CN107546246B - 柔性oled显示器件及制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种柔性OLED显示器件及其制作方法，包括以下步骤：首先，在制备有阳极金属的衬底基板上制备一有机膜层，经图案化后形成隔离柱；然后，在所述衬底基板上制备一无机膜层，所述无机膜层经图案化后形成覆盖所述隔离柱的隔离膜；最后，在所述衬底基板上涂覆一层第一光刻胶。所述隔离膜贴合于所述隔离柱表面，使所述隔离柱与所述隔离膜表面的所述第一光刻胶隔离，以解决现有技术的柔性OLED显示器件在切割操作后，因像素界定层和光刻胶都为有机材料，剥离液剥离光刻胶时容易误剥离，污染蒸镀腔，甚至影响薄膜分装的成膜连续性和稳定性的技术问题。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种柔性OLED显示器件及其制作方法。
背景技术
OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示器件相对于LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示屏)，具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点。
随着柔性OLED受欢迎程度的增大，关于柔性OLED的开发也日益丰富。在目前OLED显示器件仍主流采用蒸镀，受限于光罩的形变问题导致蒸镀基板的面板难以与阵列基板尺寸相匹配。在从阵列基板制程到蒸镀制程时一般会用到裁切，为避免裁切过程中产生的碎屑等粒子带入到蒸镀腔,一般会用光刻胶保护。因此先会在像素界定层上涂覆一层光刻胶保护，在切割后采用剥离剂剥离。
为减少电致发光层蒸镀混色/串扰的问题，像素界定层的厚度一般在um(微米)量级，此厚度若完全采用无机层制备则产品的柔性会受到威胁，一般像素界定层和光刻胶都为有机材料，剥离液剥离光刻胶时容易误剥离，这不仅会污染蒸镀腔，甚至会影响薄膜分装的成膜连续性和稳定性。
综上所述，现有技术的柔性OLED显示器件的制作方法，在切割操作后采用剥离剂剥离光刻胶时，因像素界定层和光刻胶都为有机材料，剥离液剥离光刻胶时容易误剥离，污染蒸镀腔，甚至影响薄膜分装的成膜连续性和稳定性。
发明内容
本发明提供一种柔性OLED显示器件及其制作方法，能够在使用剥离液剥离光刻胶时避免柔性OLED显示器件中的部分部件被误剥离。
为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：
本发明提供一种柔性OLED显示器件的制作方法，包括在衬底基板上制作阳极金属的步骤，所述方法还包括以下步骤：
步骤S101、在所述衬底基板上制备一有机膜层，所述有机膜层经图案化后形成隔离柱；
步骤S102、在所述衬底基板上制备一无机膜层，所述无机膜层经图案化后形成覆盖所述隔离柱的隔离膜；
步骤S103、在所述衬底基板上涂覆一层第一光刻胶。
根据本发明一优选实施例，所述步骤S101包括：在所述有机膜层上涂覆一层第二光刻胶，将所述第二光刻胶进行曝光、显影以形成第二光刻胶图案，然后将所述有机膜层未覆盖所述第二光刻胶的部分进行蚀刻，最后将所述有机膜层表面的所述第二光刻胶进行剥离，形成隔离柱。
根据本发明一优选实施例，所述步骤S102包括：在所述无机膜层上涂覆一层第三光刻胶，将所述第三光刻胶进行曝光、显影以形成第三光刻胶图案，然后将所述无机膜层未覆盖所述第三光刻胶的部分进行蚀刻，最后将所述无机膜层表面的所述第三光刻胶进行剥离，形成隔离膜。
根据本发明一优选实施例，制备所述有机膜层所采用的光罩和制备所述无机膜层所采用的光罩为同一光罩。
根据本发明一优选实施例，所述隔离膜贴合于所述隔离柱表面。
根据本发明一优选实施例，所述阳极金属形成有阵列分布的多个阳极板，所述隔离柱与对应的所述隔离膜位于相邻两个所述阳极板之间。
根据本发明一优选实施例，所述无机膜层的材料为Al2O3、SiNx、SiOx的一者或一者以上的组合。
根据本发明一优选实施例，所述隔离膜的厚度小于所述隔离柱的厚度。
根据本发明一优选实施例，所述隔离膜的厚度小于或等于0.5um。
根据本发明的上述目的，还提供一种采用上述任一方法制成的柔性OLED显示器件，包括：衬底基板、阳极层、像素界定层、传输层、发光层以及阴极层，其中所述像素界定层包括隔离柱以及隔离膜。
