CN109817692B - 像素界定层、彩色滤光膜及制造方法、自发光显示面板 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种像素界定层、彩色滤光膜及制造方法、自发光显示面板，属于显示技术领域。像素界定层具有的每个连通槽与该连通槽对应的子像素区域组中的每个子像素区域均连通，且每个连通槽与像素界定层的侧壁上对应的开口连通，使得通过开口以及该开口对应的连通槽可以向对应的子像素区域组中的每个子像素区域灌注色阻材料以形成彩色滤光膜。该像素界定层能够支持灌注工艺来形成彩色滤光膜，有效降低了彩色滤光膜的成膜复杂度。进一步的，本发明实施例能够采用灌注的方式使每个子像素区域中的色阻材料在该子像素区域中均匀地铺展，有效提高了色阻材料在像素区域内的成膜均一性，改善了自发光显示面板的显示性能。

Description

像素界定层、彩色滤光膜及制造方法、自发光显示面板

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种像素界定层、彩色滤光膜及制造方法、自发光显示面板。

背景技术

自发光显示面板由于具有有机发光层，因此能够具有自发光特性。一些自发光显示面板还具有彩色滤光膜(英文：Color Filter；缩写：CF)，也称色阻层，以实现彩色显示。

相关技术中，自发光显示面板的彩色滤光膜的形成方式主要包括蒸镀技术和喷墨打印技术。其中，蒸镀技术是指：通过特定技术将色阻材料蒸发成分子状态，并将该分子状态下的色阻材料在掩膜板的遮挡下撞击形成有像素界定(英文：Photo Define Layer，简称：PDL)层的衬底基板，该分子状态下的色阻材料与衬底基板接触后发生凝结进而形成彩色滤光膜。喷墨打印技术是指：将色阻材料喷在形成有像素界定层的衬底基板上，以形成彩色滤光膜。其中，该像素界定层用于限定子像素区域。

但是，目前的蒸镀工艺和喷墨打印技术的工艺复杂度较高。

发明内容

本发明实施例提供了一种像素界定层、彩色滤光膜及制造方法、自发光显示面板，可以解决相关技术中蒸镀工艺和喷墨打印技术的工艺复杂度均较高的问题。所述技术方案如下：

根据本发明的第一方面，提供了一种像素界定层，像素界定层具有多个连通槽和多个子像素区域组，每个子像素区域组包括多个子像素区域，所述像素界定层的侧壁具有多个开口；

其中，所述多个连通槽和所述多个子像素区域组分别对应，所述多个连通槽和所述多个开口分别对应，每个连通槽与对应的子像素区域组中的每个子像素区域均连通，且每个连通槽与所述像素界定层的侧壁上对应的开口连通，每个所述开口用于通过对应的连通槽向一个子像素区域组中的子像素区域中灌注色阻材料。

可选的，每个所述连通槽对应两个所述开口，每个所述连通槽的两端分别与对应的两个所述开口连通，或每个所述连通槽为盲槽；

和/或，多个所述子像素区域组平行排列。

可选的，所述多个连通槽和所述多个子像素区域组一一对应，每个所述子像素区域组包括一行子像素区域或一列子像素区域。

可选的，每个所述连通槽为线性连通槽，所述连通槽的轴线与对应的一个子像素区域组中的子像素区域的中轴线共线。

根据本发明的第二方面，提供了一种像素界定层的制造方法，所述方法包括：

提供衬底；

在所述衬底上形成像素界定层，所述像素界定层具有多个连通槽和多个子像素区域组，每个子像素区域组包括多个子像素区域，所述像素界定层的侧壁具有多个开口；

其中，所述多个连通槽和所述多个子像素区域组分别对应，所述多个连通槽和所述多个开口分别对应，每个连通槽与对应的子像素区域组中的每个子像素区域均连通，且每个连通槽与所述像素界定层的侧壁上对应的开口连通，每个所述开口用于通过对应的连通槽向一个子像素区域组中的子像素区域中灌注色阻材料。

