有机电致发光二极管包括像素区域01和非像素区域02，像素区域01由多个像素10构成，其中，每个像素10包括依次设置在基板100上的阳极、有机材料功能层和阴极(图1和图2中均未标识出)。其中，在利用喷墨打印的方式在所述阳极上形成所述有机材料功能层时，由于墨水的流动性，为了减少喷墨打印的墨水溢到相邻像素10中，一般在非像素区域02设置像素界定层20，用以形成多个包围每个像素10的空间，喷墨打印的有机材料功能层墨水通过喷墨打印的方式喷涂在上述包围空间内，即喷涂在所述阳极表面。
其中，像素界定层20由形成在基板100上的像素界定层基本图案构成。为了实现像素界定层20疏液的目的，目前最常规的疏液处理方法即为对上述像素界定层基本图案进行含氟等离子处理，然而由于等离子的特性，其性能保持的时间一般不会太长，这样在面对较长时间的制程工艺或者较高温度的退火工艺时，就可能会出现失效的问题。
发明内容
本发明的实施例提供一种像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置，可使像素界定层的疏液性能长久保持。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
第一方面，提供一种像素界定层的制备方法，包括：在基板上形成像素界定层基本图案；所述像素界定层基本图案包括无机材料的第一图案，且所述第一图案位于所述像素界定层基本图案的最上方；对所述第一图案进行自组装单分子层表面处理，在所述第一图案表面形成氟代单分子层，形成所述像素界定层。
优选的，所述对所述第一图案进行自组装单分子层表面处理，包括：在所述像素界定层基本图案之间形成感光型有机树脂层，所述感光型有机树脂层露出所述第一图案；对露出的所述第一图案进行自组装单分子层表面处理；在所述第一图案表面形成氟代单分子层后，所述方法还包括：去除所述感光型有机树脂层。
基于此，一种可能实现方式为：所述在基板上形成像素界定层基本图案，包括：在基板上形成无机材料的第一薄膜；对所述第一薄膜进行构图工艺，形成由所述第一图案和第二图案构成的所述像素界定层基本图案。
进一步的，所述在所述像素界定层基本图案之间形成感光型有机树脂层，所述感光型有机树脂层露出所述第一图案，包括：在形成有所述像素界定层基本图案的基板上形成感光型有机树脂材料的第二薄膜，所述第二薄膜覆盖所述像素界定层基本图案；采用等离子体对所述第二薄膜进行刻蚀露出所述第一图案，使所述像素界定层基本图案之间的所述第二薄膜形成所述感光型有机树脂层。
另一种可能实现方式为：所述在基板上形成像素界定层基本图案，包括：在基板上形成由所述第一图案和有机材料的第三图案构成的所述像素界定层基本图案。
进一步的，所述在基板上形成由所述第一图案和有机材料的第三图案构成的所述像素界定层基本图案，包括：
在基板上依次形成负性感光型有机树脂材料的第三薄膜、无机材料的第四薄膜以及负性感光型有机树脂材料的第五薄膜；采用普通掩膜板对形成有所述第三薄膜、所述第四薄膜和所述第五薄膜的基板进行曝光，使所述第三薄膜中被固化的部分形成所述第三图案，使所述第五薄膜中被固化的部分形成第五图案，显影后所述第五薄膜中未被固化的部分被去除；以所述第五图案为掩膜，对所述第四薄膜进行刻蚀，形成所述第一图案；其中，所述第三图案和所述第一图案构成所述像素界定层基本图案；
在所述像素界定层基本图案之间形成感光型有机树脂层，包括：待所述第五图案去除后，所述第三薄膜中未被固化的部分形成所述感光型有机树脂层。
基于上述，可选的，采用氟代硅烷对所述第一图案进行自组装单分子层表面处理；在采用氟代硅烷对所述第一图案进行自组装单分子层表面处理之前，所述方法还包括：对所述第一图案进行羟基化处理。
第二方面，提供一种像素界定层，包括：像素界定层基本图案；所述像素界定层基本图案包括无机材料的第一图案，且所述第一图案位于所述像素界定层基本图案的最上方；还包括：自组装在所述第一图案表面的氟代单分子层。
可选的，所述像素界定层基本图案包括无机材料的所述第一图案和无机材料的第二图案，且所述第一图案和所述第二图案一体形成。
可选的，所述像素界定层基本图案包括无机材料的所述第一图案和有机材料的第三图案。
