KR101142293B1 - 벤조플루오렌 화합물 및 그 용도 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 높은 정공 수송 능력과 유리전이온도를 지니면서도 장기 내구성이 있는 신규한 재료를 얻기 위한 것이다. 따라서, 본 발명에 의하면, 하기 일반식 (1)로 표시되는 벤조플루오렌 화합물을 이용한다:
[일반식 (1)]
Figure 112008069313981-pct00051
(식 중, M은 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 5 내지 40의 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기이고, Ar1 내지 Ar4는 각각 독립적으로 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 5 내지 40의 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기이다. 단, Ar1 내지 Ar4 중 적어도 1개는 하기 일반식 (2) 내지 (5) 중 어느 하나로 표시되는 치환기이다. p는 0 내지 2의 정수이다.)
[일반식 (2) 내지 (5)]
Figure 112008069313981-pct00052
(식 중, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 혹은 무치환의 아미노기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알킬기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알콕시기, 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴옥시기이다. 또한, R1과 R2는 서로 결합해서 고리를 형성해도 된다).
벤조플루오로렌 화합물, 유기 전계 발광 소자, 정공 수송 능력, 내구성

Description

벤조플루오렌 화합물 및 그 용도{BENZOFLUORENE COMPOUND AND USE THEREOF}
본 발명은 신규한 벤조플루오렌 화합물 및 그 용도, 특히 유기 전계 발광 소자(이하, "유기 EL 소자"라고도 칭함)에 관한 것이다. 벤조플루오렌 화합물은, 감광 재료, 유기 광 도전 재료로서 사용할 수 있고, 더욱 구체적으로는, 평면 광원이나 표시에 사용되는 유기 EL 소자 혹은 전자사진 감광체 등의 정공 수송, 정공 주입 재료 및 발광 재료로서 이용할 수 있다.
감광 재료나 정공 수송 재료로서 개발되어 있는 유기 광 도전 재료는 저비용, 가공성이 다양하며, 또 무공해성 등의 많은 이점이 있어, 많은 화합물이 제안되어 있다. 예를 들어, 옥사다이아졸 유도체(예를 들어, 특허 문헌 1 참조), 옥사졸 유도체(예를 들어, 특허 문헌 2 참조), 하이드라존 유도체(예를 들어, 특허 문헌 3 참조), 트라이아릴피라졸린 유도체(예를 들어, 특허 문헌 4, 5 참조), 아릴아민 유도체(예를 들어, 특허 문헌 6, 7 참조), 스틸벤 유도체(예를 들어, 특허 문헌 8, 9 참조) 등의 재료가 개시되어 있다.
그 중에서도, 4,4',4"-트리스[N,N-(1-나프틸)페닐아미노]트라이페닐아민(1-TNATA), 4,4',4"-트리스[N,N-(m-톨릴)페닐아미노]트라이페닐아민(MTDATA) 등의 스타버스트계 재료, 4,4'-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐아미노]바이페닐(NPD), 4,4'-비 스[N-(m-톨릴)-N-페닐아미노]바이페닐(TPD) 등의 바이페닐계 아릴아민 유도체가 정공 수송 재료 또는 정공 주입 재료로서 많이 사용되고 있다(예를 들어, 비특허 문헌 1, 2 참조).
또, 플루오렌 골격을 부분 구조로서 이용한 아릴아민 화합물도 제안되어 있다(예를 들어, 특허 문헌 10, 11 참조).
또한, 본 특허와 같은 벤조플루오렌 골격을 가지는 유기 전계 발광 재료도 제안되어 있지만(예를 들어, 특허 문헌 12 참조), 벤조플루오레닐기에 직접 아미노기가 결합한 화합물의 기재는 없다. 게다가, 특허 문헌 12에 있어서, 특히 벤조플루오레닐기를 지니는 폴리머 재료가 발광 재료로서 유용하다라는 기재는 있지만, 정공 수송 재료 및 정공 주입 재료로서 유용하다라는 기재는 없다.
특허 문헌 1: 미국 특허 제3,189,447호 명세서(특허청구범위)
특허 문헌 2:미국 특허 제3,257,203호 명세서(특허청구범위)
특허 문헌 3: 일본국 공개 특허 소54-59143호 공보(특허청구범위)
특허 문헌 4: 일본국 공개 특허 소51-93224호 공보(특허청구범위)
특허 문헌 5:일본국 공개 특허 소55-108667호 공보(특허청구범위)
특허 문헌 6:일본국 공개 특허 소55-144250호 공보(특허청구범위)
특허 문헌 7:일본국 공개 특허 소56-119132호 공보(특허청구범위)
특허 문헌 8: 일본국 공개 특허 소58-190953호 공보(특허청구범위)
특허 문헌 9: 일본국 공개 특허 소59-195658호 공보(특허청구범위)
특허 문헌 10:일본국 공개 특허 평11-35532호 공보(특허청구범위)
특허 문헌 11: 일본국 공개 특허 평10-95972호 공보(특허청구범위)
특허 문헌 12: 국제공개 제2004/61048호 팜플렛(특허청구범위)
비특허 문헌 1: 「Advanced Materials」, 독일, 1998년, 제10권, 제14호, p1108-1112(도 1, 표 1)
비특허 문헌 2: 「Journal of Luminescence」, 네덜란드, 1997년, 72-74, p985-991(도 1).
발명의 개시
발명이 해결하고자 하는 과제
그러나, 이들 재료는 안정성이나 내구성이 부족하다고 하는 등의 난점을 가지고 있어, 실용상 충분히 만족할 수 있는 재료라고는 말하기 곤란하다. 예를 들어, 대표적인 정공 수송 재료이고, 현상황의 효율 등에서 우수한 NPD는 유리전이온도가 낮기 때문에, 소자 수명의 관점에서는 유기 전계 발광 소자의 돌연사 등의 문제를 포함하고 있어, 문제로 되고 있다. 또한, 최근 액티브 매트릭스 구동의 유기 전계 발광 소자의 실용화 검토가 활발히 진행되고 있지만, 그때의 요구 특성은 더 한층의 저전압 구동이다. 그것에 대해서는, NPD에서는 충분히 만족할 수 있는 것에 이르지 못하고 있다. 따라서, 더 한층의 저전압 구동 및 장기 수명화를 실현하기 위한 재료의 개발이 매우 요망되고 있다.
본 발명의 목적은, 종래 재료 이상으로 저전압 구동과 장기 내구성을 지니는 신규한 재료를 제공하는 것에 있다. 더욱 상세하게는, 유기 EL 소자 등의 정공 주입 재료, 정공 수송 재료 및 발광 재료에 적합한 신규한 벤조플루오렌 화합물을 제공하는 것에 있다.
과제를 해결하기 위한 수단
본 발명자들은 예의 검토한 결과, 일반식 (1)로 표시되는 벤조플루오렌 화합물이 효율 및 내구성의 면에서 매우 우수한 것을 찾아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명은 일반식 (1)로 표시되는 벤조플루오렌 화합물 및 그 용도에 관한 것이다. 본 발명의 구성을 하기에 기재한다.
[1]. 하기 일반식 (1)로 표시되는 벤조플루오렌 화합물:
[일반식 (1)]
Figure 112008069313981-pct00001
(식 중, M은 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 5 내지 40의 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기이고, Ar1 내지 Ar4는 각각 독립적으로 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 5 내지 40의 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기이다. 단, Ar1 내지 Ar4 중 적어도 1개는 하기 일반식 (2) 내지 (5) 중 어느 하나로 표시되는 치환기이다. p는 0 내지 2의 정수이다.)
[일반식 (2) 내지 (5)]
Figure 112008069313981-pct00002
(식 중, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 혹은 무치환의 아미노기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상(고리 형상)의 알킬기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알콕시기, 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴옥시기이다. 또한, R1과 R2는 서로 결합해서 고리를 형성해도 된다).
[2]. 하기 일반식 (1)로 표시되는 벤조[c]플루오렌 화합물:
[일반식 (1)]
Figure 112008069313981-pct00003
(식 중, M은 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 5 내지 40의 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기이며, Ar1 내지 Ar4는 각각 독립적으로 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 5 내지 40의 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기이다. 단, Ar1 내지 Ar4 중 적어도 1개는 하기 일반식 (2)로 표시되는 치환기이다. p는 0 내지 2의 정수이다.)
[일반식 (2)]
Figure 112008069313981-pct00004
(식 중, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 혹은 무치환의 아미노기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알킬기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알콕시기, 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴옥시기이다. 또한, R1과 R2는 서로 결합해서 고리를 형성해도 된다).
[3]. 상기 [2]항에 기재된 상기 일반식 (2)는 하기 일반식 (2')인 것을 특징으로 하는, 일반식 (1)로 표시되는 벤조[c]플루오렌 화합물:
[일반식 (2')]
Figure 112008069313981-pct00005
(식 중, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 혹은 무치환의 아미노기, 직쇄, 분지 혹은 환상의 알킬기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알콕시기, 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴옥시기이다. 또한, R1과 R2는 서로 결합해서 고리를 형성해도 된다).
[4]. 상기 [1]항에 있어서, 상기 일반식 (1)에 있어서, M은 1치환, 2치환 혹은 3치환의 벤젠 골격, 바이페닐 골격, 플루오렌 골격, 터페닐 골격, 나프탈렌 골격 또는 스피로플루오렌 골격으로부터 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 벤조플루오렌 화합물.
[5]. 상기 일반식 (1)에 있어서, p는 1이고, 또, M이 2치환의 바이페닐 골격인 것을 특징으로 하는 하기 일반식 (6)으로 표시되는 벤조플루오렌 화합물:
[일반식 (6)]
Figure 112008069313981-pct00006
(식 중, R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 혹은 무치환의 아미노기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알킬기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알콕시기, 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴옥시기이며, Ar1 내지 Ar4는 상기 일반식 (1)에서 나타낸 정의와 같다).
