CN108281467A - 像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，像素界定层的制作方法，包括：在薄膜晶体管阵列基板上形成像素界定层薄膜，利用所述像素界定层薄膜形成像素分隔墙图案，所述像素分隔墙图案限定出多个亚像素区域，所述像素分隔墙图案包括相背的第一侧壁和第二侧壁，所述第一侧壁靠近所述薄膜晶体管阵列基板处形成有朝向所述第二侧壁凹陷的凹陷部。本发明的技术方案能够解决利用喷墨打印技术形成亚像素区域内薄膜时，墨水在亚像素区域边缘存在严重的攀爬现象，从而使形成的薄膜的平坦性难以保证，造成器件点亮亮度不均，以及器件效率大大下降的问题。

Description

像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是指一种像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

有机电致发光显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)因其所具有的自发光、快速响应、宽视角和可制作在柔性衬底上等特点而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。

目前OLED显示器件制备中通常会采用真空蒸镀技术和喷墨打印技术来制备有机功能膜层，其中，真空蒸镀技术的技术设备投资和维护费用较高，材料浪费严重，喷墨打印技术可以有效解决材料利用率低的问题，并可应用在大面积OLED显示器件的制备中。

如图1所示，在采用喷墨打印工艺制作有机电致发光显示器的有机发光层时，在预先制作有像素界定层10的基板上，将墨滴精确的喷入指定的亚像素区域101，以形成有机发光层20。

然而，由于像素界定层10的钉扎效应，喷入亚像素区域101的墨滴会出现沿像素界定层10的两侧攀爬的现象，从而形成边缘厚，中间薄的不均匀的薄膜。这样一来，厚度不均的有机发光层20会造成像素区域101的发光亮度不均，从而影响显示效果。

另外，随着量子点应用的不断扩展，且喷墨打印技术的在功能器件研究领域的广泛研究和使用，使用喷墨打印技术来打印出分辨率级别的量子点发光图案已经成为可能，但是在利用喷墨打印技术制备量子点发光层的过程中，常常会出现打印不均匀的问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置，能够解决利用喷墨打印技术形成亚像素区域内薄膜时，墨水在亚像素区域边缘存在严重的攀爬现象，从而使形成的薄膜的平坦性难以保证，造成器件点亮亮度不均，以及器件效率大大下降的问题。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种像素界定层的制作方法，包括：

在薄膜晶体管阵列基板上形成像素界定层薄膜，利用所述像素界定层薄膜形成像素分隔墙图案，所述像素分隔墙图案限定出多个亚像素区域，所述像素分隔墙图案包括相背的第一侧壁和第二侧壁，所述第一侧壁靠近所述薄膜晶体管阵列基板处形成有朝向所述第二侧壁凹陷的凹陷部。

进一步地，所述利用所述像素界定层薄膜形成像素分隔墙图案包括：

对所述像素界定层薄膜进行构图，形成像素分隔墙过渡图形，所述像素分隔墙过渡图形限定出多个亚像素区域；

去除所述像素分隔墙过渡图形靠近所述薄膜晶体管阵列基板的端部的一部分，形成所述像素分隔墙图案。

进一步地，所述去除所述像素分隔墙过渡图形靠近所述薄膜晶体管阵列基板的端部的一部分包括：

将刻蚀墨水打印到所述亚像素区域内，所述刻蚀墨水能够溶解所述像素分隔墙过渡图形；

在所述刻蚀墨水溶解掉所述像素分隔墙过渡图形靠近所述薄膜晶体管阵列基板的端部的一部分后，在真空环境下蒸发掉所述刻蚀墨水。

进一步地，所述在薄膜晶体管阵列基板上形成像素界定层薄膜，利用所述像素界定层薄膜形成像素分隔墙图案包括：

在薄膜晶体管阵列基板上形成多个凸起部，从靠近所述薄膜晶体管阵列基板到远离所述薄膜晶体管阵列基板的方向上，所述凸起部在平行于所述薄膜晶体管阵列基板的方向上的截面积逐渐减小；

