CN109390278B - 一种显示基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可利用粘度低的材料，制备得到高平坦性的平坦层。一种显示基板的制备方法，包括：在衬底上的显示区形成图案化膜层；在所述衬底上的非显示区形成围绕所述显示区一圈的挡墙；所述图案化膜层与所述挡墙位于所述衬底的同一侧；在所述挡墙围成的区域内形成平坦层，所述平坦层背离所述衬底一侧的表面与所述衬底之间的距离小于所述挡墙背离所述衬底一侧的表面与所述衬底之间的距离；其中，所述平坦层的材料的粘度小于8cP。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
背景技术
目前，随着科学技术的快速的发展，各类显示装置逐渐发展起来，例如，液晶显示装置(Liquid Crystal Display，简称LCD)、有机电致发光二极管显示装置(OrganicLight-Emitting Diode Display，简称OLED)。
无论是LCD显示装置，还是OLED显示装置，在其制作过程中，常会形成平坦层，若平坦层的平整度不够，则像素内容易出现凹凸不平的现象，从而会严重影响显示装置的性能。
例如，LED显示装置包括OLED器件，OLED器件包括发光功能层，在制备OLED器件之前，由于薄膜晶体管等显示结构的存在，导致薄膜晶体管与待形成的OLED器件之间的平坦层靠近OLED器件一侧的表面不平坦。
现有技术通常采用真空蒸镀技术制备发光功能层，但真空蒸镀技术因工艺复杂、设备成本高而不具有竞争优势。
现有技术还可采用喷墨打印技术制备发光功能层，相较于真空蒸镀技术，喷墨打印技术具有设备成本低、制备工艺简单、能实现大面积高分辨率甚至柔性显示的优点，然而，由于平坦层靠近OLED器件一侧的表面不平坦，进一步的，在采用喷墨打印技术制备发光功能层时，发光功能层中靠近平坦层的表面不平坦、背离平坦层的表面平坦，即，发光功能层的厚度不均一，进而导致发光功能层的发光亮度不均一。
由于粘度较低的平坦层材料的流动性比较好，容易形成具有平坦的表面的平坦层，但粘度较低的材料所形成的平坦层的厚度较小，而较小的厚度将会影响平坦层的平坦性能。
发明内容
本发明的实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，可利用粘度低的材料，制备得到高平坦性的平坦层。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
第一方面，提供一种显示基板的制备方法，包括：在衬底上的显示区形成图案化膜层；在所述衬底上的非显示区形成围绕所述显示区一圈的挡墙；所述图案化膜层与所述挡墙位于所述衬底的同一侧；在所述挡墙围成的区域内形成平坦层，所述平坦层背离所述衬底一侧的表面与所述衬底之间的距离小于所述挡墙背离所述衬底一侧的表面与所述衬底之间的距离；其中，所述平坦层的材料的粘度小于8cP。
可选的，所述图案化膜层包括薄膜晶体管；形成所述平坦层之后，所述方法还包括：在所述平坦层背离所述衬底一侧、且位于所述显示区，形成自发光器件，所述自发光器件包括发光功能层，所述发光功能层采用喷墨打印方式形成。
可选的，在形成所述平坦层之后，形成所述自发光器件之前，所述方法还包括：去除所述挡墙。
可选的，所述平坦层的厚度为小于5μm。
第二方面，提供一种显示基板，通过第一方面所述的显示基板的制备方法制备得到。
第三方面，提供一种显示基板，包括衬底，所述衬底划分为显示区和非显示区，所述显示基板还包括：设置于所述显示区的图案化膜层、设置于所述非显示区且围绕所述显示区一圈的挡墙、以及设置于所述挡墙围成的区域内的平坦层，所述图案化膜层与所述挡墙位于所述衬底的同一侧；其中，所述平坦层背离所述衬底一侧的表面与所述衬底之间的距离小于所述挡墙背离所述衬底一侧的表面与所述衬底之间的距离；所述平坦层的材料的粘度小于8cP。
可选的，所述图案化膜层包括薄膜晶体管；所述显示基板还包括设置于所述平坦层背离所述衬底一侧、且位于所述显示区的自发光器件，所述自发光器件包括发光功能层。