[6]. 하기 일반식 (7) 내지 (10) 중 어느 하나로 표시되는 벤조플루오렌 화합물:
[일반식 (7) 내지 (10)]
Figure 112008069313981-pct00007
(식 중, R7, R8, R11 및 R12는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 혹은 무치환의 아미노기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알킬기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알콕시기, 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴옥시기이며, R9 및 R10은 탄소수 1 내지 6의 알킬렌기, 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴렌기를 나타낸다. Ar5는 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 5 내지 40의 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기를 나타낸다).
[7]. 하기 일반식 (11) 내지 (14) 중 어느 하나로 표시되는 할로벤조플루오렌 화합물:
[일반식 (11) 내지 (14)]
Figure 112008069313981-pct00008
(식 중, X는 요오드 원자, 브롬 원자 또는 염소 원자를 나타낸다. R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 혹은 무치환의 아미노기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알킬기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알콕시기, 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴옥시기이다. 또한, R1과 R2는 서로 결합해서 고리를 형성해도 된다).
[8]. 상기 [1] 및 [4]항 내지 [6]항 중 어느 한 항에 기재된 벤조플루오렌 화합물을 발광층, 정공 수송층 또는 정공 주입층 중 어느 하나에 이용하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
발명의 효과
본 발명에 의한 상기 일반식 (1)로 표시되는 벤조플루오렌 화합물은, 종래의 재료 이상으로 저전압 구동과 높은 전력 효율, 또 높은 유리전이온도를 가지므로 소자 수명의 개선을 기대할 수 있다. 그 때문에, 유기 EL 소자 혹은 전자사진 감광체 등의 정공 수송 재료, 정공 주입 재료 또는 발광 재료 등으로서 이용할 수 있다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
이하, 본 발명에 관하여 상세하게 설명한다.
일반식 (1)로 표시되는 벤조플루오렌 화합물에 있어서, M은 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 5 내지 40의 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기이다. 아릴기의 예로서는, 1치환, 2치환 혹은 3치환의 벤젠 골격, 바이페닐 골격, 터페닐 골격, 나프탈렌 골격, 플루오렌 골격, 스피로플루오렌 골격, 피렌 골격 등을 들 수 있다.
헤테로아릴기의 예로서는 1치환, 2치환 혹은 3치환의 카바졸 골격, 옥사졸 골격, 옥사다이아졸 골격, 티아졸 골격 등을 들 수 있다. 또, M은 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 알킬기; 불소 원자, 염소 원자, 요오드 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자; 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기; 페닐기, 나프틸기, 바이페닐기 등의 아릴기; 피리딜기, 티에닐기, 카바조일기 등의 헤테로아릴기 등의 치환기를 가지고 있어도 된다.
그 중에서도, M이 2치환의 벤젠 골격, 바이페닐 골격, 플루오렌 골격, 터페닐 골격, 나프탈렌 골격 또는 스피로플루오렌 골격인 상기 일반식 (4)로 표시되는 벤조플루오렌 화합물이 저전압화를 실현하기 위한 하나의 요인인 정공 이동도가 높다고 하는 점에서 바람직하다.
일반식 (1)에 있어서, Ar1 내지 Ar4는 각각 독립적으로 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 5 내지 40의 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기이다. 단, Ar1 내지 Ar4 중 적어도 1개는 하기 일반식 (2) 내지 (5) 중 어느 하나로 표시되는 치환기이다.
[일반식 (2) 내지 (5)]
Figure 112008069313981-pct00009
(식 중, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 혹은 무치환의 아미노기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알킬기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알콕시기, 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴옥시기이다. 또한, R1과 R2는 서로 결합해서 고리를 형성해도 된다).
Ar1 내지 Ar4에 있어서의 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기로서는, 구체적으로 예를 들면 페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 2-안트릴기,
9-안트릴기, 2-플루오레닐기, 4-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 2-메틸페닐기,
4-에틸페닐기, 3-에틸페닐기, 2-에틸페닐기, 4-n-프로필페닐기,
4-아이소프로필페닐기, 2-아이소프로필페닐기, 4-n-부틸페닐기,
4-아이소부틸페닐기, 4-sec-부틸페닐기, 2-sec-부틸페닐기, 4-tert-부틸페닐기,
3-tert-부틸페닐기, 2-tert-부틸페닐기, 4-n-펜틸페닐기, 4-아이소펜틸페닐기,
2-네오펜틸페닐기, 4-tert-펜틸페닐기, 4-n-헥실페닐기, 4-(2'-에틸부틸)페닐기,
4-n-헵틸페닐기, 4-n-옥틸페닐기, 4-(2'-에틸헥실)페닐기, 4-tert-옥틸페닐기,
4-n-데실페닐기, 4-n-도데실페닐기, 4-n-테트라데실페닐기, 4-사이클로펜틸페닐기,
4-사이클로헥실페닐기, 4-(4'-메틸사이클로헥실)페닐기,
4-(4'-tert-부틸사이클로헥실)페닐기, 3-사이클로헥실페닐기,
2-사이클로헥실페닐기, 4-에틸-1-나프틸기, 6-n-부틸-2-나프틸기,
2,4-다이메틸페닐기, 2,5-다이메틸페닐기, 3,4-다이메틸페닐기,
3,5-다이메틸페닐기, 2,6-다이메틸페닐기, 2,4-다이에틸페닐기,
2,3,5-트라이메틸페닐기, 2,3,6-트라이메틸페닐기, 3,4,5-트라이메틸페닐기,
2,6-다이에틸페닐기, 2,5-다이아이소프로필페닐기, 2,6-다이아이소부틸페닐기,
2,4-다이-tert-부틸페닐기, 2,5-다이-tert-부틸페닐기,
4,6-다이-tert-부틸-2-메틸페닐기, 5-tert-부틸-2-메틸페닐기,
4-tert-부틸-2,6-다이메틸페닐기, 9-메틸-2-플루오레닐기,
9-에틸-2-플루오레닐기, 9-n-헥실-2-플루오레닐기, 9,9-다이메틸-2-플루오레닐기,
9,9-다이에틸-2-플루오레닐기, 9,9-다이-n-프로필-2-플루오레닐기,
4-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 2-메톡시페닐기, 4-에톡시페닐기,
3-에톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 4-n-프로폭시페닐기, 3-n-프로폭시페닐기,
4-아이소프로폭시페닐기, 2-아이소프로폭시페닐기, 4-n-부톡시페닐기,
4-아이소부톡시페닐기, 2-sec-부톡시페닐기, 4-n-펜틸옥시페닐기,
4-아이소펜틸옥시페닐기, 2-아이소펜틸옥시페닐기, 4-네오펜틸옥시페닐기,
2-네오펜틸옥시페닐기, 4-n-헥실옥시페닐기, 2-(2'-에틸부틸)옥시페닐기,
4-n-옥틸옥시페닐기, 4-n-데실옥시페닐기, 4-n-도데실옥시페닐기,
4-n-테트라데실옥시페닐기, 4-사이클로헥실옥시페닐기, 2-사이클로헥실옥시페닐기,
2-메톡시-1-나프틸기, 4-메톡시-1-나프틸기, 4-n-부톡시-1-나프틸기,
5-에톡시-1-나프틸기, 6-메톡시-2-나프틸기, 6-에톡시-2-나프틸기,
6-n-부톡시-2-나프틸기, 6-n-헥실옥시-2-나프틸기, 7-메톡시-2-나프틸기,
7-n-부톡시-2-나프틸기, 2-메틸-4-메톡시페닐기, 2-메틸-5-메톡시페닐기,
3-메틸-4-메톡시페닐기, 3-메틸-5-메톡시페닐기, 3-에틸-5-메톡시페닐기,
2-메톡시-4-메틸페닐기, 3-메톡시-4-메틸페닐기, 2,4-다이메톡시페닐기,
2,5-다이메톡시페닐기, 2,6-다이메톡시페닐기, 3,4-다이메톡시페닐기,
3,5-다이메톡시페닐기, 3,5-다이에톡시페닐기, 3,5-다이-n-부톡시페닐기,
2-메톡시-4-에톡시페닐기, 2-메톡시-6-에톡시페닐기, 3,4,5-트라이메톡시페닐기,
4-페닐페닐기, 3-페닐페닐기, 2-페닐페닐기, 4-(4'-메틸페닐)페닐기,
4-(3'-메틸페닐)페닐기, 4-(4-메톡시페닐)페닐기, 4-(4'-n-부톡시페닐)페닐기,
2-(2'-메톡시페닐)페닐기, 4-(4'-클로로페닐)페닐기, 3-메틸-4-페닐페닐기,
3-메톡시-4-페닐페닐기, 9-페닐-2-플루오레닐기, 4-플루오로페닐기,
3-플루오로페닐기, 2-플루오로페닐기, 4-클로로페닐기, 3-클로로페닐기,
2-클로로페닐기, 4-브로모페닐기, 2-브로모페닐기, 4-클로로-1-나프틸기,
4-클로로-2-나프틸기, 6-브로모-2-나프틸기, 2,3-다이플루오로페닐기,
2,4-다이플루오로페닐기, 2,5-다이플루오로페닐기, 2,6-다이플루오로페닐기,
3,4-다이플루오로페닐기, 3,5-다이플루오로페닐기, 2,3-다이클로로페닐기,
2,4-다이클로로페닐기, 2,5-다이클로로페닐기, 3,4-다이클로로페닐기,
3,5-다이클로로페닐기, 2,5-다이브로모페닐기, 2,4,6-트라이클로로페닐기,
2,4-다이클로로-1-나프틸기, 1,6-다이클로로-2-나프틸기,
2-플루오로-4-메틸페닐기, 2-플루오로-5-메틸페닐기, 3-플루오로-2-메틸페닐기,
3-플루오로-4-메틸페닐기, 2-메틸-4-플루오로페닐기, 2-메틸-5-플루오로페닐기,
3-메틸-4-플루오로페닐기, 2-클로로-4-메틸페닐기, 2-클로로-5-메틸페닐기,
2-클로로-6-메틸페닐기, 2-메틸-3-클로로페닐기, 2-메틸-4-클로로페닐기,
3-클로로-4-메틸페닐기, 3-메틸-4-클로로페닐기, 2-클로로-4,6-다이메틸페닐기,
2-메톡시-4-플루오로페닐기, 2-플루오로-4-메톡시페닐기,
2-플루오로-4-에톡시페닐기, 2-플루오로-6-메톡시페닐기,
3-플루오로-4-에톡시페닐기, 3-클로로-4-메톡시페닐기, 2-메톡시-5-클로로페닐기,
3-메톡시-6-클로로페닐기, 5-클로로기-2,4-다이메톡시페닐기 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.