在形成有所述凸起部的薄膜晶体管阵列基板上形成所述像素界定层薄膜；

去除所述凸起部，形成所述像素分隔墙图案。

进一步地，在所述像素界定层薄膜的厚度不大于所述凸起部的高度时，去除所述凸起部之前，所述方法还包括：

对所述像素界定层薄膜进行固化处理；

在所述像素界定层薄膜覆盖所述凸起部时，去除所述凸起部之前，所述方法还包括：

去除所述凸起部上面的像素界定层薄膜，并对其余的像素界定层薄膜进行固化处理。

进一步地，所述像素界定层薄膜的厚度为10nm-5um。

本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，在基底上利用如上所述的制作方法制备像素界定层之后，在所述像素分隔墙图案限定出的多个亚像素区域内喷墨打印有机墨水或者量子点墨水。

进一步地，所述基底采用疏水性材料制成，所述像素界定层薄膜采用亲水性材料制成；或

所述基底采用亲水性材料制成，所述像素界定层薄膜采用疏水性材料制成。

本发明实施例还提供了一种显示基板，所述显示基板采用如上所述的制作方法制作得到。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。

本发明的实施例具有以下有益效果：

上述方案中，像素分隔墙图案包括相背的第一侧壁和第二侧壁，第一侧壁靠近薄膜晶体管阵列基板处形成有朝向第二侧壁凹陷的凹陷部，这样在像素分隔墙图案限定出的亚像素区域内打印墨水时，在墨水的墨滴干燥过程中，凹陷部会阻挡墨水沿着第一侧壁进行攀爬，从而可以减小亚像素区域内薄膜出现中间薄边缘厚现象的几率，提高薄膜厚度的均一性，保证薄膜的平坦性，进而提高了显示装置的亮度均匀性并保证器件效率及寿命。

附图说明

图1为现有技术制作出的有机发光层的示意图；

图2为本发明实施例制作出的像素分隔墙过渡图形的示意图；

图3为本发明实施例制作出的像素分隔墙图案的示意图；

图4为本发明实施例在形成有凸起部的薄膜晶体管阵列基板上形成像素界定层薄膜的示意图；

图5为本发明实施例去除凸起部后形成像素分隔墙图案的示意图。

附图标记

101 亚像素区域

10 现有技术的像素界定层

20 现有技术的有机发光层

1 薄膜晶体管阵列基板

2 像素分隔墙过渡图形

3 像素分隔墙图案

4 凸起部

5 像素界定层薄膜

具体实施方式

为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

本发明的实施例针对现有技术中利用喷墨打印技术形成亚像素区域内薄膜时，墨水在亚像素区域边缘存在严重的攀爬现象的问题，提供一种像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置，能够解决利用喷墨打印技术形成亚像素区域内薄膜时，墨水在亚像素区域边缘存在严重的攀爬现象，从而使形成的薄膜的平坦性难以保证，造成器件点亮亮度不均，以及器件效率大大下降的问题。

本发明实施例提供一种像素界定层的制作方法，包括：

在薄膜晶体管阵列基板上形成像素界定层薄膜，利用所述像素界定层薄膜形成像素分隔墙图案，所述像素分隔墙图案限定出多个亚像素区域，所述像素分隔墙图案包括相背的第一侧壁和第二侧壁，所述第一侧壁靠近所述薄膜晶体管阵列基板处形成有朝向所述第二侧壁凹陷的凹陷部。

本实施例中，像素分隔墙图案包括相背的第一侧壁和第二侧壁，第一侧壁靠近薄膜晶体管阵列基板处形成有朝向第二侧壁凹陷的凹陷部，这样在像素分隔墙图案限定出的亚像素区域内打印墨水时，在墨水的墨滴干燥过程中，凹陷部会阻挡墨水沿着第一侧壁进行攀爬，从而可以减小亚像素区域内薄膜出现中间薄边缘厚现象的几率，提高薄膜厚度的均一性，保证薄膜的平坦性，进而提高了显示装置的亮度均匀性并保证器件效率及寿命。

