KR101168978B1 - 레이저 어닐링 장치 - Google Patents

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류스케 카와카미
켄이치로 니시다
준 이자와
미유키 마사키
마사루 모리타
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가부시키가이샤 아이에이치아이
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Abstract

[과제] 불활성 가스의 온도 요동에 따른 레이저광의 굴절 현상에 기인하는 레이저광의 조사 얼룩을 저감한다. [해결 수단] 레이저 어닐링 장치(1)는 적어도 피처리체(7)에 있어서의 레이저 조사 영역에 불활성 가스(G)를 공급하는 가스 공급 장치(10)와, 불활성 가스(G)의 온도를 조정하는 가스 온도 조정 장치(15)를 구비한다. 가스 온도 조정 장치(15)는, 불활성 가스(G)의 온도와, 불활성 가스의 공급 영역의 외측으로서 레이저광의 광로를 둘러싸는 공간(방(R))의 분위기 온도의 온도차가 작아지도록, 레이저 조사 영역에 공급되는 불활성 가스(G)의 온도를 조정한다.

Description

레이저 어닐링 장치{LASER ANNEALING DEVICE}
본 발명은 피처리체에 레이저광을 조사(照射)함으로써 피처리체를 어닐링 처리하는 레이저 어닐링 장치에 관한 것이다.
최근, 반도체 장치나 액정 디스플레이의 스위칭 소자로서, 채널층에 폴리 실리콘막을 이용한 박막 트랜지스터(TFT)가 널리 이용되고 있다. 박막 트랜지스터의 채널층에 이용되는 폴리 실리콘막은, 소위 저온 폴리 실리콘이라고 불리는 프로세스를 이용해 제조되는 것이 일반적이다. 저온 폴리 실리콘이란, 유리 기판상에 아몰퍼스 실리콘을 성막하고, 이 아몰퍼스 실리콘막에 레이저광을 조사하여 폴리 실리콘막을 제조하는 프로세스이다.
이와 같은 저온 폴리 실리콘에서는, 레이저 어닐링 장치를 이용해 아몰퍼스 실리콘막을 가열, 용융, 재결정화하여 폴리 실리콘막을 제작하는데, 어닐링 분위기 중에 산소가 포함되어 있으면, 가열 시 실리콘이 산화되어 버려서 소자 특성에 악영향을 미친다는 문제가 있다. 이 때문에, 질소 등의 불활성 가스를 이용하여 실리콘의 산화 방지를 행하고 있다.
특허 문헌 1에서는, 유리 기판이 탑재되는 스테이지를 처리 챔버 내부에 설치하고, 처리 챔버 내부에 질소 가스를 공급함으로써, 어닐링 처리 중의 실리콘의 산화를 방지하게 되어 있다.
특허 문헌 2에서는, 상하로 스윙되는 스윙 노즐의 선단으로부터 질소를 분출하여 레이저 조사 부분의 근방만 질소 분위기로 함으로써, 어닐링 처리 중의 실리콘의 산화를 방지하게 되어 있다.
특허 문헌 3에서는, 상부가 유리로 밀폐되고 하부가 개방된 원통형 셀을 기판에 대하여 충분히 근접한 위치에 배치한 상태에서, 셀의 내부에 질소 가스를 주입함으로써, 어닐링 중의 실리콘의 산화를 방지하게 되어 있다.
상기와 같은 질소의 공급을 적용한 레이저 어닐링의 실시 시, 질소 가스 유량의 차이와 계절 변화 등에 수반하는 외부 기온의 변동 등으로 인하여, 조사 얼룩이 발생하는 등, 프로세스가 불안정해지는 문제가 발생하고 있다.
본 발명자들은, 이와 같은 조사 얼룩의 발생 요인에 대해 연구를 거듭한 결과, 질소 가스의 온도 요동(변동: fluctuation)에 따른 레이저광의 굴절 현상이 그 요인임을 알아내었다. 한편, 일본 특허 공개 평11-176730호 공보에는, 레이저 간섭식 측장기(length measuring machine)에 관하여, 공기의 굴절률 변동이 광학식 센서의 정밀도에 영향을 미치는 것이 언급되어 있으며, 이는 본 발명자들의 상기 견해를 지지하는 것이다.