Ar1 내지 Ar4에 있어서의 탄소수 5 내지 40의 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기로서는, 산소 원자, 질소 원자 및 황 원자로부터 선택되는 적어도 하나의 헤테로원자를 함유하는 방향환 기이며, 예를 들어, 4-퀴놀릴기, 4-피리딜기, 3-피리딜기, 2-피리딜기, 3-푸릴기, 2-푸릴기, 3-티에닐기, 2-티에닐기, 2-옥사졸릴기, 2-티아졸릴기, 2-벤조옥사졸릴기, 2-벤조티아졸릴기, 2-벤조이미다졸릴기 등의 복소환기를 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.
일반식 (2) 내지 (5)에 있어서, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 혹은 무치환의 아미노기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알킬기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알콕시기, 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴옥시기이다. 또한, R1과 R2는 서로 결합해서 고리를 형성해도 된다.
R1 내지 R4에 있어서의 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알킬기로서는, 탄소수 1 내지 18의 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알킬기를 들 수 있고, 구체적으로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 스테아릴기, 트라이클로로메틸기, 트라이플루오로메틸기, 사이클로프로필기, 사이클로헥실기, 1,3-사이클로헥사다이에닐기, 2-사이클로펜텐-1-일기 등을 들 수 있다.
R1 내지 R4에 있어서의 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알콕시기로서는, 탄소수 1 내지 18의 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알콕시기를 들 수 있고, 구체적으로는 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 아이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 스테아릴옥시기, 트라이플루오로메톡시기 등을 예시할 수 있다.
R1 내지 R4에 있어서의 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기로서는, 구체적으로는, 페닐기, 4-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 2-메틸페닐기, 4-에틸페닐기,
3-에틸페닐기, 2-에틸페닐기, 4-n-프로필페닐기, 4-n-부틸페닐기,
4-아이소부틸페닐기, 4-tert-부틸페닐기, 4-사이클로펜틸페닐기,
4-사이클로헥실페닐기, 2,4-다이메틸페닐기, 3,5-다이메틸페닐기,
3,4-다이메틸페닐기, 4-(1-나프틸)페닐기, 4-(9-안트릴)페닐기,
4-(10-페닐-9-안트릴)페닐기, 4-바이페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기,
9-페난트릴기, 9-안트릴기, 10-페닐-9-안트릴기, 10-바이페닐-9-안트릴기,
9,9-다이메틸-플루오렌-2-일기, 7-페닐-9,9-다이메틸-플루오렌-2-일기 등 외에,
상기 Ar1 내지 Ar4에서 예시한 치환기를 들 수도 있다.
또한, R1 내지 R4에 있어서의 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴옥시기로서는, 구체적으로는, 페녹시기, p-tert-부틸페녹시기, 3-플루오로페녹시기, 4-플루오로페녹시기 등을 들 수 있다.
R1 내지 R4에 있어서의 할로겐 원자로서는, 불소, 염소, 브롬 또는 요오드 원자를 들 수 있다.
R1 내지 R4에 있어서의 치환 혹은 무치환의 아미노기로서는, 메틸아미노기,
에틸아미노기, 페닐아미노기, m-톨릴아미노기, p-톨릴아미노기, 1-나프틸아미노기,
2-나프틸아미노기, 4-바이페닐아미노기 등의 모노치환 아미노기,
다이메틸아미노기, 다이에틸아미노기, 다이프로필아미노기, 다이부틸아미노기,
다이페닐아미노기, 다이(m-톨릴)아미노기, 다이(p-톨릴)아미노기,
N-(m-톨릴)페닐아미노기, N-(p-톨릴)페닐아미노기, N-(1-나프틸)페닐아미노기,
N-(2-나프틸)페닐아미노기, N-(4-바이페닐)페닐아미노기,
다이(4-바이페닐)아미노기, 다이(2-나프틸)아미노기, 비스(아세톡시메틸)아미노기,
비스(아세톡시에틸)아미노기, 비스(아세톡시프로필)아미노기,
비스(아세톡시부틸)아미노기, 다이벤질아미노기 등을 예시할 수 있지만,
상기 치환기로 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 바람직한 구체예로서는, 상기 일반식 (1)에 있어서, p가 1이며, M이 2치환의 바이페닐 골격, 터페닐 골격인 벤조플루오렌 화합물이다. 보다 바람직하게는, M이 2치환의 바이페닐 골격인 상기 일반식 (6)으로 표시되는 벤조플루오렌 화합물이다.
더욱 바람직한 구체예로서는, 상기 일반식 (6)에 있어서, Ar1 또는 Ar2 중 어느 하나와 Ar3 또는 Ar4 중 어느 하나가 상기 일반식 (2) 내지 (5)로 표시되는 기인 벤조플루오렌 화합물이다. 보다 바람직하게는, 상기 일반식 (6)에 있어서, Ar1=Ar3, Ar2=Ar4를 충족시키고, Ar1 또는 Ar2 중 어느 하나가 상기 일반식 (2) 내지 (5)인 벤조플루오렌 화합물이다.
또, 상기 일반식 (2) 내지 (5)에 있어서, R1과 R2는 서로 결합해서 고리를 형성해도 된다. 구체적으로는, 하기 일반식 (7) 내지 (10) 중 어느 하나로 표시되는 벤조플루오렌 화합물을 들 수 있고, 특히, 이 화합물은 소자의 효율 및 내구성의 면에서 바람직하다.
상기 일반식 (2) 내지 (5)로 표시되는 치환기 중, 상기 일반식 (2)로 표시되는 치환기를 부분 구조로서 지니는 벤조플루오렌 화합물을 용이하게 합성할 수 있는 점에서 바람직하다. 그 중에서도, 하기 일반식 (2')로 표시되는 치환기를 부분 구조로서 지니는 벤조플루오렌 화합물이 특히 바람직하다.
[일반식 (2')]
Figure 112008069313981-pct00010
(식 중, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 혹은 무치환의 아미노기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알킬기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알콕시기, 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴옥시기이다. 또한, R1과 R2는 서로 결합해서 고리를 형성해도 된다.)
[일반식 (7) 내지 (10)]
Figure 112008069313981-pct00011
(식 중, R7, R8, R11 및 R12는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 혹은 무치환의 아미노기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알킬기, 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알콕시기, 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴옥시기이며, R9 및 R10은 탄소수 1 내지 6의 알킬렌기, 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴렌기를 나타낸다. Ar5는 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 5 내지 40의 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기를 나타낸다).
상기 일반식 (7) 내지 (10)으로 표시되는 벤조플루오렌 화합물에 있어서, R7, R8, R11 및 R12는 상기 일반식 (2) 내지 (6)으로 표시되는 R3 내지 R6와 동일한 치환기를 들 수 있다. R9 및 R10으로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 트라이메틸렌기, 테트라에틸렌기 등의 알킬렌기, 페닐렌기, 나프탈렌기 등의 아릴렌기를 들 수 있다. Ar5에 있어서의 탄소수 6 내지 40의 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 탄소수 5 내지 40의 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기로서는, 상기 일반식 (1)로 표시되는 M과 동일한 치환기를 들 수 있다.
이하에, 바람직한 화합물을 예시하지만, 이들 화합물로 한정되는 것은 아니다.
Figure 112008069313981-pct00012
Figure 112008069313981-pct00013
Figure 112008069313981-pct00014
Figure 112008069313981-pct00015
Figure 112008069313981-pct00016
Figure 112008069313981-pct00017
Figure 112008069313981-pct00018
Figure 112008069313981-pct00019
Figure 112008069313981-pct00020
Figure 112008069313981-pct00021
Figure 112008069313981-pct00022
Figure 112008069313981-pct00023
Figure 112008069313981-pct00024
Figure 112008069313981-pct00025
상기 일반식 (1)로 표시되는 벤조플루오렌 화합물은, 공지된 방법(TetrahedronLetters, 39, 2367(1998))에 의해 합성할 수 있다. 예를 들어, M이 바이페닐인 하기 일반식 (15)로 표시되는 다이할로바이페닐 화합물과 하기 일반식 (16) 내지 (19) 중 어느 하나로 표시되는 아민 화합물을 염기의 존재 하, 구리 촉매 또는 팔라듐 촉매를 이용해서 반응시켜, 합성할 수 있다:
[일반식 (15)]
Figure 112008069313981-pct00026
(식 중, X는 할로겐 원자를 나타내고, R13 및 R14은 상기 일반식 (6)에서 나타낸 R5 및 R6와 동일한 치환기를 나타낸다.)
