JPH0745193A - プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法Info
- Publication number
- JPH0745193A JPH0745193A JP20696293A JP20696293A JPH0745193A JP H0745193 A JPH0745193 A JP H0745193A JP 20696293 A JP20696293 A JP 20696293A JP 20696293 A JP20696293 A JP 20696293A JP H0745193 A JPH0745193 A JP H0745193A
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 端部付近に欠陥を生じることなくサブトラク
ティブ加工により所望のラインパターンの障壁を形成す
る。 【構成】 ライン状マスク４ａにおけるライン端部の外
側に所定間隔ｄを置いて耐サブトラクティブ性を有する
保護用マスク４ｂを設けた状態でサブトラクティブ加工
を行い、ガラスペースト層３の不要部分を除去する。保
護用マスク４ｂがサブトラクティブ加工時における気流
の流れを堰き止めるので、ライン状マスク４ａの端部下
側に流れる気流を減少させ、この部分にあるガラスペー
スト層３の過大な研削が防止される。ライン端部付近に
欠陥を生じることなく障壁を形成できる。
ティブ加工により所望のラインパターンの障壁を形成す
る。 【構成】 ライン状マスク４ａにおけるライン端部の外
側に所定間隔ｄを置いて耐サブトラクティブ性を有する
保護用マスク４ｂを設けた状態でサブトラクティブ加工
を行い、ガラスペースト層３の不要部分を除去する。保
護用マスク４ｂがサブトラクティブ加工時における気流
の流れを堰き止めるので、ライン状マスク４ａの端部下
側に流れる気流を減少させ、この部分にあるガラスペー
スト層３の過大な研削が防止される。ライン端部付近に
欠陥を生じることなく障壁を形成できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に係わるもの
であり、詳しくはＰＤＰにおけるライン状障壁の形成方
法に関するものである。
パネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に係わるもの
であり、詳しくはＰＤＰにおけるライン状障壁の形成方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＰＤＰにおける障壁の形成方法と
しては、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印
刷によりパターン状に重ねて印刷を行い、このガラスペ
ーストを乾燥、焼成して所望の障壁を形成する方法が一
般的であったが、この方法は工程が複雑であるとともに
良好な線幅精度が得られ難いことから、最近では、ガラ
ス基板上にガラスペーストを所定の厚さで塗布して乾燥
させることでガラスペースト層を形成し、その上に耐サ
ブトラクティブ性を有するマスクをパターン状に形成し
てから、このマスクを介してサンドブラストや液体ホー
ニングにより所望パターンの障壁を形成する所謂サブト
ラクティブ加工法による障壁の形成方法が提案されてい
る。
しては、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印
刷によりパターン状に重ねて印刷を行い、このガラスペ
ーストを乾燥、焼成して所望の障壁を形成する方法が一
般的であったが、この方法は工程が複雑であるとともに
良好な線幅精度が得られ難いことから、最近では、ガラ
ス基板上にガラスペーストを所定の厚さで塗布して乾燥
させることでガラスペースト層を形成し、その上に耐サ
ブトラクティブ性を有するマスクをパターン状に形成し
てから、このマスクを介してサンドブラストや液体ホー
ニングにより所望パターンの障壁を形成する所謂サブト
ラクティブ加工法による障壁の形成方法が提案されてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記したサブトラクテ
ィブ加工法によりライン状の障壁を形成する場合、通常
は図１（ａ）に示すように、ガラス基板１１上に障壁用
のガラスペーストを塗布して乾燥させることでガラスペ
ースト層１２を形成し、その上に耐サブトラクティブ性
を有するマスク１３をライン状に形成している。しかし
ながら、このライン状マスク１３を介して図の矢印方向
にスキャンしながらサブトラクティブ加工を行うと、ラ
イン状マスク１３の端部付近を除く部分ではガラスペー
