KR100889161B1 - 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 - Google Patents

Abstract

격벽은 기판 표면에 있어서의 표시 영역과 그 외측을 씌우는 층형의 격벽재를 설치하는 공정, 표시 영역과 그 외측에 걸치는 패터닝용 마스크를 설치하고, 그 때에 마스크에 있어서의 표시 영역의 외측에 배치되는 부분의 패턴을 격자형 패턴으로 하는 공정, 마스크에 의해 부분적으로 씌워진 상기 격벽재를 샌드블라스트에 의해 패터닝하는 공정 및 패터닝된 격벽재를 소성하는 공정에 의해 형성된다.

격벽, 마스크, 샌드블라스트, 서브 마스크, 플라즈마 디스플레이 패널

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 {METHOD FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL}

본 발명은 표시 영역 내에 격벽을 가진 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : PDP)을 제조하기 위한 격벽 형성 방법에 관한 것으로, 샌드블라스트법에 의한 격벽 형성에 적용된다.

컬러 표시에 이용되는 면방전형 PDP는 인접하는 셀끼리의 사이의 방전 간섭을 방지하기 위한 격벽을 갖는다. 격벽의 배치 패턴에는 표시 영역을 매트릭스 표시의 열(칼럼)마다 구획하는 스트라이프 패턴과, 셀마다 구획하는 메쉬 패턴이 있다. 스트라이프 패턴을 채용하는 경우에는, 평면에서 보아 띠형인 복수의 격벽이 표시 영역에 배치된다. 메쉬 패턴을 채용하는 경우에는, 평면에서 보아 모든 셀을 따로따로 둘러싸는 형상을 가진 하나의 격벽(이른바 박스 리브)이 표시 영역에 배치된다.

일반적으로 격벽은 저융점 유리의 소성체이고, 샌드블라스트법을 이용하여 형성된다. 도12는 종래의 격벽 형성 방법을 나타낸다. 도12에 있어서의 격벽 패턴은 스트라이프 패턴이다. 격벽은 다음 순서로 형성된다. (A) 유리 기판(101) 상에 저융점 유리 페이스트를 균일한 두께로 도포하여 건조시키고, 건조된 페이스 트로 이루어지는 층형의 격벽재(102a)를 마스크 재료인 감광성 레지스트막(103a)으로 피복한다. (B) 패턴 노광 및 현상을 포함하는 포토리소그래피에 의해 격벽에 대응하는 패턴의 마스크(103)를 형성한다. (C) 절삭재를 송풍하여 격벽재(102a)의 마스킹되어 있지 않은 부분을 절삭한다. 이 때, 마스크 패턴에 있어서의 복수의 띠의 길이 방향을 따라서 분사 노즐을 왕복 이동시켜 광범위한 격벽재(102a)를 균등하게 조금씩 파 내려간다. (D) 패터닝된 격벽재(102b) 상에 남은 마스크(103)를 제거한다. (E) 격벽재(102b)의 소성에 의해 격벽(112)을 얻는다. 소성에 있어서는 바인더의 소실에 수반하여 격벽재(102b)의 체적이 감소한다.

도12의 (C)와 같이, 샌드블라스트에서는 마스크(103)의 노즐 이동 방향(절삭재 분사구 이동 방향)의 단부에 있어서 격벽재(102b)가 마스크(103)의 하방으로 인입하도록 도려내는 사이드 컷트가 생긴다. 이는 노즐로부터 분출된 절삭재의 일부가 유리 기판(101)에서 반사되고, 또한 노즐로부터 나온 것과 부딪침으로써 노즐 이동 방향과 평행한 이동 성분을 갖게 되어, 이와 같은 성분을 가진 절삭재가 격벽 단부를 도려내기 때문이다. 사이드 컷트량은 절삭 비율을 높게 할수록 많아진다. 그 이유로서, 단위 시간당 절삭재가 분출하는 양을 증가시킨 경우, 상기 성분의 비율이 많아지기 때문이라 생각된다. 이하, 사이드 컷트를 일으키는 상기의 성분을 분류(噴流)라 칭한다. 이 사이드 컷트는 패터닝 불량의 원인인 절삭 도중에서의 마스크 박리를 일으킨다. 게다가, 사이드 컷트는 균일한 높이의 격벽(112)을 형성하는 것을 방해한다. 도12의 (D)와 같이 단부면이 만곡된 격벽재(102b)를 소성하면, 도12의 (E)와 같이 격벽(112)의 단부가 다른 부분보다도 높아진다. 구체적으 로는, 높이의 설계치가 140 ㎛인 격벽에 있어서는, 소성 전에는 약 200 ㎛의 높이를 갖고 있고, 소성에 의해 높이가 약 70 ％로 감소하는 동시에 단부가 다른 부분보다도 30 ㎛ 높아진다. 이 현상은 "튀어 오름"이라 불리우고, 그 원인은, 바닥부는 유리 기판(101)에 밀착하여 수축이 구속되는 데 반해, 정상부는 자유로움으로써 생기는 것이다. 튀어 오름은 격벽(112)을 가진 기판과 다른 기판을 포개는 PDP의 조립에 있어서, 기판끼리의 밀착을 불완전하게 한다. 밀착해야 할 면끼리의 사이에 간극이 있는 PDP에서는 표시를 위한 고주파 구동 전압의 인가에 수반하는 정전 흡입에 의해 기판이 국부적으로 진동하고, 그에 의해 미약한 동작음(버즈음)이 생긴다. 이 현상은 패널 각 부의 튀어 오름량과의 상관을 조사한 결과, 튀어 오름량을 기존의 약 1/2인 16 ㎛ 이하, 제조의 변동을 생각하면 바람직하게는 12 ㎛ 이하로 함으로써 방지할 수 있는 것이 판명되었다.