可选的，所述平坦层的厚度为小于5μm。
可选的，所述挡墙的材料包括树脂。
第四方面，提供一种显示装置，包括第二方面和第三方面所述的显示基板。
本发明实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，通过在形成平坦层之前，先形成挡墙，且挡墙背离衬底一侧的表面与衬底之间的距离大于平坦层背离衬底一侧的表面与衬底之间的距离，这样一来，在形成平坦层时，虽然平坦层的材料的流动性很大，但挡墙可以起到辅助围栏的作用，将用于形成平坦层的材料围在挡墙围成的区域内，这样一来，不但可以形成厚度较大的平坦层，且因平坦层的材料的流动性较大，容易使平坦层形成平坦的表面，从而避免现有技术因平坦层的厚度过小，而影响平坦层的平坦性能。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种制备显示基板的流程示意图；
图2为本发明实施例提供的一种制备显示基板的过程示意图；
图3为图2中A-A1方向的剖视示意图；
图4为本发明实施例提供的一种制备显示基板的过程示意图；
图5为图4中B-B1方向的剖视示意图；
图6为图4中B-B1方向的剖视示意图；
图7为本发明实施例提供的一种制备显示基板的过程示意图；
图8为本发明实施例提供的一种制备显示基板的过程示意图；
图9为本发明实施例提供的一种制备显示基板的过程示意图。
附图标记：
10-衬底；11-图案化膜层；12-挡墙；13-平坦层；14-自发光器件；141-阳极；142-发光功能层；143-阴极；15-像素界定层。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供一种显示基板的制备方法，如图1所示，可通过如下步骤实现：
S11、如图2和图3所示，在衬底10上的显示区形成图案化膜层11。
此处，对于衬底10的材料不进行限定，例如可以是玻璃。
需要说明的是，图案化膜层11可以是形成在衬底10上的任意的膜层，可以是一个膜层，也可以是多个膜层。示例的，图案化膜层11可以包括形成薄膜晶体管的多个膜层。
此处，在显示区形成图案化膜层11的同时，还可以利用同一次构图工艺在非显示区形成具有图案的膜层。
示例的，图案化膜层11包括薄膜晶体管，在形成薄膜晶体管的同时，还可以在非显示区形成栅极驱动电路(Gate Driver on Array，简称GOA)。
S12、如图4-6所示，在衬底10上的非显示区形成围绕显示区一圈的挡墙12；图案化膜层11与挡墙12位于衬底10的同一侧。
需要说明的是，第一，如图5所示，挡墙12可以紧挨着显示区设置；如图6所示，挡墙12也可以与显示区之间有一定间距。
第二，不对挡墙12的材料进行限定，例如，挡墙12的材料可以是树脂、氮化硅、氧化硅、金属等。
此处，当挡墙12的材料为金属时，应避免挡墙与衬底10上的其他导电结构电连接。
第三，不对制备挡墙12的工艺进行限定，具体的，与挡墙12的材料有关。
示例的，挡墙12的材料包括树脂，且所述树脂为感光树脂，则仅需要在衬底10上形成材料为感光树脂的薄膜，之后，对材料为感光树脂的薄膜进行曝光、显影，得到挡墙12。
或者，挡墙12的材料包括氮化硅或氧化硅或金属，则需要先在衬底10上形成薄膜，之后，再在所述薄膜背离衬底10一侧形成光刻胶，并对光刻胶进行曝光、显影，得到光刻胶图案，最后，对所述薄膜进行刻蚀，并剥离光刻胶图案，得到挡墙12。
基于上述，为了简化所述显示基板的制备工艺，优选挡墙12的材料为树脂。
当然，挡墙12还可以包括其他材料，其具体的制备工艺可根据其材料决定。
S13、如图7所示，在挡墙12围成的区域内形成平坦层13，平坦层13背离衬底10一侧的表面与衬底10之间的距离小于挡墙12背离衬底10一侧的表面与衬底10之间的距离；其中，平坦层13的材料的粘度小于8cP。
需要说明的是，第一，不对平坦层13的材料进行限定，只要平坦层13的粘度小于8cP即可，例如，平坦层13的粘度为1cP、2cP、5cP、8cP。优选平坦层13的粘度小于5cP。
