JP5145717B2 - ベンゾフルオレン化合物及びその用途 - Google Patents

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Description

本発明は、新規なベンゾフルオレン化合物及びその用途、特に有機エレクトロルミネッセンス素子に関するものである。ベンゾフルオレン化合物は、感光材料、有機光導電材料として使用でき、更に具体的には、平面光源や表示に使用される有機EL素子若しくは電子写真感光体等の正孔輸送、正孔注入材料及び発光ホスト材料として利用できる。
感光材料や正孔輸送材料として開発されている有機光導電材料は、低コスト、加工性が多様であり、また無公害性などの多くの利点があり、多くの化合物が提案されている。例えば、オキサジアゾール誘導体(例えば、特許文献1参照)、オキサゾール誘導体(例えば、特許文献2参照)、ヒドラゾン誘導体(例えば、特許文献3参照)、トリアリールピラゾリン誘導体(例えば、特許文献4,5参照)、アリールアミン誘導体(例えば、特許文献6,7参照)、スチルベン誘導体(例えば、特許文献8,9参照)等の材料が開示されている。
中でも4,4’,4”−トリス[N,N−(1−ナフチル)フェニルアミノ]トリフェニルアミン(1−TNATA)、4,4’,4”−トリス[N,N−(m−トリル)フェニルアミノ]トリフェニルアミン(MTDATA)等のスターバースト系材料、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(α−NPD)、4,4’−ビス[N−(m−トリル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(TPD)等のビフェニル系アリールアミン誘導体が、正孔輸送又は正孔注入材料として多く使用されている(例えば、非特許文献1,2参照)。
更に、フルオレン骨格を部分構造として用いたアリールアミン化合物も提案されている(例えば、特許文献10,11参照)。
また、本特許と同じベンゾフルオレン骨格を有する有機エレクトロルミネセンス材料も提案されているが(例えば、特許文献12参照)、ベンゾフルオレニル基に直接アミノ基が結合した化合物の記載はない。加えて、特許文献12において、特にベンゾフルオレニル基を有するポリマー材料が発光材料として有用であるとの記載はあるが、正孔輸送材料及び正孔注入材料として有用であるとの記載はない。
米国特許第3189447号明細書(クレーム) 米国特許第3257203号明細書(クレーム) 特開昭54−59143号公報(特許請求の範囲) 特開昭51−93224号公報(特許請求の範囲) 特開昭55−108667号公報(特許請求の範囲) 特開昭55−144250号公報(特許請求の範囲) 特開昭56−119132号公報(特許請求の範囲) 特開昭58−190953号公報(特許請求の範囲) 特開昭59−195658号公報(特許請求の範囲) 特開平11−35532号公報(特許請求の範囲) 特開平10−95972号公報(特許請求の範囲) 国際公開第2004/61048号パンフレット(特許請求の範囲) 「アドバンスド・マテリアルズ(Advanced Materials)」,(ドイツ国),1998年,第10巻,第14号,p1108−1112(図1、表1) 「ジャーナル・オブ・ルミネッセンス(Journal of Luminescence)」,(オランダ国),1997年,72−74,p985−991(図1)
しかしながら、これらの材料は、安定性や耐久性に乏しいなどの難点を有しており、実用上十分満足できる材料であるとは言い難い。例えば、代表的正孔輸送材料であり、現状効率等で優れているNPDは、ガラス転移温度が低いため、素子寿命の観点では有機エレクトロルミネセンス素子の突然死等の問題を包含しており、問題となっている。また、近年アクティブマトリクス駆動の有機エレクトロルミネセンス素子の実用化検討が活発化しているが、その際の要求特性は更なる低電圧駆動である。それについては、NPDでは十分満足できるものに至っていない。従って、更なる低電圧駆動並びに長寿命化を実現するための材料の開発が非常に望まれている。
本発明の目的は、従来材料以上に低電圧駆動と長期耐久性を有する新規材料を提供することにある。更に詳しくは、有機EL素子等の正孔注入材料、正孔輸送材料及び発光材料に適した新規なベンゾフルオレン化合物を提供することにある。
本発明者らは鋭意検討した結果、一般式(1)で表されるベンゾフルオレン化合物が、効率及び耐久性の面で非常に優れていることを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、一般式(1)で表されるベンゾフルオレン化合物及びその用途に関するものである。
Figure 0005145717
(式中、Mは炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基、又は炭素数5〜40の置換若しくは無置換のヘテロアリール基であり、Ar〜Arは各々独立して炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基、又は炭素数5〜40の置換若しくは無置換のヘテロアリール基である。但し、Ar〜Arのうち少なくとも一つは、下記一般式(2)又は(3)で表される置換基である。pは0〜2の整数である。)
Figure 0005145717
(式中、R〜Rは各々独立して水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換のアミノ基、直鎖,分岐若しくは環状のアルキル基、直鎖,分岐若しくは環状のアルコキシ基、炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基、又は炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリールオキシ基である。なお、RとRは互いに結合して環を形成してもよい。)
以下、本発明に関し詳細に説明する。
一般式(1)で表されるベンゾフルオレン化合物において、Mは炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基、又は炭素数5〜40の置換若しくは無置換のヘテロアリール基である。アリール基の例としては、一置換、二置換若しくは三置換のベンゼン骨格、ビフェニル骨格、ターフェニル骨格、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、スピロフルオレン骨格、ピレン骨格等が挙げられる。
ヘテロアリール基の例としては一置換、二置換若しくは三置換のカルバゾール骨格、オキサゾール骨格、オキサジアゾール骨格、チアゾール骨格等が挙げられる。また、Mはメチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等のアリール基、ピリジル基、チエニル基、カルバゾイル基等のヘテロアリール基等の置換基を有していてもよい。
中でも、Mが2置換のベンゼン骨格、ビフェニル骨格、フルオレン骨格、ターフェニル骨格、ナフタレン骨格、又はスピロフルオレン骨格である前記一般式(4)で表されるベンゾフルオレン化合物が、低電圧化を実現するための一つの要因である正孔移動度が高いという点で好ましい。