특허문헌 1: 일본 특허 제3735394호 공보 특허문헌 2: 일본 특허 제3091904호 공보 특허문헌 3: 일본 특허 공개 제2004-87962호 공보
본 발명은 상기의 문제에 착안하여 창안된 것으로, 불활성 가스의 온도 요동(변동)에 따른 레이저광의 굴절 현상에 기인하는 레이저광의 조사 얼룩을 저감할 수 있는 레이저 어닐링 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 레이저 어닐링 장치는 하기의 기술적 수단을 채용한다.
(1) 피처리체에 레이저광을 조사함으로써 피처리체를 어닐링 처리하는 레이저 어닐링 장치로서, 적어도 피처리체에 있어서의 레이저 조사 영역에 불활성 가스를 공급하는 가스 공급 장치와, 불활성 가스의 온도를 조정하는 가스 온도 조정 장치를 구비하고, 이 가스 온도 조정 장치는, 불활성 가스의 온도와, 이 불활성 가스의 공급 영역의 외측으로서 레이저광의 광로를 둘러싸는 공간의 분위기 온도의 온도차가 작아지도록, 레이저 조사 영역에 공급되는 상기 불활성 가스의 온도를 조정하는 것을 특징으로 한다.
상기 본 발명의 구성에 따르면, 가스 온도 조정 장치에 의해, 레이저 조사 영역에 공급되는 불활성 가스의 온도가, 불활성 가스의 공급 영역의 외측으로서 레이저광의 광로를 둘러싸는 공간(방)의 분위기 온도에 가까워지도록 조정된다. 이에 의해, 방과 불활성 가스의 온도차가 작아지므로, 레이저광의 굴절 현상이 저감됨으로써, 조사 얼룩을 저감할 수 있다. 한편, 방과 불활성 가스의 온도차는 작을수록 좋으며, 제로인 것이 가장 바람직하다.
(2) 상기 가스 공급 장치는, 상기 피처리체의 표면에 대향 배치되고 내부에 불활성 가스가 도입되는 퍼지 박스(purge box)를 구비하며, 이 퍼지 박스는, 레이저광을 투과시켜 내부로 도입하는 투과창과, 도입된 레이저광을 통과시키고 또한 내부의 불활성 가스를 피처리체를 향해 내뿜는 개구를 가지며, 상기 가스 온도 조정 장치는 상기 퍼지 박스보다 상류 측 위치에서 불활성 가스의 온도를 조정한다.
상기 본 발명의 구성에 따르면, 레이저광의 광로상에 퍼지 박스가 배치되기 때문에, 어닐링 처리 중에 레이저광은 퍼지 박스 내부의 불활성 가스를 통과하는데, 불활성 가스는 퍼지 박스에 도입되기 전에 퍼지 박스 외부의 분위기 온도(방의 온도)에 가까워지도록 온도 조정된다. 따라서, 퍼지 박스 내에서의 레이저광의 굴절 현상이 저감되고, 조사 얼룩을 저감할 수 있다.
(3) 상기 가스 공급 장치는, 상기 피처리체의 표면에 평행하게 대향 배치되는 평행 대향체와, 이 평행 대향체와 피처리체의 표면 사이에 불활성 가스가 공급되도록 피처리체를 향해 불활성 가스를 내뿜는 퍼지 유닛을 구비하고, 상기 가스 온도 조정 장치는 상기 퍼지 유닛 내부 또는 퍼지 유닛보다 상류 측 위치에서 불활성 가스의 온도를 조정한다.