본 발명은 기판끼리의 밀착에 지장이 되는 돌기를 생기게 하는 일 없이, 표시 영역에 패턴 및 높이가 설계와 같은 격벽을 형성하는 것을 목적으로 하고 있다.

본 발명에 의한 격벽 형성 방법은 부분적으로 마스킹한 격벽재를 절삭재의 송풍에 의해 패터닝할 때에 표시 영역의 외측에 표시 영역 속의 격벽(메인 격벽)과 연결된 서브 격벽을 형성하도록 격벽재를 마스킹하고, 그에 의해 사이드 컷트를 표시 영역의 외측에 생기게 하고, 게다가 서브 격벽을 격자형 패턴으로 하여 사이드 컷트가 일어나기 쉬운 부위를 광범위하게 함으로써 사이드 컷트의 깊이를 저감한다. 사이드 컷트가 경미하면 마스크 박리는 일어나기 어렵고, 또한 소성시의 튀어 오름은 거의 없다.

또한, 보다 바람직한 실시 형태에서는 서브 격벽의 사이드 컷트를 보다 저감시키는 보조 격벽을 서브 격벽의 외측에 형성하도록 격벽재를 마스킹한다. 보조 격벽의 단부 모서리를 표시 영역으로부터 돌출시키면, 절삭시에 있어서의 서브 격벽을 보호하는 효과가 크다. 보조 격벽에 대해서도 기판의 밀착에 지장이 생기지 않도록 하기 위해 튀어 오름을 방지한다. 방지책으로서, 보조 격벽 패턴을 링 패턴으로 한다. 환형이면 열수축의 응력 집중이 완화되어 튀어 오름이 일어나기 어렵다. 다른 방지책으로서, 패턴의 치수를 일정치 이하로 한다. 구체적으로는 240 ㎛ 이하로 한다. 두께 200 ㎛의 격벽재를 소성하여 높이 140 ㎛의 격벽을 형성하는 경우에, 사이드 컷트의 깊이 방향의 패턴 치수가 240 ㎛ 이하이면 사이드 컷트 깊이가 50 ㎛라도 튀어 오름은 극히 근소하다. 복수개의 PDP 격벽을 동시에 형성하는 경우에는, 기판의 중앙부에서는 단부에 비해 절삭재의 릴리프가 적어 사이드 컷트가 진행되기 쉬우므로, 적어도 인접하는 표시 영역 사이에 보조 격벽을 설치하는 것이 바람직하다. 본 발명에 의한 격벽 형성 방법의 다른 다양한 구성에 대해서는 도면을 참조하면서 후술한다.

본 발명에 의하면 기판끼리의 밀착에 지장이 되는 돌기를 생기게 하는 일 없이, 표시 영역에 패턴 및 높이가 설계와 같은 격벽을 형성할 수 있으므로, 패터닝 불량에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 수율을 높이고, 또한 기판끼리의 밀착 불량에 의한 진동음이 생기지 않는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.

첨부한 도면을 참조하여, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.

도1은 본 발명의 실시 형태에 이용하는 샌드블라스트 장치의 개략도이다. 샌드블라스트 장치(90)는 컨베이어(91), 4개의 노즐(블라스트건이라고도 함)(92, 93, 94, 95), 유량 제어 블럭(96), 필터(97) 및 싸이클론(98)을 구비하고 있다. 컨베이어(91)는 가공실로 반입된 워크를 천천히 도면의 좌측으로부터 우측으로 이동시킨다. 노즐(92, 93, 94, 95)은 워크의 반송 방향에 대해 직교하는 방향으로 왕복 이동한다. 유량 제어 블럭(96)은 절삭재를 압축 가스에 혼합하여 노즐(92, 93, 94, 95)로 이송한다. 절삭재는 노즐(92, 93, 94, 95)의 선단부로부터 분출하여 워크를 절삭한다. 비산한 절삭재는 절삭칩과 함께 회수되어 필터(97)로 이송된다. 필터(97)는 절삭재보다 큰 절삭칩을 제거하는 역할을 한다. 싸이클론(98)은 필터(97)를 통과한 절삭재와 미소한 절삭칩을 분리한다. 싸이클론(98)에서 분리된 절삭재는 재이용하기 위해 유량 제어 블럭(96)으로 이송된다. 미소한 절삭칩은 집진기로 이송된다.

(제1 실시 형태)

도2는 제1 실시 형태의 마스크 패턴을 도시하는 평면도이다. 제1 실시 형태의 PDP의 격벽 패턴은 스트라이프 패턴이다. 격벽은, 기본적으로는 도12의 종래예와 마찬가지로 패널 재료인 유리 기판(1)의 전체면을 씌우는 층형의 격벽재(2)를 샌드블라스트에 의해 패터닝하고, 그 후에 격벽재(2)를 소성하는 순서로 형성된다. 종래예와의 차이는 패터닝에 이용하는 마스크(30)가 표시 영역(10)과 그 양측의 비표시 영역(11)에 걸치는 점이다. 표시 영역(10)이라 함은, 유리 기판(1)에 있어서의 셀이 형성되는 영역이고, 완성된 PDP의 표시면에 해당한다. 또한, 격벽재(2)의 형성에 대해서는 종래예와 마찬가지로 저융점 유리 페이스트를 유리 기판(1)에 도포하여 건조시키는 방법 및 저융점 유리의 그린 시트를 유리 기판(1)에 부착하는 방법이 있다. 마스크(30)는 감광성 레지스트로 이루어진다. 유리 기판(1)의 사이즈는, 예를 들어 32인치 사이즈의 PDP를 제조하는 경우에 있어서 1030 ㎜ × 650 ㎜이다.