进一步的，所述第三图案的材料为固化后的感光型有机树脂材料。
第三方面，提供一种显示基板，包括第二方面所述的像素界定层。
第四方面，提供一种显示基板的制备方法，包括在基板上形成像素界定层，其中，所述像素界定层的制备方法为上述第一方面所述的像素界定层的制备方法。
第五方面，提供一种显示装置，包括上述第三方面所述的显示基板。
本发明实施例提供一种像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置，像素界定层的制备方法包括：在基板上形成像素界定层基本图案；所述像素界定层基本图案包括无机材料的第一图案，且所述第一图案位于所述像素界定层基本图案的最上方；对所述第一图案进行自组装单分子层表面处理，在所述第一图案表面形成氟代单分子层，形成所述像素界定层。由于自组装的氟代单分子层是基于共价键与第一图案连接的，因而长时间放置、一般的清洗步骤(等离子除外)、退火等工艺并不会影响其疏液性能，因此通过这种方法形成的像素界定层，其疏液性能可以长久的保持，而不担心失效的问题。此外，通过自组装氟代单分子层，其接触角可达110°以上。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中提供的一种有机电致发光二极管显示器的俯视示意图；
图2为现有技术中提供的像素界定层的结构示意图；
图3a-3b为本发明实施例提供的制备像素界定层的过程示意图一；
图4为本发明实施例提供的氟辛基三氯硅烷与无机材料的第一图案进行自组装的原理示意图；
图5a-图5b为本发明实施例提供的制备像素界定层的过程示意图二；
图6为本发明实施例提供的形成位于像素界定层基本图案之间的感光型有机树脂层的过程示意图；
图7a-7e为本发明实施例提供的形成像素界定层的过程示意图三；
图8a-8d为本发明实施例提供的制备OLED用显示基板的过程示意图。
附图说明：
01-像素区域；02-非像素区域；20-像素界定层；100-基板；200-像素界定层基本图案；200a-第一图案；200b-第二图案；210-氟代单分子层；300-(感光型)有机树脂层；300a-感光型有机树脂材料的第二薄膜；400-负性感光型有机树脂材料的第三薄膜；400a-第三图案；500-无机材料的第四薄膜；600-负性感光型有机树脂材料的第五薄膜；600a-第五图案；700-第一电极；800-有机材料功能层；900-第二电极层。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供了一种像素界定层的制备方法，该方法包括：
S01、如图3a所示，在基板100上形成像素界定层基本图案200；所述像素界定层基本图案200包括无机材料的第一图案200a，且所述第一图案200a位于所述像素界定层基本图案200的最上方。
即：所述像素界定层基本图案200除包括第一图案200a外还包括其他图案，且第一图案位于其他图案上方。
所述像素界定层基本图案200包括无机材料的第一图案200a，且所述第一图案200a位于所述像素界定层基本图案200的最上方，可以是所述像素界定层基本图案200除包括无机材料的第一图案200a外，还可以包括无机材料的第二图案200b，且所述第一图案200a位于第二图案200b的上方。
这里，在所述像素界定层基本图案200的第一图案200a和第二图案200b材料相同的情况下，可通过同一层无机材料薄膜形成该像素界定层基本图案200，即该层无机材料薄膜的厚度为第一图案200a和第二图案200b的厚度和，在此情况下，区分第一图案200a和第二图案200b仅是为后续方便描述氟代单分子层210的结构，附图3a和图3b中区分第一图案200a和第二图案200b的虚线实际上并不存在。
当然，在所述像素界定层基本图案200的第一图案200a和第二图案200b材料相同的情况下，也可通过两层无机材料薄膜形成该像素界定层基本图案200，即一层无机材料薄膜用于形成第一图案200a，另一层无机材料薄膜用于形成第二图案200b，具体可根据实际情况设定，在此不做限定。