상기 구성에 따르면, 어닐링 처리 중에 퍼지 유닛으로부터 피처리체에 불활성 가스가 내뿜어지고 레이저광이 불활성 가스를 통과하는데, 불활성 가스는 피처리체에 내뿜어지기 전에 퍼지 유닛 외부의 분위기 온도에 가까워지도록 온도 조정된다. 따라서, 불활성 가스 공급 영역에서의 레이저광의 굴절 현상이 저감되고, 조사 얼룩을 저감할 수 있다.
(4) 상기 가스 공급 장치는 상기 피처리체를 수용하고 내부에 불활성 가스가 도입되는 처리 챔버를 구비하고, 상기 가스 온도 조정 장치는 상기 처리 챔버보다 상류 측 위치에서 불활성 가스의 온도를 조정한다.
상기 구성에 따르면, 어닐링 처리 중에 레이저광은 처리 챔버 내부의 불활성 가스를 통과하는데, 불활성 가스는 처리 챔버에 도입되기 전에 처리 챔버 외부의 분위기 온도에 가까워지도록 온도 조정된다. 따라서, 처리 챔버 내부에서의 레이저광의 굴절 현상이 저감되고, 조사 얼룩을 저감할 수 있다.
본 발명에 따르면, 불활성 가스의 온도 요동(변동)에 따른 레이저광의 굴절 현상에 기인하는 레이저광의 조사 얼룩을 저감할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시 형태에 따른 레이저 어닐링 장치의 전체 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시 형태에 따른 레이저 어닐링 장치에 있어서의 제1 구성예의 가스 공급 장치를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시 형태에 따른 레이저 어닐링 장치에 있어서의 제2 구성예의 가스 공급 장치를 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시 형태에 따른 레이저 어닐링 장치에 있어서의 제3 구성예의 가스 공급 장치를 나타내는 도면이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 형태를 첨부 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다. 한편, 각 도면에서 공통되는 부분에는 동일한 부호를 부여하여 중복된 설명을 생략한다.
도 1은 본 발명의 실시 형태에 따른 레이저 어닐링 장치(1)의 전체 구성을 나타내는 도면이다. 레이저 어닐링 장치(1)는, 그 기본 구성 요소로서, 레이저광(2)을 출사하는 레이저 광원(3)과, 레이저 광원(3)으로부터의 레이저광(2)을 소정의 빔 형상으로 정형하는 빔 정형 광학계(4)와, 레이저광(2)을 피처리체(7)의 방향으로 반사하는 반사 미러(5)와, 반사 미러(5)로부터의 레이저광(2)을 피처리체(7)의 표면에 집광하는 집광 렌즈(6)와, 피처리체(7)를 탑재하여 레이저광(2)을 가로지르는 방향(도면의 화살표 A 방향)으로 이동시키는 이동 스테이지(9)를 구비한다.
상기의 레이저 광원(3)으로서는, 예를 들어, 엑시머 레이저, 고체 레이저 혹은 반도체 레이저를 적용하는 것이 가능하다. 고체 레이저로서는 YAG, YLF, YV04 등이 있다. 레이저광(2)은 펄스 발진, 연속 발진 중 어느 것이어도 된다.
빔 정형 광학계(4)는, 예를 들어, 레이저광(2)을 피처리체(7)의 표면에서 단면 형상이 선형 혹은 직사각형상의 빔이 되도록 정형하는 것으로 구성하는 것이 가능하며, 이 경우, 빔 확장기(beam expander), 호모지나이저(homogenizer) 등을 구성 요소로서 포함하는 것이 가능하다.
피처리체(7)는, 기판(7a)과, 그 위에 형성된 비정질 반도체막(7b)으로 이루어진다. 기판(7a)은 유리 기판이나 반도체 기판이다. 비정질 반도체막(7b)은 예를 들어, 아몰퍼스 실리콘막이다.