スト層１２が両サイドからしか研削されないのに比べ、
ライン状マスク１３の端部付近では端面側からも研削さ
れることから、（ｂ）に示すように障壁１２ａの端部付
近が逆台形状に研削されることになり、ついには（ｃ）
に示すようにマスク１３の剥離を起こした状態で研削が
進み、この部分が欠陥になってしまうという問題点があ
った。
ィブ加工法によりライン状の障壁を形成する場合、通常
は図１（ａ）に示すように、ガラス基板１１上に障壁用
のガラスペーストを塗布して乾燥させることでガラスペ
ースト層１２を形成し、その上に耐サブトラクティブ性
を有するマスク１３をライン状に形成している。しかし
ながら、このライン状マスク１３を介して図の矢印方向
にスキャンしながらサブトラクティブ加工を行うと、ラ
イン状マスク１３の端部付近を除く部分ではガラスペー
スト層１２が両サイドからしか研削されないのに比べ、
ライン状マスク１３の端部付近では端面側からも研削さ
れることから、（ｂ）に示すように障壁１２ａの端部付
近が逆台形状に研削されることになり、ついには（ｃ）
に示すようにマスク１３の剥離を起こした状態で研削が
進み、この部分が欠陥になってしまうという問題点があ
った。
【０００４】本発明は、上記のような問題点に鑑みなさ
れたものであり、その目的とするところは、端部付近に
欠陥を生じることなくサブトラクティブ加工により所望
のラインパターンの障壁を形成することのできるＰＤＰ
の障壁形成方法を提供することにある。
れたものであり、その目的とするところは、端部付近に
欠陥を生じることなくサブトラクティブ加工により所望
のラインパターンの障壁を形成することのできるＰＤＰ
の障壁形成方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、ガラス基板上に障壁用のガラスペースト
を所定の厚さで塗布して乾燥させることでガラスペース
ト層を形成し、その上に耐サブトラクティブ性を有する
ライン状マスクを所定ピッチで形成した後、該ライン状
マスクを介してのサブトラクティブ加工によりガラスペ
ースト層の不要部分を除去する工程を含むＰＤＰの障壁
形成方法において、前記ライン状マスクにおけるライン
端部の外側に所定間隔を置いて耐サブトラクティブ性を
有する保護用マスクを設けた状態でサブトラクティブ加
工を行うことを特徴としており、この場合のサブトラク
ティブ加工はサンドブラストを用いるものであっても液
体ホーニングを用いるものであってもよい。
に、本発明は、ガラス基板上に障壁用のガラスペースト
を所定の厚さで塗布して乾燥させることでガラスペース
ト層を形成し、その上に耐サブトラクティブ性を有する
ライン状マスクを所定ピッチで形成した後、該ライン状
マスクを介してのサブトラクティブ加工によりガラスペ
ースト層の不要部分を除去する工程を含むＰＤＰの障壁
形成方法において、前記ライン状マスクにおけるライン
端部の外側に所定間隔を置いて耐サブトラクティブ性を
有する保護用マスクを設けた状態でサブトラクティブ加
工を行うことを特徴としており、この場合のサブトラク
ティブ加工はサンドブラストを用いるものであっても液
体ホーニングを用いるものであってもよい。
【０００６】そして、上記の耐サブトラクティブ性を有
するマスクはフォトレジストを用いてフォトリソ法によ
り形成することができる。
するマスクはフォトレジストを用いてフォトリソ法によ
り形成することができる。
【０００７】
【作用】上述の構成からなる障壁形成方法では、保護用
マスクがサブトラクティブ加工時における気流の流れを
堰き止める役目を果たし、これによりライン状マスクの
端部付近に流れる気流を減少させ、ライン状マスクの端
部下側にあるガラスペースト層が過大に研削されるのを
防止する。
マスクがサブトラクティブ加工時における気流の流れを
堰き止める役目を果たし、これによりライン状マスクの
端部付近に流れる気流を減少させ、ライン状マスクの端
部下側にあるガラスペースト層が過大に研削されるのを
防止する。
【０００８】
【実施例】以下、図２〜５を参照しながら本発明の実施
例を説明する。
例を説明する。
【０００９】まず、図２（ａ）に示すように、電極１を
形成したガラス基板２の上にブレードコーター或いはス
クリーン印刷により膜厚１５０μｍで障壁用のガラスペ
ーストを塗布して乾燥させることでガラスペースト層３
を形成し、次いでその上にジアゾニウム塩添加ＰＶＡを
スピンナー、ローラーコーター、ブレードコーター等で
膜厚１０μｍに塗布し、室温で乾燥させてマスク層４を
形成する。そして、図３に示すマスクパターン５を介し
て図２（ｂ）に示すように露光した後、水に１〜２分浸
漬してからスプレー現像を行った。露光条件は、３６５