或者，所述像素界定层基本图案200包括无机材料的第一图案200a，且所述第一图案200a位于所述像素界定层基本图案200的最上方，还可以是所述像素界定层基本图案200除包括无机材料的第一图案200a外，还包括有其材料例如有机材料的第三图案，且所述第一图案200a位于第三图案的上方。在此情况下，所述第二图案200b和所述第三图案的区别仅在于材料不同。
当然，本发明实施例也并不限定所述像素界定层基本图案200除包括无机材料的第一图案200a外只包括第三图案，也可包括其他图案，只要这些图案能构成所述像素界定层基本图案200，且使所述第一图案200a位于最上方即可。
基于上述情况，可具体根据实际情况进行设定，在此不做限定。
S02、如图3b所示，对所述第一图案200a进行自组装单分子层表面处理，在所述第一图案200a表面形成氟代单分子层210，形成所述像素界定层20。
这里，本领域技术人员应该知道，自组装后，所述氟代单分子层210是通过共价键与所述第一图案200a进行连接。
示例的，可以选择氟代硅烷例如氟辛基三氯硅烷作为自组装疏液材料，对所述第一图案200a进行自组装表面处理；该材料自组装的原理如图4所示。
具体的，例如可以将形成所述第一图案200a的基板置于氟辛基三氯硅烷氛围中，在100-250度的温度范围内保持2小时。
需要说明的是，第一，不对上述基板100进行限定，其可以是形成有相应图案层的基板，也可以是没有形成任何图案层的衬底基板。
第二，不对第一图案200a的厚度进行限定，可根据实际情况进行设定。
第三，由于现有技术中的像素界定层并没有额外形成所述氟代单分子层210，因而，本发明实施例中的所述像素界定层基本图案200实质上就是现有技术中描述的像素界定层。
本发明实施例提供了一种像素界定层的制备方法，包括：在基板100上形成像素界定层基本图案200；所述像素界定层基本图案200包括无机材料的第一图案200a，且所述第一图案200a位于所述像素界定层基本图案200的最上方；对所述第一图案200a进行自组装单分子层表面处理，在所述第一图案200a表面形成氟代单分子层210，形成所述像素界定层20。由于自组装的氟代单分子层210是基于共价键与第一图案200a连接的，因而长时间放置、一般的清洗步骤(等离子除外)、退火等工艺并不会影响其疏液性能，因此通过这种方法形成的像素界定层20，其疏液性能可以长久的保持，而不担心失效的问题。此外，通过自组装氟代单分子层210，其接触角可达110°以上。
优选的，上述S02可具体包括如下步骤：
S201、如图5a所示，在所述像素界定层基本图案200之间形成感光型有机树脂层300，所述感光型有机树脂层300露出所述第一图案200a。
S202、对露出的所述第一图案200a进行自组装单分子层表面处理。
S203、如图5b所示，在所述第一图案200a表面形成氟代单分子层210，形成所述像素界定层20。
S204、去除所述感光型有机树脂层300，形成如图3b所示的结构。
一方面，通过在除所述像素界定层基本图案200所在区域之外的其他区域形成所述感光型有机树脂层300，可以在形成所述氟代单分子层210时，对其他区域的图案层起到保护作用；另外通过设定所述感光型有机树脂层300的厚度，可以确定所述第一图案200a的厚度，从而确定形成所述氟代单分子层210的范围。
另一方面，相比其他非感光有机材料，本发明实施例中采用感光型有机树脂材料，在形成所述有机树脂层300时，可简化工艺。
基于此，可通过如下两种情况进行具体说明，第一种情况：
当对像素界定层基本图案200的高度要求不高的情况下，优选直接采用无机材料形成所述像素界定层基本图案200，即：上述S01可具体包括如下步骤：
S101、在基板100上形成无机材料的第一薄膜。
S102、对所述第一薄膜进行构图工艺，形成如图3a所示的由所述第一图案200a和第二图案200b构成的所述像素界定层基本图案200。
即，所述第一图案200a和所述第二图案200b一体形成。
需要说明的是，通过S101-S102形成的所述像素界定层基本图案200，实际并不存在图3a中的用于区分第一图案200a和第二图案200b的虚线，本发明在附图中设置在虚线主要为了方便描述氟代单分子层210的形成范围。