상기와 같이 구성된 레이저 어닐링 장치(1)에 의해, 레이저 광원(3)으로부터 레이저광(2)을 출사시키고, 빔 정형 광학계(4)에 의한 빔 정형 및 집광 렌즈(6)에 의한 집광에 의해 레이저광(2)을 선형 혹은 직사각형상의 빔으로 집광하여 피처리체(7)에 조사한다. 이 상태에서 이동 스테이지(9)의 이동에 의해 피처리체(7)를 빔의 단축 방향으로 이동시켜, 레이저 조사 부분에서 피처리체(7)의 비정질 반도체막의 전체 면을 주사한다. 이에 의해, 비정질 반도체막(7b)의 결정화를 행한다. 예를 들어, 아몰퍼스 실리콘막을 폴리 실리콘막으로 한다.
한편, 피처리체(7)에 조사되는 레이저광(2)의 빔 형상은 선형 혹은 직사각형상의 빔으로 한정되지 않지만, 선형 혹은 직사각형상의 빔으로 집광한 레이저광(2)을 그 단축 방향으로 주사함으로써, 대면적의 피처리체(7)를 효율적으로 어닐링 처리할 수 있다.
본 발명의 레이저 어닐링 장치(1)는, 또한, 적어도 피처리체(7)에 있어서의 레이저 조사 영역에 불활성 가스(G)를 공급하는 가스 공급 장치(10)와, 불활성 가스(G)의 온도를 조정하는 가스 온도 조정 장치(15)를 구비한다.
가스 공급 장치(10)로부터 공급되는 불활성 가스(G)로서, 질소, 헬륨, 네온, 아르곤, 크립톤, 제논(xenon), 라돈(radon), 우누녹튬(ununoctium) 등을 사용하는 것이 가능하다. 불활성 가스(G)는 통상적으로 레이저 어닐링 장치(1)가 설치되는 방(R)의 외부에 설치된 가스 탱크 혹은 가스봄베로부터 가스 배관(14)을 통하여 가스 공급 장치(10)에 도입된다. 이 때문에, 불활성 가스(G)의 온도는 통상적으로 방(R)의 온도와는 다르다.
가스 온도 조정 장치(15)는, 레이저 조사 영역에 공급되는 불활성 가스(G)를, 불활성 가스(G)의 공급 영역의 외측으로서 레이저광(2)의 광로를 둘러싸는 공간의 분위기 온도와 불활성 가스(G)의 온도차가 작아지도록 조정한다. 가스 온도 조정 장치(15)는 불활성 가스(G)에 대한 가열과 냉각의 양 기능을 모두 가지는 것이 바람직하다.
여기서, 불활성 가스(G)의 공급 영역의 외측으로서 레이저광(2)의 광로를 둘러싸는 공간이란, 통상적으로, 레이저 어닐링 장치(1)가 설치되는 방(R)(예를 들어, 클린 룸)이며, 그 온도란 당해 방(R)의 내부 온도이다. 방(R)의 온도는 방(R)에 설치된 온도 센서(17)로 검출된다.
온도 센서(17)로 검출된 온도는 온도 신호로 변환되어 제어 장치(16)로 송신되고, 제어 장치(16)에 의해, 불활성 가스(G)의 온도가 방(R)의 온도에 가까워지도록 가스 온도 조정 장치(15)가 제어된다.
상기 본 발명의 구성에 따르면, 가스 온도 조정 장치(15)에 의해, 레이저 조사 영역에 공급되는 불활성 가스(G)의 온도가, 불활성 가스(G)의 공급 영역의 외측으로서 레이저광(2)의 광로를 둘러싸는 공간(방(R))의 분위기 온도에 가까워지도록 조정된다.
예를 들어, 하계(夏季)에, 방(R)의 온도가 공조(空調) 장치에 의해 상대적으로 낮아지고 다른 장소에 설치된 가스 탱크로부터의 불활성 가스(G)의 온도가 상대적으로 높은 경우, 불활성 가스(G)는 가스 온도 조정 장치에 의해 냉각된다. 또한, 예를 들어, 동계(冬季)에, 방(R)의 온도가 공조 장치에 의해 상대적으로 높아지고 다른 장소에 설치된 가스 탱크로부터의 불활성 가스(G)의 온도가 상대적으로 낮은 경우, 불활성 가스(G)는 가스 온도 조정 장치에 의해 가열된다.