[일반식 (16) 내지 (19)]
Figure 112008069313981-pct00027
(식 중, R15 내지 R18은 상기 일반식 (2)에서 나타낸 R1 내지 R4와 동일한 치환기를 나타낸다).
본 발명의 벤조플루오렌 화합물은, 종래의 재료 이상으로 구동 전압의 개선과 높은 전력 효율이 기대된다. 또, 높은 유리전이온도를 지니기 때문에 소자 수명의 개선도 기대할 수 있다. 따라서, 유기 EL 소자 혹은 전자사진 감광체 등의 정공 주입 재료, 정공 수송 재료 또는 발광 재료로서 뿐만 아니라, 광전변환소자, 태양 전지, 이미지 센서 등의 유기 광 도전 재료의 분야에도 응용할 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예에 의거해서, 더욱 상세하게 설명한다.
또, 실시예에서 얻어진 화합물의 동정은 1H-NMR 측정, 13C-NMR 측정 및 FDMS 측정에 의해 행하였다.
1H-NMR 측정, 13C-NMR 측정 및 FDMS 측정은 각각 바리안사(Varian) 제품인 Gemini200, 히타치세이사쿠쇼 제품인 M-80B를 사용해서 실시하였다.
합성예 1 (화합물 1a의 합성[하기 반응식 1 참조])
300㎖ 가지형 플라스크에, 다이아이소프로필아민 46.0g(455mmol) 및 다이클로로메탄 150㎖를 첨가하고, 반응액을 5℃ 이하로 냉각하였다. 2-브로모벤조일클로라이드 25g(114 mmol)을 반응온도가 5℃를 넘지 않도록 적하한 후, 실온 하 하룻밤 교반하였다. 반응액을 상압 농축시키고, 다이클로로메탄 또는 과잉의 다이아이소프로필아민을 증류 제거한 후, 톨루엔 및 물을 가해서 추출하였다. 유기층은 포화 식염수로 세정 후, 무수 황산마그네슘에 의해서 건조시키고, 농축시켜 2-브로모-N,N'-다이아이소프로필벤즈아마이드를 무색 결정으로서 단리하였다. 또, 생성물은 정제하지 않고, 그대로 다음 반응에 이용하였다.
다음에, 200㎖ 가지형 플라스크에, 얻어진 2-브로모-N,N'-다이아이소프로필 벤즈아마이드 7.5g(26.3mmol), 1-나프틸보론산 5.1g(29.1mmol), 테트라키스(트라이페닐포스핀)팔라듐 150㎎(0.13mmol), 20중량%의 탄산나트륨 수용액 38.5g 및 테트라하이드로퓨란 60㎖를 가하고, 환류 하 하룻밤 가열 교반시켰다. 실온까지 냉각 후, 물을 가하여 추출하였다. 얻어진 유기층은 포화 식염수에 의한 세정, 무수 황산마그네슘에 의한 건조 처리 후, 농축시켜 담갈색의 결정을 얻었다. 또한, 실리카겔 크로마토그래피(용매: 헥산/톨루엔)를 이용해서 정제하고, 무색의 결정 7.1g(수율 82%)을 단리하였다. 1H-NMR 측정에 의해 목적물인 것을 확인하였다.
다음에, 200㎖ 가지형 플라스크에, 앞서 얻어진 2-(1-나프틸)-N,N'-다이아이소프로필벤즈아마이드 4.0g(12mmol) 및 테트라하이드로퓨란 30㎖를 첨가하였다. 용해시킨 후, 반응액을 -78℃까지 냉각시키고, 리튬 다이아이소프로필아마이드(1.5M 사이클로헥산 용액) 16㎖를 적하하였다.
적하 종료 후, 온도를 유지하면서 3시간 교반하고, 또, 실온 하에 하룻밤 교반하였다.
상법 처리 후, 실리카겔 크로마토그래피(용매: 헥산/톨루엔)에 의해 무색의 결정 1.5g(수율 54%)을 화합물 1a로서 단리하였다. 융점은 158 내지 160℃이며, 문헌값(J. Org. Chem., 56, 5, 1683(1991))과 일치한 점으로부터, 벤조[c]플루오레논이라 동정하였다.
다음에, 벤조[c]플루오레논 3.0g(13mmol), 98% 하이드라진 1.6g, 수산화나트륨 2.35g 및 다이에틸렌 글라이콜 40㎖를 200㎖ 가지형 플라스크에 가하고, 160℃ 에서 18시간 가열 교반하였다. 반응액을 실온까지 냉각 후, 클로로포름에 의해 추출하였다. 황산마그네슘에 의해서 건조 후, 농축시켜 농갈색의 결정을 얻었다. 또한, 실리카겔 크로마토그래피(용매: 헥산/톨루엔)에 의해 정제하고, 무색의 결정을 2.4g 단리시켰다(수율 85%).
1H-NMR 측정 및 FDMS 측정에 의해 벤조[c]플루오렌인 것을 확인하였다.
얻어진 벤조[c]플루오렌 5g(23.1mmol)을 클로로포름 30㎖에 용해시키고, 소량의 요오드를 가하고 나서, 브롬 3.7g(23.1mmol)을 교반하면서 실온 하에서 적하하였다. 반응 종료 후, 티오황산 나트륨에 의해서 과잉의 브롬을 중화하고 나서, 클로로포름에 의해서 추출하였다. 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘에 의한 건조 후, 추출액을 농축시켜 담황색의 결정을 얻었다. 톨루엔으로 재결정하고, 화합물 2a를 무색 결정으로서 5.4g 단리하였다(수율 79%).
Figure 112008069313981-pct00028
합성예 2(화합물 4a의 합성 [하기 반응식 2 참조])
200㎖ 가지형 플라스크에, 2-브로모벤즈알데하이드 6.45g(34.9mmol), 1-나프 틸보론산 5.0g(29.1mmol), 테트라키스(트라이페닐포스핀)팔라듐 0.15g, 테트라하이드로퓨란 60㎖, 탄산칼륨 10g(73mmol) 및 물 20㎖를 가하고, 하룻밤 가열 환류시켰다. 포화 염화암모늄 수용액 및 포화 식염수에 의한 세정, 무수 황산마그네슘에 의한 건조 후, 추출액을 농축시켜 황색 결정을 얻었다. 실리카겔 크로마토그래피(용매: 헥산/톨루엔)에 의해 정제하여, 2-(1-나프틸)벤즈알데하이드를 5.4g 얻었다(수율 81%).
동정은 1H-NMR 측정에 의해 행하였다.
1H-NMR(CDCl3): 9.63(s, 1H), 8.12(d, 1H), 7.94(d, 2H), 7.40-7.71(m, 8H)
다음에, 200㎖ 가지형 플라스크에, 2-(1-나프틸)벤즈알데하이드8.0g(34.4mmol)과 테트라하이드로퓨란 50㎖를 첨가한 후, 반응액의 온도를 -30℃ 이하로 냉각시켰다. 그 후, 메틸마그네슘클로라이드(1.4mol/ℓ의 톨루엔/테트라하이드로퓨란 용액) 38㎖를 적하하였다. 또, -5 내지 0℃에서 1시간, 실온에서 하룻밤 교반하고, 1N 염산 수용액 60㎖를 적하해서 반응을 종료시켰다. 테트라하이드로퓨란을 가하여, 추출해서 얻어진 유기층은, 물 및 포화 식염수에 의해 세정하고, 황산마그네슘에 의해서 건조시켰다. 용매를 증류 제거한 후, 헥산으로 재결정하고, 화합물 3a를 7.68g(100% 순도로서 수율 90%, 무색 결정, 융점 116 내지 118℃) 얻었다.
또한, 1H-NMR 측정에 의해, 화합물 3a는 이성체의 혼합물인 것을 알 수 있었 다.
다음에, 200㎖ 가지형 플라스크에, 상기에서 얻어진 화합물 3a 6.0g(24.2mmol) 및 클로로포름 60㎖를 가한 후, 삼불화 붕소 에터 착물 7.4g(52.3mmol)을 50℃에서 적하하였다. 또한, 동일 온도에서 5시간 반응시켰다. 물 80㎖를 가하고, 유기층을 추출하였다. 유기층은 물 100㎖로 3회 세정하고, 또 포화 식염수로 세정하였다. 황산마그네슘에 의해서 건조시킨 후, 용매를 증류 제거하고, 조제의(crude) 7-메틸-벤조[c]플루오렌을 얻었다. 또한, 실리카겔 크로마토그래피(용매: 헥산/톨루엔)로 정제하여, 7-메틸-벤조[c]플루오렌을 무색 결정으로서 3.34g 얻었다(수율 60%, 융점 81 내지 83℃).
동정은 1H-NMR 측정에 의해 행하였다.
1H-NMR(CDCl3): 8.77(d, 1H), 8.37(d, 1H), 7.97(d, 1H), 7.85(d, 1H), 7.26-7.70(m, 6H), 4.02(1H, q), 1.59(d, 3H)
200㎖ 가지형 플라스크에, 7-메틸-벤조[c]플루오렌 3.3g(14.5mmol), 다이메틸설폭사이드 70㎖, 45% 수산화 나트륨 수용액 5.5g 및 벤질트라이에틸암모늄클로라이드 3.29g(14.4mmol)을 첨가하였다. 50℃에서 요오드화 메틸 4.20g(29.6mmol)을 적하하고, 그 후, 동일 온도에서 하룻밤 가열 교반하였다. 실온까지 냉각 후, 톨루엔 100㎖, 물 50㎖를 가해서 추출하였다. 물 및 포화 식염수에 의해 세정 후, 황산마그네슘에 의해 건조시켰다. 얻어진 유기층을 농축함으로써 담갈색의 결정을 얻었다. 또한, 실리카겔 크로마토그래피(용매: 헥산/톨루엔)에 의해 정제함으로써 목적으로 하는 화합물 4a를 수율 77%로 얻었다.