一般式(1)において、Ar〜Arは各々独立して炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基、又は炭素数5〜40の置換若しくは無置換のヘテロアリール基である。但し、Ar〜Arのうち少なくとも一つは、下記一般式(2)又は(3)で表される置換基である。
Figure 0005145717
(式中、R〜Rは各々独立して水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換のアミノ基、直鎖,分岐若しくは環状のアルキル基、直鎖,分岐若しくは環状のアルコキシ基、炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基、又は炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリールオキシ基である。なお、RとRは互いに結合して環を形成してもよい。)
Ar〜Arにおける炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基としては、具体的に例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、2−アントリル基、9−アントリル基、2−フルオレニル基、4−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、2−メチルフェニル基、4−エチルフェニル基、3−エチルフェニル基、2−エチルフェニル基、4−n−プロピルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、2−イソプロピルフェニル基、4−n−ブチルフェニル基、4−イソブチルフェニル基、4−sec−ブチルフェニル基、2−sec−ブチルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、3−tert−ブチルフェニル基、2−tert−ブチルフェニル基、4−n−ペンチルフェニル基、4−イソペンチルフェニル基、2−ネオペンチルフェニル基、4−tert−ペンチルフェニル基、4−n−ヘキシルフェニル基、4−(2’−エチルブチル)フェニル基、4−n−ヘプチルフェニル基、4−n−オクチルフェニル基、4−(2’−エチルヘキシル)フェニル基、4−tert−オクチルフェニル基、4−n−デシルフェニル基、4−n−ドデシルフェニル基、4−n−テトラデシルフェニル基、4−シクロペンチルフェニル基、4−シクロヘキシルフェニル基、4−(4’−メチルシクロヘキシル)フェニル基、4−(4’−tert−ブチルシクロヘキシル)フェニル基、3−シクロヘキシルフェニル基、2−シクロヘキシルフェニル基、4−エチル−1−ナフチル基、6−n−ブチル−2−ナフチル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,4−ジエチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,6−ジエチルフェニル基、2,5−ジイソプロピルフェニル基、2,6−ジイソブチルフェニル基、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル基、2,5−ジ−tert−ブチルフェニル基、4,6−ジ−tert−ブチル−2−メチルフェニル基、5−tert−ブチル−2−メチルフェニル基、4−tert−ブチル−2,6−ジメチルフェニル基、9−メチル−2−フルオレニル基、9−エチル−2−フルオレニル基、9−n−ヘキシル−2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、9,9−ジエチル−2−フルオレニル基、9,9−ジ−n−プロピル−2−フルオレニル基、4−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル基、2−メトキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、3−エトキシフェニル基、2−エトキシフェニル基、4−n−プロポキシフェニル基、3−n−プロポキシフェニル基、4−イソプロポキシフェニル基、2−イソプロポキシフェニル基、4−n−ブトキシフェニル基、4−イソブトキシフェニル基、2−sec−ブトキシフェニル基、4−n−ペンチルオキシフェニル基、4−イソペンチルオキシフェニル基、2−イソペンチルオキシフェニル基、4−ネオペンチルオキシフェニル基、2−ネオペンチルオキシフェニル基、4−n−ヘキシルオキシフェニル基、2−(2’−エチルブチル)オキシフェニル基、4−n−オクチルオキシフェニル基、4−n−デシルオキシフェニル基、4−n−ドデシルオキシフェニル基、4−n−テトラデシルオキシフェニル基、4−シクロヘキシルオキシフェニル基、2−シクロヘキシルオキシフェニル基、2−メトキシ−1−ナフチル基、4−メトキシ−1−ナフチル基、4−n−ブトキシ−1−ナフチル基、5−エトキシ−1−ナフチル基、6−メトキシ−2−ナフチル基、6−エトキシ−2−ナフチル基、6−n−ブトキシ−2−ナフチル基、6−n−ヘキシルオキシ−2−ナフチル基、7−メトキシ−2−ナフチル基、7−n−ブトキシ−2−ナフチル基、2−メチル−4−メトキシフェニル基、2−メチル−5−メトキシフェニル基、3−メチル−4−メトキシフェニル基、3−メチル−5−メトキシフェニル基、3−エチル−5−メトキシフェニル基、2−メトキシ−4−メチルフェニル基、3−メトキシ−4−メチルフェニル基、2,4−ジメトキシフェニル基、2,5−ジメトキシフェニル基、2,6−ジメトキシフェニル基、3,4−ジメトキシフェニル基、3,5−ジメトキシフェニル基、3,5−ジエトキシフェニル基、3,5−ジ−n−ブトキシフェニル基、2−メトキシ−4−エトキシフェニル基、2−メトキシ−6−エトキシフェニル基、3,4,5−トリメトキシフェニル基、4−フェニルフェニル基、3−フェニルフェニル基、2−フェニルフェニル基、4−(4’−メチルフェニル)フェニル基、4−(3’−メチルフェニル)フェニル基、4−(4’−メトキシフェニル)フェニル基、4−(4’−n−ブトキシフェニル)フェニル基、2−(2’−メトキシフェニル)フェニル基、4−(4’−クロロフェニル)フェニル基、3−メチル−4−フェニルフェニル基、3−メトキシ−4−フェニルフェニル基、9−フェニル−2−フルオレニル基、4−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、2−フルオロフェニル基、4−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、2−クロロフェニル基、4−ブロモフェニル基、2−ブロモフェニル基、4−クロロ−1−ナフチル基、4−クロロ−2−ナフチル基、6−ブロモ−2−ナフチル基、2,3−ジフルオロフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、2,5−ジフルオロフェニル基、2,6−ジフルオロフェニル基、3,4−ジフルオロフェニル基、3,5−ジフルオロフェニル基、2,