可选的，在所述衬底上形成像素界定层，包括：

在所述衬底上形成材料层；

通过构图工艺在所示材料层上形成像素界定层。

根据本发明的第三方面，提供了一种彩色滤光膜，所述彩色滤光膜包括像素界定层，以及形成于所述像素界定层中的色阻材料，所述像素界定层为第一方面所述的像素界定层。

根据本发明的第四方面，提供了一种彩色滤光膜的制造方法，所述方法包括：

在衬底上形成像素界定层，形成所述像素界定层的方法为第二方面所述的像素界定层的制造方法；

通过所述像素界定层的侧壁具有的多个开口，以及所述多个开口中每个开口对应的连通槽，向一个子像素区域组中的子像素区域中灌注色阻材料；

烘烤所述衬底；

剥离所述衬底。

可选的，每个所述连通槽对应两个所述开口，每个所述连通槽的两端分别与对应的两个所述开口连通，所述向一个子像素区域组中的子像素区域中灌注色阻材料之前，所述方法包括：

在形成有所述像素界定层的衬底上设置盖板，所述盖板与所述像素界定层远离所述衬底的一侧贴合；

所述烘烤所述衬底之后，所述方法包括：

剥离所述盖板。

根据本发明的第五方面，提供了一种自发光显示面板，所述自发光显示面板包括：衬底基板以及设置在所述衬底基板上的彩色滤光膜，所述彩色滤光膜为第三方面所述的彩色滤光膜。

可选的，所述自发光显示面板还包括：设置在所述衬底基板和所述彩色滤光膜之间的阳极层和有机发光层、以及设置在所述彩色滤光膜远离所述衬底基板一侧的阴极层。

本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果至少包括：

由于像素界定层具有的每个连通槽与该连通槽对应的子像素区域组中的每个子像素区域均连通，且每个连通槽与像素界定层的侧壁上对应的开口连通，使得通过开口以及该开口对应的连通槽可以向对应的子像素区域组中的每个子像素区域灌注色阻材料。该像素界定层能够支持灌注工艺来形成彩色滤光膜，有效降低了彩色滤光膜的成膜复杂度。进一步的，相较于现有技术，本发明实施例能够采用灌注的方式使每个子像素区域中的色阻材料在该子像素区域中均匀地铺展，有效提高了色阻材料在像素区域内的成膜均一性，改善了自发光显示面板的显示性能。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种像素界定层的结构示意图；

图2是图1示出的像素界定层在AA’方向上剖面图；

图3是图1示出的像素界定层在BB’方向上剖面图；

图4是本发明实施例提供的又一种像素界定结构的示意图；

图5是图1示出的像素界定层在AA’方向上剖面图；

图6是本发明实施例提供的另一种像素界定结构的示意图；

图7是本发明实施例提供的一种像素界定层的制造方法的流程图；

图8是本发明实施例提供的一种在衬底基板上形成了材料层的示意图；

图9是本发明实施例提供的一种在图8所示的材料层上形成了光刻胶层的示意图；

图10是本发明实施例提供的一种在图9所示的光刻胶层上形成了光刻胶图案的示意图；

图11是本发明实施例提供的一种对图10所示的形成有光刻胶图案的材料层进行刻蚀的示意图；

图12是本发明实施例提供的一种通过灰化工艺去除了第一光刻胶区域的光刻胶的示意图；

图13是本发明实施例提供的一种对图12所示的材料层继续进行刻蚀的示意图；

图14是本发明实施例提供的一种去除光刻胶图案得到像素界定层的示意图；

图15是本发明实施例提供的一种彩色滤光膜的示意图；

图16是本发明实施例提供的一种彩色滤光膜的制造方法的流程图；

图17是本发明实施例提供的另一种彩色滤光膜的制造方法的流程图；

图18是本发明实施例提供的一种在形成有像素界定层的衬底上设置盖板的示意图；

图19是本发明实施例提供的一种自发光显示面板的结构示意图；

图20是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

通过上述附图，已示出本发明明确的实施例，后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本发明构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本发明的概念。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。

自发光显示面板相对于液晶显示面板(英文：Liquid Crystal Display，缩写：LCD)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、省电和轻薄等优点，其有望成为继LCD之后的下一代平板显示技术，是目前平板显示技术中受到关注最多的技术之一。该自发光显示面板可以为有机发光二极管(英文：Organic Light Emitting Display，缩写：OLED)显示面板或者量子点发光二极管(英文：Quantum Dot Light Emitting Diodes，英文：QLED)。

在自发光显示面板的制造工艺中，彩色化技术是尤为重要的一步，彩色化技术是指实现自发光显示面板彩色显示的技术。相关技术中，彩色化技术有多种实现方式，例如，可以在自发光显示面板中采用发光材料形成有机发光层以实现彩色显示，或者通过将发白光的器件与具有三基色(包括红色R、绿色G以及蓝色B)的彩色滤光膜结合以实现彩色显示等，该彩色滤光膜由色阻材料制成。需要说明的是，彩色滤光膜也可以称为彩色滤光片或者彩色滤光层，本发明中的描述均采用彩色滤光膜；色阻材料也可以称为光阻材料或者彩色光阻，本发明中的描述均采用色阻材料。值得说明的是，彩色滤光膜还可以具有其他颜色组合，本发明实施例以三基色为例进行说明。

