KR101528490B1 - 유기 전계 발광 소자 - Google Patents

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이쿠미 이치하시
히로시 미야자키
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신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤
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Abstract

낮은 전압으로 발광 효율이 높으면서 구동 안정성에 있어서도 크게 개선된 유기 전계 발광 소자(유기 EL 소자)용 정공 주입 재료 및 그것을 사용한 유기 EL 소자를 개시한다.
이 유기 EL 소자용 정공 주입 재료는 벤젠헥사카르본산 무수물, 벤젠헥사카르본산이미드 또는 벤젠헥사카르본산이미드의 N 치환체로부터 선택된다. 또한 이 유기 EL 소자는, 대향하는 양극과 음극 사이에 적어도 1층의 발광층과 정공 주입층을 가지고, 정공 주입층 중에 상기 유기 EL 소자용 정공 주입 재료를 포함한다. 이 유기 EL 소자는, 정공 주입층 또는 이것에 인접하는 층에 이온화 포텐셜(IP)이 6.0eV이하인 정공 수송성 재료를 함유할 수 있다.

Description

유기 전계 발광 소자{ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE}
본 발명은, 평면 광원이나 표시 소자에 이용되는 유기 전계 발광 소자(이하, 유기 EL 소자 또는 소자라 약칭하는 경우가 있다.)에 관한 것이다.
유기 EL 소자는, 디스플레이나 조명에의 응용의 관점에서 활발하게 개발이 행해지고 있다. 유기 EL 소자의 구동 원리는 이하와 같은 것이다. 즉, 양극 및 음극으로부터 각각 홀(holes)과 전자가 주입되고, 이들이 유기 박막 중을 수송되어, 발광층에 있어서 재결합하여 여기 상태가 발생하고, 이 여기 상태로부터 발광이 얻어진다. 발광 효율을 높이기 위해서는, 효율적으로 홀 및 전자를 주입시켜, 유기 박막 중을 수송시키는 것이 필요하다. 그러나 유기 EL 소자 내의 캐리어의 이동은, 전극과 유기 박막간의 에너지 장벽이나, 유기 박막 내의 캐리어 이동도의 낮음에 의해 제한을 받기 때문에 발광 효율의 향상에도 한계가 있다.
이러한 문제를 해결하는 방법으로서, 양극과 정공 수송층의 사이에 정공 주입층을 삽입함으로써, 양극으로부터의 정공 주입성을 향상시켜, 보다 낮은 전압으로 발광층에 정공을 수송하는 수법을 생각할 수 있다.
예를 들면, 특허문헌 1에는, 정공 주입층으로서 프탈로시아닌계 금속 착체를 사용함으로써, 소자의 저전압화나 구동 안정성의 향상이 가능한 것이 개시되어 있는데, 프탈로시아닌계 금속 착체는 가시광 영역에 흡수를 가지기 때문에 발광 효율이 저하하는 문제가 있었다. 또한 발색의 색도(色度) 조정도 하기 어려운 문제가 있었다.
또한 특허문헌 2에는, 양극에 인접하는 n형 유기층과, n형 유기층상에 마련되는 p형 유기층으로 이루어지는 np 접합층을 배치한 유기 EL 소자를 개시하고 있다. 그리고, n형 유기층의 LUMO 에너지 준위와 양극의 페르미 에너지(Fermi energy) 준위 차가 2.OeV이하이고, n형 유기층의 LUMO 에너지 준위와 p형 유기층의 HOMO 에너지 준위 차가 1.OeV이하인 유기 전계 발광 소자가 개시되어 있다. 여기서, n형 유기층은 정공 주입층이라 칭할 수도 있다. 또한 p형 유기층은 정공 수송층 또는 발광층이라 칭할 수도 있다.
또한 특허문헌 2는, n형 유기층에 사용되는 전자 수여성 화합물로서, 2,3,5,6-테트라플루오로-7,7,8,8-테트라시아노퀴노디메탄(F4TCNQ), 불소 치환의 3,4,9,10-페릴렌테트라카르본산 이무수물(PTCDA), 시아노 치환의 PTCDA, 나프탈렌테트라카르본산 이무수물(NTCDA), 불소 치환의 NTCDA, 시아노 치환의 NTCDA, 또는 헥사니트릴헥사아자트리페닐렌(HAT)을 개시하고 있다.
일본국 공개특허공보 소63-295695호 WO 2005-109542호 공보
본 발명은 낮은 전압이어도 발광 효율이 높고, 게다가 연속 구동시의 경시 변화가 적어 고품질의 유기 EL 소자를 제공하는 것에 있다.
본 발명은, 하기 일반식(1)로 표시되는 카르본산 유도체로 이루어지는 유기 전계 발광 소자용 정공 주입 재료에 관한 것이다.
Figure 112010069586278-pct00001
여기서, X는 O 또는 N-R을 나타내고, R은 H 또는 1가의 치환기를 나타낸다.
또한 본 발명은, 대향하는 양극과 음극 사이에, 적어도 1층의 발광층과 정공 주입층을 가지는 유기 전계 발광 소자에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 카르본산 유도체를 포함하는 정공 주입층을 가지는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자에 관한 것이다.
또한 본 발명은, 상기 정공 주입층 또는 정공 주입층에 인접하는 층의 적어도 하나의 층에 이온화 포텐셜(IP)이 6.OeV이하인 정공 수송성 재료를 함유하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자에 관한 것이다. 상기 정공 주입층에 인접하는 층은 정공 수송층 또는 발광층인 것이 좋다. 그리고, IP가 6.OeV이하인 정공 수송성 재료로서는 바람직하게는 아릴아민계 정공 수송성 재료가 있다
본 발명에 의하면, 낮은 전압으로 발광 효율이 높으면서 구동 안정성에 있어서도 크게 개선된 유기 전계 발광 소자(유기 EL 소자)용 정공 주입 재료 및 그것을 사용한 유기 EL 소자를 제공한다.