其中，墨水可以包括有机墨水和量子点墨水。

一具体实施例中，所述利用所述像素界定层薄膜形成像素分隔墙图案包括：

对所述像素界定层薄膜进行构图，形成像素分隔墙过渡图形，所述像素分隔墙过渡图形限定出多个亚像素区域；

去除所述像素分隔墙过渡图形靠近所述薄膜晶体管阵列基板的端部的一部分，形成所述像素分隔墙图案。

具体地，如图2所示，在薄膜晶体管阵列基板1上沉积像素界定层薄膜，对像素界定层薄膜进行构图，形成像素分隔墙过渡图形2，像素分隔墙过渡图形2限定出多个亚像素区域；如图3所示，去除像素分隔墙过渡图形2靠近薄膜晶体管阵列基板1的端部的一部分，在像素分隔墙过渡图形2的侧壁上形成凹陷部，得到像素分隔墙图案3。像素分隔墙图案3具有相背的第一侧壁和第二侧壁，图中虚线框所示为第一侧壁，第一侧壁靠近薄膜晶体管阵列基板1的位置形成有朝向第二侧壁凹陷的凹陷部。

可以看出，在像素分隔墙图案3限定出的亚像素区域内，该凹陷部的设计使得靠近薄膜晶体管阵列基板1的位置具有较多的容纳空间，能容纳更多的墨水，同时凹陷部的侧壁能够阻挡打印到亚像素区域内的墨水沿着第一侧壁进行攀爬，从而可以减小亚像素区域内有机薄膜出现中间薄边缘厚现象的几率，提高薄膜厚度的均一性，保证薄膜的平坦性，进而提高了显示装置的亮度均匀性并且可以保证器件效率及寿命。

该凹陷部的结构多式多样，只要去除像素分隔墙过渡图形2靠近薄膜晶体管阵列基板1的端部的一部分即可形成该凹陷部。具体地，可以通过刻蚀的方法去除像素分隔墙过渡图形2靠近薄膜晶体管阵列基板1的端部的一部分，还可以通过打印刻蚀墨水的方法去除像素分隔墙过渡图形2靠近薄膜晶体管阵列基板1的端部的一部分。

其中，在通过打印刻蚀墨水的方法去除像素分隔墙过渡图形2靠近薄膜晶体管阵列基板1的端部的一部分时，所述去除所述像素分隔墙过渡图形靠近所述薄膜晶体管阵列基板的端部的一部分包括：

将刻蚀墨水打印到所述亚像素区域内，所述刻蚀墨水能够溶解所述像素分隔墙过渡图形；

在所述刻蚀墨水溶解掉所述像素分隔墙过渡图形靠近所述薄膜晶体管阵列基板的端部的一部分后，在真空环境下蒸发掉所述刻蚀墨水。

由于刻蚀墨水在非真空环境下的蒸发速率很低，因此需要在真空环境下蒸发刻蚀墨水，这样可以在较短的时间内蒸发掉该刻蚀墨水。

在通过打印刻蚀墨水的方法去除像素分隔墙过渡图形2靠近薄膜晶体管阵列基板1的端部的一部分时，可以利用现有的喷墨打印设备向亚像素区域内打印刻蚀墨水，不用对现有的制作设备进行改动，操作简便。

另一具体实施例中，所述在薄膜晶体管阵列基板上形成像素界定层薄膜，利用所述像素界定层薄膜形成像素分隔墙图案包括：

在薄膜晶体管阵列基板上形成多个凸起部，从靠近所述薄膜晶体管阵列基板到远离所述薄膜晶体管阵列基板的方向上，所述凸起部在平行于所述薄膜晶体管阵列基板的方向上的截面积逐渐减小；

在形成有所述凸起部的薄膜晶体管阵列基板上形成所述像素界定层薄膜；

去除所述凸起部，形成所述像素分隔墙图案。

具体地，如图4所示，在薄膜晶体管阵列基板1上形成多个凸起部4，可以在薄膜晶体管阵列基板1沉积一层金属材料，通过构图工艺利用该层金属材料形成多个凸起部4，从靠近薄膜晶体管阵列基板1到远离薄膜晶体管阵列基板1的方向上，凸起部4在平行于薄膜晶体管阵列基板1的方向上的截面积逐渐减小，比如如图4所示，凸起部4在垂直于其延伸方向上的横截面为梯形。在形成有凸起部4的薄膜晶体管阵列基板1上沉积像素界定层薄膜5。如图5所示，去除凸起部4即可得到像素分隔墙图案3。在凸起部4采用金属材料制作时，可以采用湿法刻蚀工艺对凸起部4进行刻蚀，即可将凸起部4完全去除，湿法刻蚀所采用的刻蚀液主要包括盐酸、硝酸、磷酸。需要说明的是，在对凸起部4进行湿法刻蚀工艺时，可以采用喷淋方式或者浸泡方式，本发明对此不做限定。