在此情况下，进一步的，上述S201可具体包括如下步骤：
S201a、如图6所示，在形成有所述像素界定层基本图案200的基板上形成感光型有机树脂材料的第二薄膜300a，所述第二薄膜300a覆盖所述像素界定层基本图案200。
此处，所述感光型有机树脂材料例如可以是有机光刻胶。
S201b、采用等离子体对所述第二薄膜300a进行刻蚀露出所述第一图案200a，使所述像素界定层基本图案200之间的所述第二薄膜形成如图5a所示的所述感光型有机树脂层300。
这里，通过控制等离子刻蚀的时间，可以控制所述感光型有机树脂层300的高度，从而确定所述第一图案200a的高度。
这样，相比直接形成有机树脂层300，可避免在形成有机树脂层300时沉积不均匀而造成后续自组装时，对其他区域的图案层造成损伤。
第二种情况：
当对像素界定层基本图案200的高度要求高的情况下，优选采用有机材料和无机材料共同形成像素界定层基本图案200，即：上述S01可具体为：在基板100上形成由所述第一图案200a和有机材料的第三图案构成的所述像素界定层基本图案200；其中，所述第一图案200a位于所述第三图案的上方。
进一步的，上述形成由所述第一图案200a和有机材料的第三图案构成的所述像素界定层基本图案200，具体可通过如下步骤实现：
S111、如图7a所示，在基板100上依次形成负性感光型有机树脂材料的第三薄膜400、无机材料的第四薄膜500以及负性感光型有机树脂材料的第五薄膜600。
这里，对于所述第三薄膜400的材料优选采用负性感光型有机树脂材料，目的是最终形成的所述第三图案是曝光后被固化的部分即保留在基板上的部分是被固化的部分，没有保留在基板上的是未被固化的部分，这样在后期的清洗使用等过程中，能够使其结构很好的保持且稳定性较好。
S112、如图7b所示，采用普通掩膜板对形成有所述第三薄膜400、所述第四薄膜500和所述第五薄膜600的基板进行曝光，使所述第三薄膜400中被固化的部分形成所述第三图案400a，使所述第五薄膜600中被固化的部分形成第五图案600a，显影后所述第五薄膜中未被固化的部分被去除。
这里，由于采用同一个掩膜板对形成有所述第三薄膜400、所述第四薄膜500和所述第五薄膜600的基板进行曝光，在所述第三薄膜400中被固化的部分形成所述第三图案400a的情况下，所述第五薄膜600中被固化的部分即第五图案600a必然是位于所述第三图案400a上方的。因此，只要第三图案400a的位置被限定，第五图案600a的位置则相应的被限定。
其中，可通过控制掩膜板的开口在基板的投影的位置，来控制基板的曝光区域。
S113、如图7c所示，以所述第五图案600a为掩膜，对所述第四薄膜500进行刻蚀，形成所述第一图案200a；其中，所述第三图案400a和所述第一图案200a构成所述像素界定层基本图案200。
之后，如图7d所示，去除所述第五图案600a，使所述第三薄膜400中未被固化的部分形成所述感光型有机树脂层300。
这样，仅使用一次掩膜板便可形成所述像素界定层基本图案200，并形成位于所述像素界定层基本图案200之间的感光型有机树脂层300。
在此情况下，进一步的，在所述第一图案200a表面形成氟代单分子层210，形成所述像素界定层20。然后，去除所述感光型有机树脂层300，形成如图7e所示的结构。
基于上述，可采用氟代硅烷对所述第一图案200a进行自组装单分子层表面处理；在此基础上，在采用氟代硅烷对所述第一图案200a进行自组装单分子层表面处理之前，所述方法还包括：对所述第一图案200a进行羟基化处理。
经过羟基化处理，可使所述第一图案200a更容易与硅烷进行反应。
本发明实施例还提供了一种像素界定层20，如图3b、图7e所示，该像素界定层20包括：像素界定层基本图案200；所述像素界定层基本图案200包括无机材料的第一图案200a，且所述第一图案200a位于所述像素界定层基本图案200的最上方；还包括：自组装在所述第一图案表面的氟代单分子层210。