3−ジクロロフェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、2,5−ジクロロフェニル基、3,4−ジクロロフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、2,5−ジブロモフェニル基、2,4,6−トリクロロフェニル基、2,4−ジクロロ−1−ナフチル基、1,6−ジクロロ−2−ナフチル基、2−フルオロ−4−メチルフェニル基、2−フルオロ−5−メチルフェニル基、3−フルオロ−2−メチルフェニル基、3−フルオロ−4−メチルフェニル基、2−メチル−4−フルオロフェニル基、2−メチル−5−フルオロフェニル基、3−メチル−4−フルオロフェニル基、2−クロロ−4−メチルフェニル基、2−クロロ−5−メチルフェニル基、2−クロロ−6−メチルフェニル基、2−メチル−3−クロロフェニル基、2−メチル−4−クロロフェニル基、3−クロロ−4−メチルフェニル基、3−メチル−4−クロロフェニル基、2−クロロ−4,6−ジメチルフェニル基、2−メトキシ−4−フルオロフェニル基、2−フルオロ−4−メトキシフェニル基、2−フルオロ−4−エトキシフェニル基、2−フルオロ−6−メトキシフェニル基、3−フルオロ−4−エトキシフェニル基、3−クロロ−4−メトキシフェニル基、2−メトキシ−5−クロロフェニル基、3−メトキシ−6−クロロフェニル基、5−クロロ−2,4−ジメトキシフェニル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
Ar〜Arにおける炭素数5〜40の置換若しくは無置換のヘテロアリール基としては、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子を含有する芳香環基であり、例えば、4−キノリル基、4−ピリジル基、3−ピリジル基、2−ピリジル基、3−フリル基、2−フリル基、3−チエニル基、2−チエニル基、2−オキサゾリル基、2−チアゾリル基、2−ベンゾオキサゾリル基、2−ベンゾチアゾリル基、2−ベンゾイミダゾリル基などの複素環基を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
一般式(2)又は(3)において、R〜Rは各々独立して水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換のアミノ基、直鎖,分岐若しくは環状のアルキル基、直鎖,分岐若しくは環状のアルコキシ基、炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基、又は炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリールオキシ基である。なお、RとRは互いに結合して環を形成してもよい。
〜Rにおける直鎖,分岐若しくは環状のアルキル基としては、炭素数1〜18の直鎖,分岐若しくは環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ステアリル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基、1,3−シクロヘキサジエニル基、2−シクロペンテン−1−イル基等を挙げることができる。
〜Rにおける直鎖,分岐若しくは環状のアルコキシ基としては、炭素数1〜18の直鎖,分岐若しくは環状のアルコキシ基が挙げられ、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ステアリルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等を例示することができる。
〜Rにおける炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基としては、具体的には、フェニル基、4−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、2−メチルフェニル基、4−エチルフェニル基、3−エチルフェニル基、2−エチルフェニル基、4−n−プロピルフェニル基、4−n−ブチルフェニル基、4−イソブチルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、4−シクロペンチルフェニル基、4−シクロヘキシルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、4−(1−ナフチル)フェニル基、4−(9−アントリル)フェニル基、4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル基、4−ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−フェナントリル基、9−アントリル基、10−フェニル−9−アントリル基、10−ビフェニル−9−アントリル基、9,9−ジメチル−フルオレン−2−イル基、7−フェニル−9,9−ジメチル−フルオレン−2−イル基等の他、前記Ar〜Arで例示した置換基を挙げることもできる。
また、R〜Rにおける炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリールオキシ基としては、具体的には、フェノキシ基、p−tert−ブチルフェノキシ基、3−フルオロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基等を挙げることができる。
〜Rにおけるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素原子が挙げられる。
〜Rにおける置換若しくは無置換のアミノ基としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、フェニルアミノ基、m−トリルアミノ基、p−トリルアミノ基、1−ナフチルアミノ基、2−ナフチルアミノ基、4−ビフェニルアミノ基等のモノ置換アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジ(m−トリル)アミノ基、ジ(p−トリル)アミノ基、N−(m−トリル)フェニルアミノ基、N−(p−トリル)フェニルアミノ基、N−(1−ナフチル)フェニルアミノ基、N−(2−ナフチル)フェニルアミノ基、N−(4−ビフェニル)フェニルアミノ基、ジ(4−ビフェニル)アミノ基、ジ(2−ナフチル)アミノ基、ビス(アセトキシメチル)アミノ基、ビス(アセトキシエチル)アミノ基、ビス(アセトキシプロピル)アミノ基、ビス(アセトキシブチル)アミノ基、ジベンジルアミノ基等を例示することができるが、上記置換基に限定されるものではない。
本発明の好ましい具体例としては、上記一般式(1)において、pが1であり、Mが2置換のビフェニル骨格又はターフェニル骨格であるベンゾフルオレン化合物である。より好ましくは、Mが2置換のビフェニル骨格である上記一般式(4)で表されるベンゾフルオレン化合物である。