进一步地，构成凸起部4的材料包括钼、铝、银中的至少一种。其中，为了在去除凸起部4的步骤中，提高刻蚀速率，凸起部4优选由钼构成。

进一步地，在所述像素界定层薄膜5的厚度不大于所述凸起部4的高度时，去除所述凸起部4之前，所述方法还包括：

对所述像素界定层薄膜5进行固化处理；

在所述像素界定层薄膜5覆盖所述凸起部4时，去除所述凸起部4之前，所述方法还包括：

去除所述凸起部4上面的像素界定层薄膜5，并对其余的像素界定层薄膜5进行固化处理。

通过对像素界定层薄膜5进行固化处理，可以防止像素界定层薄膜5发生形变，影响最终形成的像素分隔墙图案3的形状。具体地，在像素界定层薄膜5采用正性光刻胶时，可以直接对像素界定层薄膜5进行烘烤使其固化；在像素界定层薄膜5采用负性光刻胶时，可以对像素界定层薄膜5进行曝光使其固化。

由图4和图5可以看出，像素分隔墙图案3具有相背的第一侧壁和第二侧壁，图中虚线框所示为第一侧壁，第一侧壁靠近薄膜晶体管阵列基板1的位置形成有朝向第二侧壁凹陷的凹陷部。

可以看出，在像素分隔墙图案3限定出的亚像素区域内，该凹陷部的设计使得靠近薄膜晶体管阵列基板1的位置具有较多的容纳空间，能容纳更多的墨水，同时凹陷部的侧壁能够阻挡打印到亚像素区域内的墨水沿着第一侧壁进行攀爬，从而可以减小亚像素区域内有机薄膜出现中间薄边缘厚现象的几率，提高薄膜厚度的均一性，保证薄膜的平坦性，进而提高了显示装置的亮度均匀性并且可以保证器件效率及寿命。

下面结合具体实施例对本发明的像素界定层的制作方法进行详细介绍：

具体实施例一

本实施例中，像素界定层的制作方法具体包括以下步骤：

步骤1：提供一薄膜晶体管阵列基板；

薄膜晶体管阵列基板包括形成在衬底基板上的薄膜晶体管阵列及信号走线，其中，衬底基板可以采用玻璃基板或石英基板。

步骤2：将像素界定层材料均匀的旋涂在薄膜晶体管阵列基板上，形成像素界定层薄膜；

其中，像素界定层薄膜的厚度可以为10nm-200nm，可以根据实际需求确定像素界定层薄膜的厚度。像素界定层材料可以采用树脂材料，比如环氧树脂制作。

像素界定层材料可以为与待打印的墨水相匹配的亲水性或者疏水性材料，墨水可以为水性墨水或者油性墨水。比如待打印的墨水为油性墨水，则像素界定层材料采用亲水性材料；比如待打印的墨水为水性墨水，则像素界定层材料采用疏水性材料。

步骤3：通过干刻或湿法刻蚀得到像素分隔墙过渡图形；

像素分隔墙过渡图形限定出多个亚像素区域，一般情况下，像素分隔墙过渡图形在垂直于其自身延伸方向上的截面为梯形。

步骤4：将刻蚀墨水打印到亚像素区域内，在刻蚀墨水溶解掉像素分隔墙过渡图形靠近薄膜晶体管阵列基板的端部的一部分后，在真空环境下蒸发掉刻蚀墨水。

该刻蚀墨水不与薄膜晶体管阵列基板反应，可与像素分隔墙过渡图形互溶，在刻蚀墨水溶解掉像素分隔墙过渡图形靠近薄膜晶体管阵列基板的端部的一部分形成凹陷部后，在真空环境下蒸发掉刻蚀墨水，即形成像素分隔墙图案。