이에 의해, 방(R)과 불활성 가스(G)의 온도차가 작아지므로, 레이저광(2)의 굴절 현상이 저감됨으로써, 조사 얼룩을 저감할 수 있다. 한편, 방(R)과 불활성 가스(G)의 온도차는 작을수록 좋으며, 제로인 것이 가장 바람직하다. 따라서, 가스 온도 조정 장치(15)에 의해, 불활성 가스(G)의 온도가 방(R)의 온도와 일치하도록 조정하는 것이 좋다.
상기의 가스 공급 장치(10)는, 적어도 피치리체(7)에 있어서의 레이저 조사 영역에 불활성 가스(G)를 공급하는 기능을 가지는 한 다양한 형태를 채용할 수 있다. 이하, 가스 공급 장치(10)에 대하여 몇 가지 구성예를 설명하지만, 본 발명은 이들 구성예로 한정되는 것은 아니다.
도 2는, 제1 구성예의 가스 공급 장치(10A)를 나타내는 도면이다. 도 2에서 가스 공급 장치(10A)는, 도면에서 하면이 피처리체(7)의 표면에 대향 배치되고 내부에 불활성 가스(G)가 도입되는 퍼지 박스(11)를 구비한다. 퍼지 박스(11)는 레이저광(2)을 투과시켜 내부로 도입하는 투과창(12)(예를 들어, 유리창)과, 도입된 레이저광(2)을 통과시키고 또한 내부의 불활성 가스(G)를 피처리체(7)를 향해 내뿜는 개구(13)를 가진다.
이 구성에 의해, 퍼지 박스(11)의 하면과 피처리체(7) 사이에 불활성 가스(G)에 의한 퍼지 영역이 형성된다. 이 때문에, 퍼지 박스(11)의 하면은 피처리체(7)의 표면에 평행한 평면인 것이 좋으며, 퍼지 박스(11)의 하면과 피처리체(7)의 거리는 양자가 접촉하지 않는 범위에서 충분히 근접하고 있는(예를 들어, 5㎜ 이내) 것이 좋다.
가스 온도 조정 장치(15)는, 퍼지 박스(11)보다 상류 측 위치에서 불활성 가스(G)의 온도를 조정한다. 도 2에서 퍼지 박스(11)에는 불활성 가스(G)를 퍼지 박스(11)에 도입하기 위한 가스 배관(14)이 접속되어 있고, 가스 온도 조정 장치(15)는 가스 배관(14)의 중간 부위에 설치되어 있다.
가스 온도 조정 장치(15)로서는, 예를 들어, 히트 펌프식 가열 냉각 장치나, 펠티에 소자(Peltier device)를 이용한 전자식 가열 냉각 장치를 적용하는 것이 가능하며, 가열 장치로만 구성하는 경우에는 리본 히터(ribbon heater)나 가열로로 구성하는 것도 가능하다. 한편, 이 점은 후술하는 제2 구성예 및 제3 구성예에서도 마찬가지이다.
상기의 제1 구성예에서는, 레이저광(2)의 광로상에 퍼지 박스(11)가 배치되기 때문에, 어닐링 처리 중에 레이저광(2)은 퍼지 박스(11) 내부의 불활성 가스(G)를 통과하는데, 불활성 가스(G)는 퍼지 박스(11)에 도입되기 전에 퍼지 박스(11) 외부의 분위기 온도(방(R)의 온도)에 가까워지도록 온도 조정된다. 따라서, 레이저광(2)의 광로를 둘러싸는 공간의 분위기 온도와 퍼지 박스(11) 내부 및 퍼지 영역의 불활성 가스(G)의 온도의 차이가 작아져서, 퍼지 박스(11) 내부에서의 레이저광(2)의 굴절 현상이 저감되어, 조사 얼룩을 저감할 수 있다.