更に好ましい具体例としては、上記一般式(4)において、Ar又はArのいずれかとAr又はArのいずれかが上記一般式(2)又は(3)で表される基であるベンゾフルオレン化合物である。より好ましくは、上記一般式(4)において、Ar=Ar、Ar=Arを満たし、Ar又はArのいずれかが上記一般式(2)又は(3)であるベンゾフルオレン化合物である。
また、上記一般式(2)又は(3)において、RとRは互いに結合して環を形成してもよい。具体的には、下記一般式(5)又は(6)で表されるベンゾフルオレン化合物が挙げられ、特に、この化合物は素子の効率及び耐久性の面で好ましい。
Figure 0005145717
(式中、R,R,R11,R12は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換のアミノ基、直鎖,分岐若しくは環状のアルキル基、直鎖,分岐若しくは環状のアルコキシ基、炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基、又は炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリールオキシ基であり、R,R10は炭素数1〜6のアルキレン基、又は炭素数6〜12のアリーレン基を表す。Arは炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基、又は炭素数5〜40の置換若しくは無置換のヘテロアリール基を表す。)
上記一般式(5)又は(6)で表されるベンゾフルオレン化合物において、R,R,R11,R12は、上記一般式(2)又は(3)で表されるR〜Rと同一の置換基が挙げられる。R,R10としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラエチレン基等のアルキレン基、フェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基が挙げられる。Arにおける炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基、又は炭素数5〜40の置換若しくは無置換のヘテロアリール基としては、上記一般式(1)で表されるMと同一の置換基が挙げられる。
以下に好ましい化合物を例示するが、これらの化合物に限定されるものではない。
Figure 0005145717
Figure 0005145717
Figure 0005145717
Figure 0005145717
Figure 0005145717
Figure 0005145717
Figure 0005145717
前記一般式(1)で表されるベンゾフルオレン化合物は、公知の方法(Tetrahedron Letters,39,2367(1998))により合成することができる。例えば、Mがビフェニルである下記一般式(9)で表されるジハロビフェニル化合物と下記一般式(10)又は(11)で表されるアミン化合物を塩基の存在下、銅触媒又はパラジウム触媒を用いて反応させ、合成することができる。
Figure 0005145717
(式中、Xはハロゲン原子を表し、R13,R14は上記一般式(5)で表されるR11,R12と同一の置換基を表す。)
Figure 0005145717
(式中、R15〜R18は、上記一般式(2)で表されるR〜Rと同一の置換基を表す。)
本発明のベンゾフルオレン化合物は、従来の材料以上に駆動電圧の改善と高い電力効率が期待される。更に高いガラス転移温度を有するため素子寿命の改善も期待できる。従って、有機EL素子若しくは電子写真感光体等の正孔注入材料、正孔輸送材料又は発光材料としてのみでなく、光電変換素子、太陽電池、イメージセンサー等の有機光導電材料の分野にも応用できる。
本発明による上記一般式(1)で表されるベンゾフルオレン化合物は、従来の材料以上に低電圧駆動と高い電力効率、更に高いガラス転移温度を有するため素子寿命の改善が期待できる。そのため、有機EL素子若しくは電子写真感光体等の正孔輸送材料又は発光材料等として利用できる。
以下、本発明を実施例に基づき、更に詳細に説明する。
なお、実施例で得られた化合物の同定は、H−NMR測定、13C−NMR測定及びFDMS測定により行った。
H−NMR測定、13C−NMR測定及びFDMS測定は、各々バリアン社製 Gemini200、日立製作所製 M−80Bを使用して実施した。
合成例1 (化合物1aの合成[下記(12)式参照])
300mlナス型フラスコに、ジイソプロピルアミン46.0g(455mmol)、ジクロロメタン150mlを加え、反応液を5℃以下に冷却した。2−ブロモベンゾイルクロリド 25g(114mmol)を反応温度が5℃を超えないように滴下した後、室温下一晩攪拌した。反応液を常圧濃縮し、ジクロロメタン又は過剰のジイソプロピルアミンを留去した後、トルエン及び水を加えて抽出した。有機層は、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、濃縮して2−ブロモ−N,N’−ジイソプロピルベンズアミドを無色結晶として単離した。なお、生成物は精製せずに、そのまま次の反応に用いた。
次に、200mlナス型フラスコに、得られた2−ブロモ−N,N’−ジイソプロピルベンズアミド 7.5g(26.3mmol)、1−ナフチルボロン酸 5.1g(29.1mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム150mg(0.13mmol)、20重量%の炭酸ナトリウム水溶液38.5g及びテトラヒドロフラン60mlを加え、還流下一晩過熱攪拌した。室温まで冷却後、水を加え抽出した。得られた有機層は、飽和食塩水による洗浄、無水硫酸マグネシウムによる乾燥処理の後、濃縮し淡褐色の結晶が得られた。更に、シリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/トルエン)を用いて精製し、無色の結晶7.1g(収率82%)を単離した。H−NMR測定により目的物であることを確認した。
次に、200mlナス型フラスコに、先に得られた2−(1−ナフチル)−N,N’−ジイソプロピルベンズアミド 4.0g(12mmol)、テトラヒドロフラン30mlを加えた。溶解した後、反応液を−78℃まで冷却し、リチウムジイソプロピルアミド(1.5M シクロヘキサン溶液)16mlを滴下した。
滴下終了後、温度を保持しながら3時間攪拌し、更に室温下で一晩攪拌した。
常法処理の後、シリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/トルエン)により無色の結晶1.5g(収率54%)を化合物1aとして単離した。融点は158−160℃であり、文献値(J.Org.Chem.,56,5,1683(1991))と一致したことから、ベンゾ[c]フルオレノンと同定した。
次に、ベンゾ[c]フルオレノン3.0g(13mmol)、98%ヒドラジン1.6g、水酸化ナトリウム2.35g、ジエチレングリコール40mlを200mlナス型フラスコに加え、160℃で18時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却後、クロロホルムにて抽出した。硫酸マグネシウムにて乾燥後、濃縮し濃褐色の結晶を得た。更に、シリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/トルエン)により精製し、無色の結晶を2.4g単離した(収率85%)。