마스크(30)에 있어서의 표시 영역(10)에 배치되는 부분(이하, 메인 마스크라 함)(3)의 패턴은 형성될 격벽에 대응하는 스트라이프 패턴이고, 도면의 상하 방향으로 복수의 곧은 띠로 이루어진다. 마스크(30)에 있어서의 표시 영역(10)의 외측에 배치되는 부분(이하, 서브 마스크라 함)(4)의 패턴은, 표시 영역(10)의 단부 모서리에 따른 띠형의 영역(13)을 격자형으로 구획하는 패턴이고, 표시 영역(10)의 패턴 연장에 대응하는 띠 및 이들과 직교하는 복수의 띠로 이루어진다.

스트라이프 패턴의 절삭에서는 띠의 길이 방향을 따라서 노즐을 이동시키는 것이 효과적이다. 도면의 상하 방향이 노즐 이동 방향(절삭재 분사구 이동 방향)이다. 노즐과 격벽재(2)를 상대적으로 왕복 이동시키는 절삭 공정에 있어서, 서브 마스크(4)는 스트라이프 패턴에 있어서의 개개의 띠의 양단부의 과잉 절삭을 방지한다. 서브 마스크(4)의 외측 단부 모서리는 표시 영역(10)에 있어서의 좌우 방 향(즉, 절삭시의 반송 방향)의 전체 길이에 걸쳐서 연속하고 있으므로, 서브 마스크(4)의 단부면에 직접적으로 분사되는 단위 면적당 절삭재의 양은 불연속의 경우보다도 적다. 이에 의해, 서브 마스크(4)의 단부면의 사이드 컷트는 경감된다. 그리고, 서브 마스크(4)의 존재에 의해 서브 마스크(4)에서 되튄 절삭재와 노즐로부터 직접적으로 날아 온 절삭재가 서로 간섭하므로, 메인 마스크(3)의 양단부에 있어서의 절삭의 진행과 중앙부의 진행이 균등해진다.

사이드 컷트의 경감에 의해 마스크 박리가 일어나기 어려워지는 동시에, 소성에 있어서의 튀어 오름이 경미해지므로, 기판끼리의 밀착에 지장이 없도록 표시 영역에 패턴 및 높이가 설계와 같은 격벽을 형성할 수 있는 동시에, 표시 영역의 외측에 서브 격벽을 설치함으로써 기판끼리의 밀착이 불완전해지는 일도 없다.

도3은 마스크 패턴의 띠 폭과 튀어 오름량과의 관계를 나타내는 그래프이다. 도면과 같이 튀어 오름량은 서브 마스크(4)의 패턴(서브 패턴)에 있어서의 띠 폭에 의존한다. 메인 마스크(3)의 패턴(메인 패턴)에 있어서의 띠 폭이 80 ㎛, 160 ㎛ 중 어떠한 경우에도 서브 패턴의 띠 폭, 즉 스트라이프형 격벽과 직교하는 방향으로 형성한 격벽의 띠 폭을 240 ㎛로 하면, 튀어 오름량이 최소가 된다. 서브 패턴의 띠 폭을 160 ㎛ 내지 320 ㎛의 범위 내의 값으로 선정하면 튀어 오름을 저감할 수 있다. 또한, 도3의 경우에는 사이드 컷트 깊이가 50 ㎛인 경우이지만, 후술하는 보조 격벽 등에 의해 사이드 컷트량을 대략 0으로 하면, 서브 패턴의 띠 폭을 240 ㎛로 한 경우에 있어서 튀어 오름량을 12 ㎛ 이하로 할 수 있다.

(제2 실시 형태)

도4는 제2 실시 형태의 마스크 패턴을 도시하는 평면도, 도5는 제2 실시 형태의 마스크 패턴의 부분 확대도이다. 제2 실시 형태의 PDP의 격벽 패턴도 스트라이프 패턴이다. 격벽은 제1 실시 형태와 마찬가지로, 메인 마스크(3b)와 서브 마스크(4b)가 일체가 된 마스크(30b)를 이용하여 유리 기판(1b)의 전체면을 씌우는 층형의 격벽재(2b)를 샌드블라스트에 의해 패터닝하고, 그 후에 격벽재(2b)를 소성하는 순서로 형성된다. 제2 실시 형태는 다음의 세 가지의 특징을 갖는다.

(1) 마스크(30b)의 형성과 동시에, 마스크(30b)의 양측에 마스크(30b)와 분리하여 보조 마스크(5)를 형성한다.

(2) 서브 마스크(4b)의 패턴을 구성하는 띠에서, 스트라이프형 격벽과 직교하는 방향으로 형성한 격벽 중 최외주의 띠가 메인 마스크(3b)의 패턴을 구성하는 띠보다도 두껍다.

(3) 서브 마스크(4b)의 코너부(corner portion)는 원호형이다.

보조 마스크(5)는 서브 마스크(4b)에서 마스킹되는 부분의 사이드 컷트를 보다 확실하게 저감하기 위해 노즐 이동 방향의 분류를 조정하는 역할을 한다. 한 쪽 보조 마스크(5)의 패턴은 반송 방향으로 긴 7개의 띠가 평행하게 늘어서는 스트라이프 패턴이고, 보조 마스크(5)의 좌우 양단부는 마스크(30b)에 대해 길이(L11)만큼 돌출되어 있다. 이 돌출은 분류 조정의 효과를 높인다.

또한, 마스크(30b)의 패턴을 구성하는 띠의 폭에 대해 다음의 관계가 있다.