具体实施例二

本实施例中，像素界定层的制作方法具体包括以下步骤：

步骤1：提供一薄膜晶体管阵列基板；

薄膜晶体管阵列基板包括形成在衬底基板上的薄膜晶体管阵列及信号走线，其中，衬底基板可以采用玻璃基板或石英基板。

步骤2：将像素界定层材料均匀的旋涂在薄膜晶体管阵列基板上，形成像素界定层薄膜；

其中，像素界定层薄膜的厚度可以为10nm-5um，可以根据实际需求确定像素界定层薄膜的厚度。像素界定层材料可以采用树脂材料，比如环氧树脂制作。

像素界定层薄膜可以为双层结构，比如包括层叠设置的第一像素界定层子薄膜和第二像素界定层子薄膜。

第一像素界定层子薄膜和第二像素界定层子薄膜采用的材料可以不同，具体地，第一像素界定层子薄膜和第二像素界定层子薄膜的材料可以与待打印的墨水的材料相匹配，比如在打印第一墨水时，根据预先设计第一墨水与第一像素界定层子薄膜相接触，则在待打印的第一墨水为油性墨水时，第一像素界定层子薄膜材料可以采用亲水性材料；在待打印的第一墨水为水性墨水时，第一像素界定层子薄膜材料可以采用疏水性材料。比如在打印第二墨水时，根据预先设计第二墨水与第二像素界定层子薄膜相接触，则在待打印的第二墨水为油性墨水时，第二像素界定层子薄膜材料可以采用亲水性材料；在待打印的第二墨水为水性墨水时，第二像素界定层子薄膜材料可以采用疏水性材料。

优选地，第一像素界定层子薄膜材料与第二像素界定层子薄膜材料的特性相反，比如第一像素界定层子薄膜材料为亲水性材料，第二像素界定层子薄膜材料为疏水性材料；或第二像素界定层子薄膜材料为亲水性材料，第一像素界定层子薄膜材料为疏水性材料。这样不论待打印的墨水为油性墨水还是水性墨水，都可以降低最终制作出的像素分隔墙图案与墨水之间的亲附力，使得墨水不会沿着像素分隔墙图案的侧壁攀爬。

步骤3：通过干刻或湿法刻蚀得到像素分隔墙过渡图形；

像素分隔墙过渡图形限定出多个亚像素区域，一般情况下，像素分隔墙过渡图形在垂直于其自身延伸方向上的截面为梯形。

步骤4：将刻蚀墨水打印到亚像素区域内，在刻蚀墨水溶解掉像素分隔墙过渡图形靠近薄膜晶体管阵列基板的端部的一部分后，在真空环境下蒸发掉刻蚀墨水。

该刻蚀墨水不与薄膜晶体管阵列基板反应，可与像素分隔墙过渡图形互溶，在刻蚀墨水溶解掉像素分隔墙过渡图形靠近薄膜晶体管阵列基板的端部的一部分形成凹陷部后，在真空环境下蒸发掉刻蚀墨水，即形成像素分隔墙图案。

本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，在基底上利用如上所述的制作方法制备像素界定层之后，在所述像素分隔墙图案限定出的多个亚像素区域内喷墨打印有机墨水或者量子点墨水。

本实施例中，像素分隔墙图案包括相背的第一侧壁和第二侧壁，第一侧壁靠近薄膜晶体管阵列基板处形成有朝向第二侧壁凹陷的凹陷部，这样在像素分隔墙图案限定出的亚像素区域内打印墨水时，在墨水的墨滴干燥过程中，凹陷部会阻挡墨水沿着第一侧壁进行攀爬，从而可以减小亚像素区域内薄膜出现中间薄边缘厚现象的几率，提高薄膜厚度的均一性，保证薄膜的平坦性，进而提高了显示装置的亮度均匀性并保证器件效率及寿命。

为了进一步避免墨水沿着第一侧壁进行攀爬，可以根据待打印的墨水的性质设计像素界定层薄膜的材质，比如待打印的墨水为油性墨水，则基底采用疏水性材料制成，所述像素界定层薄膜采用亲水性材料制成；比如待打印的墨水为水性墨水，则基底采用亲水性材料制成，所述像素界定层薄膜采用疏水性材料制成。这样可以降低像素分隔墙图案与墨水之间的亲附力，使得墨水不会沿着像素分隔墙图案的侧壁攀爬。