도 3은, 제2 구성예의 가스 공급 장치(10B)를 나타내는 도면이다. 도 3에서 가스 공급 장치(10B)는, 도면에서 하면이 피처리체(7)의 표면에 평행하게 대향 배치되는 평행 대향체(18)와, 평행 대향체(18)와 피처리체(7)의 표면 사이에 불활성 가스(G)가 공급되도록 피처리체(7)를 향해 불활성 가스(G)를 내뿜는 퍼지 유닛(22)을 구비한다.
이 구성에 의해, 평행 대향체(18)의 하면과 피처리체(7) 사이에 불활성 가스(G)에 의한 퍼지 영역이 형성된다. 이 때문에, 평행 대향체(18)의 하면은 피처리체(7)의 표면에 평행한 평면인 것이 좋으며, 평행 대향체(18)의 하면과 피처리체(7)의 거리는 양자가 접촉하지 않는 범위에서 충분히 근접하고 있는(예를 들어, 5㎜ 이내) 것이 좋다. 또한, 도 3의 구성예에서, 평행 대향체(18)는 피처리체(7)와 대향하는 하면을 형성하는 저부(19)에 레이저광(2)을 투과시키는 투과창(20)(예를 들어, 유리창)을 가진다.
퍼지 유닛(22)은, 내부에 불활성 가스(G)가 도입되는 중공 구조이며, 불활성 가스(G)를 피처리체(7)를 향해 내뿜기 위한 분출구(23)를 하부에 가진다. 도 3의 구성예에서는, 퍼지 유닛(22)은 평행 대향체(18)의 측부에 부착되어 있다.
도 3의 구성예에서 가스 온도 조정 장치(15)는 퍼지 유닛(22)보다 상류 측 위치에서 불활성 가스(G)의 온도를 조정한다. 불활성 가스(G)를 퍼지 유닛(22)에 도입하기 위한 가스 배관(14)이 퍼지 유닛(22)에 접속되어 있고, 가스 온도 조정 장치(15)는 가스 배관(14)의 중간 부위에 설치되어 있다. 혹은, 이 구성 대신에, 퍼지 유닛(22)의 내부에 가스 온도 조정 장치를 마련하여, 퍼지 유닛(22)의 내부에서 불활성 가스(G)를 가열 또는 냉각하도록 구성하는 것도 가능하다.
상기의 제2 구성예에서는, 어닐링 처리 중에 퍼지 유닛(22)으로부터 피처리체(7)에 불활성 가스(G)가 내뿜어지고, 레이저광이 불활성 가스(G)를 통과하는데, 불활성 가스(G)는 피처리체(7)에 내뿜어지기 전에 퍼지 유닛(22) 외부의 공간(방(R))의 분위기 온도에 가까워지도록 온도 조정된다. 따라서, 레이저광(2)의 광로를 둘러싸는 공간의 분위기 온도와 퍼지 영역 내부의 불활성 가스(G)의 온도의 차이가 작아져서, 불활성 가스(G) 공급 영역에서의 레이저광(2)의 굴절 현상이 저감되어, 조사 얼룩을 저감할 수 있다.
도 4는, 제3 구성예의 가스 공급 장치(10C)를 나타내는 도면이다. 도 4에서 가스 공급 장치(10C)는, 피처리체(7)를 수용하고 내부에 불활성 가스(G)가 도입되는 처리 챔버(25)를 구비한다. 처리 챔버(25)에는 내부의 가스를 배기하기 위한 도시하지 않은 배기 장치가 접속되어 있다.
처리 챔버(25)에 있어서, 내부에는 이동 스테이지(9)가 설치되어 있고, 상부에는 레이저광(2)을 투과시키기 위한 투과창(26)(예를 들어, 유리창)이 마련되어 있어, 투과창(26)으로부터 레이저광(2)을 처리 챔버(25) 내부로 도입하여 피처리체(7)에 조사할 수 있게 되어 있다.