도 1은 본 발명의 유기 EL 소자의 일례를 나타낸 모식 단면도를 나타낸다.
도 2는 탠덤(tandem)형 유기 EL 소자의 일례를 나타낸 모식 단면도를 나타낸다.
도 3은 정공 주입 수송성의 평가용의 소자의 모식 단면도를 나타낸다.
본 발명의 유기 EL 소자용 정공 주입 재료는 상기 일반식(1)로 표시되는 카르본산 유도체이다.
본 발명의 유기 EL 소자는 대향하는 양극과 음극 사이에, 적어도 1층의 발광층과 정공 주입층을 가지고 있고, 상기 일반식(1)로 표시되는 카르본산 유도체를 함유하는 정공 주입층을 가진다.
우선, 상기 일반식(1)로 표시되는 카르본산 유도체 또는 유기 EL 소자용 정공 주입 재료에 대해 설명한다.
일반식(1)에 있어서 X는 O 또는 N-R을 나타낸다. 여기서, R은 질소원자와 결합하는 수소 또는 1가의 치환기를 나타내는데, 바람직한 치환기를 다음에 예시한다.
탄소수 1~20, 바람직하게는 1~6의 알킬기(예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 터셜부틸기(tert-butyl group), 펜틸기, 헥실기, 옥틸기, 도데실기, 트리데실기, 테트라데실기, 펜타데실기 등), 탄소수 3~20, 바람직하게는 5~10의 시클로알킬기(예를 들면 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등), 탄소수 2~20, 바람직하게는 2~6의 알케닐기(예를 들면 비닐기, 알릴기 등), 탄소수 2~20, 바람직하게는 2~6의 알키닐기(예를 들면 에티닐기, 프로파르길기 등), 탄소수 6~20, 바람직하게는 6~10의 아릴기(예를 들면 페닐기, 나프틸기 등), 탄소수 3~20, 바람직하게는 5~10의 방향족 복소환기(예를 들면 푸릴기, 티에닐기, 피리딜기, 피리다지닐기, 피리미디닐기, 피라지닐기, 트리아지닐기, 이미다졸릴기, 피라졸릴기, 티아졸릴기, 퀴나졸리닐기, 프탈라지닐기 등), 탄소수 3~20, 바람직하게는 5~10의 복소환기(예를 들면 피롤리딜기, 이미다졸리딜기, 모르폴릴기, 옥사졸리딜기 등), 탄소수 1~20, 바람직하게는 1~6의 불화탄화수소기(예를 들면 플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 펜타플루오로페닐기 등), 시아노기, 니트로기, 실릴기(예를 들면 트리메틸실릴기, 트리이소프로필실릴기, 트리페닐실릴기, 페닐디에틸실릴기 등) 등이 있다.
이들 치환기는 상기의 치환기 또는 할로겐 등에 의해 더 치환되어 있어도 된다. 예를 들면 아릴기, 방향족 복소환기, 복소환기는 또한 알킬기나 할로겐 등에 의해 더 치환되어 있어도 되고, 치환기가 더 치환되어 있는 경우는 탄소수의 계산에는 치환기로 치환하는 치환기의 탄소수를 포함한다. 또한 이들 치환기는 복수가 서로 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다.
바람직한 X는 O, NH 외에 R이 상기의 치환기인 NR이다. 보다 바람직한 X는 0, NH 외에 R이 다음의 치환기인 NR이다. 이 R은 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 5~10의 시클로알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기, 탄소수 5~10의 방향족 복소환기, 탄소수 1~6의 불화탄화수소기 또는 시아노기이다. 그리고, 시클로알킬기, 아릴기 또는 방향족 복소환기는 탄소수 1~6의 알킬기 또는 할로겐으로 치환되어 있어도 된다.
이하에 일반식(1)로 표시되는 화합물의 구체예를 나타내는데, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.
Figure 112010069586278-pct00002
Figure 112010069586278-pct00003
Figure 112010069586278-pct00004
본 발명의 유기 EL 소자의 정공 주입층에는, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 포함하는 재료가 포함된다. 이 정공 주입층은, 일반식(1)의 화합물만 또는 그 혼합물로 형성되어도 되고, 다른 정공 주입 재료와 혼합된 것이어도 된다. 혼합할 경우, 일반식(1)로 표시되는 화합물이 0.1wt%이상, 유리하게는 1wt%이상이 되도록 사용하면 되는데, 본 발명의 효과를 충분히 발휘하기 위해서는 50wt%이상, 보다 바람직하게는 80wt%이상이 되도록 사용하는 것이 좋다.
본 발명에서 말하는 정공 주입층은, 발광층에 대하여 양극측에 배치된 층으로서, 정공 주입 재료 또는 정공 주입 재료와 정공 수송성 재료를 주된 유효 성분으로서 포함하고, 정공을 주입하는 기능을 가지는 층을 말한다. 따라서, 정공 주입층에는 정공 주입 재료 외에 정공 수송성 재료를 포함할 수도 있다. 정공 수송성 재료를 포함할 경우, 정공 주입 수송층이라 칭해질 경우도 있는데, 본 명세서에서는 정공 주입층의 한 형태인 것으로 이해된다. 또한 본 발명에서 말하는 정공 주입 재료는 상기 정공 주입층에 사용되는 재료를 의미한다.
정공 주입층에 정공 수송성 재료를 포함할 경우, 정공 수송성 재료로서는 이온화 포텐셜(IP)이 6.OeV이하인 정공 수송성 재료인 것이 바람직하다. IP가 6.OeV이하인 정공 수송성 재료로서는 아릴아민계 정공 수송성 재료가 바람직하게 예시된다.
또한 정공 주입층이 정공 수송성 재료를 포함할 경우도, 포함하지 않을 경우도, 정공 주입층에 인접하는 층에 IP가 6.OeV이하인 정공 수송성 재료를 포함하는 것이 바람직하다. 정공 주입층이 정공 수송성 재료를 포함하지 않을 경우에 보다 유효하다. 이 정공 주입층에 인접하는 층으로서는 정공 수송층 또는 발광층인 것이 바람직하다. 발광층인 경우는 정공 수송층은 생략된다.