L2 ＞ L1 ＞ L3

여기서, L1은 표시 영역(10)에 있어서의 배열의 양단부 이외의 띠의 폭이고, L2는 최외주의 띠의 폭이고, L3은 비표시 영역(11)에 있어서의 최외주 이외의 띠의 폭이다. 이와 같이 최외주의 띠 폭을 가장 크게 함으로써, 격벽 패턴에 있어서의 최외주의 부분이 소실되어 버리는 패터닝 불량을 방지할 수 있다.

절삭시에는 상술한 바와 같이 도면의 상하 방향으로 노즐을 이동시킨다. 노즐의 이동에 수반하여 최초에 상측 또는 하측의 비표시 영역(11)에 배치된 보조 마스크(5)에 절삭재가 분사되고, 다음에 서브 마스크(4b)로 절삭재가 분사되고, 다시 메인 마스크(3b)로 절삭재가 분사된다. 절삭은 마스크의 패턴 간극이 클 수록 빠르게 진행하므로, 보조 마스크(5)에 대한 절삭 작용이 가장 크다. 보조 마스크(5)는 서브 마스크(4b)에 대한 과도한 절삭을 방지하는 기능을 한다. 보조 마스크(5)가 박리되어 불어 날리게 된 경우에는 서브 마스크(4b)가 메인 마스크(3b)에 대한 과도한 절삭을 방지한다.

서브 마스크(4b)의 코너부를 원호형으로 하는 것은 튀어 오름의 저감에 유효하다. 그 이유로서, 소성시의 수축에 의한 응력을 분산시키고, 국부적으로 생긴 튀어 오름을 분산시켜 평균화하는 것이 중요하다고 생각된다. 코너부의 패턴에 대해서는 도6에 나타내는 변형예가 있다. 도6의 (A)의 서브 마스크(4c)의 코너부는 외연이 직각으로 격자 중 하나의 매스가 메워진 형상이다. 도6의 (B)의 서브 마스크(4d)의 코너부는 격자 간격의 2배의 반경을 갖는 큰 원호형이다. 도6의 (C)의 서브 마스크(4e)의 코너부는 좌우로 긴 타원호형이다. 도7에 도시한 바와 같이, 튀어 오름량은 코너부의 형상에 의존한다. 코너부가 돌출되어 있는 것보다도 원호인 쪽이 튀어 오름량은 적고, 반경이 작은 원호보다도 반경이 큰 원호 쪽이 튀어 오름량은 적다. 반경이 작은 원호라도 동작음의 저감에 효과적인 16 ㎛ 이하의 튀어 오름을 실현할 수 있지만, 제조의 변동을 생각하면 반경이 큰 원호로 하여 튀어 오름량을 12 ㎛ 이하로 해 두는 것이 바람직하다.

도8은 보조 마스크 패턴의 제1 변형예를 나타내는 평면도이다. 보조 마스크(5b)의 패턴은 반원호와 직선으로 구성되는 좌우로 가늘고 긴 3겹의 링 패턴이다. 단, 각 링의 양단부의 반원호에 슬릿(51a)이 형성되어 있으므로, 엄밀하게는, 보조 마스크(5b)의 패턴은 부분적으로 도중에서 중단된 링 패턴이다. 슬릿(51a)에 의해 링이 분단되어 있으므로, 하나의 링 전체가 절삭 도중에 부분적인 마스크 박리가 생겼을 때에 불어 날리게 되는 것은 하나의 링의 일부에 한정되고, 하나의 링 전체가 불어 날리게 되는 일은 일어나기 어렵다.

링 패턴은 스트라이프 패턴에 있어서의 띠의 양단부를 연결한 패턴이고, 스트라이프 패턴에 비해 박리가 일어나기 어렵다. 가장 내측의 링을 포함하여 모든 링의 양단부가 마스크(30b)에 대해 돌출되어 있으므로, 마스크(30b)를 보호하는 기능이 크다.

도9는 보조 마스크 패턴의 제2 변형예를 나타내는 평면도이다. 본 예에 있어서 표시 영역(10)에 배치되는 격벽 마스크(3b)의 패턴은 메쉬 패턴이다. 보조 마스크(5c)는 메인 마스크(3b)와 서브 마스크(4b)로 구성되는 마스크(30c)의 근방에 배치된다. 보조 마스크(5c)의 패턴은 표시 영역(10)에 있어서의 좌우 방향의 전체 길이보다 짧은 복수의 띠가 서로 평행한 복수의 불연속 선과 같이 반송 방향을 따라서 늘어서는 스트라이프 패턴이다. 이 패턴에서는 스트라이프의 띠를 분단 하는 슬릿(55)의 폭 설정에 의해 분류를 제어할 수 있다. 마스크 박리가 생겼을 때에 불어 날리게 되는 부분이 적다는 효과도 있다. 슬릿(55)은 복수의 불연속의 선끼리 불연속점이 어긋나도록 배치되고, 이에 의해 서브 마스크(4b)에 있어서 국소적으로 분류가 강해지는 것이 방지된다.

보조 마스크(5c)의 양단부는 마스크(30b)에 대해 길이(L11)만큼 돌출되어 있다. 그러나, 스트라이프 패턴을 구성하는 띠 중, 마스크(30b)에 가장 가까운 띠는 마스크(30b)에 대해 돌출되어 있지 않다. 그 이유는, 마스크(30b)의 보호에 가장 기여하는 띠의 박리를 일어나기 어렵게 하기 때문이다. 이 띠가 조기에 박리되어 버리면, 다른 띠가 박리되는 경우에 비해 서브 격벽의 사이드 컷트량이 많아진다. 띠의 단부를 마스크(30b)에 대해 돌출시키지 않음으로써, 띠의 단부에 있어서의 분류 압력이 약해진다. 또한, 마스크(30b)에 가장 가까운 띠의 형상은 도5에 도시하는 실시 형태의 보조 마스크에 있어서도 적용 가능하다.