H−NMR測定及びFDMS測定によりベンゾ[c]フルオレンであることを確認した。
得られたベンゾ[c]フルオレン5g(23.1mmol)をクロロホルム30mlに溶解し、少量のヨウ素を加えてから、臭素3.7g(23.1mmol)を攪拌しながら室温下で滴下した。反応終了後、チオ硫酸ナトリウムにて過剰の臭素を中和してから、クロロホルムにて抽出した。飽和食塩水にて洗浄、硫酸マグネシウムによる乾燥の後、抽出液を濃縮し淡黄色の結晶を得た。トルエンにて再結晶し、化合物2aを無色結晶として5.4g単離した(収率79%)。
Figure 0005145717
合成例2 (化合物4aの合成[下式(13)参照])
200mlナス型フラスコに、2−ブロモベンズアルデヒド 6.45g(34.9mmol)、1−ナフチルボロン酸 5.0g(29.1mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム 0.15g、テトラヒドロフラン60ml、炭酸カリウム10g(73mmol)、水20mlを加え、一晩加熱還流した。飽和塩化アンモニウム水溶液及び飽和食塩水による洗浄、無水硫酸マグネシウムによる乾燥の後、抽出液を濃縮し黄色の結晶を得た。シリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/トルエン)により精製し、2−(1−ナフチル)ベンズアルデヒドを5.4g得た(収率81%)。
同定は、H−NMR測定により行った。
H−NMR(CDCl);9.63(s,1H)、8.12(d,1H)、7.94(d,2H)、7.40−7.71(m,8H)
次に、200mlナス型フラスコに、2−(1−ナフチル)ベンズアルデヒド 8.0g(34.4mmol)とテトラヒドロフラン50mlを加えた後、反応液の温度を−30℃以下に冷却した、その後、メチルマグネシウムクロリド(1.4mol/lのトルエン/テトラヒドロフラン溶液)38mlを滴下した。更に、−5〜0℃で1時間、室温で一晩攪拌し、1N塩酸水溶液60mlを滴下して反応を終了させた。テトラヒドロフランを加え、抽出して得られた有機層は、水、飽和食塩水により洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、ヘキサンで再結晶し、化合物3aを7.68g(100%純度として収率90%、無色結晶、融点116〜118℃)得た。
なお、H−NMR測定により、化合物3aは異性体の混合物であることが分かった。
次に、200mlナス型フラスコに、上記で得られた化合物3a 6.0g(24.2mmol)、クロロホルム60mlを加えた後、三フッ化ホウ素エーテル錯体7.4g(52.3mmol)を50℃で滴下した。更に同温度で5時間反応させた。水80mlを加え、有機層を抽出した。有機層は水100mlで3回洗浄し、更に飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、クルードの7−メチル−ベンゾ[c]フルオレンを得た。更に、シリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/トルエン)で精製し、7−メチル−ベンゾ[c]フルオレンを無色結晶として3.34g得た(収率60%、融点81〜83℃)。
同定は、H−NMR測定により行った。
H−NMR(CDCl);8.77(d,1H)、8.37(d,1H)、7.97(d,1H)、7.85(d,1H)、7.26−7.70(m,6H)、4.02(1H,q)、1.59(d,3H)
200mlナス型フラスコに、7−メチル−ベンゾ[c]フルオレン 3.3g(14.5mmol)、ジメチルスルホキシド70ml、45%水酸化ナトリウム水溶液5.5g、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド3.29g(14.4mmol)を加えた。50℃でヨウ化メチル4.20g(29.6mmol)を滴下し、その後、同温度で一晩加熱攪拌した。室温まで冷却後、トルエン100ml、水50mlを加えて抽出した。水、飽和食塩水により洗浄後、硫酸マグネシウムにより乾燥した。得られた有機層を濃縮することで、淡褐色の結晶を得た。更に、シリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/トルエン)により精製することで、目的とする化合物4aを収率77%で得た。
同定は、H−NMR測定、FDMS測定により行った。
H−NMR(CDCl);8.76(d,1H)、8.34(d,1H)、7.95(d,1H)、7.86(d,1H)、7.36−7.67(m,6H)、1.55(s,6H)
FDMS;244
Figure 0005145717
合成例3 (化合物5aの合成)
100mlナス型フラスコに、合成例2で得られた化合物4a 2.20g(9.02mmol)とジメチルホルムアミド15mlを加え、室温下、N−ブロモスクシンイミド(NBS)1.65g(9.28mmol)のジメチルホルムアミド溶液を滴下し、一晩攪拌した。次に、反応液にトルエン50ml及び水30mlを加え、有機層を抽出した。常法処理の後、反応液を濃縮し、淡褐色の結晶を得た。メタノールで再結晶し、2.55gの無色の結晶を得た(収率88%、融点105〜107℃)。
同定は、H−NMR測定により行った。
H−NMR(CDCl);8.76(d,1H)、8.34−8.41(dd,2H)、7.93(s,1H)、7.38−7.70(m,5H)、1.54(s,6H)
Figure 0005145717
合成例4 (化合物6aの合成)
300mlナス型フラスコに、合成例1で得られた化合物2a (5−ブロモ−7H−ベンゾ[c]フルオレン) 10g(33.9mmol)、ジメチルスルホキシド80ml、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド1.15g(6.2mmol)、50%水酸化ナトリウム15g(187mmol)を加えた。室温下で、1,4−ジブロモブタン 7.39g(34.2mmol)とジメチルスルホキシド20mlの混合液を滴下し、同温度で2時間、更に80℃で5時間攪拌した。
水70mlを加えた後、トルエン100mlを加え抽出した。水、飽和食塩水による洗浄の後、有機層は無水硫酸マグネシウムにより乾燥した。トルエンを留去させた後、淡黄色の粘調油状物を10.1g得た(収率85%)。
同定は、H−NMR測定、13C−NMR測定により行った。
H−NMR(CDCl);2.17(br−s,8H)、7.32−7.67(m,5H)、7.91(s,1H)、8.29(d,1H)、8.37(d,1H)、8.74(d,1H)
13C−NMR(CDCl);27.6, 39.2, 57.5, 122.7, 122.8, 124.1, 125.7, 126.2, 126.9, 127.0, 127.3, 130.3, 131.2, 133.5, 139.6, 153.2, 155.6
Figure 0005145717
合成例5