本发明的有益效果为：相较于现有的柔性OLED显示器件的制作方法，本发明的柔性OLED显示器件的制作方法通过在制备有阳极金属的衬底基板上，形成一层隔离柱以及制备于所述隔离柱表面的一层隔离膜来隔离不同子像素，通过一层较薄的隔离膜将光刻胶与隔离柱两个有机材料进行隔离，在裁切操作完成后，剥离液剥离衬底基板表面的第一光刻胶时，因隔离膜将第一光刻胶与隔离柱相隔离，因此可以保护隔离柱，以免隔离柱被剥离液剥离，从而避免碎屑等粒子的产生以及避免所产生的碎屑等粒子混入至蒸镀腔中，保证蒸镀腔的清洁以及薄膜分装的成膜连续性和稳定性，同时还使OLED显示器件兼具柔性。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的柔性OLED显示器件的制作方法流程原理图；
图2a-图2f为本发明实施例提供的柔性OLED显示器件制备流程示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
本发明针对现有技术的柔性OLED显示器件及其制作方法，在切割操作后采用剥离剂剥离光刻胶时，因像素界定层和光刻胶都为有机材料，剥离液剥离光刻胶时容易误剥离，污染蒸镀腔，甚至影响薄膜分装的成膜连续性和稳定性的技术问题，本实施例能够解决该缺陷。
下面结合附图详细介绍本发明具体实施例提供的柔性OLED显示器件的制作方法。
如图1所示，本发明具体实施例提供了一种柔性OLED显示器件的制作方法，该方法包括在衬底基板上制备阳极金属的步骤，其中，所述方法还包括以下步骤：
步骤S101、在所述衬底基板上制备一有机膜层，所述有机膜层经图案化后形成隔离柱；
步骤S102、在所述衬底基板上制备一无机膜层，所述无机膜层经图案化后形成覆盖所述隔离柱的隔离膜；
步骤S103、在所述衬底基板上涂覆一层第一光刻胶。
下面结合附图详细介绍本发明具体实施例提供的柔性OLED显示器件的制作过程。
如图2a所示，首先在衬底基板201上制作一层阳极金属，经图案化后的所述阳极金属形成多个阵列分布的阳极板202，相邻两所述阳极板202存在绝缘间隙，所述阳极金属还可通过其他形式制作于所述衬底基板201上，在此不作限制。
如图2b所示，接着在所述衬底基板210上涂覆有机膜层212，本发明具体实施例还可通过其他形式形成所述有机膜层212。制成所述有机膜层212的材料为丙烯酸材料或硅材料等有机材料。涂覆的所述有机膜层212的厚度大于所述阳极板211的厚度。
本发明具体实施例中的图案化工艺包括：光刻胶的涂覆、曝光、显影、刻蚀以及光刻胶的剥离的过程。具体地，如图2c所示，在涂覆的有机膜层上涂覆一层第二光刻胶，然后对涂覆的所述第二光刻胶进行曝光、显影，保留需要形成隔离柱220位置处的所述第二光刻胶，形成第二光刻胶图案，接着将所述有机膜层未覆盖所述第二光刻胶的部分进行蚀刻，最后去除所述有机膜层表面剩余的所述第二光刻胶，形成隔离柱220。所述隔离柱220截面形状为正梯形，位于相邻两个所述阳极板221之间的所述绝缘间隙，其厚度大于所述阳极板221的厚度。所述隔离柱220截面形状还可以为其它形状，本发明具体实施例并不对所述隔离柱220截面的具体形状做限定。
如图2d所示，在形成有隔离柱231的衬底基板230上沉积一层无机膜层232，所述无机膜层232的厚度小于所述有机膜层的厚度，所述无机膜层232可采用三氧化二铝(Al2O3)，氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)等可形成均匀的无机膜的无机材料，通过化学气相沉积法(CVD)或物理气相沉积法(PVD)沉积形成。制备所述无机膜层232所采用的光罩与制备所述有机膜层所采用的光罩为同一光罩，在所述无机膜层232上涂覆一层第三光刻胶，将所述第三光刻胶进行曝光、显影，保留需要形成隔离膜位置处的所述第三光刻胶，以形成第三光刻胶图案，然后将所述无机膜层232未覆盖所述第三光刻胶的部分进行蚀刻，最后将所述无机膜层232表面剩余的所述第三光刻胶进行剥离，形成隔离膜。
如图2e所示，形成的所述隔离膜241沉积于所述隔离柱240表面，其厚度小于所述隔离柱240的厚度，其中，所述隔离膜241的厚度优选为小于等于0.5um。
如图2f所示，之后在所述衬底基板250上涂覆一层第一光刻胶253用以保护，完成基板制作。所述隔离膜252覆盖于所述隔离柱251的表面，使所述隔离柱251与所述隔离膜252表面的所述第一光刻胶253进行隔离。所述隔离柱251与所述隔离膜252共同组成像素界定层254，用以分隔不同子像素。
接着，在制作有所述像素界定层254的所述衬底基板250上制作发光层，所述发光层的制备仍主流采用蒸镀，本发明具体实施例中发光层的具体制作方法与现有技术相同，这里不再赘述。在蒸镀制程中，受限于光罩的形变问题导致蒸镀基板的面板难以与阵列基板尺寸相匹配，在从阵列基板制程到蒸镀制程时一般会进行裁切操作，在此操作过程中因为所述衬底基板250表面有所述第一光刻胶253进行保护，所以产生的碎屑等粒子不易混入到蒸镀腔。在完成裁切操作后，用剥离液剥离所述衬底基板250表面的所述第一光刻胶253，由于所述隔离膜252将所述隔离柱251与所述第一光刻胶253两个有机材料进行隔离，所以所述剥离液剥离到所述隔离膜252时停止剥离，不会发生误剥离，使所述像素界定层254保持了其完整性，保证在蒸镀中蒸镀腔的清洁以及后续薄膜分装的成膜连续性和稳定性。