第二，在挡墙12围成的区域内形成平坦层13，即，平坦层13与挡墙12邻接，且平坦层13设置于挡墙12围成的区域内侧。
第三，不对形成平坦层13的方式进行限定。此处，考虑到平坦层13的粘度较小，流动性较大，可采用旋涂或刮涂的方式形成平坦层13。
在此基础上，还可对平坦层13进行烘烤，以对平坦层13起到固化作用。
第四，不对平坦层13的厚度进行限定，本领域的技术人员应该知道，在形成有图案化膜层11的基础上，平坦层13的作用是使得平坦层13背离图案化膜层11一侧的表面平坦，因此，平坦层13应至少覆盖位于平坦层13下方的图案化膜层11、且平坦层13背离衬底10一侧的表面平坦。
此处，优选平坦层13的厚度小于5μm，例如，平坦层13的厚度为5μm、4.5μm、3μm。
第五，所述显示基板可以是液晶显示器的阵列基板或对盒基板，也可以是OLED显示器的阵列基板。
本发明实施例提供一种显示基板的制备方法，通过在形成平坦层13之前，先形成挡墙12，且挡墙12背离衬底10一侧的表面与衬底10之间的距离大于平坦层13背离衬底10一侧的表面与衬底10之间的距离，这样一来，在形成平坦层13时，虽然平坦层13的材料的流动性很大，但挡墙12可以起到辅助围栏的作用，将用于形成平坦层13的材料围在挡墙12围成的区域内，这样一来，不但可以形成厚度较大的平坦层13，且因平坦层13的材料的流动性较大，容易使平坦层13形成平坦的表面，从而避免现有技术因平坦层13的厚度过小，而影响平坦层13的平坦性能。
可选的，图案化膜层11包括薄膜晶体管；如图8所示，形成平坦层13之后，所述方法还包括：在平坦层13背离衬底10一侧、且位于显示区，形成自发光器件14，自发光器件14包括发光功能层142，所述发光功能层142采用喷墨打印方式形成。
在此基础上，自发光器件14还包括设置于发光功能层142靠近衬底10一侧的阳极141和背离衬底10一侧的阴极143。当然，阴极143也可以设置在发光功能层142靠近衬底10一侧，此时，阳极141设置在发光功能层142背离衬底10一侧。所述显示基板还可以包括设置于相邻自发光器件14之间的像素界定层15。
此处，若形成平坦层13之后，所述方法还包括形成自发光器件14，则平坦层13可以是一整层，也可以是多个块状结构，所述块状结构在衬底10上的正投影与自发光器件14在衬底10上的正投影重叠。
例如，平坦层13的材料包括感光材料，则形成包括多个块状结构的平坦层13的方法包括：在衬底10上形成绝缘薄膜，之后，对所述绝缘薄膜进行曝光、显影，得到平坦层13。
需要说明的是，自发光器件14可以是OLED器件，也可以量子点发光器件。
本发明实施例中，通过采用喷墨打印方式形成发光功能层142，相较于蒸镀工艺，可以节省制备成本；同时，由于平坦层13背离衬底10一侧的表面平坦，因此，采用喷墨打印方式形成的发光功能层142的厚度处处相等，进而可避免因发光功能层142的厚度不均一，导致发光功能层142的发光亮度不均一。
在此基础上，由于挡墙12位于非显示区，因此，即使挡墙12背离衬底10一侧的表面与衬底10之间的距离与平坦层13背离衬底10一侧的表面与衬底10之间的距离不相同，也不会影响发光功能层142的厚度。
当然，还可以以其他方式形成发光功能层142，本发明实施例对此不进行限定。
可选的，在形成平坦层13之后，形成自发光器件14之前，如图9所示，所述方法还包括：去除挡墙12。
需要说明的是，不对去除挡墙12的工艺进行限定，具体的，与挡墙12的材料有关。
示例的，挡墙12的材料包括树脂，可以利用碱性清洗液将挡墙12清洗掉。
同时，若挡墙12的材料为感光树脂，则在制备挡墙12时，可对挡墙12采用较低的曝光量和较低温度的烘烤，以确保可以将挡墙12去除掉。
本发明实施例中，可去除挡墙12，以减小非显示区的宽度(非显示区指向显示区的方向)，当所述显示基板应用于显示装置时，有利于显示装置的窄边框设计。
本发明实施例提供一种显示基板，通过前述任一实施例所述的显示基板的制备方法制备得到。
对于所述显示基板的解释说明，以及所述显示基板带来的技术效果，可参考前述实施例一种显示基板的制备方法部分的内容，在此不再赘述。