정공 주입층에 정공 수송성 재료를 포함할 경우, 정공 주입 재료와 정공 수송성 재료의 비율은 넓게 변화할 수 있는데, 중량비로 1:9~9:1, 바람직하게는 3:7~7:3의 범위로 하는 것이 좋다. 그리고, 이 경우의 정공 주입층에는, 일반식(1)로 표시되는 화합물이 0.1wt%이상, 유리하게는 1wt%이상 포함되는 것이 좋은데, 본 발명의 효과를 충분히 발휘하기 위해서는 10wt%이상, 보다 바람직하게는 30wt%이상이 되도록 사용하는 것이 좋다.
이하, 본 발명을 도면을 참조하여 설명한다. 도 1~2는 본 발명의 유기 EL 소자의 일례를 나타내는 모식 단면도이다.
우선, 유기 EL 소자의 구성에 대하여 설명한다.
도 1에 본 발명의 유기 EL 소자의 기본 구성예를 나타낸다. 기판(1)상에 양극(2), 정공 주입층(3), 정공 수송층(4), 발광층(5), 전자 수송층(6), 전자 주입층(7), 음극(8)로 구성되는데, 정공 수송성 재료를 정공 주입층 또는 발광층의 적어도 어느 하나의 층에 함유할 경우, 정공 수송층은 없어도 된다. 전자 수송성 재료를 발광층 또는 전자 주입층의 적어도 어느 하나의 층에 함유할 경우, 전자 수송층은 없어도 된다. 또한 필요에 따라 다른 층을 마련해도 된다. 다른 층이란, 예를 들면 전자 저지층이나 정공 저지층을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.
그리고, 본 발명의 유기 EL 소자는 정공 주입층과 1층 이상의 발광층을 필수의 층으로서 가진다. 발광층은 1층이어도, 복수의 발광층을 적층한 다층 구조의 발광층이어도 된다.
도 2에 본 발명의 유기 EL 소자의 다른 형태를 나타낸다. 도 2는 도 1의 기본 소자 구성을 탠덤형으로 적층한 소자 구성의 일례를 나타낸다. 기판(1)상에 양극(2), 정공 주입층(3), 정공 수송층(4), 발광층(5), 전자 수송층(6), 전자 주입층(7), 음극(8)이 적층되는데, 이 중 정공 주입층(3)~전자 주입층(7)이 적층된 유닛이 양극간에 복수 적층된다. 이 유닛의 적층수는 필요에 따라 그 층수를 변화시킬 수 있다. 또한 인접한 전자 주입층과 정공 주입층 사이에 금속 박막을 끼워도 된다. 각 층의 상세에 대해서는 도 1의 기본 구성과 동일하다.
본 발명의 유기 EL 소자의 바람직한 구성예를 이하에 나타내는데, 이에 한정되지 않는다.
A. 단층 구성예
1)양극/정공 주입층/정공 수송층/발광층/전자 수송층/전자 주입층/음극
2)양극/정공 주입층/정공 수송층/발광층/발광층/전자 수송층/전자 주입층/음극
3)양극/정공 주입층/발광층/전자 수송층/전자 주입층/음극
B. 다층 구성예
1)양극/정공 주입층/정공 수송층/발광층/전자 수송층/전자 주입층/정공 주입층/정공 수송층/발광층/전자 수송층/전자 주입층/음극
2)양극/정공 주입층/정공 수송층/발광층/전자 수송층/전자 주입층/금속 박막/정공 주입층/정공 수송층/발광층/전자 수송층/전자 주입층/음극
3)양극/정공 주입층/정공 수송층/발광층/발광층/전자 수송층/전자 주입층/금속 박막/정공 주입층/정공 수송층/발광층/발광층/전자 수송층/전자 주입층/음극
상기와 같이, 본 발명의 소자 구성은, 도 1에서 나타내는 기본 소자 구성이 단층의 단층 구조여도, 이것이 다층화된 다층 구조여도 된다. 다층 구조의 경우, 정공 주입층은 복수 존재하는데, 그 적어도 1개, 바람직하게는 전부의 정공 주입층이 일반식(1)의 화합물을 포함하는 정공 주입층으로 한다. 이러한 정공 주입층을 마련함으로써, 단층 구조여도 다층 구조여도 소자의 성능을 향상시킨다. 다층 구조에 적용하면 그 효과가 크다.
이하, 각 층에 대하여 상세하게 설명한다.
(1)기판
기판(1)은 유기 전계 발광 소자의 지지체가 되는 것으로서, 석영이나 유리의 판, 금속판이나 금속박, 플라스틱 필름이나 시트 등이 사용된다. 특히 유리판이나, 폴리에스테르, 폴리메타크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리술폰 등의 투명한 합성 수지의 판이 바람직하다. 합성 수지 기판을 사용할 경우에는 가스 배리어성에 유의 할 필요가 있다. 기판의 가스 배리어성이 지나치게 작으면, 기판을 통과한 외기에 의해 유기 전계 발광 소자가 열화하는 경우가 있으므로 바람직하지 않다. 이 때문에, 합성 수지 기판의 적어도 편면에 치밀한 실리콘 산화막 등을 마련하여 가스 배리어성을 확보하는 방법도 바람직한 방법의 하나이다.