가스 온도 조정 장치(15)는, 처리 챔버(25)보다 상류 측 위치에서 불활성 가스(G)의 온도를 조정한다. 불활성 가스(G)를 처리 챔버(25)에 도입하기 위한 가스 배관(14)이 처리 챔버(25)에 접속되어 있고, 가스 온도 조정 장치(15)는 가스 배관(14)의 중간 부위에 설치되어 있다.
상기의 제3 구성예에서는, 처리 챔버(25) 내부의 공기를 배기함과 함께, 처리 챔버(25) 내부로 불활성 가스(G)를 도입함으로써, 처리 챔버(25) 내부가 불활성 가스(G)로 가득 채워진다. 어닐링 처리 중에 레이저광(2)은 처리 챔버(25) 내부의 불활성 가스(G)를 통과하는데, 불활성 가스(G)는 처리 챔버(25)에 도입되기 전에 처리 챔버(25) 외부의 공간(방(R))의 분위기 온도에 가까워지도록 온도 조정된다. 따라서, 레이저광(2)의 광로를 둘러싸는 공간의 분위기 온도와 처리 챔버(25) 내부의 불활성 가스(G)의 온도의 차이가 작아져서, 처리 챔버(25) 내부에서의 레이저광(2)의 굴절 현상이 저감되어, 조사 얼룩을 저감할 수 있다.
이상 본 발명의 실시 형태에 대하여 설명하였지만, 상기에 개시된 본 발명의 실시 형태는 어디까지나 예시로서, 본 발명의 범위는 이들 발명의 실시 형태로 한정되지 않는다. 본 발명의 범위는 특허 청구의 범위의 기재에 의해 나타나고, 또한 특허 청구의 범위의 기재와 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경을 포함하는 것이다.

Claims (4)

  1. 피처리체에 레이저광을 조사함으로써 피처리체를 어닐링 처리하는 레이저 어닐링 장치로서,
    적어도 피처리체에 있어서의 레이저 조사 영역에 불활성 가스를 공급하는 가스 공급 장치와,
    불활성 가스의 온도를 조정하는 가스 온도 조정 장치를 구비하고,
    상기 가스 공급 장치는, 상기 피처리체의 표면에 평행하게 대향 배치되는 평행 대향체와, 상기 평행 대향체와 피처리체의 표면 사이에 불활성 가스가 공급되도록 피처리체를 향해 불활성 가스를 내뿜는 퍼지 유닛을 구비하고,
    상기 가스 온도 조정 장치는, 불활성 가스의 온도와, 상기 불활성 가스의 공급 영역의 외측으로서 레이저광의 광로를 둘러싸는 공간의 분위기 온도의 온도차가 작아지도록, 상기 퍼지 유닛 내부 또는 퍼지 유닛보다 상류 측 위치에서, 레이저 조사 영역에 공급되는 상기 불활성 가스의 온도를 조정하는 것을 특징으로 하는 레이저 어닐링 장치.
  2. 피처리체에 레이저광을 조사함으로써 피처리체를 어닐링 처리하는 레이저 어닐링 장치로서,
    적어도 피처리체에 있어서의 레이저 조사 영역에 불활성 가스를 공급하는 가스 공급 장치와,
    불활성 가스의 온도를 조정하는 가스 온도 조정 장치를 구비하고,
    상기 가스 공급 장치는, 상기 피처리체를 수용하고 내부에 불활성 가스가 도입되는 처리 챔버를 구비하고,
    상기 가스 온도 조정 장치는, 불활성 가스의 온도와, 상기 불활성 가스의 공급 영역의 외측으로서 레이저광의 광로를 둘러싸는 공간의 분위기 온도의 온도차가 작아지도록, 상기 처리 챔버보다 상류 측 위치에서, 레이저 조사 영역에 공급되는 상기 불활성 가스의 온도를 조정하는 것을 특징으로 하는 레이저 어닐링 장치.
  3. 삭제
  4. 삭제
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