ｎｍで測定した時に強度７００μＷ／ｃｍ2 、照射量４
００ｍＪ／ｃｍ2 である。これにより、図２（ｃ）及び
図４に示す如くガラスペースト層３上にライン状マスク
４ａとそのライン端部の外側に所定間隔ｄを置いて幅Ｗ
の保護用マスク４ｂを形成した。本実施例では、ライン
状マスク４ａを１２０μｍピッチ（ライン幅５０μｍ、
スペース幅７０μｍ）で設けるとともに、ライン端部と
保護用マスク４ｂの間隔ｄを０．２ｍｍとし、保護用マ
スク４ｂの幅Ｗを１ｍｍとした。なお、図２（ｃ）は図
４のＡ−Ａ断面に対応している。
形成したガラス基板２の上にブレードコーター或いはス
クリーン印刷により膜厚１５０μｍで障壁用のガラスペ
ーストを塗布して乾燥させることでガラスペースト層３
を形成し、次いでその上にジアゾニウム塩添加ＰＶＡを
スピンナー、ローラーコーター、ブレードコーター等で
膜厚１０μｍに塗布し、室温で乾燥させてマスク層４を
形成する。そして、図３に示すマスクパターン５を介し
て図２（ｂ）に示すように露光した後、水に１〜２分浸
漬してからスプレー現像を行った。露光条件は、３６５
ｎｍで測定した時に強度７００μＷ／ｃｍ2 、照射量４
００ｍＪ／ｃｍ2 である。これにより、図２（ｃ）及び
図４に示す如くガラスペースト層３上にライン状マスク
４ａとそのライン端部の外側に所定間隔ｄを置いて幅Ｗ
の保護用マスク４ｂを形成した。本実施例では、ライン
状マスク４ａを１２０μｍピッチ（ライン幅５０μｍ、
スペース幅７０μｍ）で設けるとともに、ライン端部と
保護用マスク４ｂの間隔ｄを０．２ｍｍとし、保護用マ
スク４ｂの幅Ｗを１ｍｍとした。なお、図２（ｃ）は図
４のＡ−Ａ断面に対応している。
【００１０】続いて、乾燥工程を経てから、図５（ａ）
に示すように、サンドブラスト加工を図４の矢印方向に
スキャンしながら行うことによりガラスペースト層３の
不要部分を除去し、図５（ｂ）に示す如くライン状マス
ク４ａの下に障壁パターン３ａを形成した。ここでは、
研磨材としてアルミナ♯１０００を用い、噴射圧力３ｋ
ｇｆ／ｃｍ2 、ノズルと基板１の距離１８５ｍｍ、スキ
ャン速度３０ｍｍ／ｓｅｃの条件でサンドブラスト加工
を行った。このサンドブラスト加工により、ライン状マ
スク４ａにおける端部付近の下にあるガラスペースト層
３が研削されすぎることなく良好なエッジ形状が得られ
た。続いてライン状マスク４ａ及び保護用マスク４ｂを
剥離材で除去し、焼成工程を経て図５（ｃ）に示すよう
にガラス基板１に密着した障壁３ａを形成した。ここ
で、保護用マスク４ｃの下にあるガラスペースト層３は
土手３ｂとして残ることになる。以上のようにして形成
した背面板とは別に、電極及び蛍光層を設けた前面板を
準備し、両者を合わせてＰＤＰを作製して良好な結果を
得た。
に示すように、サンドブラスト加工を図４の矢印方向に
スキャンしながら行うことによりガラスペースト層３の
不要部分を除去し、図５（ｂ）に示す如くライン状マス
ク４ａの下に障壁パターン３ａを形成した。ここでは、
研磨材としてアルミナ♯１０００を用い、噴射圧力３ｋ
ｇｆ／ｃｍ2 、ノズルと基板１の距離１８５ｍｍ、スキ
ャン速度３０ｍｍ／ｓｅｃの条件でサンドブラスト加工
を行った。このサンドブラスト加工により、ライン状マ
スク４ａにおける端部付近の下にあるガラスペースト層
３が研削されすぎることなく良好なエッジ形状が得られ
た。続いてライン状マスク４ａ及び保護用マスク４ｂを
剥離材で除去し、焼成工程を経て図５（ｃ）に示すよう
にガラス基板１に密着した障壁３ａを形成した。ここ
で、保護用マスク４ｃの下にあるガラスペースト層３は
土手３ｂとして残ることになる。以上のようにして形成
した背面板とは別に、電極及び蛍光層を設けた前面板を
準備し、両者を合わせてＰＤＰを作製して良好な結果を
得た。
【００１１】本発明において、耐サブトラクティブ性を
有するライン状マスク及び保護用マスクを形成するフォ
トレジストとしては、上記実施例で挙げたものの他に、
ＯＳＢＲと称されるネガ型の液体レジストをはじめとし
て以下に述べる種々の感光性樹脂を使用できる。
有するライン状マスク及び保護用マスクを形成するフォ
トレジストとしては、上記実施例で挙げたものの他に、
ＯＳＢＲと称されるネガ型の液体レジストをはじめとし
て以下に述べる種々の感光性樹脂を使用できる。
【００１２】例えば、水溶性樹脂マトリックス及び光重
合性多官能モノマーを主成分として含有する感光性樹脂
を使用することができる。この水溶性樹脂マトリックス
としては、ポリビニールアルコール−ポリ酢酸ビニル−
クロトン酸共重合体の部分ケン化物、ポリビニールアル
コール−ポリ酢酸ビニル−メタクリル酸、アルコール可
溶性ナイロンを用いることができ、一方、光重合性多官
能モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、テトラアクリレート、メタアクリレートを用い
ることができる。そして、この種の感光性樹脂を使用し
た場合には、サブトラクティブ加工後、過ヨウ素酸ナト
リウム水溶液でマスクを剥離するものである。
合性多官能モノマーを主成分として含有する感光性樹脂
を使用することができる。この水溶性樹脂マトリックス
としては、ポリビニールアルコール−ポリ酢酸ビニル−
クロトン酸共重合体の部分ケン化物、ポリビニールアル
コール−ポリ酢酸ビニル−メタクリル酸、アルコール可
溶性ナイロンを用いることができ、一方、光重合性多官
能モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、テトラアクリレート、メタアクリレートを用い
ることができる。そして、この種の感光性樹脂を使用し
た場合には、サブトラクティブ加工後、過ヨウ素酸ナト
リウム水溶液でマスクを剥離するものである。
【００１３】また、ポリビニールアルコール、ポリ酢酸
ビニルエマルジョン及びジアゾ樹脂を主成分として含有
する感光性樹脂、或いは、感光性ポリビニールアルコー
ル、ポリビニールアルコール及びポリ酢酸ビニルエマル
ジョンを主成分として含有する感光性樹脂を使用するこ
とができる。前者の場合、例えば、ポリビニールアルコ
ールを１０重量部、ポリ酢酸ビニルエマルジョンを固形
分５０％で２０〜６０重量部、ジアゾ樹脂を０．５〜
１．５重量部の割合で配合したものを用いるとよい。後
者の場合、感光性ポリビニールアルコールとしては、ポ
リアルコールの水酸基の一部にフォルミルスチリルピリ
ジニウム基（スチルバリゾリウム基）を有するものを用
いることができる。そして、これらの感光性樹脂を使用
した場合には、サブトラクティブ加工後、次亜塩素酸ソ
ーダ、過ハロゲン酸水溶液でマスクを剥離するものであ
る。
ビニルエマルジョン及びジアゾ樹脂を主成分として含有
する感光性樹脂、或いは、感光性ポリビニールアルコー
ル、ポリビニールアルコール及びポリ酢酸ビニルエマル
ジョンを主成分として含有する感光性樹脂を使用するこ
とができる。前者の場合、例えば、ポリビニールアルコ
ールを１０重量部、ポリ酢酸ビニルエマルジョンを固形
分５０％で２０〜６０重量部、ジアゾ樹脂を０．５〜
１．５重量部の割合で配合したものを用いるとよい。後
者の場合、感光性ポリビニールアルコールとしては、ポ
リアルコールの水酸基の一部にフォルミルスチリルピリ
ジニウム基（スチルバリゾリウム基）を有するものを用
いることができる。そして、これらの感光性樹脂を使用
した場合には、サブトラクティブ加工後、次亜塩素酸ソ
ーダ、過ハロゲン酸水溶液でマスクを剥離するものであ
る。
【００１４】また、ゼラチン、アクリルアミド誘導体及
びレドックス光重合開始剤を主成分として含有する感光
性樹脂を使用することができる。このアクリルアミド重
合体としては、アクリルアミド又はＮ，Ｎ’−メチレン
ビスアクリルアミドを用いることができ、レドックス光
重合開始剤としては、クエン酸鉄(III) アンモニウム又
はしゅう酸鉄(III) アンモニウムを用いることができ
る。そして、この感光性樹脂を使用した場合には、サブ
トラクティブ加工後、蛋白質分解酵素でマスクを剥離す
るものである。
びレドックス光重合開始剤を主成分として含有する感光
性樹脂を使用することができる。このアクリルアミド重
合体としては、アクリルアミド又はＮ，Ｎ’−メチレン
ビスアクリルアミドを用いることができ、レドックス光
重合開始剤としては、クエン酸鉄(III) アンモニウム又
はしゅう酸鉄(III) アンモニウムを用いることができ
る。そして、この感光性樹脂を使用した場合には、サブ
トラクティブ加工後、蛋白質分解酵素でマスクを剥離す
るものである。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のＰＤＰの
障壁形成方法は、ライン状マスクにおけるライン端部の
外側に所定間隔を置いて耐サブトラクティブ性を有する
保護用マスクを設けた状態でサブトラクティブ加工を行
うようにしたので、保護用マスクがサブトラクティブ加
工時における気流の流れを堰き止める役目を果たし、そ
の結果、ライン状マスクの端部下側に流れる気流を減少
させ、この部分にあるガラスペースト層の過大な研削を
防ぐことから、サブトラクティブ加工時にライン端部付
近に欠陥を生じることなく所望のラインパターンの障壁
を形成することができる。
障壁形成方法は、ライン状マスクにおけるライン端部の
外側に所定間隔を置いて耐サブトラクティブ性を有する
保護用マスクを設けた状態でサブトラクティブ加工を行