(2)양극
기판(1)상에는 양극(2)이 마련된다. 이 양극은 통상 알루미늄, 금, 은, 니켈, 팔라듐, 백금 등의 금속, 인듐 및/또는 주석의 산화물, 아연 및/또는 주석의 산화물, 텅스텐 및/또는 주석의 산화물 등의 금속 산화물, 요오드화구리 등의 할로겐화 금속, 카본블랙, 혹은 폴리(3-메틸티오펜), 폴리피롤, 폴리아닐린 등의 도전성 고분자 등에 의해 구성된다. 양극의 형성은 통상 스퍼터링법, 진공 증착법 등에 의해 행해지는 경우가 많다. 또한 은 등의 금속 미립자, 요오드화구리 등의 미립자, 카본블랙, 도전성의 금속 산화물 미립자, 도전성 고분자 미분말 등의 경우에는, 적당한 바인더 수지 용액에 분산하여, 기판상에 도포함으로써 양극을 형성할 수도 있다. 또한 도전성 고분자의 경우는 전해 중합에 의해 직접 기판상에 박막을 형성하거나, 기판상에 도전성 고분자를 도포하여 양극을 형성할 수도 있다. 양극은 다른 물질로 적층하여 형성하는 것도 가능하다. 양극(2)의 두께는 필요로 하는 투명성에 따라 다르다. 투명성이 필요한 경우는, 가시광의 투과율을 통상 60%이상, 바람직하게는 80%이상으로 하는 것이 좋다. 양극(2)의 막 두께에 대해서는 통상 1~1000nm, 바람직하게는 10~500nm이다. 또한 불투명해도 되는 경우 양극은 기판과 동일해도 된다. 또한 상기의 양극 위에 다른 도전 재료를 적층하는 것도 가능하다.
(3)정공 주입층
양극(2) 위에 정공 주입층(3)이 마련된다. 정공 주입층에는, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 포함하는 재료가 사용된다. 이 정공 주입층은, 일반식(1)의 화합물만 또는 그 혼합물로 형성되어도 되고, 다른 정공 주입 재료와 혼합된 것이어도 된다. 또한 상기한 바와 같이, 정공 주입층(3)은 정공 수송 재료를 포함하는 것도 가능하다. 일반식(1)로 표시되는 화합물의 배합량은 상기와 같지만, 이 화합물을 n형 재료와 함께 사용할 경우, 도펀트로서 사용할 경우는 0.1wt%이상이어도 일정한 효과를 나타내지만, 다른 정공 주입 재료와 혼합 사용할 경우는 본 발명의 효과를 충분히 발휘하기 위해서는 50wt%이상이 바람직하다.
다른 정공 주입 재료로서는 구리프탈로시아닌 등의 프탈로시아닌화합물, 폴리아닐린, 폴리티오펜 등의 유기 화합물이나, 바나듐 산화물, 루테늄 산화물, 몰리브덴 산화물 등의 금속 산화물을 들 수 있다.
정공 주입층은 상기 정공 주입 재료를 예를 들면 진공 증착법, 스핀 코팅법, 캐스트법, 잉크젯법을 포함하는 인쇄법, LB법 등의 공지의 방법에 의해 박막화함으로써 형성할 수 있다.
정공 주입층의 막 두께에 대해서는, 일반식(1)의 화합물만으로 형성될 경우, 30nm이하, 바람직하게는 20nm이하이다. 더욱 바람직하게는 5~15nm이다. 이 이상의 두께가 되면, 정공 주입 특성의 저하에 의한 유기 EL 소자의 고전압화나 저효율화, 나아가서는 구동 안정성의 저하를 일으킨다. 또한 정공 주입층이, 일반식(1)의 화합물과 다른 정공 주입 재료의 혼합층으로 형성될 경우, 통상 1~300nm, 바람직하게는 5~100nm이다.
또한 정공 주입층에 정공 수송성 재료를 함유시킬 수도 있는데, 이 경우도 막 두께로서는 통상 1~300nm, 바람직하게는 5~100nm이다. 정공 주입층에 정공 수송성 재료를 함유시킬 경우는 정공 주입층에 인접하는 정공 수송층을 마련하지 않아도 된다.
(4)정공 수송층
정공 주입층(3) 위에 정공 수송층(4)이 마련된다. 정공 수송층은 양극으로부터 발광층으로 효율적으로 정공을 수송하는 역할을 담당한다. 정공 수송층에 함유되는 정공 수송성 재료는 정공 수송성을 가지는 화합물이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, IP가 6.OeV이하인 화합물이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5.8eV이하이다. 이보다 커지면 정공 주입층으로부터 정공 수송층에의 정공 이동을 원활하게 행할 수 없고, 유기 EL 소자의 고전압화나 저효율화, 나아가서는 구동 안정성의 저하를 일으킨다.
정공 수송성 재료로서는 트리아졸 유도체, 옥사디아졸 유도체, 이미다졸 유도체, 폴리아릴알칸 유도체, 피라졸린 유도체 및 피라졸론 유도체, 페닐렌디아민 유도체, 아릴아민 유도체, 아미노 치환 칼콘(chalcone) 유도체, 옥사졸 유도체, 스티릴안트라센 유도체, 플루오레논 유도체, 히드라존 유도체, 스틸벤 유도체, 실라잔 유도체, 아닐린계 공중합체, 또한 도전성 고분자 올리고머, 특히 티오펜 올리고머 등을 들 수 있다.
구체적으로는, 이하에 나타내는 아릴아민계 정공 수송성 재료를 사용하는 것이 바람직하다.
아릴아민계 정공 수송성 재료의 대표예로서는 N,N,N',N'-테트라페닐-4,4'-디아미노페닐; N,N'-디페닐-N,N'-비스(3-메틸페닐)-[1,1'-비페닐]-4,4'-디아민(TPD); 2,2-비스(4-디-p-톨릴아미노페닐)프로판; 1,1-비스(4-디-p-톨릴아미노페닐)시클로헥산; N,N,N',N'-테트라-p-톨릴-4,4'-디아미노비페닐; 1,1-비스(4-디-p-톨릴아미노페닐)-4-페닐시클로헥산; 비스(4-디메틸아미노-2-메틸페닐)페닐메탄; 비스(4-디-p-톨릴아미노페닐)페닐메탄; N,N'-디페닐-N,N'-디(4-메톡시페닐)-4,4'-디아미노비페닐; N,N,N',N'-테트라페닐-4,4'-디아미노디페닐에테르; 4,4'-비스(디페닐아미노)쿼드리페닐(quadriphenyl); N,N,N-트리(p-톨릴)아민; 4-(디-p-톨릴아미노)-4'-[4-(디-p-톨릴아미노)스티릴]스틸벤; 4-N,N-디페닐아미노-(2-디페닐비닐)벤젠; 3-메톡시-4'-N,N-디페닐아미노스틸벤젠; N-페닐카르바졸, 또한 2개의 축합 방향족환을 분자 내에 가지는 4,4'-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐아미노]비페닐(α-NPD) 등 트리페닐아민 유닛이 3개 스타버스트(starburst)형으로 연결된 4,4',4"-트리스[N-(3-메틸페닐)-N-페닐아미노]트리페닐아민(MTDATA) 등을 들 수 있다.