其中，参考图3b所示，所述像素界定层基本图案200除包括无机材料的第一图案200a外，还可以包括无机材料的第二图案200b，且所述第一图案200a位于第二图案200b的上方。此处，区分所述第一图案200a和第二图案200b仅是为后续方便描述氟代单分子层210的结构，附图3b中区分第一图案200a和第二图案200b的虚线实际上并不存在。
参考图7e所示，所述像素界定层基本图案200除包括无机材料的第一图案200a外，还包括有机材料的第三图案400a，且所述第一图案200a位于第三图案400a的上方。
本发明实施例还提供一种像素界定层20，包括：像素界定层基本图案200；所述像素界定层基本图案200包括无机材料的第一图案200a，且所述第一图案200a位于所述像素界定层基本图案200的最上方；还包括：自组装在所述第一图案表面的氟代单分子层210。由于自组装的氟代单分子层210是基于共价键与第一图案200a连接的，因而长时间放置、一般的清洗步骤(等离子除外)、退火等工艺并不会影响其疏液性能，因此通过这种方法形成的像素界定层20，其疏液性能可以长久的保持，而不担心失效的问题。
当对像素界定层基本图案200的高度要求不高的情况下，如图3b所示，优选直接采用无机材料形成所述像素界定层基本图案200，即：所述像素界定层基本图案200包括无机材料的所述第一图案200a和无机材料的第二图案200b，且所述第一图案200a和所述第二图案200b一体形成。即：所述第一图案200a和所述第二图案200b通过一层薄膜经过构图工艺后形成。
需要说明的是，实际并不存在附图3b中的用于区分第一图案200a和第二图案200b的虚线，本发明在附图中设置在虚线主要为了方便描述氟代单分子层210的形成范围。
当对像素界定层基本图案200的高度要求高的情况下，如图7e所示，优选采用有机材料和无机材料共同形成像素界定层基本图案200，即：所述像素界定层基本图案200包括无机材料的所述第一图案200a和有机材料的第三图案400a。
进一步的，所述第三图案400a的材料为固化后的感光型有机树脂材料。
本发明实施例还提供一种显示基板，包括上述的像素界定层20。
其中，所述显示基板可以是OLED用阵列基板，液晶显示器用彩膜基板等可采用喷墨打印形成相应图案层的显示基板。
本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述的显示基板。
其中，所述显示装置可以是液晶显示器、电子纸、OLED、高分子发光二极管(PLED)等显示器件，以及包括这些显示器件的电视、数码相机、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件。
本发明实施例还提供了一种显示基板的制备方法，包括在基板100上形成像素界定层20，其中，所述像素界定层20的制备方法为上述的像素界定层20的制备方法。
示例的，以OLED用显示基板为例，其制备方法包括：
S301、如图8a所示，通过构图工艺在基板100的像素区域上形成第一电极700。
其中，所述第一电极700通常可以为阳极，当然若为阴极也可行。
S302、如图8b所示，在基板100的非像素区域形成像素界定层20。
其中，所述像素界定层20的制备方法采用上述像素界定层20的制备方法，在此不再赘述。
S303、如图8c所示，在由所述像素界定层20限定的像素区域中的第一电极上形成有机材料功能层800。
对于所述有机材料功能层800，其可以至少包括发光层，进一步的还可以包括电子传输层和空穴传输层，在此基础上为了能够提高电子和空穴注入发光层的效率，所述有机材料功能层进一步还可以包括设置在阴极与所述电子传输层之间的电子注入层，以及设置在所述空穴传输层与阳极之间的空穴注入层。
其中，形成所述有机材料功能层800可采用喷墨打印法形成。
S303、如图8d所示，在所述有机材料功能层800上形成第二电极层900。
其中，所述第二电极层900通常可以为阴极，当然若为阳极也可行。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (14)

1.一种像素界定层的制备方法，其特征在于，包括：
在基板上形成像素界定层基本图案；所述像素界定层基本图案包括无机材料的第一图案，且所述第一图案位于所述像素界定层基本图案的最上方；