其中，制备彩色滤光膜的方式可以包括蒸镀技术以及喷墨打印技术等成膜技术。但是，目前的蒸镀工艺和喷墨打印技术的工艺复杂度较高。

并且无论是蒸镀技术还是喷墨打印技术，均难以保证彩色滤光膜中色阻材料在每个子像素区域内的成膜均一性，该成膜均一性直接影响到设置有该彩色滤光膜的自发光显示面板的发光亮度均匀性。本发明实施例提供了一种像素界定层，该像素界定层可以用于制造彩色滤光膜，不仅能够降低成膜工艺复杂度，还能够保证形成于该像素界定层中的色阻材料在每个子像素区域内的成膜均一性。

图1示出了本发明实施例提供了一种像素界定层10的结构，该像素界定层10具有多个连通槽11和多个子像素区域组12，每个子像素区域组12包括多个子像素区域121，像素界定层10的侧壁具有多个开口13。图1示出的是子像素区域组12包括3个子像素区域121的情况。

其中，多个连通槽11和多个子像素区域组12分别对应，多个连通槽11和多个开口13分别对应。每个连通槽11与对应的子像素区域组12中的每个子像素区域121均连通，且每个连通槽11与像素界定层的侧壁上对应的开口13连通。每个开口13用于通过对应的连通槽11向一个子像素区域组12中的子像素区域121中灌注色阻材料。

综上所述，本发明实施例提供的像素界定层，由于其具有的每个连通槽与该连通槽对应的子像素区域组中的每个子像素区域均连通，且每个连通槽与像素界定层的侧壁上对应的开口连通，使得通过开口以及该开口对应的连通槽可以向对应的子像素区域组中的每个子像素区域灌注色阻材料。该像素界定层能够支持灌注工艺来形成彩色滤光膜，有效降低了彩色滤光膜的成膜复杂度。

进一步的，相较于现有技术，本发明实施例能够采用灌注的方式使每个子像素区域中的色阻材料在该子像素区域中均匀地铺展，有效提高了色阻材料在像素区域内的成膜均一性，改善了自发光显示面板的显示性能。

请参考图2和图3，图2和图3分别示出的是图1所示的像素界定层10在AA’方向上以及BB’方向上的剖面图。该每个子像素区域121均为镂空区域，用于填充色阻材料以形成子像素，位于同一子像素区域组12中的多个子像素区域121中填充的色阻材料的颜色相同。

可选的，多个连通槽11和多个开口13分别对应可以包括以下两种情况：

第一种情况，如图4所示，每个连通槽11对应一个开口13，也即是，每个连通槽11的两端中的任意一端与对应的开口13连通，图4示出的是每个连通槽11的一端均与对应的开口13连通的情况，这种情况下，每个连通槽对应一个开口；第二种情况，参考图1，每个连通槽对应两个开口，也即是，每个连通槽的两端分别与对应的两个开口连通，这种情况下，每个连通槽对应两个开口。

在灌注色阻材料时，像素界定层设置在衬底上，为了保证色阻材料可以灌注进每个子像素区域，应该避免色阻材料的灌注路径密闭，也就是说，在第一种情况下，应该保证像素界定层远离衬底的一面与空气接触；在第二种情况下，由于每个连通槽的两端分别与对应的两个开口连通，因此避免了色阻材料的灌注路径封闭的情况。但是，为了保证在第二种情况下可以有效地引导色阻材料在连通槽以及子像素区域中的流向，在像素界定层中与色阻材料的流向方向平行的一侧可以设置一个与该侧像素界定层紧密贴合的盖板，使得色阻材料不会从连通槽以及子像素区域中溢出。

需要说明的是，上述第一种情况适用于色阻材料的流动性较好的情况。色阻材料的流动性可以通过调节色阻材料的稠度实现。

本发明实施例在实际实现时，用于灌注同一颜色的多个连通槽的同一端可以汇总到位于像素界定层边缘的一个总连通槽中，并通过与该总连通槽与像素界定侧侧壁的开口连通，这样可以减少侧壁开口数量，这种情况下，连通槽的一端和开口的对应关系为多对一的对应关系。

可选的，本发明实施例在实际实现时，连通槽可以有多种形状，可以具有不同的深度以及宽度等，以下分别对连通槽的形状、深度以及宽度进行说明。

连通槽可以有多种形状。例如，该连通槽可以为通槽或者为盲槽，再或者，该通槽或者盲槽可以为方形或者梯形等形状，本发明实施例以该连通槽为盲槽，且形状为方形为例进行说明，即图1示出的情况。当连通槽为盲槽时，在自发光显示面板进行彩色显示时，盲槽内的色阻材料会被像素界定层遮挡，保证了自发光显示面板的显示效果。