도10은 보조 마스크 패턴의 제3 변형예를 나타내는 평면도이다. 본 예에 있어서도 격벽 패턴은 메쉬 패턴이다. 보조 마스크(5d)의 패턴은 표시 영역(10)에 있어서의 반송 방향의 전체 길이보다 충분히 짧은 다수의 띠가 서로 평행한 복수의 불연속 선과 같이 반송 방향을 따라서 늘어서는 스트라이프 패턴이다. 이 패턴에 있어서는, 스트라이프의 띠의 길이를 0.05 ㎜ 내지 200 ㎜의 범위 내의 값으로 하는 것이 중요하다. 띠가 길수록 불어 날려졌을 때에 컨베이어(91)(도1 참조)의 가동 기구에 휘감기기 쉽다. 마스크 부재의 휘감김은 반송의 안정과 컨베이어(91) 청소의 관점에 있어서 바람직하지 않다. 상술한 범위는 휘감김이 없고 또한 필 터(97)로 용이하게 회수 가능한 조건이다. 선형으로 늘어서는 짧은 띠끼리의 간격으로서는 띠의 길이의 1/5 정도가 적합하다. 또한, 튀어 오름의 저감을 가미한 바람직한 조건은 띠의 폭 및 길이가 240 ㎛(＝ 0.24 ㎜)보다 작은 것이다. 이 조건을 만족시키면, 폭 방향과 길이 방향에 상관없이 깊이 50 ㎛의 사이드 컷트가 생겨도 튀어 오름량이 수 ㎛ 이하가 되는 것이 실험에 의해 확인되었다. 이는 띠가 240 ㎛보다 길면 긴 부분의 수축에 의해 단부가 인장되어 튀어 오름이 되어 나타나지만, 짧으면 인장하는 부분이 존재하지 않기 때문에 거의 튀어 오르지 않는다고 설명할 수 있다.

(제3 실시 형태)

도11은 제3 실시 형태의 마스크 패턴을 도시하는 평면도이다. 제3 실시 형태는 1매의 기판 상에 복수개의 PDP의 격벽을 일괄로 형성하고, 그 후에 기판을 분할하는 다면 취득 형식의 제조 공정에 적용된다. 도11의 예는 3개의 PDP의 격벽을 일괄 형성하는 예를 나타내고, 도면 중 3개의 표시 영역(10a, 10b, 10c)의 각각이 하나의 PDP의 격벽 부분에 대응하고 있다. 제3 실시 형태의 PDP의 격벽 패턴도 스트라이프 패턴이다. 격벽은 제1 실시 형태와 마찬가지로, 메인 마스크와 서브 마스크가 일체가 된 마스크(30b)를 이용하여 유리 기판(1c)의 전체면을 씌우는 층형의 격벽재(2c)를 샌드블라스트에 의해 패터닝하고, 그 후에 격벽재(2c)를 소성하는 순서로 형성된다. 유리 기판(1c)의 사이즈는, 예를 들어 32인치 사이즈의 PDP를 제조하는 경우에 있어서 1460 ㎜ × 1050 ㎜이다.

표시 영역(10a, 10b, 10c)은 도면의 상하 방향으로 간격을 두고 나열되고, 각각에 하나의 마스크(30b)가 배치된다. 그리고, 인접하는 표시 영역 사이의 비표시 영역(11a, 11b)에, 마스크(30b)의 형성과 동시에 보조 마스크(6a, 7a, 6b, 7b)가 형성된다. 보조 마스크(6a, 7a, 6b, 7b)는 마스크(30b)에 의해 형성되는 서브 격벽에 대한 분류 압력을 완화한다. 표시 영역의 배열 방향으로 노즐을 이동시키는 경우에는, 이동 방향에 있어서의 유리 기판(1c)의 양단부보다도 중간부 쪽이 큰 분류 압력을 받는다. 양단부에서는 분류의 약 절반이 유리 기판(1c)의 외측으로 달아나기 때문이다. 큰 분류 압력을 받는 부위에 보조 마스크(6a, 7a, 6b, 7b)를 배치함으로써 마스크(30b)의 박리를 방지할 수 있고, 그에 의해 설계와 같은 격벽을 표시 영역(10a, 10b, 10c)에 형성할 수 있다. 또한, 3개의 마스크(30b) 및 보조 마스크(6a, 7a, 6b, 7b)를 형성하기 위한 포토리소그래피 공정에 있어서는 1개의 PDP에 대응하는 크기 중 하나의 포토 마스크를 3회 이용하는 스테퍼 형식의 패턴 노광을 행한다. 이로 인해, 실제로는 도시한 바와 같이 어떠한 표시 영역(10a, 10b, 10c)에 대해서도 마찬가지로 각각의 양측에 보조 마스크가 형성된다.

이상, 본 발명을 적용함으로써 표시부를 기준으로 한 튀어 오름에 관하여 서브 격벽부 및 그 코너부, 보조 격벽부를 포함하는 격벽 형성부 전체 영역에 걸쳐서 튀어 오름량을 12 ㎛ 이하, 제조되는 복수의 패널 사이의 변동을 고려해도 16 ㎛ 이하로 억제할 수 있고, 패널 구동시의 진동에 수반하는 동작음(버즈음)을 억제할 수 있다.