정공 수송층의 막 두께에 대해서는 통상 1~300nm, 바람직하게는 5~100nm이고, 정공 주입층과 동일한 방법으로 정공 주입층상에 박막 형성된다. 이 정공 수송층은 상기 재료의 1종 또는 2종 이상으로 이루어지는 1층 구조여도 된다.
(5)발광층
정공 수송층(4) 위에는 발광층(5)이 마련된다. 발광층은 정공 및 전자를 재결합시켜 발광하는 기능을 가진다.
발광층은, 단일의 발광층으로 형성되어 있어도 되고, 복수의 발광층을 인접해서 적층하여 구성되어 있어도 된다. 또한 발광층은, 호스트 재료와 형광성 발광 재료 또는 인광성 발광 재료로 구성되고, 종래 이들 층의 형성에 사용된 임의의 재료를 사용할 수 있다. 또한 발광층에 정공 수송성 재료를 함유할 경우는 정공 주입층과 발광층 사이에 정공 수송층을 마련하지 않아도 된다.
호스트 재료로서는, 이전부터 발광체로서 알려져 있었던 안트라센이나 피렌 등의 축합환 유도체, 트리스(8-퀴놀리놀라토)알루미늄을 비롯한 금속 킬레이트화 옥시노이드화합물, 비스스티릴안트라센 유도체나 디스티릴벤젠 유도체 등의 비스스티릴 유도체, 테트라페닐부타디엔 유도체, 쿠마린 유도체, 옥사디아졸 유도체, 피로로피리딘 유도체, 페리논 유도체, 시클로펜타디엔 유도체, 옥사디아졸 유도체, 티아디아졸로피리딘 유도체, 폴리머계에서는 폴리페닐렌비닐렌 유도체, 폴리파라페닐렌 유도체, 그리고 폴리티오펜 유도체 등을 사용할 수 있다.
호스트 재료에 첨가하는 형광성 발광 재료로서는 페릴렌, 루브렌 등의 축합환 유도체, 퀴나크리돈 유도체, 페녹사존 660, DCM1, 페리논, 쿠마린 유도체, 피로메텐(디아자인다센) 유도체, 시아닌 색소 등을 사용할 수 있다.
호스트 재료에 첨가하는 인광성 발광 재료로서는 루테늄, 로듐, 팔라듐, 은, 레늄, 오스뮴, 이리듐, 백금 및 금 등으로부터 선택되는 적어도 하나의 금속을 포함하는 유기 금속 착체를 함유하는 것이 좋다.
바람직한 인광 발광 도펀트로서는, Ir 등의 귀금속 원소를 중심 금속으로서 가지는 Ir(ppy)3 등의 착체류, Ir(bt)2·acac3 등의 착체류, PtOEt3 등의 착체류를 들 수 있다.
발광층의 막 두께에 대해서는, 통상 1~300nm, 바람직하게는 5~100nm이고, 정공 수송층상에 정공 주입층과 동일한 방법으로 박막 형성된다. 복수의 발광층 재료를 순서대로 적층해서 다층 구조의 발광층으로 하는 것도 바람직하지만, 이 경우의 발광층의 두께도 상기의 범위로 하는 것이 좋다.
(6)전자 수송층
발광층(5) 위에는 전자 수송층(6)이 마련되는데, 발광층 중에 전자 수송성 재료를 함유하는 경우는 마련하지 않아도 된다. 전자 수송층은, 전계를 부여받은 전극간에 있어서 음극으로부터 주입된 전자를 효율적으로 발광층의 방향으로 수송할 수 있는 화합물로 형성된다. 전자 수송층에 사용되는 전자 수송성 화합물로서는, 음극으로부터의 전자 수송 효율이 높으면서, 높은 전자 이동도를 가지고 주입된 전자를 효율적으로 수송할 수 있는 화합물인 것이 필요하다.
이러한 조건을 만족하는 전자 수송 재료로서는, Alq3 등의 금속 착체, 10-히드록시벤조[h]퀴놀린의 금속 착체, 옥사디아졸 유도체, 디스티릴비페닐 유도체, 실롤(silole) 유도체, 3- 또는 5-히드록시플라본 금속 착체, 벤즈옥사졸 금속 착체, 벤조티아졸 금속 착체, 트리스벤즈이미다졸릴벤젠퀴녹살린화합물, 페난트롤린 유도체, 2-t-부틸-9,10-N,N'-디시아노안트라퀴논디이민, n형 수소화 비결정질 탄화실리콘, n형 황화아연, n형 셀렌화아연 등을 들 수 있다.
전자 수송층의 막 두께에 대해서는 통상 1~300nm, 바람직하게는 5~100nm이고, 정공 주입층과 동일한 방법으로 발광층상에 박막 형성된다. 이 전자 수송층은 상기 재료의 1종 또는 2종 이상으로 이루어지는 1층 구조여도 된다.
(7)전자 주입층
또한 전자 수송층(6) 위에는 전자 주입층(7)을 마련하는 것도 소자의 효율을 향상시키는 유효한 방법이다. 전자 주입층은 발광층에 전자를 주입하는 역할을 한다.