连通槽的宽度与子像素区域的宽度有关。如图5所示，由于在制作彩色滤光膜时，色阻材料会滞留在位于子像素区域之间的部分连通槽内(当然也包括位于开口与子像素区域之间的部分连通槽内)，为了避免色阻材料的浪费，连通槽11的宽度a可以设置为不大于子像素区域121的宽度b的三分之一。进一步的，为了保证色阻材料可以有效地在连通槽11内流动，连通槽11的宽度a可以设置为不小于子像素区域121的宽度b的五分之一。其中，连通槽的宽度所在方向垂直于连通槽的延伸方向。示例的，该连通槽11的宽度a以及子像素区域121的宽度b均指的是图5中，方向x上的宽度。

连通槽的深度与像素界定层的厚度有关。请继续参考图5，当连通槽11为图5所示的盲槽时，连通槽11的深度c可以为像素界定层10的厚度d的二分之一，当然，若连通槽11为通槽时，连通槽11的深度c与像素界定层10的厚度d相同。该像素界定层的厚度范围可以为0至2微米。

可选的，考虑到自发光显示面板中各个子像素的分布情况，请继续参考图1或者图4，多个子像素区域组12可以平行排列。连通槽与子像素区域组可以有多种对应关系，例如，一个连通槽可以对应多个子像素区域组。但是该种情况下，连通槽的路径较长，较多的色阻材料会滞留在该连通槽中造成色阻材料的浪费。因此，为了节约成本，该多个连通槽和多个子像素区域组一一对应，每个子像素区域组包括一行子像素区域或一列子像素区域，每个连通槽用于引导色阻材料注入其对应的一行或者一列子像素区域组中的每个子像素区域中，即图1或图4所示的情况。图1或图4所示的情况中，每个子像素区域组包括一列子像素区域。

进一步的，每个连通槽为线性连通槽，也称为条状连通槽，其俯视形状为矩形，连通槽的轴线可以位于对应的子像素区域组的任意位置。

在一种可能的实现方式中，如图1所示，连通槽的轴线可以位于对应的子像素区域组的左侧，当然，连通槽的轴线可以位于对应的子像素区域组的右侧等。

在另一种可能的实现方式中，如图6所示，该连通槽的轴线可以与对应的一个子像素区域组中的子像素区域的中轴线共线，也即是，每个连通槽从其对应的子像素区域组的中轴线穿过，以图6所示的像素界定层10中的一组子像素区域组以及对应的连通槽为例，该组子像素区域组的中轴线与对应的连通槽的中轴线共轴线y。如此使得在向每个子像素区域灌注色阻材料时，色阻材料可以均匀地填充在每个子像素区域中，进一步保证了色阻材料在每个子像素区域内的成膜均一性。

综上所述，本发明实施例提供的像素界定层，由于其具有的每个连通槽与该连通槽对应的子像素区域组中的每个子像素区域均连通，且每个连通槽与像素界定层的侧壁上对应的开口连通，使得通过开口以及该开口对应的连通槽可以向对应的子像素区域组中的每个子像素区域灌注色阻材料。该像素界定层能够支持灌注工艺来形成彩色滤光膜，有效降低了彩色滤光膜的成膜复杂度。

进一步的，相较于现有技术难以保证色阻材料在子像素区域内的成膜均一性，本发明实施例采用灌注的方式使每个子像素区域中的色阻材料可以在该子像素区域中均匀地铺展，有效提高了色阻材料在像素区域内的成膜均一性，改善了自发光显示面板的显示性能。

图7示出了本发明实施例提供的一种像素界定层的制造方法，该方法可以包括：

步骤701、提供衬底。

该衬底可以为玻璃等具有一定硬度的基板。

步骤702、在衬底上形成像素界定层。

该像素界定层具有多个连通槽和多个子像素区域组，每个子像素区域组包括多个子像素区域，像素界定层的侧壁具有多个开口。该多个连通槽和该多个子像素区域组分别对应，该多个连通槽和该多个开口分别对应，每个连通槽与对应的子像素区域组中的每个子像素区域均连通，且每个连通槽与像素界定层的侧壁上对应的开口连通，每个开口用于通过对应的连通槽向一个子像素区域组中的子像素区域中灌注色阻材料。

与像素界定层相关的描述可以参考前述实施例，本发明实施例在此不再赘述。

综上所述，本发明实施例提供的像素界定层的制造方法，由于形成的像素界定层具有的每个连通槽与该连通槽对应的子像素区域组中的每个子像素区域均连通，且每个连通槽与像素界定层的侧壁上对应的开口连通，使得通过开口以及该开口对应的连通槽可以向对应的子像素区域组中的每个子像素区域灌注色阻材料。该像素界定层能够支持灌注工艺来形成彩色滤光膜，有效降低了彩色滤光膜的成膜复杂度。