이상, 본 발명을 다양한 실시 형태 및 변형예를 이용하여 설명하였지만, 본 발명은 이들 실시 형태에 한정되지 않고, 다양한 형태로 실시하는 것이 가능하다.

이상과 같이, 본 발명에 의한 격벽 형성 방법은 기판끼리의 밀착에 지장이 되는 돌기를 생기게 하는 일 없이, 표시 영역에 패턴 및 높이가 설계와 같은 격벽을 형성할 수 있으므로, 패터닝 불량에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 수율을 높이고, 또한 기판끼리의 밀착 불량에 의한 진동음이 생기지 않는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 데 있어서 유용하다.

도1은 본 발명의 실시에 이용하는 샌드블라스트 장치의 개략도.

도2는 제1 실시 형태의 마스크 패턴을 도시하는 평면도.

도3은 마스크 패턴의 띠 폭과 튀어 오름량과의 관계를 나타내는 도면.

도4는 제2 실시 형태의 마스크 패턴을 도시하는 평면도.

도5는 제2 실시 형태의 마스크 패턴의 부분 확대도.

도6의 (A)는 서브 마스크 패턴의 제1 변형예를 나타내는 도면.

도6의 (B)는 서브 마스크 패턴의 제2 변형예를 나타내는 도면.

도6의 (C)는 서브 마스크 패턴의 제3 변형예를 나타내는 도면.

도7은 서브 마스크의 코너부(corner portion)의 형상과 튀어 오름량과의 관계를 나타내는 도면.

도8은 보조 마스크 패턴의 제1 변형예를 나타내는 평면도.

도9는 보조 마스크 패턴의 제2 변형예를 나타내는 평면도.

도10은 보조 마스크 패턴의 제3 변형예를 나타내는 평면도.

도11은 제3 실시 형태의 마스크 패턴을 도시하는 평면도.

도12의 (A)는 종래의 격벽 형성의 제1 단계를 도시하는 도면.

도12의 (B)는 종래의 격벽 형성의 제1 단계를 도시하는 도면.

도12의 (C)는 종래의 격벽 형성의 제1 단계를 도시하는 도면.

도12의 (D)는 종래의 격벽 형성의 제1 단계를 도시하는 도면.

도12의 (E)는 종래의 격벽 형성의 제1 단계를 도시하는 도면.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

1 : 유리 기판

2 : 격벽재

3 : 메인 마스크

4 : 서브 마스크

5 : 보조 마스크

10 : 표시 영역

11 : 비표시 영역

13 : 띠형의 영역

30 : 마스크

Claims (57)

1. 전방면 기판과 배면 기판을 갖고, 상기 전방면 기판과 상기 배면 기판 사이에 격벽을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법이며,

   상기 전방면 기판 상에 표시 영역 및 상기 표시 영역의 수직 방향 외측의 비표시 영역을 덮는 격벽 재료를 배치하는 공정과,

   상기 격벽 재료 상에 상기 격벽의 패턴에 대응하는 마스크를 형성하는 공정과,

   상기 마스크를 이용하여 상기 표시 영역 및 상기 비표시 영역에 격벽을 형성하는 공정을 구비하고,

   상기 마스크는 상기 표시 영역에 있어서 제1 방향으로 연장되는 복수의 격벽을 형성하는 제1 격벽 영역의 패턴과, 상기 비표시 영역에 있어서 상기 제1 방향으로 연장되는 복수의 제1 격벽과 제2 방향으로 연장되는 복수의 제2 격벽을 구비하여 상기 제1 격벽과 상기 제2 격벽이 서로 교차하는 제2 격벽 영역의 패턴을 구비하고,

   상기 마스크의 상기 제2 격벽 영역에 있어서의 코너부가 원호 형상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 제2 격벽 영역은 제3 격벽을 구비하고,

   상기 제3 격벽은 상기 제2 격벽 영역의 코너부를 형성하고, 원호 형상인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
3. 제2항에 있어서, 상기 제3 격벽의 한쪽의 단부는 최외주의 상기 제1 격벽의 단부와 연결되고, 상기 제3 격벽의 다른쪽의 단부는 최외주의 상기 제2 격벽의 단부와 연결되는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
4. 제2항에 있어서, 상기 제3 격벽은 최외주의 상기 제1 격벽과 연결되는 한쪽의 단부로부터 최외주의 상기 제2 격벽과 연결되는 다른쪽의 단부까지 전체가 곡선 형상인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
5. 제1항에 있어서, 상기 제1 격벽 영역은 직사각형 표시 영역이고, 상기 제2 격벽 영역은 상기 직사각형 표시 영역의 하나의 에지부를 따라서 연장되는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
6. 제5항에 있어서, 상기 제2 격벽 영역은 상기 직사각형 표시 영역의 에지 중 긴 에지를 따라서 연장되어 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
7. 제1항에 있어서, 상기 제2 격벽 영역에 있어서의 코너부의 튀어 오름량이 16 ㎛ 이하인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
8. 제7항에 있어서, 상기 제2 격벽 영역에 있어서의 코너부의 튀어 오름량이 12 ㎛ 이하인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
9. 제1항에 있어서, 상기 격벽을 형성하는 공정은 샌드블라스트법에 의해 격벽을 형성하는 공정인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
10. 전방면 기판과 배면 기판을 갖고, 상기 전방면 기판과 상기 배면 기판 사이에 격벽을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법이며,