本发明实施例还提供了一种显示基板，所述显示基板采用如上所述的制作方法制作得到。

本实施例中，显示基板的像素分隔墙图案包括相背的第一侧壁和第二侧壁，第一侧壁靠近薄膜晶体管阵列基板处形成有朝向第二侧壁凹陷的凹陷部，这样在像素分隔墙图案限定出的亚像素区域内打印墨水时，在墨水的墨滴干燥过程中，凹陷部会阻挡墨水沿着第一侧壁进行攀爬，从而可以减小亚像素区域内薄膜出现中间薄边缘厚现象的几率，提高薄膜厚度的均一性，保证薄膜的平坦性，进而提高了显示装置的亮度均匀性并保证器件效率及寿命。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。所述显示装置可以为：电视、显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件，其中，所述显示装置还包括柔性电路板、印刷电路板和背板。

在本发明各方法实施例中，所述各步骤的序号并不能用于限定各步骤的先后顺序，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，对各步骤的先后变化也在本发明的保护范围之内。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。

以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种像素界定层的制作方法，其特征在于，包括：

在薄膜晶体管阵列基板上形成像素界定层薄膜，利用所述像素界定层薄膜形成像素分隔墙图案，所述像素分隔墙图案限定出多个亚像素区域，所述像素分隔墙图案包括相背的第一侧壁和第二侧壁，所述第一侧壁靠近所述薄膜晶体管阵列基板处形成有朝向所述第二侧壁凹陷的凹陷部。

2.根据权利要求1所述的像素界定层的制作方法，其特征在于，所述利用所述像素界定层薄膜形成像素分隔墙图案包括：

对所述像素界定层薄膜进行构图，形成像素分隔墙过渡图形，所述像素分隔墙过渡图形限定出多个亚像素区域；

去除所述像素分隔墙过渡图形靠近所述薄膜晶体管阵列基板的端部的一部分，形成所述像素分隔墙图案。

3.根据权利要求2所述的像素界定层的制作方法，其特征在于，所述去除所述像素分隔墙过渡图形靠近所述薄膜晶体管阵列基板的端部的一部分包括：

将刻蚀墨水打印到所述亚像素区域内，所述刻蚀墨水能够溶解所述像素分隔墙过渡图形；

在所述刻蚀墨水溶解掉所述像素分隔墙过渡图形靠近所述薄膜晶体管阵列基板的端部的一部分后，在真空环境下蒸发掉所述刻蚀墨水。

4.根据权利要求1所述的像素界定层的制作方法，其特征在于，所述在薄膜晶体管阵列基板上形成像素界定层薄膜，利用所述像素界定层薄膜形成像素分隔墙图案包括：

在薄膜晶体管阵列基板上形成多个凸起部，从靠近所述薄膜晶体管阵列基板到远离所述薄膜晶体管阵列基板的方向上，所述凸起部在平行于所述薄膜晶体管阵列基板的方向上的截面积逐渐减小；

在形成有所述凸起部的薄膜晶体管阵列基板上形成所述像素界定层薄膜；

去除所述凸起部，形成所述像素分隔墙图案。

5.根据权利要求4所述的像素界定层的制作方法，其特征在于，在所述像素界定层薄膜的厚度不大于所述凸起部的高度时，去除所述凸起部之前，所述方法还包括：

对所述像素界定层薄膜进行固化处理；

在所述像素界定层薄膜覆盖所述凸起部时，去除所述凸起部之前，所述方法还包括：

去除所述凸起部上面的像素界定层薄膜，并对其余的像素界定层薄膜进行固化处理。

6.根据权利要求1所述的像素界定层的制作方法，其特征在于，所述像素界定层薄膜的厚度为10nm-5um。

7.一种显示基板的制作方法，其特征在于，在基底上利用如权利要求1-6中任一项所述的制作方法制备像素界定层之后，在所述像素分隔墙图案限定出的多个亚像素区域内喷墨打印有机墨水或者量子点墨水。

8.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，

所述基底采用疏水性材料制成，所述像素界定层薄膜采用亲水性材料制成；或

所述基底采用亲水性材料制成，所述像素界定层薄膜采用疏水性材料制成。

9.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板采用如权利要求7或8所述的制作方法制作得到。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的显示基板。