동정은 1H-NMR 측정 및 FDMS 측정에 의해 행하였다.
1H-NMR(CDCl3): 8.76(d, 1H), 8.34(d,1H), 7.95(d, 1H), 7.86(d, 1H), 7.36-7.67(m, 6H), 1.55(s, 6H)
FDMS: 244
Figure 112008069313981-pct00029
합성예 3(화합물 5a의 합성)
100㎖ 가지형 플라스크에, 합성예 2에서 얻어진 화합물 4a 2.20g(9.02mmol)과 다이메틸포름아마이드 15㎖를 가하고, 실온 하, N-브로모숙신이미드(NBS) 1.65g(9.28mmol)의 다이메틸포름아마이드 용액을 적하하고, 하룻밤 교반하였다. 다음에, 반응액에 톨루엔 50㎖ 및 물 30㎖를 첨가하고, 유기층을 추출하였다. 상법 처리 후, 반응액을 농축시켜, 담갈색 결정을 얻었다. 메탄올로 재결정하여, 2.55g의 무색 결정을 얻었다(수율 88%, 융점 105 내지 107℃).
동정은 1H-NMR 측정에 의해 행하였다.
1H-NMR(CDCl3): 8.76(d, 1H), 8.34-8.41(dd, 2H), 7.93(s, 1H), 7.38-7.70(m, 5H), 1.54(s, 6H)
[화합물 5a]
Figure 112008069313981-pct00030
합성예 4(화합물 6a의 합성)
300㎖ 가지형 플라스크에, 합성예 1에서 얻어진 화합물 2a(5-브로모-7H-벤조[c]플루오렌) 10g(33.9mmol), 다이메틸설폭사이드 80 ㎖, 벤질트라이에틸암모늄 클로라이드 1.15g(6.2mmol) 및 50% 수산화 나트륨 15g(187mmol)을 가하였다. 실온 하에서, 1,4-다이브로모부탄 7.39g(34.2mmol)과 다이메틸설폭사이드 20㎖의 혼합액을 적하하고, 동일 온도에서 2시간, 더욱 80℃에서 5시간 교반하였다.
물 70㎖를 가한 후, 톨루엔 100㎖를 가하여 추출하였다. 물 및 포화 식염수에 의한 세정 후, 유기층은 무수 황산마그네슘에 의해 건조시켰다. 톨루엔을 증류 제거시킨 후, 담황색의 점조(粘調) 유상물을 10.1g 얻었다(수율 85%).
동정은 1H-NMR 측정, 13C-NMR 측정에 의해 행하였다.
1H-NMR(CDCl3): 2.17(br-s, 8H), 7.32-7.67(m, 5H), 7.91(s, 1H), 8.29(d, 1H), 8.37(d, 1H), 8.74(d, 1H)
13C-NMR(CDCl3): 27.6, 39.2, 57.5, 122.7, 122.8, 124.1, 125.7, 126.2, 126.9, 127.0, 127.3, 130.3, 131.2, 133.5, 139.6, 153.2, 155.6
[화합물 6a]
Figure 112008069313981-pct00031
합성예 5
500㎖ 가지형 플라스크에, 2-브로모 벤조산 에틸 9.16g(40.0mmol), 6-메톡시나프탈렌보론산 8.89g(44.0mmol), 테트라하이드로퓨란 300㎖ 및 20% 탄산나트륨 수용액 94g을 첨가하였다. 질소기류 하, 테트라키스(트라이페닐포스핀)팔라듐 0.46g을 첨가하고 하룻밤 가열 환류시켰다. 포화 염화암모늄 수용액 및 포화 식염수에 의한 세정 및 무수 황산마그네슘에 의한 건조 후, 추출액을 농축시켜 박갈색의 유상물을 얻었다. 실리카겔 크로마토그래피(용매: 헥산/아세트산 에틸)에 의해 정제하여, 화합물 1b(무색 유상물)를 10.52g 얻었다(수율 86%).
동정은 1H-NMR 측정, 13C-NMR 측정에 의해 행하였다.
1H-NMR(CDCl3): 0.89(t, 3H, J=7.2㎐), 3.93(s, 3H), 4.06(q, 2H, J=7.2㎐), 7.11-7.20(m, 2H), 7.36-7.59(m, 4H), 7.69-7.78(m, 3H), 7.85(d, 1H, J=7.4㎐)
13C-NMR(CDCl3): 13.8, 55.4, 61.0, 105.6, 119.0, 126.2, 126.7, 127.0, 127.5, 128.7, 129.5, 129.7, 130.9, 131.1, 131.4, 133.6, 136.7, 142.3, 157.7, 168.9
[화합물 1b]
Figure 112008069313981-pct00032
다음에, 200㎖ 가지형 플라스크에, 화합물 1b 9.19g(30mmol)과 사이클로펜틸메틸에터 60㎖를 첨가한 후, 반응액의 온도를 50℃로 가열하였다. 그 후, 메틸마그네슘 클로라이드(1.4mol/ℓ의 톨루엔/테트라하이드로퓨란 용액) 56㎖를 적하하고, 더욱 동일 온도에서 하룻밤 교반하였다. 실온으로 냉각 후, 물 30㎖를 적하해서 반응을 종료시켰다. 분층 후의 유기층은, 더욱 물 150㎖로 세정하고, 용매를 증류 제거하였다. 실리카겔 크로마토그래피(용매: 헥산/톨루엔)에 의해 정제하여, 화합물 2b(무색 고체)를 6.3g 얻었다(수율 72%).
다음에, 100㎖ 가지형 플라스크에, 상기에서 얻어진 화합물 2b 3.36g(11.5mmol), 클로로포름 60㎖를 가한 후, 삼불화붕소 에터 착물 2.12g(15.0mmol)을 50℃에서 적하하였다. 또, 동일 온도에서 2시간 반응시켰다. 실온으로 냉각 후, 물 30㎖를 가하였다. 분층 후, 유기층은 물 150㎖로 세정하고, 용매를 증류 제거하였다. 잔류물은 실리카겔 크로마토그래피(용매: 헥산/톨루엔) 로 정제하여, 화합물 3b를 무색 고체로서 2.17g(수율 68.8%) 얻었다.
또한, 화합물 2b 및 3b의 동정은 1H-NMR 측정 및 13C-NMR 측정에 의해 행하였다.
<화합물 2b>
1H-NMR(CDCl3): 1.47(s, 6H), 1.90(br-s, 1H), 3.92(s, 3H), 7.02-7.48(m, 6H), 7.60-7.79(m, 4H)
13C-NMR(CDCl3): 32.7, 55.4, 74.1, 105.7, 119.3, 125.8, 126.0, 126.1, 127.4, 127.7, 128.2, 128.7, 129.4, 132.5, 133.4, 139.0, 139.9, 146.4, 157.8
<화합물 3b>
1H-NMR(CDCl3): 1.70(s, 6H), 3.89(s, 3H), 7.19-7.28(m, 2H), 7.28-7.38(m, 2H), 7.42-7.51(m, 1H), 7.68-7.78(d, 2H), 7.84(d, 1H, J=8.6㎐), 8.12(d, 1H, J=9.8㎐)
13C-NMR(CDCl3): 26.6, 48.6, 55.4, 107.9, 118.7, 119.4, 122.1, 125.3, 125.6, 126.6, 126.9, 127.3, 134.8, 135.3, 139.5, 147.6, 155.0, 156.7
[화합물 2b 및 화합물 3b]
Figure 112008069313981-pct00033
다음에, 100㎖ 가지형 플라스크에, 화합물 3b 2.0g(7.3mmol) 및 다이클로로메탄 20㎖를 첨가하고, 0℃로 반응액을 냉각하였다. 동일 온도를 유지하면서, 삼브롬화붕소를 적하하였다. 적하 종료 후, 실온에서 하룻밤 교반하였다. 물 10㎖를 냉각하면서 적하하여 반응을 종료시켰다. 다이클로로메탄 20㎖를 가해서 분층 후, 유기층을 물 100㎖로 세정하였다. 무수 황산마그네슘 처리 후, 실리카겔 크로마토그래피(용매: 다이클로로메탄)를 실시하여, 화합물 4b를 1.84g(수율 97%) 얻었다.
화합물 4b는, 또한 상법에 의해 피리딘 및 트라이플루오로메탄설폰산 무수물과 반응시킴으로써, 화합물 5b를 3.0g 얻었다(수율 99%).
생성물의 동정은 1H-NMR 측정, 13C-NMR 측정 및 FDMS 측정에 의해 행하였다.
<화합물 4b>
1H-NMR(CDCl3): 1.70(s, 6H), 5.50(br-s, 1H), 7.12-7.43(m, 4H), 7.43-7.60(m, 1H), 7.60-7.90(m, 3H), 8.12(d, 1H, J=8.8㎐)
13C-NMR(CDCl3): 26.6, 48.5, 111.5, 117.7, 119.3, 119.5, 122.1, 125.2, 125.9, 126.5, 128.8, 126.9, 134.7, 135.3, 139.4, 147.6, 152.5, 154.9
<화합물 5b>
1H-NMR(CDCl3): 1.74(s, 6H), 7.36-7.59(m, 4H), 7.78-7.96(m, 3H), 8.02(d, 1H, J=8.6㎐), 8.12(d, 1H, J=9.2㎐)
FDMS: 392
[화합물 4b 및 화합물 5b]
Figure 112008069313981-pct00034
합성예 6
100㎖ 가지형 플라스크에, 1-(2-(에톡시카보닐)페닐)-나프탈렌 1.00g(3.62mmol) 및 테트라하이드로퓨란 10㎖를 질소분위기 하 첨가하였다. 반응액을 50℃까지 승온하고, 페닐마그네슘 브로마이드의 테트라하이드로퓨란 용액(2mol/ℓ) 7.2㎖를 30분에 걸쳐서 적하하고, 동일 온도에서 18시간 교반하였다. 실온까지 냉각 후, 빙수로 냉각하면서 순수 20㎖를 적하한 후, 톨루엔 30㎖로 유기층을 추출하였다. 또한, 유기층은 순수 및 포화 식염수로 세정하고, 무수 황산마그네슘에 의해서 건조시켰다. 얻어진 유기층을 농축함으로써, 화합물 7a를 황색 유상물로서 1.46g 단리하였다.