对所述第一图案进行自组装单分子层表面处理，在所述第一图案表面形成氟代单分子层，形成所述像素界定层。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述第一图案进行自组装单分子层表面处理，包括：
在所述像素界定层基本图案之间形成感光型有机树脂层，所述感光型有机树脂层露出所述第一图案；
对露出的所述第一图案进行自组装单分子层表面处理；
在所述第一图案表面形成氟代单分子层后，所述方法还包括：去除所述感光型有机树脂层。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述在基板上形成像素界定层基本图案，包括：
在基板上形成无机材料的第一薄膜；
对所述第一薄膜进行构图工艺，形成由所述第一图案和第二图案构成的所述像素界定层基本图案。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述像素界定层基本图案之间形成感光型有机树脂层，所述感光型有机树脂层露出所述第一图案，包括：
在形成有所述像素界定层基本图案的基板上形成感光型有机树脂材料的第二薄膜，所述第二薄膜覆盖所述像素界定层基本图案；
采用等离子体对所述第二薄膜进行刻蚀露出所述第一图案，使所述像素界定层基本图案之间的所述第二薄膜形成所述感光型有机树脂层。
5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述在基板上形成像素界定层基本图案，包括：
在基板上形成由所述第一图案和有机材料的第三图案构成的所述像素界定层基本图案。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述在基板上形成由所述第一图案和有机材料的第三图案构成的所述像素界定层基本图案，包括：
在基板上依次形成负性感光型有机树脂材料的第三薄膜、无机材料的第四薄膜以及负性感光型有机树脂材料的第五薄膜；
采用普通掩膜板对形成有所述第三薄膜、所述第四薄膜和所述第五薄膜的基板进行曝光，使所述第三薄膜中被固化的部分形成所述第三图案，使所述第五薄膜中被固化的部分形成第五图案，显影后所述第五薄膜中未被固化的部分被去除；
以所述第五图案为掩膜，对所述第四薄膜进行刻蚀，形成所述第一图案；其中，所述第三图案和所述第一图案构成所述像素界定层基本图案；
在所述像素界定层基本图案之间形成感光型有机树脂层，包括：
待所述第五图案去除后，所述第三薄膜中未被固化的部分形成所述感光型有机树脂层。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，采用氟代硅烷对所述第一图案进行自组装单分子层表面处理；
在采用氟代硅烷对所述第一图案进行自组装单分子层表面处理之前，所述方法还包括：对所述第一图案进行羟基化处理。
8.一种像素界定层，其特征在于，包括：像素界定层基本图案；所述像素界定层基本图案包括无机材料的第一图案，且所述第一图案位于所述像素界定层基本图案的最上方；
还包括：自组装在所述第一图案表面的氟代单分子层。
9.根据权利要求8所述的像素界定层，其特征在于，所述像素界定层基本图案包括无机材料的所述第一图案和无机材料的第二图案，且所述第一图案和所述第二图案一体形成。
10.根据权利要求8所述的像素界定层，其特征在于，所述像素界定层基本图案包括无机材料的所述第一图案和有机材料的第三图案。
11.根据权利要求10所述的像素界定层，其特征在于，所述第三图案的材料为固化后的感光型有机树脂材料。
12.一种显示基板，其特征在于，包括权利要求8至11任一项所述的像素界定层。
13.一种显示基板的制备方法，包括在基板上形成像素界定层，其特征在于，所述像素界定层的制备方法为权利要求1至7任一项所述的像素界定层的制备方法。
14.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求12所述的显示基板。
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