うようにしたので、保護用マスクがサブトラクティブ加
工時における気流の流れを堰き止める役目を果たし、そ
の結果、ライン状マスクの端部下側に流れる気流を減少
させ、この部分にあるガラスペースト層の過大な研削を
防ぐことから、サブトラクティブ加工時にライン端部付
近に欠陥を生じることなく所望のラインパターンの障壁
を形成することができる。
【図１】サブトラクティブ加工による従来の障壁形成方
法を示す工程図である。
法を示す工程図である。
【図２】本発明に係る障壁形成方法の前半の工程を示す
図である。
図である。
【図３】マスクパターンを示す平面図である。
【図４】ガラスペースト層上にライン状マスク及び保護
用マスクを形成した状態を示す平面図である。
用マスクを形成した状態を示す平面図である。
【図５】図２に続く後半の工程を示す図である。
２ ガラス基板 ３ ガラスペースト層 ３ａ 障壁 ４ａ ライン状マスク ４ｂ 保護用マスク
Claims (4)
- 【請求項１】 ガラス基板上に障壁用のガラスペースト
を所定の厚さで塗布して乾燥させることでガラスペース
ト層を形成し、その上に耐サブトラクティブ性を有する
ライン状マスクを所定ピッチで形成した後、該ライン状
マスクを介してのサブトラクティブ加工によりガラスペ
ースト層の不要部分を除去する工程を含むプラズマディ
スプレイパネルの障壁形成方法において、前記ライン状
マスクにおけるライン端部の外側に所定間隔を置いて耐
サブトラクティブ性を有する保護用マスクを設けた状態
でサブトラクティブ加工を行うことを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルの障壁形成方法。 - 【請求項２】 サブトラクティブ加工にサンドブラスト
を用いることを特徴とする請求項１記載のプラズマディ
スプレイパネルの障壁形成方法。 - 【請求項３】 サブトラクティブ加工に液体ホーニング
を用いることを特徴とする請求項１記載のプラズマディ
スプレイパネルの障壁形成方法。 - 【請求項４】 耐サブトラクティブ性を有するマスクを
形成する材料としてフォトレジストを用いることを特徴
とする請求項１，２又は３記載のプラズマディスプレイ
パネルの障壁形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20696293A JP3279753B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20696293A JP3279753B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0745193A true JPH0745193A (ja) | 1995-02-14 |
| JP3279753B2 JP3279753B2 (ja) | 2002-04-30 |
Family
ID=16531892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20696293A Expired - Lifetime JP3279753B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3279753B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6048243A (en) * | 1996-04-22 | 2000-04-11 | Fujitsu Limited | Method of forming barrier ribs of display panel |
| US6333142B1 (en) | 1998-06-24 | 2001-12-25 | Fujitsu Limited | Master for barrier rib transfer mold, and method for forming barrier ribs of plasma display panel using the same |
| WO2002084689A1 (fr) * | 2001-04-09 | 2002-10-24 | Fujitsu Limited | Procede de fabrication d'un mur de cloison pour les panneaux d'affichage sur ecrans plasma au moyen du jet de sable |
-
1993