계속해서, 100㎖ 가지형 플라스크에, 화합물 7a 1.45g 및 아세트산 25㎖를 가한 후, 진한 황산을 몇방울 첨가하고, 실온 하 18시간 교반하였다. 그 후, 반응액을 분액 깔때기로 옮기고, 톨루엔 30㎖ 및 순수 20㎖를 가하고, 유기층을 추출하였다. 또한, 유기층은 순수로 중성으로 될 때까지 세정하였다. 포화 식염수로 세정한 후, 무수 황산마그네슘에 의해서 건조시켰다. 농축 후, 얻어진 잔류물은 실리카겔 크로마토그래피(용매: 헥산/톨루엔)에 의해 정제함으로써 화합물 8a를 담황색 분말로서 0.81g 단리하였다(수율 61%).
동정은 1H-NMR 측정 및 FDMS 측정에 의해 행하였다.
1H-NMR(CDCl3): 7.21-7.33(m, 11H), 7.46-7.89(m, 7H), 8.36-8.40(d, 1H), 8.77-8.81(d, 1H)
FDMS: 368
다음에, 화합물 8a를 합성예 3에 따라 브롬화함으로써, 화합물 9a를 단리하였다.
동정은 FDMS 측정에 의해 행하였다.
FDMS: 446
Figure 112008069313981-pct00035
합성예 7
300㎖ 가지형 플라스크에, 2-브로모-6-(2-(에톡시카보닐)페닐)나프탈렌(6b) 12g(33.8mmol) 및 탈수 테트라하이드로퓨란 120㎖를 주입하고, 실온 하, 페닐마그네슘 브로마이드의 테트라하이드로퓨란 용액(2mol/ℓ)을 60㎖ 적하하였다. 적하 종료 후, 더욱 50℃에서 하룻밤 가열 교반하였다. 반응액을 실온까지 냉각시키고, 10% 염화암모늄 수용액 100g을 가해서 반응을 종료하였다. 유기층은 순수 50g으로 3회 세정하고, 또, 황산마그네슘에 의해서 건조시켰다. 유기층을 여과?농축함으로써 화합물 7b를 오렌지색 유상물로서 17.3g 얻었다. 화합물 7b는 그대로 다음 공정에 이용하였다.
100㎖ 가지형 플라스크에, 상기에서 얻어진 화합물 7b 3.46g(6.76mmol)과 아세트산 14㎖를 주입한 후, 실온 하 하룻밤 교반하였다. 그 후, 반응액을 분액 깔때기에 옮기고, 톨루엔 50㎖ 및 순수 50㎖를 가하여, 유기층을 추출하였다. 또한, 유기층은 순수로 중성으로 될 때까지 세정하였다. 포화 식염수로 세정한 후, 무수 황산마그네슘에 의해서 건조시켰다. 농축 후, 얻어진 잔류물은 실리카겔 크로마토그래피(용매: 헥산/톨루엔)에 의해 정제함으로써 화합물 8b를 백색 분말로서 1.3g 단리하였다(수율 42%).
동정은 1H-NMR 측정 및 FDMS 측정에 의해 행하였다.
1H-NMR(CDCl3); 8.02(d, 2H), 7.81-7.88(m, 2H), 7.60(d, 1H), 7.18-7.46(m, 14H)
FDMS: 446
Figure 112008069313981-pct00036
실시예 1(화합물 (A1)의 합성)
100㎖ 가지형 플라스크를 이용해서, 합성예 3에서 얻어진 화합물 5a 2g(6.2mmol), 아닐린 0.58g(6.2mmol) 및 나트륨-tert-부톡사이드 0.83g을 자일렌 40㎖에 현탁시키고, 질소로 계 내를 치환하였다. 또한, 질소분위기 하, 아세트산 팔라듐 3㎎ 및 트라이-tert-부틸포스핀 8㎎을 첨가하고, 125℃로 가열하였다. 소정 온도에서 20시간 숙성시킨 후, 반응액을 실온까지 냉각하였다. 물 20㎖를 첨가 후, 추출을 행하고, 유기상을 농축시켰다. 얻어진 농축물은 정제하지 않고 그대로 다음 공정에 사용하였다.
다음에, 200㎖ 가지형 플라스크를 이용하여, 4,4'-다이아이오도바이페닐 3.0g(7.4mmol), 앞서 얻어진 5-페닐아미노-7,7-다이메틸-7H-벤조[c]플루오렌 5.1g(15.2mmol) 및 나트륨-tert-부톡사이드 1.7g(17.7mmol)을 자일렌 50㎖에 현탁시켜, 질소로 계 내를 치환하였다. 또한, 질소분위기 하, 아세트산 팔라듐 3㎎ 및 트라이-tert-부틸포스핀 8㎎을 첨가하고, 125℃로 가열하였다. 소정 온도에서 20시간 숙성한 후, 반응액을 실온까지 냉각하였다. 물 20㎖를 첨가한 후, 추출을 행하고, 유기상을 농축시켰다. 톨루엔으로 재결정하고, 화합물(A1)을 4.98g 얻었다 (수율 82%).
화합물 (A1)의 유리전이온도는 162℃로, 종래 재료인 4,4'-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐아미노]바이페닐, 2,7-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐아미노]-9,9'-다이메틸플루오렌, N,N'-다이[2-(9,9-다이메틸플루오레닐)]-N,N'-다이(4-바이페닐)벤지딘 등의 유리전이온도(각각, 96℃, 110℃, 120℃)보다 약 40℃ 이상 높았다.
실시예 2(화합물 (B3)의 합성)
화합물 5a 대신에, 합성예 4에서 합성한 화합물 6a를 이용해서, 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하여, 화합물 (B3)을 5.0g 단리하였다(수율 78%).
실시예 3(화합물 (F1)의 합성)
300㎖ 가지형 플라스크에, 아닐린 894㎎(9.6mmol), 나트륨-tert-부톡사이드 923㎎(9.6mmol), 트리스(다이벤질리덴아세톤)다이팔라듐 44㎎(0.048mmol), 비스(다이페닐포스피노)페로센 160㎎(0.288mmol) 및 톨루엔 130㎖를 질소분위기 하 첨가하였다. 반응액을 80℃로 가열한 후, 합성예 5에서 합성한 화합물 5b 2.51g(6.4mmol)의 톨루엔(30㎖) 용액을 30분에 걸쳐서 적하하고, 동일 온도에서 하룻밤 교반하였다. 실온으로 냉각 후, 물 200㎖를 가하여 반응을 종료시켰다. 분층 후의 유기층은, 더욱 물 600㎖로 세정하고, 무수 황산마그네슘 처리 후, 용매를 증류 제거하였다. 잔류물을 실리카겔 크로마토그래피(용매: 헥산/톨루엔)에 의해 정제하여, 목적으로 하는 2급 아민을 매우 연한 보라색 고체로서 1.76g 얻었다(수율 81%).
화합물의 동정은 1H-NMR 측정 및 FDMS 측정에 의해 행하였다.
1H-NMR(CDCl3): 1.74(s, 6H), 5.88(br-s, 1H), 6.94-7.04(m, 1H), 7.12-7.40(m, 7H), 7.42-7.58(m, 2H), 7.62-7.86(m, 3H), 8.12(d, 1H, J=9.2㎐)
FDMS: 335
다음에, 100㎖ 가지형 플라스크에, 상기 2급 아민 1.76g(5.25mmol), 4,4'-다이아이오도바이페닐 1.02g(2.5mmol), 나트륨-tert-부톡사이드 505㎎(5.25mmol), 아세트산 팔라듐 11.8㎎(0.053mmol) 및 오쏘자일렌 60㎖를 질소분위기 하에 첨가하였다. 이 반응액에, 트라이(tert-부틸)포스핀(0.21mmol) 톨루엔 용액 0.21㎖를 적하 후, 반응액을 120℃로 가열하였다. 2시간 후, 실온까지 냉각하고, 물 200㎖를 가해서 반응을 종료시켰다. 분층 후의 유기층은, 더욱 물 600㎖로 세정하고, 무수 황산마그네슘 처리 후, 용매를 증류 제거하였다. 잔류물을 실리카겔 크로마토그래피(용매: 헥산/톨루엔)에 의해 정제하여, 화합물 (F1)을 매우 연한 황색 고체로서 1.89g 얻었다(수율 92%, 융점 = 292℃).
화합물의 동정은 1H-NMR 측정 및 FDMS 측정에 의해 행하였다.
1H-NMR(CDCl3): 1.72(s, 12H), 7.00-7.12(br-t, 2H), 7.12-7.68(m, 28H), 7.70-7.86(m, 4H), 8.10(d, 2H, J=9.2㎐)
FDMS: 820
또, 화합물 (F1)의 유리전이온도는 172℃로, 종래 재료인 4,4'-비스[N-(1-나 프틸)-N-페닐아미노]바이페닐, 2,7-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐아미노]-9,9'-다이메틸플루오렌, N,N'-다이[2-(9,9-다이메틸플루오레닐)]-N,N'-다이(4-바이페닐)벤지딘 등의 유리전이온도(각각 96℃, 110℃, 120℃)보다 약 50℃ 이상 높았다.