500mlナス型フラスコに、2−ブロモ安息香酸エチル 9.16g(40.0mmol)、6−メトキシナフタレンボロン酸 8.89g(44.0mmol)、テトラヒドロフラン300ml及び20%炭酸ナトリウム水溶液94gを加えた。窒素気流下、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム0.46gを添加して一晩加熱還流した。飽和塩化アンモニウム水溶液及び飽和食塩水による洗浄、無水硫酸マグネシウムによる乾燥の後、抽出液を濃縮し薄褐色の油状物を得た。シリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル)により精製し、化合物1b(無色油状物)を10.52g得た(収率86%)。
同定は、H−NMR測定、13C−NMR測定により行った。
H−NMR(CDCl);0.89(t,3H,J=7.2Hz)、3.93(s,3H)、4.06(q,2H,J=7.2Hz)、7.11−7.20(m,2H)、7.36−7.59(m,4H)、7.69−7.78(m,3H)、7.85(d,1H,J=7.4Hz)
13C−NMR(CDCl);13.8, 55.4, 61.0, 105.6, 119.0, 126.2, 126.7, 127.0, 127.5, 128.7, 129.5, 129.7, 130.9, 131.1, 131.4, 133.6, 136.7, 142.3, 157.7, 168.9
Figure 0005145717
次に、200mlナス型フラスコに、化合物1b 9.19g(30mmol)とシクロペンチルメチルエーテル60mlを加えた後、反応液の温度を50℃に加熱した、その後、メチルマグネシウムクロリド(1.4mol/lのトルエン/テトラヒドロフラン溶液)56mlを滴下し、更に同温で一晩攪拌した。室温に冷却後、水30mlを滴下して反応を終了させた。分層後の有機層は、更に水150mlで洗浄し、溶媒を留去した。シリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/トルエン)により精製し、化合物2b(無色固体)を6.3g得た(収率72%)。
次に、100mlナス型フラスコに、上記で得られた化合物2b 3.36g(11.5mmol)、クロロホルム60mlを加えた後、三フッ化ホウ素エーテル錯体2.12g(15.0mmol)を50℃で滴下した。更に同温度で2時間反応させた。室温に冷却後水30mlを加えた。分層後、有機層は水150mlで洗浄し、溶媒を留去した。残渣はシリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/トルエン)で精製し、化合物3bを無色固体として2.17g(収率68.8%)得た。
なお、化合物2b、3bの同定は、H−NMR測定、13C−NMR測定により行った。
<化合物2b>
H−NMR(CDCl);1.47(s,6H)、1.90(br−s,1H)、3.92(s,3H)、7.02−7.48(m,6H)、7.60−7.79(m,4H)
13C−NMR(CDCl);32.7, 55.4, 74.1, 105.7, 119.3, 125.8, 126.0, 126.1, 127.4, 127.7, 128.2, 128.7, 129.4, 132.5, 133.4, 139.0, 139.9, 146.4, 157.8
<化合物3b>
H−NMR(CDCl);1.70(s,6H)、3.89(s,3H)、7.19−7.28(m,2H)、7.28−7.38(m,2H)、7.42−7.51(m,1H)、7.68−7.78(d,2H)、7.84(d,1H,J=8.6Hz)、8.12(d,1H,J=9.8Hz)
13C−NMR(CDCl);26.6, 48.6, 55.4, 107.9, 118.7, 119.4, 122.1, 125.3, 125.6, 126.6, 126.9, 127.3, 134.8, 135.3, 139.5, 147.6, 155.0, 156.7
Figure 0005145717
次に、100mlナス型フラスコに、化合物3b 2.0g(7.3mmol)、ジクロロメタン20mlを加え、0℃に反応液を冷却した。同温度を保持しながら、三臭化ホウ素を滴下した。滴下終了後、室温で一晩攪拌した。水10mlを冷却しながら滴下し反応を終了させた。ジクロロメタン20mlを加えて分層後、有機層を水100mlで洗浄した。無水硫酸マグネシウム処理後、シリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ジクロロメタン)に付し、化合物4bを1.84g(収率97%)得た。
4bは、更に、常法によりピリジン及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物と反応させることにより、化合物5bを3.0g得た(収率99%)。
生成物の同定は、H−NMR測定、13C−NMR測定、FDMS測定により行った。
<化合物4b>
H−NMR(CDCl);1.70(s,6H)、5.50(br−s,1H)、7.12−7.43(m,4H)、7.43−7.60(m,1H)、7.60−7.90(m,3H)、8.12(d,1H,J=8.8Hz)
13C−NMR(CDCl);26.6, 48.5, 111.5, 117.7, 119.3, 119.5, 122.1, 125.2, 125.9, 126.5, 128.8, 126.9, 134.7, 135.3, 139.4, 147.6, 152.5, 154.9
<化合物5b>
H−NMR(CDCl);1.74(s,6H)、7.36−7.59(m,4H)、7.78−7.96(m,3H)、8.02(d,1H,J=8.6Hz)、8.12(d,1H,J=9.2Hz)
FDMS;392
Figure 0005145717
合成例6
100mlナス型フラスコに、1−(2−(エトキシカルボニル)フェニル)−ナフタレン 1.00g(3.62mmol)、テトラヒドロフラン10mlを窒素雰囲気下加えた。反応液を50℃まで昇温し、フェニルマグネシウムブロミドのテトラヒドロフラン溶液(2mol/l)7.2mlを30分かけて滴下し、同温度で18時間攪拌した。室温まで冷却後、氷水で冷却しながら純水20mlを滴下した後、トルエン30mlで有機層を抽出した。更に、有機層は、純水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた有機層を濃縮することにより、化合物7aを黄色油状物として1.46g単離した。
引続き、100mlナス型フラスコに、7aを1.45g、酢酸25mlを加えた後、濃硫酸を数滴添加し、室温下18時間攪拌した。その後、反応液を分液ロートに移し、トルエン30ml、純水20mlを加え、有機層を抽出した。更に、有機層は、純水で中性になるまで洗浄した。飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣は、シリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/トルエン)により精製することで、化合物8aを淡黄色粉末として0.81g単離した(収率61%)。
同定は、H−NMR測定、FDMS測定により行った。