전자 주입 재료의 구체예로서는 LiF, MgF2, Li2O 등의 알칼리 금속염, 알칼리 토류 금속염, 알칼리 금속 산화물, 알칼리 토류 금속염, Liq 등의 알칼리 금속 착체 및 Li, Cs, Ca 등의 알칼리 금속, 알칼리 토류 금속 등을 들 수 있다.
전자 주입층의 막 두께에 대해서는 통상 0.1~300nm, 바람직하게는 0.5~50nm이고, 정공 주입층과 동일한 방법으로 발광층 또는 전자 수송층상에 박막 형성된다.
전자 주입층은, 상기 재료 단체(單體)만으로 형성해도 되고, 전자 주입 재료와 전자 수송층 재료를 임의의 비율로 혼합한 층을 형성해도 된다. 이 경우, 전자 주입층 또는 전자 수송의 어느 하나를 생략해도 된다.
(8)음극
음극(8)은 전자 주입층에 전자를 주입하는 역할을 한다. 음극으로서 사용되는 재료는, 상기 양극에 사용되는 재료를 사용하는 것이 가능한데, 효율적으로 전자 주입을 행하기 위해서는, 일 함수가 낮은 금속이 바람직하고, 주석, 마그네슘, 인듐, 칼슘, 알루미늄, 리튬, 은 등의 적당한 금속 또는 그들의 합금이 사용된다. 구체예로서는 마그네슘-은 합금, 마그네슘-인듐 합금, 알루미늄-리튬 합금 등의 저(低) 일 함수 합금 전극을 들 수 있다.
또한 저 일 함수 금속으로 이루어지는 음극을 보호할 목적으로, 이 위에 또한 일 함수가 높고 대기에 대하여 안정된 금속층을 적층하는 것은 소자의 안정성을 더한다. 이 목적을 위해 알루미늄, 은, 구리, 니켈, 크롬, 금, 백금 등의 금속이 사용된다.
음극의 막 두께에 대해서는 통상 1~1000nm, 바람직하게는 10~500nm이고, 정공 주입층과 동일한 방법으로 전자 주입층 또는 발광 유닛상에 박막 형성된다. 이 음극은 상기 재료의 1종 또는 2종 이상으로 이루어지는 1층 구조여도 된다.
또한 음극에 상기 금속을 1nm~20nm의 막 두께로 제작한 후에, 양극의 설명에서 든 도전성 투명 재료를 그 위에 제작함으로써, 투명 또는 반투명의 음극을 제작할 수 있고, 이것을 응용함으로써 양극과 음극의 양쪽이 투과성을 가지는 소자를 제작하는 것도 가능하다.
도 2에 나타내는 다층 구조의 유기 EL 소자의 경우에 있어서도, 각 층은 상기의 설명과 같이 하여 형성할 수 있다. 예를 들면 양극(2)상에 정공 주입층(3)~전자 주입층(7)을 순서대로 마련하여 제1의 유닛(Ⅰ)으로 한다. 다음으로, 유닛(Ⅰ)의 최상부의 층인 전자 주입층(7) 위에 정공 주입층(3)~전자 주입층(7)을 순서대로 마련하여 제2의 유닛(Ⅱ)으로 한다. 또한 동일하게 하여 제N의 유닛(N)까지를 동일하게 마련할 수 있다. 유닛(N)의 전자 주입층(7) 위에는 음극(8)을 마련한다. 또한 상기 유닛은 발광층을 중심으로 하므로 발광 유닛이라고도 한다. 또한 도 2 중 도 1과 같은 기호는 같은 것을 가리킨다.
또한 도 1과는 반대의 구조, 즉 기판(1)상에 음극(8), 전자 주입층(7), 전자 수송층(6), 발광층(5), 정공 수송층(4), 정공 주입층(3), 양극(2)의 순서대로 적층하는 것도 가능하고, 이미 기술한 바와 같이 적어도 한쪽이 투명성이 높은 2장의 기판 사이에 본 발명의 유기 EL 소자를 마련하는 것도 가능하다. 이 경우도 필요에 따라 층을 추가하거나, 생략하는 것이 가능하다. 도 2에 나타내는 다층 구조의 경우도 동일하다.
또한 본 발명에서는, 유기 EL 소자가 단일의 소자, 어레이상으로 배치된 구조로 이루어지는 소자, 양극과 음극이 X-Y 매트릭스상으로 배치된 구조의 어느 것에 있어서도 적용할 수 있다. 본 발명의 유기 EL 소자에 의하면, 정공 주입층에 일반식(1)의 화합물을 사용함으로써, 종래보다 낮은 전압으로 발광 효율이 높으면서 구동 안정성에 있어서도 크게 개선된 소자가 얻어지고, 풀 컬러 혹은 멀티 컬러의 패널에의 응용에 있어서 뛰어난 성능을 발휘할 수 있다. 그리고, 정공 수송층에 트리아릴아민계 화합물을 사용하면 그 효과가 보다 증대한다.
<실시예>
이하, 실시예에 의해 본 발명을 설명하는데, 본 발명은 이들에 한정되지 않는다.
정공 주입 수송성 평가 시험은, 도 3에 나타내는 평가용 소자를 사용하여 행하였다. 이 평가용 소자는 유리 기판(1)상에 양극(2), 정공 주입층(3), 정공 수송층(4), 음극(8)을 가진다.
(실시예 1)
도 3에 있어서, 막 두께 150nm의 ITO로 이루어지는 양극 전극이 형성된 유리 기판상에, 각 박막을 진공 증착법으로 진공도 1.0×10-5Pa로 적층시켰다. 우선, ITO상에 정공 주입층을 형성하는 재료로서 예시 화합물 1을 10nm의 두께로 형성하였다. 다음으로, 정공 수송층으로서 NPB(4,4'-비스(N-(1-나프틸)-N-페닐아미노)비페닐)을 110nm의 두께로 형성하였다. 마지막으로, 정공 수송층상에 음극 전극으로서 알루미늄(Al)을 100nm의 두께로 형성하여, 정공 주입 수송성 평가용 소자를 작성하였다.