- 1993-07-30 JP JP20696293A patent/JP3279753B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2004075232A1 (ja) * | 1998-06-24 | 2004-09-02 | Osamu Toyoda | 隔壁転写凹版用の元型及びそれを用いたプラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法 |
| US6333142B1 (en) | 1998-06-24 | 2001-12-25 | Fujitsu Limited | Master for barrier rib transfer mold, and method for forming barrier ribs of plasma display panel using the same |
| KR100887033B1 (ko) * | 2001-04-09 | 2009-03-04 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
| US6855026B2 (en) | 2001-04-09 | 2005-02-15 | Fujitsu Limited | Method for forming partitions of plasma display panel by using sandblasting process |
| CN1326179C (zh) * | 2001-04-09 | 2007-07-11 | 富士通株式会社 | 利用喷砂形成等离子体显示面板的间隔壁的形成方法 |
| JP2007266018A (ja) * | 2001-04-09 | 2007-10-11 | Hitachi Ltd | プラズマディスプレイパネル |
| JP2007299769A (ja) * | 2001-04-09 | 2007-11-15 | Hitachi Ltd | プラズマディスプレイパネル |
| WO2002084689A1 (fr) * | 2001-04-09 | 2002-10-24 | Fujitsu Limited | Procede de fabrication d'un mur de cloison pour les panneaux d'affichage sur ecrans plasma au moyen du jet de sable |
| KR100887040B1 (ko) * | 2001-04-09 | 2009-03-04 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 샌드블라스트를 이용하는 플라즈마 디스플레이 패널의격벽 형성 방법 |
| KR100889161B1 (ko) * | 2001-04-09 | 2009-03-16 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 |
| USRE41312E1 (en) | 2001-04-09 | 2010-05-04 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited | Method for forming partitions of plasma display panel by using sandblasting process |
| JP4480742B2 (ja) * | 2001-04-09 | 2010-06-16 | 株式会社日立製作所 | プラズマディスプレイパネル |
| JP4480743B2 (ja) * | 2001-04-09 | 2010-06-16 | 株式会社日立製作所 | プラズマディスプレイパネル |
| EP2166555A3 (en) * | 2001-04-09 | 2010-09-08 | Hitachi Plasma Patent Licensing Co., Ltd. | Plasma Display Panel |
| USRE42405E1 (en) | 2001-04-09 | 2011-05-31 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited | Method for forming partitions of plasma display panel by using sandblasting process |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3279753B2 (ja) | 2002-04-30 |
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