H−NMR(CDCl);7.21−7.33(m,11H)、7.46−7.89(m,7H)、8.36−8.40(d,1H)、8.77−8.81(d,1H)
FDMS;368
次に、化合物8aを合成例3に従い臭素化することにより、化合物9aを単離した。
同定は、FDMS測定により行った。
FDMS;446
Figure 0005145717
合成例7
300mlナス型フラスコに、2−ブロモ−6−(2−(エトキシカルボニル)フェニル)ナフタレン (6b)12g(33.8mmol)、脱水テトラヒドロフラン120mlを仕込み、室温下、フェニルマグネシウムブロミドのテトラヒドロフラン溶液(2mol/l)を60ml滴下した。滴下終了後、更に50℃で一晩加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却し、10%塩化アンモニウム水溶液100gを加えて反応を終了した。有機層は純水50gで3回洗浄し、更に硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を濾過・濃縮することで、化合物7bをオレンジ色油状物として17.3g得た。7bはそのまま次の工程に用いた。
100mlナス型フラスコに、上記で得られた7b 3.46g(6.76mmol)と酢酸14mlを仕込んだ後、室温下一晩攪拌した。その後、反応液を分液ロートに移し、トルエン50ml、純水50mlを加え、有機層を抽出した。更に、有機層は純水で中性になるまで洗浄した。飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、得られた残渣は、シリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/トルエン)により精製することで、化合物8bを白色粉末として1.3g単離した(収率42%)。
同定は、H−NMR測定、FDMS測定により行った。
H−NMR(CDCl);8.02(d,2H)、7.81−7.88(m,2H)、7.60(d,1H)、7.18−7.46(m,14H)
FDMS;446
Figure 0005145717
実施例1 (化合物(A1)の合成)
100mlナス型フラスコを用い、合成例3で得られた化合物5a 2g(6.2mmol)、アニリン0.58g(6.2mmol)、ナトリウム−tert−ブトキシド 0.83gをキシレン40mlに懸濁させ、窒素で系内を置換した。更に、窒素雰囲気下、酢酸パラジム3mg及びトリ−tert−ブチルホスフィン 8mgを添加し、125℃に加熱した。所定温度で20時間熟成した後、反応液を室温まで冷却した。水20mlを添加後、抽出を行い、有機相を濃縮した。得られた濃縮物は、精製せずにそのまま次工程に使用した。
次に、200mlナス型フラスコを用い、4,4’−ジヨードビフェニル 3.0g(7.4mmol)、先に得られた5−フェニルアミノ−7,7−ジメチル−7H−ベンゾ[c]フルオレン 5.1g(15.2mmol)、ナトリウム−tert−ブトキシド 1.7g(17.7mmol)をキシレン50mlに懸濁させ、窒素で系内を置換した。更に、窒素雰囲気下、酢酸パラジム3mg及びトリ−tert−ブチルホスフィン 8mgを添加し、125℃に加熱した。所定温度で20時間熟成した後、反応液を室温まで冷却した。水20mlを添加後、抽出を行い、有機相を濃縮した。トルエンにて再結晶し、化合物(A1)を4.98g得た(収率82%)。
化合物(A1)のガラス転移温度は162℃であり、従来材料である4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル、2,7−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]−9,9’−ジメチルフルオレン、N,N’−ジ[2−(9,9−ジメチルフルオレニル)]−N,N’−ジ(4−ビフェニル)ベンジジン等のガラス転移温度(各々、96℃、110℃、120℃)より約40℃以上高かった。
実施例2 (化合物(B3)の合成)
化合物5aの代わりに、合成例4で合成した化合物6aを用いて、実施例1と同様な操作を行い、化合物(B3)を5.0g単離した(収率78%)。
実施例3 (化合物(F1)の合成)
300mlナス型フラスコに、アニリン894mg(9.6mmol)、ナトリウム−tert−ブトキシド 923mg(9.6mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム44mg(0.048mmol)、ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン160mg(0.288mmol)、トルエン130mlを窒素雰囲気下加えた。反応液を80℃に加熱した後、合成例5で合成した化合物5b 2.51g(6.4mmol)のトルエン(30ml)溶液を30分かけて滴下し、同温で一晩攪拌した。室温に冷却後、水200mlを加え反応を終了させた。分層後の有機層は、更に水600mlで洗浄し、無水硫酸マグネシウム処理後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/トルエン)により精製し、目的とする二級アミンを微紫色固体として1.76g得た(収率81%)。
化合物の同定は、H−NMR測定、FDMS測定により行った。
H−NMR(CDCl);1.74(s,6H)、5.88(br−s,1H)、6.94−7.04(m,1H)、7.12−7.40(m,7H)、7.42−7.58(m,2H)、7.62−7.86(m,3H)、8.12(d,1H,J=9.2Hz)
FDMS;335
次に、100mlナス型フラスコに、上記二級アミン1.76g(5.25mmol)、4,4’−ジヨードビフェニル 1.02g(2.5mmol)、ナトリウム−tert−ブトキシド 505mg(5.25mmol)、酢酸パラジウム11.8mg(0.053mmol)、オルトキシレン60mlを窒素雰囲気下加えた。この反応液に、トリ(tert−ブチル)ホスフィン(0.21mmol)トルエン溶液0.21mlを滴下後、反応液を120℃に加熱した。2時間後、室温まで冷却し、水200mlを加え反応を終了させた。分層後の有機層は、更に水600mlで洗浄し、無水硫酸マグネシウム処理後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/トルエン)により精製し、化合物(F1)を微黄色固体として1.89g得た(収率92%、融点=292℃)。
化合物の同定は、H−NMR測定、FDMS測定により行った。
H−NMR(CDCl);1.72(s,12H)、7.00−7.12(br−t,2H)、7.12−7.68(m,28H)、7.70−7.86(m,4H)、8.10(d,2H,J=9.2Hz)
FDMS;820
なお、化合物(F1)のガラス転移温度は172℃であり、従来材料である4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル、2,7−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]−9,9’−ジメチルフルオレン、N,N’−ジ[2−(9,9−ジメチルフルオレニル)]−N,N’−ジ(4−ビフェニル)ベンジジン等のガラス転移温度(各々、96℃、110℃、120℃)より約50℃以上高かった。