    상기 전방면 기판 상에 표시 영역 및 상기 표시 영역의 수직 방향 외측의 비표시 영역을 덮는 격벽 재료를 배치하는 공정과,

    상기 격벽 재료 상에 상기 격벽의 패턴에 대응하는 마스크를 형성하는 공정과,

    상기 마스크를 이용하여 상기 표시 영역 및 상기 비표시 영역에 격벽을 형성하는 공정을 구비하고,

    상기 마스크는, 상기 비표시 영역에 있어서, 제1 방향으로 연신하는 복수의 제1 격벽과 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연신하는 복수의 제2 격벽에 의해 상기 제1 방향으로 배열되는 복수의 셀과 상기 제2 방향으로 배열되는 복수의 셀을 형성하는 패턴을 구비하고,

    상기 마스크의 상기 비표시 영역에 있어서의 코너부가 원호 형상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
11. 제10항에 있어서, 상기 마스크는 상기 복수의 제1 격벽 중 가장 외측의 제1 격벽과 상기 복수의 제2 격벽 중 가장 외측의 제2 격벽을 연결하는 제3 격벽을 상기 비표시 영역의 코너부에 형성하는 패턴을 구비하고,

    상기 제3 격벽은 원호 형상인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
12. 제10항에 있어서, 상기 표시 영역은 직사각형 표시 영역이고, 상기 비표시 영역은 상기 직사각형 표시 영역의 하나 이상의 에지를 따라서 연장되어 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
13. 제12항에 있어서, 상기 비표시 영역은 상기 직사각형 표시 영역의 에지 중 긴 에지를 따라서 연장되어 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
14. 제10항에 있어서, 상기 비표시 영역에 있어서의 코너부의 튀어 오름량이 16 ㎛ 이하인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
15. 제14항에 있어서, 상기 비표시 영역에 있어서의 코너부의 튀어 오름량이 12 ㎛ 이하인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
16. 제10항에 있어서, 상기 격벽을 형성하는 공정은 샌드블라스트법에 의해 격벽을 형성하는 공정인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
17. 전방면 기판과 배면 기판을 갖고, 상기 전방면 기판과 상기 배면 기판 사이에 격벽을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법이며,

    상기 전방면 기판 상에 표시 영역 및 상기 표시 영역의 수직 방향 외측의 비표시 영역을 덮는 격벽 재료를 배치하는 공정과,

    상기 격벽 재료 상에 상기 격벽의 패턴에 대응하는 마스크를 형성하는 공정과,

    상기 마스크를 이용하여 상기 표시 영역 및 상기 비표시 영역에 격벽을 형성하는 공정을 구비하고,

    상기 마스크는, 상기 비표시 영역에 있어서, 제1 방향으로 연신하는 복수의 제1 격벽과 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연신하는 복수의 제2 격벽에 의해 제1 셀을 형성하는 패턴과, 표시 영역의 수직 방향에 있어서의 상기 제1 셀의 외측의 영역에 제2 셀을 형성하는 패턴을 구비하고,

    상기 제1 셀은 상기 표시 영역에 인접하는 측에 형성되고, 상기 제2 셀은 상기 제1 셀보다도 표시 영역으로부터 보아 떨어진 측에 형성되며,

    상기 제2 셀은 상기 제1 셀보다도 사이즈가 큰 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
18. 제17항에 있어서, 상기 제2 셀은 상기 제2 셀에 인접하는 상기 제1 셀보다도 수평 방향에 있어서 사이즈가 큰 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
19. 제17항에 있어서, 상기 제2 셀은 상기 제2 셀에 인접하는 상기 제1 셀보다도 수직 방향에 있어서 사이즈가 큰 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
20. 제17항에 있어서, 상기 제2 셀의 수평 방향의 길이는 인접한 복수의 제1 셀의 수평 방향의 길이를 합한 길이인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
21. 제17항에 있어서, 상기 제2 셀의 수직 방향의 길이는 인접한 복수의 제1 셀의 수직 방향의 길이를 합한 길이인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
22. 제17항에 있어서, 상기 표시 영역은 직사각형이고, 상기 비표시 영역은 직사각형이며,

    상기 제2 셀은 상기 비표시 영역의 코너부에 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
23. 제17항에 있어서, 상기 제2 셀은 원호 형상의 격벽을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
24. 제17항에 있어서, 상기 표시 영역은 직사각형 표시 영역이고, 상기 비표시 영역은 상기 직사각형 표시 영역의 하나 이상의 에지를 따라서 연장되어 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
25. 제17항에 있어서, 상기 표시 영역은 직사각형이고, 상기 비표시 영역은 직사각형이며,

    상기 비표시 영역은 직사각형의 상기 표시 영역의 에지 중 긴 에지를 따라서 연장되어 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
26. 제17항에 있어서, 상기 표시 영역은 직사각형이고, 상기 비표시 영역은 직사각형이며,

    상기 비표시 영역에 있어서의 코너부의 튀어 오름량이 16 ㎛ 이하인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
27. 제26항에 있어서, 상기 비표시 영역에 있어서의 코너부의 튀어 오름량이 12 ㎛ 이하인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
28. 제17항에 있어서, 상기 격벽을 형성하는 공정은 샌드블라스트법에 의해 격벽을 형성하는 공정인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
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38. 전방면 기판과 배면 기판을 갖고, 상기 전방면 기판과 상기 배면 기판 사이에 격벽을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법이며,