本发明实施例提供一种显示基板，如图7所示，包括衬底10，衬底10划分为显示区和非显示区，所述显示基板还包括：设置于显示区的图案化膜层11、设置于非显示区且围绕显示区一圈的挡墙12、以及设置于挡墙12围成的区域内的平坦层13，图案化膜层11与挡墙12位于衬底10的同一侧；其中，平坦层13背离衬底10一侧的表面与衬底10之间的距离小于挡墙12背离衬底10一侧的表面与衬底10之间的距离；平坦层13的材料的粘度小于8cP。
此处，对于衬底10的材料不进行限定，例如可以是玻璃。
需要说明的是，第一，图案化膜层11可以是形成在衬底10上的任意的膜层，可以是一个膜层，也可以是多个膜层。示例的，图案化膜层11可以包括形成薄膜晶体管的多个膜层。
此处，在显示区形成图案化膜层11的同时，还可以利用同一次构图工艺在非显示区形成具有图案的膜层。
示例的，图案化膜层11包括薄膜晶体管，在形成薄膜晶体管的同时，还可以在非显示区形成GOA电路。
第二，参考图5所示，挡墙12可以紧挨着显示区设置；参考图6所示，挡墙12也可以与显示区之间有一定间距。
第三，不对挡墙12的材料进行限定，例如，挡墙12的材料可以是树脂、氮化硅、氧化硅、金属等。
此处，当挡墙12的材料为金属时，应避免挡墙12与衬底10上的其他导电结构电连接。
第四，不对制备挡墙12的工艺进行限定，具体的，与挡墙12的材料有关。
示例的，挡墙12的材料包括树脂，且所述树脂为感光树脂，则仅需要在衬底10上形成材料为感光树脂的薄膜，之后，对材料为感光树脂的薄膜进行曝光、显影，得到挡墙12。
或者，挡墙12的材料包括氮化硅或氧化硅或金属，则需要先在衬底10上形成薄膜，之后，再在所述薄膜背离衬底10一侧形成光刻胶，并对光刻胶进行曝光、显影，得到光刻胶图案，最后，对所述薄膜进行刻蚀，并剥离光刻胶图案，得到挡墙12。
基于上述，为了简化所述显示基板的制备工艺，优选挡墙12的材料为树脂。
当然，挡墙12还可以包括其他材料，其具体的制备工艺可根据其材料决定。
第五，不对平坦层13的材料进行限定，只要平坦层13的粘度小于8cP即可，例如，平坦层13的粘度为1cP、2cP、5cP、8cP。优选平坦层13的粘度小于5cP。
第六，在挡墙12围成的区域内形成平坦层13，即，平坦层13与挡墙12邻接，且平坦层13设置于挡墙12围成的区域内侧。
第七，不对形成平坦层13的方式进行限定。此处，考虑到平坦层13的粘度较小，流动性较大，可采用旋涂或刮涂的方式形成平坦层13。
在此基础上，还可对平坦层13进行烘烤，以对平坦层13起到固化作用。
第八，不对平坦层13的厚度进行限定，本领域的技术人员应该知道，在形成有图案化膜层11的基础上，平坦层13的作用是使得平坦层13背离图案化膜层11一侧的表面平坦，因此，平坦层13应至少覆盖位于平坦层13下方的图案化膜层11、且平坦层13背离衬底10一侧的表面平坦。
此处，优选平坦层13的厚度小于5μm，例如，平坦层13的厚度为5μm、4.5μm、3μm。
第九，所述显示基板可以是液晶显示器的阵列基板或对盒基板，也可以是OLED显示器的阵列基板。
本发明实施例提供一种显示基板，通过在衬底10上设置挡墙12，并在挡墙12围成的区域内设置平坦层13，且挡墙背离衬底10一侧的表面与衬底10之间的距离大于平坦层13背离衬底10一侧的表面与衬底10之间的距离，这样一来，在形成平坦层13时，虽然平坦层13的材料的流动性很大，但挡墙12可以起到辅助围栏的作用，将用于形成平坦层13的材料围在挡墙12围成的区域内，这样一来，不但可以形成厚度较大的平坦层13，且因平坦层13的材料的流动性较大，容易使平坦层13形成平坦的表面，从而避免现有技术因平坦层13的厚度过小，而影响平坦层13的平坦性能。
可选的，图案化膜层11包括薄膜晶体管；如图8所示，所述显示基板还包括设置于平坦层13背离衬底10一侧、且位于显示区的自发光器件14，自发光器件14包括发光功能层142。