(실시예 2)
정공 주입층을 형성하는 재료로서 예시 화합물 14를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 평가용 소자를 작성하였다.
(비교예 1)
정공 주입층을 형성하는 재료로서 CuPc(구리-프탈로시아닌)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 평가용 소자를 작성하였다.
(비교예 2)
정공 주입층을 형성하는 재료로서 NTCDA(1,4,5,8-나프탈렌테트라카르본산 이무수물)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 평가용 소자를 작성하였다.
얻어진 정공 주입 수송성 평가용 소자에 외부 전원을 접속하여 직류 전압을 인가한 바, 표 1에 나타내는 바와 같은 전류-전압 특성을 가지는 것이 확인되었다. 표 1의 전류 밀도는 5V에서의 흐른 전류 밀도값(A/m2)을 나타낸다. 표 1에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 정공 주입 재료는 같은 전압이어도, 보다 양호한 정공 주입성을 나타내는 것을 알 수 있다. 또한 NPB의 IP는 5.4eV이다.
Figure 112010069586278-pct00005
(실시예 3)
정공 주입층의 막 두께를 20nm로 하고, 정공 수송층의 막 두께를 100nm로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 평가용 소자를 작성하였다.
(비교예 3)
정공 주입층을 형성하는 재료로서 NTCDA를 사용한 것 이외에는, 실시예 3과 동일하게 하여 평가용 소자를 작성하였다.
얻어진 정공 주입 수송성 평가용 소자에 외부 전원을 접속하여 직류 전압을 인가한 바, 표 2에 나타내는 바와 같은 전류-전압 특성을 가지는 것이 확인되었다.
Figure 112010069586278-pct00006
(실시예 4)
도 1에 있어서, 막 두께 110nm의 ITO로 이루어지는 양극 전극이 형성된 유리 기판상에, 각 박막을 진공 증착법으로 진공도 1.0×10-5Pa로 적층시켰다. 우선, ITO상에 정공 주입층으로서 예시 화합물 1을 10nm의 두께로 형성하였다. 다음으로, 정공 수송층으로서 NPB를 25nm의 두께로 형성하였다. 다음으로, 정공 수송층상에, 발광층으로서 DNA(9,10-디(2-나프틸)안트라센)과 TBP(2,5,8,11-테트라터셔리부틸페릴렌)를 다른 증착원으로부터, TBP가 1.0중량%가 되도록 공증착하여 30nm의 두께로 형성하였다. 다음으로, 전자 수송층으로서 Alq3(트리스(8-퀴놀리놀라토)알루미늄 착체)을 30nm의 두께로 형성하였다. 또한 전자 수송층상에, 전자 주입층으로서 Alq3과 Liq((8-퀴놀리놀라토)리튬 착체)를 다른 증착원으로부터, Liq가 25중량%가 되도록 공증착하여 10nm의 두께로 형성하였다. 마지막으로, 전자 주입층상에 음극 전극으로서 알루미늄(Al)을 100nm의 두께로 형성하여 1유닛의 유기 EL 소자를 작성하였다.
(실시예 5)
정공 주입층을 예시 화합물 1과 NPB의 혼합층(중량비 50:50) 10nm로 한 것 이외에는 실시예 4와 동일하게 하여 유기 EL 소자를 작성하였다.
(비교예 4)
정공 주입층을 NTCDA의 층으로 한 것 이외에는 실시예 4와 동일하게 하여 유기 EL 소자를 작성하였다.
얻어진 유기 EL 소자에 외부 전원을 접속하여 직류 전압을 인가한 바, 표 3에 나타내는 바와 같은 발광 특성을 가지는 것이 확인되었다. 표 3~6에 있어서, 휘도, 전압 및 발광 효율은 100A/m2, 반감 수명은 250A/m2에서의 값을 나타낸다.
Figure 112010069586278-pct00007
(실시예 6)
도 1에 있어서, 막 두께 110nm의 ITO로 이루어지는 양극 전극이 형성된 유리 기판상에, 각 박막을 진공 증착법으로 진공도 1.0×10-5Pa로 적층시켰다. 우선, ITO상에 정공 주입층으로서 예시 화합물 1을 10nm의 두께로 형성하였다. 다음으로, 정공 수송층으로서 NPB를 10nm의 두께로 형성하였다. 다음으로, 정공 수송층상에, 첫번째의 발광층으로서 NPB와 루브렌(5,6,11,12-테트라페닐테트라센)을 다른 증착원으로부터, 루브렌이 이 1.0중량%가 되도록 공증착하여 20nm의 두께로 형성하였다. 다음으로, 두번째의 발광층으로서 DNA(9,10-디(2-나프틸)안트라센)과 TBP(2,5,8,11-테트라터셔리부틸페릴렌)을 다른 증착원으로부터, TBP가 1.0중량%가 되도록 공증착하여 30nm의 두께로 형성하였다. 다음으로, 전자 수송층으로서 Alq3(트리스(8-퀴놀리놀라토)알루미늄 착체)을 30nm의 두께로 형성하였다. 또한 전자 수송층상에, 전자 주입층으로서 Alq3과 Liq((8-퀴놀리놀라토)리튬 착체)를 다른 증착원으로부터, Liq가 25중량%가 되도록 공증착하여 10nm의 두께로 형성하였다. 마지막으로, 전자 주입층상에 음극 전극으로서 알루미늄(Al)을 100nm의 두께로 형성하여 1유닛의 유기 EL 소자를 작성하였다.
(실시예 7)
정공 수송층을 생략하고, 첫번째의 발광층 막 두께를 30nm로 한 것 이외에는, 실시예 6과 동일하게 하여 유기 EL 소자를 작성하였다.
(비교예 5)
정공 주입층 재료로서 NTCDA를 사용한 것 이외에는, 실시예 6과 동일하게 하여 유기 EL 소자를 작성하였다.
얻어진 유기 EL 소자에 외부 전원을 접속하여 직류 전압을 인가한 바, 표 4에 나타내는 바와 같은 발광 특성을 가지는 것이 확인되었다.