실시예 4(화합물 (B2)의 합성)
합성예 6에서 얻어진 화합물 9a 3.31g(7.43mmol), N,N'-다이페닐벤지딘 1.22g(3.63mmol) 및 나트륨-tert-부톡사이드 0.84g을 자일렌 25㎖에 현탁시켜, 질소로 계 내를 치환하였다. 또한, 질소분위기 하, 아세트산 팔라듐 8㎎ 및 트라이-tert-부틸포스핀 32㎎을 첨가하고, 125℃로 가열하였다. 소정 온도에서 20시간 숙성한 후, 반응액을 실온까지 냉각하였다. 물 20㎖를 첨가한 후, 추출을 행하고, 유기상을 농축시켰다. 톨루엔으로 재결정하고, 화합물 (B2)를 황색 분말로서 2.36g 얻었다(수율 61%).
동정은 FDMS 측정에 의해 행하였다.
FDMS: 1068
실시예 5(화합물 (F6)의 합성)
화합물 9a 대신에, 합성예 7에서 얻어진 화합물 8b를 이용해서 실시예 4와 마찬가지 반응을 행하여, 화합물 (F6)을 합성하였다.
동정은 FDMS 측정에 의해 행하였다.
FDMS: 1068
실시예 6(소자 제작)
두께 130㎚의 ITO 투명 전극을 가지는 유리 기판을 아세톤 및 아이소프로필 알코올로 순차 초음파 세정하고, 이어서, 아이소프로필 알코올에서 자비 세정한 후, 건조시켰다. 또한, UV/오존처리한 것을 투명 도전성 지지 기판으로서 사용하였다. ITO 투명 전극 위에, 구리 프탈로사이아닌을 진공증착법에 의해 25㎚의 막두께로 성막하였다. 다음에, 화합물 (A1)을 진공증착법에 의해 45㎚의 막두께로 성막하여, 정공 수송층을 형성하였다. 이어서, 알루미늄트리스퀴놀리놀착물을 진공증착법에 의해 60㎚의 막두께로 성막하고, 전자 수송층을 형성하였다. 또한, 상기 유기 화합물의 증착 조건은 진공도 1.0×10-4㎩, 성막 속도 0.3㎚/초의 동일 조건에서 성막하였다.
다음에, 음극으로서 LiF를 0.5㎚, Al을 100㎚ 증착하여, 금속 전극을 형성하였다.
또한, 질소 분위기 하에, 보호용 유리 기판을 중첩하고, UV 경화 수지로 밀봉하였다. 이와 같이 해서 얻어진 소자에 ITO 전극을 정극, LiF-Al 전극을 부극으로 해서, 4.5 V의 직류 전압을 인가하면 7.5 mA/㎠의 전류 밀도가 얻어지고, 401 cd/㎡의 휘도로 녹색의 발광이 관측되었다.
비교예 1 내지 2
화합물 (A1) 대신에, NPD 또는 2,7-비스(나프틸페닐아미노)-9,9-다이메틸플루오렌을 이용하여, 실시예 6에 준해서 소자를 작성하였다.
전류밀도 7.5 mA/㎠일 때의 효율 및 수명에 관한 평가 결과를 표 1에 나타낸다.
Figure 112008069313981-pct00037
실시예 7
화합물 (A1) 대신에, 화합물 (F1)을 정공 수송층에 이용해서, 실시예 6과 마찬가지의 조작을 행하여, 유기 EL 소자를 제작하였다. 정전류 밀도 = 20 mA/㎠의 조건 하에 측정하면, 구동 전압 = 5.67 V, 전류효율 = 4.5 cd/A, 전력 효율 = 2.5 lm/W의 값을 나타내었다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
실시예 8
화합물 (F1)을 화합물 (A1)로 변경한 이외에는, 실시예 7과 마찬가지의 소자를 작성하였다. 20 mA/㎠의 정전류 밀도 조건 하에서 구동시켰을 때의 값을 표 2에 나타낸다.
비교예 3
화합물 (F1)을 NPD로 변경한 이외에는, 실시예 7과 마찬가지의 소자를 작성하였다. 20mA/㎠의 정전류 밀도 조건 하에서 구동시켰을 때의 값을 표 2에 나타낸다.
Figure 112008069313981-pct00038
실시예 9
두께 130㎚의 ITO 투명 전극을 가지는 유리 기판을 아세톤 및 아이소프로필 알코올로 순차 초음파 세정하고, 이어서, 아이소프로필 알코올로 자비세정한 후, 건조시켰다. 또한, UV/오존처리한 것을 투명 도전성 지지 기판으로서 사용하였다. ITO 투명 전극 위에, 구리 프탈로사이아닌을 진공증착법에 의해 25㎚의 막두께로 성막하였다. 다음에, 화합물(A1)을 진공증착법에 의해 45㎚의 막두께로 성막하고, 정공 수송층을 형성하였다. 이어서, TBADN을 호스트 재료, TBPe를 불순물 재료로 해서, 중량비 = 99:1로 공증착하여, 40㎚의 막두께를 형성하였다. 다음에, 알루미늄트리스퀴놀리놀 착물을 진공증착법에 의해 20㎚의 막두께로 성막하고, 전자수송층을 형성하였다. 또한, 상기 유기 화합물의 증착 조건은 진공도 1.0×10-4Pa, 성막 속도 0.3㎚/초의 동일 조건으로 성막하였다.
다음에, 음극으로서 LiF를 0.5㎚, Al을 100㎚ 증착하여, 금속 전극을 형성하였다.
또한, 질소분위기 하, 보호용 유리 기판을 중첩시켜, UV 경화 수지로 밀봉하였다. 이와 같이 해서 얻어진 소자에, ITO 전극을 정극, LiF-Al 전극을 부극으로 해서, 20 mA/㎠의 정전류 밀도 조건 하에서 구동시켰을 때의 휘도, 구동 전압, 전류효율, 전력 효율 및 휘도 반감 수명은 각각 940 cd/㎡, 5.51 V, 4.7 cd/A, 2.7 lm/W 및 450 hr였다. 그 결과를 표 3에 나타낸다.
Figure 112008069313981-pct00039
실시예 10
화합물 (A1)을 화합물 (F1)로 변경한 이외에는, 실시예 9와 마찬가지의 소자를 작성하였다. 20 mA/㎠의 정전류 밀도 조건 하에서 구동시켰을 때의 값을 표 3에 나타낸다.
실시예 11
화합물 (A1)을 화합물 (F6)으로 변경한 이외에는, 실시예 9와 마찬가지의 소자를 작성하였다. 20 mA/㎠의 정전류 밀도 조건 하에서 구동시켰을 때의 값을 표 3에 나타낸다.
비교예 4
화합물 (A1)을 NPD로 변경한 이외에는, 실시예 9와 마찬가지의 소자를 작성하였다. 20 mA/㎠의 정전류 밀도 조건 하에서 구동시켰을 때의 값을 표 3에 나타낸다.
Figure 112008069313981-pct00040
합성예 8(화합물 2c의 합성 [하기 반응식 3 참조])
300㎖ 가지형 플라스크에, 2'-하이드록시-1'-아세토나프톤 18.6g(100mmol), 다이클로로메탄 100㎖ 및 피리딘 39.6g(500mmol)을 첨가하고, 반응액을 5℃ 이하로 냉각하였다. 트라이플루오로메탄설폰산 무수물 31.0g(110mmol)을 반응온도가 5℃를 넘지 않도록 적하한 후, 실온 하 하룻밤 교반하였다. 반응액에 물을 가해서 분층하였다. 유기층은 3.5% 염산 수용액 및 물로 세정 후, 무수 황산마그네슘에 의해서 건조시키고, 농축시켜 1'-아세토나프톤-2'-트라이플루오로메탄설포네이트 32.7g을 매우 연한 황색 유상물로서 단리하였다. 또한, 생성물은 정제시키지 않고, 그대로 다음 반응에 이용하였다.
다음에, 500㎖ 가지형 플라스크에, 얻어진 1'-아세토나프톤-2'-트라이플루오로메탄설포네이트 15.1g(47.5mmol), 4-클로로페닐보론산(95% 제품) 7.8g(50.0mmol), 테트라키스(트라이페닐포스핀)팔라듐 549㎎(0.475mmol), 20중량%의 탄산나트륨 수용액 100.7g 및 테트라하이드로퓨란 250㎖를 가하고, 60℃에서 하룻밤 가열 교반하였다. 실온까지 냉각 후, 분층하였다. 얻어진 유기층은 물에 의한 세정, 무수 황산마그네슘에 의한 건조 처리 후, 농축시켜 담황색의 결정 12.4g을 수득하였다. 1H-NMR 측정에 의해 목적물의 2'-(4-클로로페닐)-1'-아세토나프톤인 것을 확인하였으며, 생성물은 정제시키지 않고, 그대로 다음 반응에 이용하였다.
1H-NMR(200㎒, CDCl3): 2.12(3H, s), 7.33-7.65(7H, m), 7.78-8.01(3H, m)
13C-NMR(50㎒, CDCl3): 32.9, 124.7, 126.5, 127.1, 127.6, 128.3, 128.8, 128.9, 129.5, 130.6, 132.6, 134.3, 134.4, 138.4, 138.7, 207.1
다음에, 300㎖ 가지형 플라스크에, 앞서 얻어진 2'-(4-클로로페닐)-1'-아세토나프톤 9.8g(35mmol), 테트라하이드로퓨란 70㎖ 및 에탄올 70㎖를 첨가하였다. 용해시킨 후, 수소화 붕소나트륨 6.6g(175mmol)을 가하고, 실온에서 8시간 교반하였다.