进一步的，相较于现有技术难以保证色阻材料在子像素区域内的成膜均一性，本发明实施例采用灌注的方式使每个子像素区域中的色阻材料可以在该子像素区域中均匀地铺展，有效提高了色阻材料在像素区域内的成膜均一性，改善了自发光显示面板的显示性能。

需要说明的是，当连通槽为盲槽时，上述步骤702中，在衬底上形成像素界定层的过程可以包括：

步骤A1、在衬底上形成材料层。

可以在衬底上通过涂覆或溅射等方式形成材料层，可选的，用于形成该材料层的材料可以是透明的有机材料。

步骤A2、通过构图工艺在材料层上形成像素界定层。

示例的，通过构图工艺在材料层上形成像素界定层的过程可以包括：

步骤A21、在该材料层上形成光刻胶层。

可以在材料层上通过涂覆的方式形成光刻胶层。

步骤A22、对光刻胶层进行曝光和显影，形成光刻胶图案层。

可以采用灰度掩膜版对光刻胶层进行曝光(采用灰度掩膜板进行曝光的过程也称为半曝光)，然后进行显影以形成光刻胶图案，该光刻胶图案层可以包括第一光刻胶区域、无光刻胶区域和第二光刻胶区域。其中，第一光刻胶区域与连通槽对应，用于形成该连通槽；无光刻胶区域与子像素区域组对应，用于形成该子像素区域组；光刻胶图案中除第一光刻胶区域和无光刻胶区域之外的区域为第二光刻胶区域。

步骤A23、通过刻蚀工艺，对形成有光刻胶图案的材料层进行刻蚀。

首先可以通过第一次刻蚀工艺，对形成有光刻胶图案的材料层进行刻蚀，再对光刻胶图案进行减薄处理，以去除第一光刻胶区域的所有光刻胶，例如通过灰化工艺(灰化工艺是指采用等离子体轰击的方法对需要去除的光刻胶进行刻蚀处理的过程，该灰化工艺可以达到等量刻蚀光刻胶的效果)减小光刻胶图案的厚度；然后再通过第二次刻蚀工艺，对材料层继续进行刻蚀，以形成带有光刻胶图案的像素界定层。

步骤A3、剥离光刻胶图案，得到像素界定层。

需要说明的是，基于连通槽与对应的子像素区域组的位置的不同，上述实施例描述了多种像素界定层的结构，例如图1以及图4分别描述两种不同的像素界定层。在制作该多种像素界定层的结构时，可以通过调整第一光刻胶区域的位置和尺寸来实现。

以下以形成图1所示的像素界定层为例，结合附图对上述步骤A1至步骤A3进行说明，以下附图描述的均是图1所示的像素界定层中位于BB’方向上的结构。

步骤S1、在衬底200上形成材料层201，如图8所示。

步骤S2、在材料层201上形成光刻胶层202，如图9所示。

步骤S3、对光刻胶层202进行曝光和显影，形成光刻胶图案203，如图10所示。

该光刻胶图案203包括与连通槽对应的第一光刻胶区域2031，与子像素区域组对应的无光刻胶区域2032以及第二光刻胶区域2033。图10仅示意性地标示出了一块第一光刻胶区域2031、一块无光刻胶区域2032以及一块第二光刻胶区域2033。

步骤S4、通过第一次刻蚀工艺，对形成有光刻胶图案203的材料层201进行刻蚀，如图11所示。材料层201中，无光刻胶区域2032对应的部分被刻蚀。

步骤S5、通过灰化工艺去除第一光刻胶区域2031的所有光刻胶，如图12所示。

步骤S6、通过第二次刻蚀工艺，对材料层201继续进行刻蚀，以形成连通槽，如图13所示。

步骤S7、剥离剩余光刻胶图案203，得到像素界定层10，如图14所示。

综上所述，本发明实施例提供的像素界定层的制造方法，由于形成的像素界定层具有的每个连通槽与该连通槽对应的子像素区域组中的每个子像素区域均连通，且每个连通槽与像素界定层的侧壁上对应的开口连通，使得通过开口以及该开口对应的连通槽可以向对应的子像素区域组中的每个子像素区域灌注色阻材料。该像素界定层能够支持灌注工艺来形成彩色滤光膜，有效降低了彩色滤光膜的成膜复杂度。

进一步的，相较于现有技术难以保证色阻材料在子像素区域内的成膜均一性，本发明实施例采用灌注的方式使每个子像素区域中的色阻材料可以在该子像素区域中均匀地铺展，有效提高了色阻材料在像素区域内的成膜均一性，改善了自发光显示面板的显示性能。

需要说明的是，在本发明实施例所描述的像素界定层的制造方法中，像素界定层侧壁上的开口为与连通槽一起形成的，在其他可选的实施例中，也可以单独通过构图工艺在像素界定层的侧壁上形成开口，再将开口与连通槽连通，本发明实施例对此不进行限制。