Figure 112010069586278-pct00008
(실시예 8)
도 2에 있어서, 막 두께 110nm의 ITO로 이루어지는 양극 전극이 형성된 유리 기판상에, 각 박막을 진공 증착법으로 진공도 1.0×10-5Pa로 적층시켰다. 우선, ITO상에 정공 주입층으로서 예시 화합물 1을 10nm의 두께로 형성하였다. 다음으로, 정공 수송층으로서 NPB를 25nm의 두께로 형성하였다. 다음으로, 정공 수송층상에, 첫번째의 발광층으로서 NPB와 루브렌을 다른 증착원으로부터, 루브렌이 1.0중량%가 되도록 공증착하여 20nm의 두께로 형성하였다. 다음으로, 두번째의 발광층으로서 DNA와 TBP를 다른 증착원으로부터, TBP가 1.0중량%가 되도록 공증착하여 30nm의 두께로 형성하였다. 다음으로, 전자 수송층으로서 Alq3을 30nm의 두께로 형성하였다. 또한 전자 수송층상에, Alq3과 Liq를 다른 증착원으로부터, Liq가 25중량%가 되도록 공증착하여 10nm의 두께로 형성한 후, 이어서 Al을 0.05nm/s로 2nm 증착하여 전자 주입층을 형성하였다. 다음으로, 다시 정공 주입층인 예시 화합물 1을 상기와 같은 레이트로 50nm의 두께로 형성하였다. 계속해서 정공 수송층으로부터 전자 주입층까지를 상기와 같이 막 형성하였다. 마지막으로, 전자 주입층상에 음극 전극으로서 알루미늄(Al)을 100nm의 두께로 형성하여 2유닛의 유기 EL 소자를 작성하였다.
(비교예 6)
정공 주입층 재료로서 NTCDA를 사용한 것 이외에는, 실시예 8과 동일하게 하여 2유닛의 유기 EL 소자를 작성하였다.
얻어진 유기 EL 소자에 외부 전원을 접속하여 직류 전압을 인가한 바, 표 5에 나타내는 바와 같은 발광 특성을 가지는 것이 확인되었다.
Figure 112010069586278-pct00009
본 발명의 유기 EL 소자에 의하면, 종래의 기술에 비해 낮은 전압이어도 발광 효율이 높으면서, 구동 안정성에 있어서도 크게 개선된 소자가 얻어진다. 또한 고온 보존시의 열화가 적은 소자를 얻을 수 있다. 이 결과, 풀 컬러 혹은 멀티 컬러의 패널에의 응용에 있어서 뛰어난 성능을 발휘할 수 있다. 따라서, 본 발명에 의한 유기 전계 발광 소자는 플랫 패널·디스플레이(예를 들면 OA 컴퓨터용이나 벽걸이 텔레비전), 차재(車載) 표시 소자, 휴대전화 표시나 면 발광체로서의 특징을 살린 광원(예를 들면 복사기의 광원, 액정 디스플레이나 계기류의 백라이트 광원), 표시판, 표식등에의 응용이 생각되며, 그 기술적 가치는 크다.
1: 기판 2: 양극
3: 정공 주입층 4: 정공 수송층
5: 발광층 6: 전자 수송층
7: 전자 주입층 8: 음극

Claims (5)

  1. 하기 일반식(1)로 표시되는 카르본산 유도체를 포함하는 유기 전계 발광 소자용 정공 주입 재료:
    Figure 112015045965155-pct00010

    상기 일반식 (1)에 있어서, X는 O 또는 N-R을 나타내고, R은 H 또는 1가의 치환기를 나타내며,
    상기 1가의 치환기는 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 3~20의 시클로알킬기, 탄소수 2~20의 알케닐기, 탄소수 2~20의 알키닐기, 탄소수 6~20의 아릴기, 탄소수 3~20의 방향족 복소환기, 탄소수 3~20의 복소환기 (단, 방향족 복소환기는 제외한다.), 탄소수 1~20의 불화탄화수소기, 시아노기, 니트로기 및 실릴기으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이고,
    상기 아릴기, 방향족 복소환기 및 복소환기는 각각 독립적으로 상기 1가의 치환기 또는 할로겐기로 더 치환될 수 있다.
  2. 대향하는 양극과 음극 사이에, 적어도 1층의 발광층과 정공 주입층을 가지는 유기 전계 발광 소자에 있어서, 하기 일반식(1)로 표시되는 카르본산 유도체를 포함하는 정공 주입층을 가지는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자:
    Figure 112015045965155-pct00011

    상기 일반식 (1)에 있어서, X는 O 또는 N-R을 나타내고, R은 H 또는 1가의 치환기를 나타내며,
    상기 1가의 치환기는 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 3~20의 시클로알킬기, 탄소수 2~20의 알케닐기, 탄소수 2~20의 알키닐기, 탄소수 6~20의 아릴기, 탄소수 3~20의 방향족 복소환기, 탄소수 3~20의 복소환기 (단, 방향족 복소환기는 제외한다.), 탄소수 1~20의 불화탄화수소기, 시아노기, 니트로기 및 실릴기으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이고,
    상기 아릴기, 방향족 복소환기 및 복소환기는 각각 독립적으로 상기 1가의 치환기 또는 할로겐기로 더 치환될 수 있다.
  3. 제2항에 있어서,
    일반식(1)로 표시되는 카르본산 유도체를 포함하는 정공 주입층 또는 상기 정공 주입층에 인접하는 층의 적어도 1층에 이온화 포텐셜이 6.0eV이하인 정공 수송성 재료를 함유하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
  4. 제3항에 있어서,
    정공 주입층에 인접하는 층이 정공 수송층 또는 발광층인 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
  5. 제3항에 있어서,
    이온화 포텐셜이 6.0eV이하인 정공 수송성 재료가 아릴아민계 정공 수송성 재료인 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
KR1020107024067A 2008-03-27 2009-02-27 유기 전계 발광 소자 KR101528490B1 (ko)

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