另外，因所述隔离膜252的柔性较差，所以所述像素界定层254以一层较厚的所述隔离柱251以及一层较薄的所述隔离膜252的形式组成，因所述隔离膜252的厚度很薄，在保证剥离剂不会误剥离的情况下，同时使OLED显示器件保证了柔韧性。
所述像素界定层254不会被剥离剂误剥离，因此保持了其设定的厚度及完整性，在蒸镀发光层的过程中，因有所述像素界定层254的有效隔离，保证各子像素的发光层能精准蒸镀到各子像素单元，所述各子像素单元间不会出现混色或者串扰的问题，也保证蒸镀腔的清洁，提高了柔性OLED显示器件的显示效果。也因所述像素界定层254保证了其完整性，在后续的制程中，贴合于所述像素界定层254表面的薄膜分装层的稳定性得以提升。
一种柔性OLED显示器件的制备方法还包括：在制作有发光层的衬底基板上制作阴极层，所述阴极层的位置与所述阳极层的位置相对应，所述发光层位于所述阳极层与所述阴极层之间，所述阴极层的具体制作方法与现有技术相同，这里不再赘述。
另外，本发明具体实施例还可以在所述阳极层和发光层之间制作空穴注入层和/或空穴传输层，空穴注入层和/或空穴传输层的具体制作方法与现有技术相同，这里不再赘述。本发明具体实施例还可以在发光层和阴极层之间制作电子注入层和/或电子传输层，电子注入层和/或电子传输层的具体制作方法与现有技术相同，这里不再赘述。
一种柔性OLED显示器件，采用上述的制作方法制备而成，其中包括衬底基板、阳极层、像素界定层、发光层以及阴极层，所述像素界定层包括隔离柱以及隔离膜。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (9)
1.一种柔性OLED显示器件的制作方法，包括在衬底基板上制作阳极金属的步骤，其特征在于，所述方法还包括以下步骤：
步骤S101、在所述衬底基板上制备一有机膜层，所述有机膜层经图案化后形成隔离柱；
步骤S102、在所述衬底基板上制备一无机膜层，所述无机膜层经图案化后形成覆盖所述隔离柱的隔离膜；
步骤S103、在所述衬底基板上涂覆一层第一光刻胶；
所述隔离膜的厚度小于或等于0.5um。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述步骤S101包括：
在所述有机膜层上涂覆一层第二光刻胶，将所述第二光刻胶进行曝光、显影以形成第二光刻胶图案，然后将所述有机膜层未覆盖所述第二光刻胶的部分进行蚀刻，最后将所述有机膜层表面的所述第二光刻胶进行剥离，形成隔离柱。
3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述步骤S102包括：
在所述无机膜层上涂覆一层第三光刻胶，将所述第三光刻胶进行曝光、显影以形成第三光刻胶图案，然后将所述无机膜层未覆盖所述第三光刻胶的部分进行蚀刻，最后将所述无机膜层表面的所述第三光刻胶进行剥离，形成隔离膜。
4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，制备所述有机膜层所采用的光罩和制备所述无机膜层所采用的光罩为同一光罩。
5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述隔离膜贴合于所述隔离柱表面。
6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述阳极金属形成有阵列分布的多个阳极板，所述隔离柱与对应的所述隔离膜位于相邻两个所述阳极板之间。
7.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述无机膜层的材料为Al2O3、SiNx、SiOx的一者或一者以上的组合。
8.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述隔离膜的厚度小于所述隔离柱的厚度。
9.一种根据权利要求1-8任一项权利要求所述的制作方法制成的柔性OLED显示器件，其特征在于，所述柔性OLED显示器件包括衬底基板、阳极层、像素界定层、传输层、发光层以及阴极层，其中所述像素界定层包括隔离柱以及隔离膜。
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