还需要说明的是，当连通槽为通槽时，上述步骤A22至A23可以替换为下述步骤B22至步骤B23：

步骤B22、对光刻胶层进行曝光和显影，形成光刻胶图案层。

可以采用普通掩膜版对光刻胶层进行曝光，然后进行显影以形成光刻胶图案，该光刻胶图案层可以包括无光刻胶区域和第一光刻胶区域。其中，无光刻胶区域与连通槽以及子像素区域组对应，用于形成该连通槽以及该子像素区域组；光刻胶图案中除无光刻胶区域之外的区域为第一光刻胶区域。

步骤B23、通过刻蚀工艺，对形成有光刻胶图案的材料层进行刻蚀。

通过一次刻蚀工艺，对形成有光刻胶图案的材料层进行刻蚀，以形成带有光刻胶图案的像素界定层。

图15示出了本发明实施例提供的一种彩色滤光膜80，彩色滤光膜80包括像素界定层81，以及形成于像素界定层81中的色阻材料82，像素界定层81为前述实施例所描述的像素界定层10，图15示出的彩色滤光膜80中的像素界定层81以图1所示的像素界定层为例。

本发明实施例提供的彩色滤光膜，由于其包括的像素界定层具有的每个连通槽与该连通槽对应的子像素区域组中的每个子像素区域均连通，且每个连通槽与像素界定层的侧壁上对应的开口连通，且形成于像素界定层中的色阻材料是通过开口以及该开口对应的连通槽向对应的子像素区域组中的每个子像素区域灌注而成的。该像素界定层能够支持灌注工艺来形成彩色滤光膜，有效降低了彩色滤光膜的成膜复杂度。

进一步的，相较于现有技术，本发明实施例采用的灌注方式使每个子像素区域中的色阻材料可以在该子像素区域中均匀地铺展，有效提高了色阻材料在像素区域内的成膜均一性，改善了自发光显示面板的显示性能。

图16示出了本发明实施例提供的一种彩色滤光膜的制造方法，该方法包括：

步骤801、在衬底上形成像素界定层。

步骤802、通过像素界定层的侧壁具有的多个开口，以及多个开口中每个开口对应的连通槽，向一个子像素区域组中的子像素区域中灌注色阻材料。

步骤803、烘烤衬底。

步骤804、剥离衬底。

需要说明的是，本发明实施例在实际实现时，上述步骤803和步骤804的顺序可以进行调整，例如先剥离衬底，再烘烤衬底。为了保证在剥离衬底的过程中色阻材料不会粘附在衬底上，可以采取激光剥离的方式等，本发明实施例在此不进行限制。

综上所述，本发明实施例提供的彩色滤光膜的制造方法，由于其制造的彩色滤光膜包括的像素界定层具有的每个连通槽与该连通槽对应的子像素区域组中的每个子像素区域均连通，且每个连通槽与像素界定层的侧壁上对应的开口连通，且形成于像素界定层中的色阻材料是通过开口以及该开口对应的连通槽向对应的子像素区域组中的每个子像素区域灌注而成的。该像素界定层能够支持灌注工艺来形成彩色滤光膜，有效降低了彩色滤光膜的成膜复杂度。

进一步的，相较于现有技术难以保证色阻材料在子像素区域内的成膜均一性，本发明实施例采用的灌注方式使每个子像素区域中的色阻材料可以在该子像素区域中均匀地铺展，有效提高了色阻材料在像素区域内的成膜均一性，改善了自发光显示面板的显示性能。

值得说明的是，现有的主动发光显示面板的彩色化技术中，蒸镀技术是较为成熟且主流的彩色化技术。该蒸镀技术中，采用电子束轰击加热和激光加热等方法将色阻材料蒸发成分子，在高精细掩膜板的遮挡下，将分子状态下的色阻材料与需要蒸镀的区域(即像素界定层界定的子像素区域)碰撞，分子状态下的色阻材料在与衬底表面接触后凝结形成彩色滤光膜。该蒸镀技术存在以下缺点：由于高精细掩膜板的价格昂贵且易翘曲和开裂，导致蒸镀技术的成本较高；蒸镀距离难以控制且蒸镀距离小，难以保证每个子像素区域内形成的膜层的均一性；而若增大距离，则可能导致色阻材料在蒸镀过程中沉积蒸镀腔壁上而造成色阻材料的浪费，导致蒸镀效率较低。