実施例4 (化合物(B2)の合成)
合成例6で得られた化合物9a 3.31g(7.43mmol)、4,4’−ジフェニルベンジジン 1.22g(3.63mmol)、ナトリウム−tert−ブトキシド 0.84gをキシレン25mlに懸濁させ、窒素で系内を置換した。更に、窒素雰囲気下、酢酸パラジウム8mg及びトリ−tert−ブチルホスフィン 32mgを添加し、125℃に加熱した。所定温度で20時間熟成した後、反応液を室温まで冷却した。水20mlを添加後、抽出を行い、有機相を濃縮した。トルエンにて再結晶し、化合物(B2)を黄色粉末として2.36g得た(収率61%)。
同定は、FDMS測定により行った。
FDMS;1068
実施例5 (化合物(F6)の合成)
化合物9aの代わりに、合成例7で得られた化合物8bを用いて実施例4と同様の反応を行い、化合物(F6)を合成した。
同定は、FDMS測定により行った。
FDMS;1068
実施例6 (素子作製)
厚さ130nmのITO透明電極を有するガラス基板をアセトン、イソプロピルアルコールで順次超音波洗浄し、次いで、イソプロピルアルコールで煮沸洗浄した後、乾燥した。更に、UV/オゾン処理したものを透明導電性支持基板として使用した。ITO透明電極上に、銅フタロシアニンを真空蒸着法により25nmの膜厚で成膜した。次に、化合物(A1)を真空蒸着法により45nmの膜厚で成膜し、正孔輸送層を形成した。次に、アルミニウムトリスキノリノール錯体を真空蒸着法により60nmの膜厚で成膜し、電子輸送層を形成した。なお、上記有機化合物の蒸着条件は、真空度1.0×10−4Pa、成膜速度0.3nm/秒の同一条件で成膜した。
次に、陰極としてLiFを0.5nm、Alを100nm蒸着し、金属電極を形成した。
更に、窒素雰囲気下、保護用ガラス基板を重ね、UV硬化樹脂で封止した。このようにして得られた素子に、ITO電極を正極、LiF−Al電極を負極にして、4.5Vの直流電圧を印加すると7.5mA/cmの電流密度が得られ、401cd/mの輝度で緑色の発光が観測された。
比較例1〜2
化合物(A1)の代わりに、NPD、又は2,7−ビス(ナフチルフェニルアミノ)−9,9−ジメチルフルオレンを用い、実施例6に準じて素子を作成した。
電流密度7.5mA/cm時の効率及び寿命に関する評価結果を表1に示す。
Figure 0005145717
実施例7
化合物(A1)の代わりに、化合物(F1)を正孔輸送層に用い、実施例6と同様な操作を行い、有機EL素子を作製した。定電流密度=20mA/cmの条件下測定すると、駆動電圧=5.67V、電流効率=4.5cd/A、電力効率=2.5lm/Wの値を示した。評価結果を表2に示す。
実施例8
化合物(F1)を化合物(A1)に変更した以外は、実施例7と同様な素子を作成した。20mA/cmの定電流密度条件下で駆動させた際の値を表2に示す。
比較例3
化合物(F1)をNPDに変更した以外は、実施例7と同様な素子を作成した。20mA/cmの定電流密度条件下で駆動させた際の値を表2に示す。
Figure 0005145717
実施例9
厚さ130nmのITO透明電極を有するガラス基板をアセトン、イソプロピルアルコールで順次超音波洗浄し、次いで、イソプロピルアルコールで煮沸洗浄した後、乾燥した。更に、UV/オゾン処理したものを透明導電性支持基板として使用した。ITO透明電極上に、銅フタロシアニンを真空蒸着法により25nmの膜厚で成膜した。次に、化合物(A1)を真空蒸着法により45nmの膜厚で成膜し、正孔輸送層を形成した。次に、TBADNをホスト材、TBPeをドーパント材として、重量比=99:1で共蒸着し、40nmの膜厚を形成した。次に、アルミニウムトリスキノリノール錯体を真空蒸着法により20nmの膜厚で成膜し、電子輸送層を形成した。なお、上記有機化合物の蒸着条件は、真空度1.0×10−4Pa、成膜速度0.3nm/秒の同一条件で成膜した。
次に、陰極としてLiFを0.5nm、Alを100nm蒸着し、金属電極を形成した。
更に、窒素雰囲気下、保護用ガラス基板を重ね、UV硬化樹脂で封止した。このようにして得られた素子に、ITO電極を正極、LiF−Al電極を負極にして、20mA/cmの定電流密度条件下で駆動させた際の輝度、駆動電圧、電流効率、電力効率及び輝度半減寿命は、各々940cd/m、5.51V、4.7cd/A、2.7lm/W、450hrであった。結果を表3に示す。
Figure 0005145717
実施例10
化合物(A1)を化合物(F1)に変更した以外は、実施例9と同様な素子を作成した。20mA/cmの定電流密度条件下で駆動させた際の値を表3に示す。
実施例11
化合物(A1)を化合物(F6)に変更した以外は、実施例9と同様な素子を作成した。20mA/cmの定電流密度条件下で駆動させた際の値を表3に示す。
比較例4
化合物(A1)をNPDに変更した以外は、実施例9と同様な素子を作成した。20mA/cmの定電流密度条件下で駆動させた際の値を表3に示す。
Figure 0005145717

Claims (4)

  1. 一般式(1)で表されるベンゾフルオレン化合物。
    Figure 0005145717
    (式中、Mはビフェニル骨格であり、Ar〜Arは各々独立して、下記一般式(2)若しくは(3)で表される置換基、又はフェニル基、フェニルフェニル基、ナフチル基である。但し、Ar〜Arのうち少なくとも一つは、下記一般式(2)又は(3)で表される置換基である。pはである。)
    Figure 0005145717
    (式中、R〜Rは各々独立して炭素数1〜18の直鎖,分岐若しくは環状のアルキル基、又はフェニル基であり、R〜R は水素原子である。なお、RとRがアルキル基の場合、互いに結合して環を形成してもよい。)
  2. 一般式(1)で表されるベンゾ[c]フルオレン化合物。
    Figure 0005145717
    (式中、Mはビフェニル骨格であり、Ar〜Arは各々独立して、下記一般式(2)で表される置換基、又はフェニル基、フェニルフェニル基、ナフチル基である。但し、Ar〜Arのうち少なくとも一つは、下記一般式(2)で表される置換基である。pはである。)
    Figure 0005145717
    (式中、R〜Rは各々独立して炭素数1〜18の直鎖,分岐若しくは環状のアルキル基、又はフェニル基であり、R〜R は水素原子である。なお、RとRがアルキル基の場合、互いに結合して環を形成してもよい。)
  3. 一般式(7)又は(8)で表されるハロベンゾフルオレン化合物。
    Figure 0005145717
    (式中、Xは、ヨウ素、臭素、又は塩素原子を表す。R〜Rは各々独立して炭素数1〜18の直鎖,分岐若しくは環状のアルキル基、又はフェニル基であり、R〜R は水素原子である。なお、RとRがアルキル基の場合、互いに結合して環を形成してもよい。)
  4. 請求項1に記載の化合物を正孔輸送層に用いることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
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