在此基础上，自发光器件14还包括设置于发光功能层142靠近衬底10一侧的阳极141和背离衬底10一侧的阴极143。当然，阴极143也可以设置在发光功能层142靠近衬底10一侧，此时，阳极141设置在发光功能层142背离衬底10一侧。所述显示基板还可以包括设置于相邻自发光器件14之间的像素界定层15。
此处，若形成平坦层13之后，所述方法还包括形成自发光器件14，则平坦层13可以是一整层，也可以是多个块状结构，所述块状结构在衬底10上的正投影与自发光器件14在衬底10上的正投影重叠。
例如，平坦层13的材料包括感光材料，则形成包括多个块状结构的平坦层13的方法包括：在衬底10上形成绝缘薄膜，之后，对所述绝缘薄膜进行曝光、显影，得到平坦层13。
需要说明的是，自发光器件14可以是OLED器件，也可以量子点发光器件。
本发明实施例中，由于平坦层13背离衬底10一侧的表面平坦，因此，即使采用喷墨打印方式形成的发光功能层142的厚度处处相等，进而可避免因发光功能层142的厚度不均一，导致发光功能层142的发光亮度不均一。
在此基础上，由于挡墙12位于非显示区，因此，即使挡墙12背离衬底10一侧的表面与衬底10之间的距离与平坦层13背离衬底10一侧的表面与衬底10之间的距离不相同，也不会影响发光功能层142的厚度。
本发明实施例提供一种显示装置，包括前述任一实施例所述的显示基板。
其中，所述显示装置可以是显示面板，也可以是包括显示面板的显示器。
本发明实施例提供一种显示装置，对于所述显示装置带来的有益效果，可参考一种显示基板部分的内容，在此不再赘述。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (7)
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底上的显示区形成图案化膜层；
在所述衬底上的非显示区形成围绕所述显示区一圈的挡墙；所述图案化膜层与所述挡墙位于所述衬底的同一侧；
在所述挡墙围成的区域内形成平坦层，所述平坦层背离所述衬底一侧的表面与所述衬底之间的距离小于所述挡墙背离所述衬底一侧的表面与所述衬底之间的距离；
其中，所述平坦层的材料的粘度小于8cP；
所述图案化膜层包括薄膜晶体管；
形成所述平坦层之后，所述方法还包括：
在所述平坦层背离所述衬底一侧、且位于所述显示区，形成自发光器件，所述自发光器件包括发光功能层，所述发光功能层采用喷墨打印方式形成；
在形成所述平坦层之后，形成所述自发光器件之前，所述方法还包括：去除所述挡墙；
所述挡墙的材料由感光树脂构成。
2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述平坦层的厚度为小于5μm。
3.一种显示基板，其特征在于，通过权利要求1-2任一项所述的显示基板的制备方法制备得到。
4.一种显示基板，包括衬底，所述衬底划分为显示区和非显示区，其特征在于，所述显示基板还包括：设置于所述显示区的图案化膜层、设置于所述非显示区且围绕所述显示区一圈的挡墙、以及设置于所述挡墙围成的区域内的平坦层，所述图案化膜层与所述挡墙位于所述衬底的同一侧；
其中，所述平坦层背离所述衬底一侧的表面与所述衬底之间的距离小于所述挡墙背离所述衬底一侧的表面与所述衬底之间的距离；所述平坦层的材料的粘度小于8cP；
所述图案化膜层包括薄膜晶体管；所述显示基板还包括设置于所述平坦层背离所述衬底一侧、且位于所述显示区的自发光器件，所述自发光器件包括发光功能层；
所述挡墙的材料由感光树脂构成。
5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述平坦层的厚度为小于5μm。
6.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述挡墙的材料包括树脂。
7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求3-6任一项所述的显示基板。
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