而本发明实施例提供的彩膜滤光层的制造方法中，通过像素界定层中的开口以及该开口对应的连通槽向对应的子像素区域组中的每个子像素区域一次性灌注色阻材料。相较于蒸镀工艺，无需高精细掩膜板，有效节约了制作成本和使用成本，且本发明实施例采用灌注的方式使每个子像素区域中的色阻材料可以在该子像素区域中均匀地铺展，有效提高了色阻材料在像素区域内的成膜均一性，改善了自发光显示面板的显示性能。

可选的，为了避免色阻材料从连通槽以及子像素区域中溢出，可以在形成有像素界定层的衬底上设置盖板，通过该盖板来引导灌注的色阻材料的流向，进一步保障了色阻材料在像素区域内的成膜均一性。该种情况下，像素界定层中的每个连通槽需要对应两个开口，以避免色阻材料的灌注路径密闭，也即是，每个连通槽的两端分别与对应的两个开口连通，请参考图1或图6所示的像素界定层。那么，如图17所示，彩色滤光膜的制造方法可以包括：

步骤901、在衬底上形成像素界定层。

形成像素界定层的方法可以参考前述像素界定层的制造方法的相关实施例。

步骤902、在形成有像素界定层的衬底上设置盖板，盖板与像素界定层远离衬底的一侧贴合。

如图18所示，在形成有像素界定层10的衬底200上设置盖板30，盖板30与像素界定层10远离衬底200的一侧贴合。

本发明实际实现时，在设置盖板时，可以向盖板施加指定压力，以保证该盖板可以始终与像素界定层远离衬底的一侧贴合，而不会出现盖板被溢出的色阻材料顶起的情况，保证了制作形成的彩膜滤光层的精密度。可选的，该指定压力的压力值可以大于1帕斯卡(Pa)，当然，该指定压力的压力值应不大于该盖板所能承受的最大压力值。示例的，可以预先通过实验的方式确定一个合理的指定压力的压力值，使得以该压力值向盖板施加压力时，可以保证盖板既与像素界定层远离衬底的一侧紧密贴合，又不会被溢出的色阻材料顶起，且盖板不会发生较大形变。

步骤903、通过像素界定层的侧壁具有的多个开口，以及多个开口中每个开口对应的连通槽，向一个子像素区域组中的子像素区域中灌注色阻材料。

灌注色阻材料时，可以采用不同颜色对应的色阻喷嘴依次向每个颜色对应子像素区域组中灌注色阻材料，或者采用多组不同颜色对应的色阻喷嘴同时向每个颜色对应的子像素区域组中灌注色阻材料。

需要说明的是，本发明实施例在实际实现时，灌注色阻材料的用量可以通过前期实验定量确定，保证该色阻材料不会从像素界定层侧壁的开口溢出即可。

步骤904、烘烤衬底。

通过烘烤衬底使在该衬底上形成的像素界定层中的色阻材料定型。

步骤905、剥离衬底以及盖板。

综上所述，本发明实施例提供的彩色滤光膜的制造方法，由于其制造的彩色滤光膜包括的像素界定层具有的每个连通槽与该连通槽对应的子像素区域组中的每个子像素区域均连通，且每个连通槽与像素界定层的侧壁上对应的开口连通，且形成于像素界定层中的色阻材料是通过开口以及该开口对应的连通槽向对应的子像素区域组中的每个子像素区域灌注而成的。该像素界定层能够支持灌注工艺来形成彩色滤光膜，有效降低了彩色滤光膜的成膜复杂度。

进一步的，相较于现有技术，本发明实施例采用的灌注方式使每个子像素区域中的色阻材料可以在该子像素区域中均匀地铺展，有效提高了色阻材料在像素区域内的成膜均一性，改善了自发光显示面板的显示性能。

本发明实施例还提供了一种自发光显示面板，如图19所示，该自发光显示面板可以包括：衬底基板100以及设置在衬底基板上的彩色滤光膜200。该彩色滤光膜200为前述实施例所描述的彩色滤光膜80。自发光显示面板还包括：设置在衬底基板100和彩色滤光膜200之间的阳极层300和有机发光层400、以及设置在彩色滤光膜200远离衬底基板100一侧的阴极层500。

综上所述，本发明实施例提供的自发光显示面板，其包括衬底基板以及设置在该衬底基板上的彩色滤光膜。由于该彩色滤光膜包括的像素界定层具有的每个连通槽与该连通槽对应的子像素区域组中的每个子像素区域均连通，且每个连通槽与像素界定层的侧壁上对应的开口连通，且形成于像素界定层中的色阻材料是通过开口以及该开口对应的连通槽向对应的子像素区域组中的每个子像素区域灌注而成的。该像素界定层能够支持灌注工艺来形成彩色滤光膜，有效降低了彩色滤光膜的成膜复杂度。