    상기 배면 기판의 표시 영역 및 상기 표시 영역의 수직 방향 외측의 비표시 영역을 덮는 격벽 재료를 배치하는 공정과,

    상기 격벽 재료 상에 상기 격벽의 패턴에 대응하는 마스크를 형성하는 공정과,

    상기 마스크를 이용하여 상기 표시 영역 및 상기 비표시 영역에 격벽을 형성하는 공정을 구비하고,

    상기 마스크는 상기 비표시 영역에 있어서 수평 방향으로 연신하는 복수의 격벽과 수직 방향으로 연신하는 복수의 격벽을 형성하는 패턴을 구비하고,

    상기 표시 영역은 직사각형이고, 상기 비표시 영역은 직사각형이며,

    상기 비표시 영역의 격벽의 일부는 수평 방향에 있어서 상기 표시 영역보다도 돌출(extend beyond)하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
39. 제38항에 있어서, 상기 비표시 영역의 수평 방향으로 연신하는 격벽의 단부로부터 다른 단부까지의 길이는 상기 표시 영역의 수평 방향으로 연신하는 격벽의 단부로부터 다른 단부까지의 길이보다도 긴 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
40. 제38항에 있어서, 상기 비표시 영역은 서로 교차하여 복수의 셀을 형성하는 복수의 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
41. 제38항에 있어서, 상기 표시 영역은 직사각형이고, 상기 비표시 영역은 직사각형이며,

    상기 비표시 영역에 있어서의 코너부의 튀어 오름량이 16 ㎛ 이하인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
42. 제41항에 있어서, 상기 비표시 영역에 있어서의 코너부의 튀어 오름량이 12 ㎛ 이하인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
43. 제38항에 있어서, 상기 격벽을 형성하는 공정은 샌드블라스트법에 의해 격벽을 형성하는 공정인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
44. 전방면 기판과 배면 기판을 갖고, 상기 전방면 기판과 상기 배면 기판 사이에 격벽을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법이며,

    상기 배면 기판의 표시 영역 및 상기 표시 영역의 수직 방향 외측의 비표시 영역을 덮는 격벽 재료를 배치하는 공정과,

    상기 격벽 재료 상에 상기 격벽의 패턴에 대응하는 마스크를 형성하는 공정과,

    상기 마스크를 이용하여 상기 표시 영역 및 상기 비표시 영역에 격벽을 형성하는 공정을 구비하고,

    상기 마스크는, 상기 비표시 영역에 있어서, 제1 방향으로 연신하는 복수의 제1 격벽과 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연신하는 복수의 제2 격벽을 형성하는 패턴을 구비하고,

    상기 비표시 영역의 외주측 격벽은 상기 비표시 영역 내의 내측 격벽의 폭보다도 큰 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
45. 제44항에 있어서, 상기 비표시 영역의 외주측 격벽의 폭은 상기 표시 영역의 격벽보다도 큰 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
46. 제44항에 있어서, 상기 표시 영역은 직사각형이고, 상기 비표시 영역은 직사각형이며,

    상기 비표시 영역에 있어서의 코너부의 튀어 오름량이 16 ㎛ 이하인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
47. 제46항에 있어서, 상기 비표시 영역에 있어서의 코너부의 튀어 오름량이 12 ㎛ 이하인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
48. 제44항에 있어서, 상기 격벽을 형성하는 공정은 샌드블라스트법에 의해 격벽을 형성하는 공정인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
49. 전방면 기판과 배면 기판을 갖고, 상기 전방면 기판과 상기 배면 기판 사이에 격벽을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법이며,

    상기 배면 기판의 표시 영역 및 상기 표시 영역의 수직 방향 외측의 비표시 영역을 덮는 격벽 재료를 배치하는 공정과,

    상기 격벽 재료 상에 상기 격벽의 패턴에 대응하는 마스크를 형성하는 공정과,

    상기 마스크를 이용하여 상기 표시 영역 및 상기 비표시 영역에 격벽을 형성하는 공정을 구비하고,

    상기 마스크는 상기 표시 영역에 배치되는 제1 격벽 영역과, 상기 표시 영역의 수직 방향 외측에 배치되는 비표시 영역에 배치되는 제2 격벽 영역과, 상기 비표시 영역에 배치되고 상기 제2 격벽 영역보다도 상기 표시 영역으로부터 보아 수직 방향 외측에 배치되는 제3 격벽 영역을 형성하는 패턴을 구비하고,

    상기 제1 격벽 영역은 수직 방향으로 연장되는 복수의 격벽을 구비하고, 상기 제2 격벽 영역은 서로 교차하는 복수의 격벽을 구비하며, 상기 제3 격벽 영역은 복수의 격벽을 구비하고,

    상기 제2 격벽 영역과 상기 제3 격벽 영역이 서로 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
50. 제49항에 있어서, 상기 제2 격벽 영역은 상기 제1 격벽 영역과 격벽에 의해 연결되고,

    상기 제3 격벽 영역은 상기 제2 격벽 영역과 격벽에 의해 연결되지 않고 분리되어 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
51. 제49항에 있어서, 상기 제2 격벽 영역은 서로 교차하는 복수의 격벽을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
52. 제49항에 있어서, 상기 제3 격벽 영역은 상기 제2 격벽 영역과 공통인 격벽으로 연결되지 않고 분리되어 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
53. 제49항에 있어서, 상기 제3 격벽 영역의 코너부가 원호 형상인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
54. 제49항에 있어서, 상기 제2 격벽 영역은 직사각형의 상기 표시 영역의 에지 중 긴 에지를 따라서 연신하고, 상기 제3 격벽 영역은 상기 제2 격벽 영역의 외측에 있어서 연신하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
55. 제49항에 있어서, 상기 제2 격벽 영역은 직사각형이고,

    상기 제2 격벽 영역에 있어서의 코너부의 튀어 오름량이 16 ㎛ 이하인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
56. 제55항에 있어서, 상기 제2 격벽 영역에 있어서의 코너부의 튀어 오름량이 12 ㎛ 이하인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
57. 제49항에 있어서, 상기 격벽을 형성하는 공정은 샌드블라스트법에 의해 격벽을 형성하는 공정인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.

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