10% 염화암모늄 수용액 100g을 발포에 주의하면서 첨가한 후, 감압 농축시켰다. 잔류물을 톨루엔 200㎖로 추출하고, 물에 의한 세정, 무수 황산마그네슘에 의한 건조 처리 후, 농축시켜 담황색의 결정 9.4g을 얻었다. 1H-NMR 측정에 의해 목적물의 1-(1-하이드록시)에틸-2-(4-클로로페닐)나프탈렌인 것을 확인하였으며, 생성물은 정제시키지 않고, 그 다음 반응에 이용하였다.
1H-NMR(200㎒, CDCl3); 1.71(3H, d, J=7.0㎐), 2.05(1H, br-s), 5.35(1H, q, J=7.0㎐), 7.16-7.63(7H, m), 7.69-7.95(2H, m), 8.76-8.93(1H, br-d)
13C-NMR(50㎒, CDCl3): 23.9, 68.9, 125.8, 125.9, 127.0, 127.8, 127.9, 128.4, 128.8, 130.4, 130.8, 133.2, 134.2, 136.9, 137.1, 140.6
다음에, 100㎖ 가지형 플라스크에, 앞서 얻어진 1-(1-하이드록시)에틸-2-(4-클로로페닐)나프탈렌 2.8g(10mmol) 및 클로로포름 20㎖를 가하였다. 0℃로 냉각한 후, 삼불화붕소?다이에틸에터레이트 1.85g(13mmol)을 적하하고, 실온에서 1시간 교반하였다.
물 20g을 첨가해서 반응을 종료한 후, 유기층을 물에 의한 세정, 무수 황산마그네슘에 의한 건조 처리 후, 농축시켜 담황색의 고체 2.7g을 얻었다. 1H-NMR 측정에 의해 목적물의 9-클로로-11-메틸-11H-벤조[a]플루오렌(화합물 1c)인 것을 확인하였으며, 생성물은 정제하지 않고, 그대로 다음 반응에 이용하였다.
1H-NMR(200㎒, CDCl3): 1.66(3H, d, J=7.2㎐), 4.33(1H, q, J=7.2㎐), 7.32-7.65(5H, m), 7.70(7H, d, J=8.1㎐), 7.80-8.01(3H, m), 8.06(1H, d, J=8.0㎐)
얻어진 9-클로로-11-메틸-11H-벤조[a]플루오렌 2.7g(10mmol), 벤질트라이에틸암모늄클로라이드 2.3g(10mmol) 및 요오드화메틸 4.3g(30mmol)을 다이메틸설폭사이드 20㎖에 용해시키고, 0℃로 냉각 후, 48% 수산화 나트륨 수용액 1.2g(30mmol)을 교반하면서 적하하였다. 실온에서 1시간 교반 후, 톨루엔 50㎖를 첨가하고 나서, 유기층을 물로 세정하였다. 황산마그네슘에 의한 건조 후, 추출액을 농축시켜 담황색의 결정을 얻었다. 실리카겔 컬럼크로마토그래피(용출액: 헥산)를 실시하여, 9-클로로-11,11-다이메틸-11H-벤조[a]플루오렌(화합물 2c)을 백색 결정으로서 2.0g 단리하였다(수율 72%).
1H-NMR(200㎒, CDCl3): 1.73(6H, s), 7.21-7.66 (5H, m), 7.69(1H, d, J=7.8㎐), 7.80-7.99(3H, m), 8.19(1H, d, J=8.3㎐)
13C-NMR(50㎒, CDCl3): 26.3, 48.8, 118.6, 120.6, 122.8, 124.0, 125.0, 126.2, 127.2, 128.7, 130.0, 132.7, 134.0, 135.6, 137.8, 147.1, 157.0
Figure 112008069313981-pct00041
실시예 12 (화합물 (M1)의 합성)
100㎖ 가지형 플라스크에, 9-클로로-11,11-다이메틸-11H-벤조[a]플루오렌 736㎎(2.64mmol), N,N'-다이페닐벤지딘 404㎎(1.2mmol) 및 나트륨-tert-부톡사이드 461㎎을 자일렌 40㎖에 현탁시켜, 질소로 계 내를 치환시켰다. 또한, 질소분위기 하, 아세트산 팔라듐 2.25㎎ 및 트라이-tert-부틸포스핀 7㎎을 첨가하고, 125℃로 가열하였다. 소정 온도로 15시간 숙성시킨 후, 반응액을 실온까지 냉각하였다. 물 20㎖를 첨가한 후, 다이클로로메탄에 의해서 추출을 행하고, 유기상을 수세 후에 농축시켰다. 실리카겔 컬럼크로마토그래피에서 정제하여, 옅은 황토색의 분체 화합물 (M1)을 974㎎ 얻었다(수율 99%).
동정은 FDMS 측정 및 1H-NMR 측정에 의해 행하였다.
FDMS: m/z=820
1H-NMR(200㎒, CDCl3): 1.68(12H, s), 6.98-7.75(36H, m), 7.85(4H, s), 7.95(2H, d, J=8.0㎐), 8.18(2H, d, J=8.0㎐)
화합물 (M1)의 유리전이온도는 154℃로, 종래 재료인 4,4'-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐아미노]바이페닐, 2,7-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐아미노]-9,9'-다이메틸플루오렌, N,N'-다이[2-(9,9-다이메틸플루오레닐)]-N,N'-다이(4-바이페닐)벤지딘 등의 유리전이온도(각각, 96℃, 110℃, 120℃)보다 약 30℃ 이상 높았다.
실시예 13(소자 제작)
두께 110㎚의 ITO 투명 전극(양극)을 적층한 유리 기판을 중성 세제, 순수 및 아세톤에 의해 초음파 세정하고, 그 후 아이소프로필 알코올에 의한 비등 세정을 행하였다. 또한, 자외선 오존 세정을 행하고, 진공증착장치에 설치 후 1×10-4㎩로 될 때까지, 진공펌프로 배기하였다. ITO 투명 전극 위로 구리 프탈로사이아닌을 증착 속도 0.3㎚/초로 증착시켜, 20㎚의 정공 주입층으로 하였다. 계속해서, 화합물 (M1)을 증착 속도 0.3㎚/초로 30㎚ 증착시켜 정공 수송층으로 하고, 이어서, 트리스(8-퀴놀리노레이토)알루미늄을 증착 속도 0.3㎚/초로 50㎚ 증착시켜 발광층으로 하였다. 계속해서, 은과 마그네슘을 증착 속도 0.33㎚/초로 100㎚의 두께로 공증착(중량비 10:1)시키고, 더욱 은을 증착 속도 0.2㎚/초로 10㎚ 증착시켜 음극으로 하여, 유기 EL 소자를 제작하였다.
전류밀도 10 mA/㎠, 20 mA/㎠일 때의 휘도, 구동 전압, 전류 효율 및 전력 효율을 표 4에 나타낸다.
비교예 5
화합물 (M1)을 NPD로 변경한 이외에는, 실시예 13과 마찬가지의 소자를 제작하였다.
전류밀도 10 mA/㎠, 20 mA/㎠일 때의 휘도, 구동 전압, 전류 효율 및 전력 효율을 표 4에 나타낸다.
Figure 112008078692655-pct00053
본 발명을 상세하게 또 특정 실시형태를 참조해서 설명하였지만, 본 발명의 정신과 범위를 일탈하는 일없이 다양하게 변경이나 수정을 가하는 것이 가능하다는 것은 당업자에게 명백하다.
본 출원은 2006년 4월 13일 출원한 일본 특허 출원(특원 2006-110765) 및 2006년 7월 24일 출원한 일본 특허 출원(특원 2006-201097)에 의거하는 것이며, 그 내용은 여기에 참조로서 도입된다.
본 발명에 의하면, 종래 재료 이상으로 저전압 구동과 장기 내구성을 지니는 신규한 재료를 제공할 수 있다. 더욱 상세하게는, 유기 EL 소자 등의 정공 주입 재료, 정공 수송 재료 및 발광 재료에 적합한 신규한 벤조플루오렌 화합물을 제공할 수 있다.

Claims (8)

  1. 2치환의 바이페닐 골격을 갖는 하기 일반식 (6)으로 표시되는 벤조플루오렌 화합물:
    [일반식 (6)]
    Figure 712012000902251-pct00060
    (식 중, R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 내지 18의 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 40의 아릴기이며; Ar1 내지 Ar4는 각각 독립적으로 탄소수 6 내지 40의 아릴기이다. 단, Ar1 내지 Ar4 중 적어도 1개는 하기 일반식 (2) 내지 (5) 중 어느 하나로 표시되는 치환기이다.)
    [일반식 (2) 내지 (5)]
    Figure 712012000902251-pct00061
    (식 중, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 내지 18의 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 40의 아릴기이다. 또한, R1과 R2는 서로 결합해서 고리를 형성해도 된다).
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 하기 일반식 (7) 내지 (10) 중 어느 하나로 표시되는 벤조플루오렌 화합물:
    [일반식 (7) 내지 (10)]
    Figure 112011050800234-pct00049
    (식 중, R7, R8, R11 및 R12는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 내지 18의 직쇄, 분지쇄 혹은 환상의 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 40의 아릴기이며; R9 및 R10은 탄소수 1 내지 6의 알킬렌기, 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴렌기를 나타낸다. Ar5는 탄소수 6 내지 40의 아릴기를 나타낸다).
  7. 삭제
  8. 제1항 또는 제6항에 기재된 벤조플루오렌 화합물을 발광층, 정공 수송층 또는 정공 주입층 중 어느 하나에 이용하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
KR1020087024196A 2006-04-13 2007-04-12 벤조플루오렌 화합물 및 그 용도 KR101142293B1 (ko)

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