进一步的，相较于现有技术，本发明实施例采用的灌注方式使每个子像素区域中的色阻材料可以在该子像素区域中均匀地铺展，有效提高了色阻材料在像素区域内的成膜均一性，改善了自发光显示面板的显示性能。

本发明实施例在实际应用中，可以在衬底基板100上预先形成像素界定层，在形成有像素界定层的衬底基板100上形成阳极层300和有机发光层400，然后将制作完成的彩色滤光膜200叠置于阳极300上，再在彩色滤光膜200远离衬底基板100的一侧形成阴极层500。该种情况下，衬底基板100上预先形成的像素界定层与彩色滤光膜200中的像素界定层分别形成。

当然，在另一种情况中，自发光显示面板的衬底基板100可以为彩色滤光膜200的衬底，衬底基板100上预先形成的像素界定层与彩色滤光膜200中的像素界定层为同一像素界定层，该种情况下需要适当地调整像素界定层的厚度以及连通槽的深度。

本发明实施例还提供一种显示装置，该显示装置包括上述实施例提供的自发光显示面板。显示装置可以为电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。例如，该显示装置为图20所示的显示装置600，其在显示区域内包括阵列排布的子像素Px，薄膜晶体管可以设置在该子像素Px内以实现对该子像素Px的显示灰阶的调节。

以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (11)

1.一种像素界定层，其特征在于，所述像素界定层具有多个连通槽和多个子像素区域组，每个子像素区域组包括多个子像素区域，所述像素界定层的侧壁具有多个开口；

其中，所述多个连通槽和所述多个子像素区域组分别对应，所述多个连通槽和所述多个开口分别对应，每个连通槽与对应的子像素区域组中的每个子像素区域均连通，且每个连通槽与所述像素界定层的侧壁上对应的开口连通，每个所述开口用于通过对应的连通槽向一个子像素区域组中的子像素区域中灌注色阻材料。

2.根据权利要求1所述的像素界定层，其特征在于，每个所述连通槽对应两个所述开口，每个所述连通槽的两端分别与对应的两个所述开口连通，或每个所述连通槽为盲槽；

和/或，多个所述子像素区域组平行排列。

3.根据权利要求1或2所述的像素界定层，其特征在于，

所述多个连通槽和所述多个子像素区域组一一对应，每个所述子像素区域组包括一行子像素区域或一列子像素区域。

4.根据权利要求3所述的像素界定层，其特征在于，

每个所述连通槽为线性连通槽，所述连通槽的轴线与对应的一个子像素区域组中的子像素区域的中轴线共线。

5.一种像素界定层的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

提供衬底；

在所述衬底上形成像素界定层，所述像素界定层具有多个连通槽和多个子像素区域组，每个子像素区域组包括多个子像素区域，所述像素界定层的侧壁具有多个开口；

其中，所述多个连通槽和所述多个子像素区域组分别对应，所述多个连通槽和所述多个开口分别对应，每个连通槽与对应的子像素区域组中的每个子像素区域均连通，且每个连通槽与所述像素界定层的侧壁上对应的开口连通，每个所述开口用于通过对应的连通槽向一个子像素区域组中的子像素区域中灌注色阻材料。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，在所述衬底上形成像素界定层，包括：

在所述衬底上形成材料层；

通过构图工艺在所述材料层上形成像素界定层。

7.一种彩色滤光膜，其特征在于，所述彩色滤光膜包括像素界定层，以及形成于所述像素界定层中的色阻材料，所述像素界定层为所述权利要求1至4任一所述的像素界定层。

8.一种彩色滤光膜的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

在衬底上形成像素界定层，形成所述像素界定层的方法为权利要求5或6所述的像素界定层的制造方法；

通过所述像素界定层的侧壁具有的多个开口，以及所述多个开口中每个开口对应的连通槽，向一个子像素区域组中的子像素区域中灌注色阻材料；

烘烤所述衬底；

剥离所述衬底。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，每个所述连通槽对应两个所述开口，每个所述连通槽的两端分别与对应的两个所述开口连通，所述向一个子像素区域组中的子像素区域中灌注色阻材料之前，所述方法包括：

在形成有所述像素界定层的衬底上设置盖板，所述盖板与所述像素界定层远离所述衬底的一侧贴合；

所述烘烤所述衬底之后，所述方法包括：

剥离所述盖板。

10.一种自发光显示面板，其特征在于，所述自发光显示面板包括：衬底基板以及设置在所述衬底基板上的彩色滤光膜，所述彩色滤光膜为权利要求7所述的彩色滤光膜。

11.根据权利要求10所述的自发光显示面板，其特征在于，所述自发光显示面板还包括：设置在所述衬底基板和所述彩色滤光膜之间的阳极层和有机发光层、以及设置在所述彩色滤光膜远离所述衬底基板一侧的阴极层。

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