JP3279754B2 - プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法Info
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- JP3279754B2 JP3279754B2 JP20696393A JP20696393A JP3279754B2 JP 3279754 B2 JP3279754 B2 JP 3279754B2 JP 20696393 A JP20696393 A JP 20696393A JP 20696393 A JP20696393 A JP 20696393A JP 3279754 B2 JP3279754 B2 JP 3279754B2
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- glass paste
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に係わるもの
であり、詳しくはＰＤＰの放電空間を構成する障壁の形
成方法に関するものである。
パネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に係わるもの
であり、詳しくはＰＤＰの放電空間を構成する障壁の形
成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＰＤＰにおける障壁の形成方法と
しては、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印
刷によりパターン状に重ねて印刷を行い、このガラスペ
ーストを乾燥、焼成して所望の障壁を形成する方法が一
般的であったが、この方法は工程が複雑であるとともに
良好な線幅精度が得られ難いことから、最近では、ガラ
ス基板上に障壁用のガラスペーストを所定の厚さで塗布
して乾燥させることでガラスペースト層を形成し、その
上に耐サブトラクティブ性を有するマスクをパターン状
に形成してから、このマスクを介してサンドブラストや
液体ホーニングにより所望パターンの障壁を形成する所
謂サブトラクティブ加工法による障壁の形成方法が提案
されている。
しては、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印
刷によりパターン状に重ねて印刷を行い、このガラスペ
ーストを乾燥、焼成して所望の障壁を形成する方法が一
般的であったが、この方法は工程が複雑であるとともに
良好な線幅精度が得られ難いことから、最近では、ガラ
ス基板上に障壁用のガラスペーストを所定の厚さで塗布
して乾燥させることでガラスペースト層を形成し、その
上に耐サブトラクティブ性を有するマスクをパターン状
に形成してから、このマスクを介してサンドブラストや
液体ホーニングにより所望パターンの障壁を形成する所
謂サブトラクティブ加工法による障壁の形成方法が提案
されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、サブトラク
ティブ加工法によりガラス基板のエッジまで障壁パター
ンを形成するため、図１に示すようにガラス基板１の全
面を覆うようにガラスペースト層２を設けるとともにマ
スク３をガラス基板１のエッジまで形成し、これを定盤
４上に載置した状態でノズル５を図示の方向にスキャン
してサブトラクティブ加工を行うと、ノズル５が段差の
あるエッジを横切る際に気流の関係でエッジ付近におけ
るガラスペースト層２の研削が速く行われ、図２に示す
如くエッジ付近に研削されすぎによる欠陥が生じてしま
う。したがって、サブトラクティブ加工法では、ガラス
基板１のエッジ形状の良好な障壁パターンを形成するの
が難しいという問題点がある。
ティブ加工法によりガラス基板のエッジまで障壁パター
ンを形成するため、図１に示すようにガラス基板１の全
面を覆うようにガラスペースト層２を設けるとともにマ
スク３をガラス基板１のエッジまで形成し、これを定盤
４上に載置した状態でノズル５を図示の方向にスキャン
してサブトラクティブ加工を行うと、ノズル５が段差の
あるエッジを横切る際に気流の関係でエッジ付近におけ
るガラスペースト層２の研削が速く行われ、図２に示す
如くエッジ付近に研削されすぎによる欠陥が生じてしま
う。したがって、サブトラクティブ加工法では、ガラス
基板１のエッジ形状の良好な障壁パターンを形成するの
が難しいという問題点がある。
【０００４】本発明は、上記のような問題点に鑑みなさ
れたものであり、その目的とするところは、サブトラク
ティブ加工によりガラス基板のエッジまで障壁パターン
を形成するに際し、エッジ付近に欠陥を生じることなく
所望パターンの障壁を形成することのできるＰＤＰの障
壁形成方法を提供することにある。
れたものであり、その目的とするところは、サブトラク
ティブ加工によりガラス基板のエッジまで障壁パターン
を形成するに際し、エッジ付近に欠陥を生じることなく
所望パターンの障壁を形成することのできるＰＤＰの障
壁形成方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、ガラス基板上に障壁用のガラスペースト
を所定の厚さで塗布して乾燥させることでガラスペース
ト層を形成し、その上に耐サブトラクティブ性を有する
マスクを形成した後、該マスクを介してのサブトラクテ
ィブ加工によりガラスペースト層の不要部分を除去する
工程を含むプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法
において、ガラスペースト層とマスクをそれぞれガラス
基板のエッジまで形成し、ガラス基板と同じ高さとなる
補助板をガラス基板のエッジ端面に接するように配設し
た状態でサブトラクティブ加工を行うことによりガラス
基板のエッジまで障壁パターンを形成することを特徴と
しており、この場合のサブトラクティブ加工はサンドブ
ラストを用いるものであっても液体ホーニングを用いる
ものであってもよい。
に、本発明は、ガラス基板上に障壁用のガラスペースト
を所定の厚さで塗布して乾燥させることでガラスペース
ト層を形成し、その上に耐サブトラクティブ性を有する
マスクを形成した後、該マスクを介してのサブトラクテ
ィブ加工によりガラスペースト層の不要部分を除去する
工程を含むプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法
において、ガラスペースト層とマスクをそれぞれガラス
基板のエッジまで形成し、ガラス基板と同じ高さとなる
補助板をガラス基板のエッジ端面に接するように配設し
た状態でサブトラクティブ加工を行うことによりガラス
基板のエッジまで障壁パターンを形成することを特徴と
しており、この場合のサブトラクティブ加工はサンドブ
ラストを用いるものであっても液体ホーニングを用いる
ものであってもよい。
【０００６】ここで、ガラス基板としては通常２〜３ｍ
ｍの厚さのものが使用される。またガラスペースト層は
１００〜２００μｍの厚みで形成され、その上のマスク
は１０μｍ程度の厚みで形成される。そして、補助板は
ガラス基板と±０．３μｍ程度の範囲で高さを揃えるよ
うに配設される。なお、本発明で用いられる基板には電
極がパターニングされたものも含有する。
ｍの厚さのものが使用される。またガラスペースト層は
１００〜２００μｍの厚みで形成され、その上のマスク
は１０μｍ程度の厚みで形成される。そして、補助板は
ガラス基板と±０．３μｍ程度の範囲で高さを揃えるよ
うに配設される。なお、本発明で用いられる基板には電
極がパターニングされたものも含有する。
【０００７】
【作用】上述の構成からなる障壁形成方法では、補助板
がサブトラクティブ加工時における気流の流れを堰き止
め、ガラスペースト層におけるエッジ付近の研削速度が
他の部分に比べて速くなるのを防止する。
がサブトラクティブ加工時における気流の流れを堰き止
め、ガラスペースト層におけるエッジ付近の研削速度が
他の部分に比べて速くなるのを防止する。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。
する。
【０００９】厚さ２ｍｍのガラス基板上にブレードコー
ター或いはスクリーン印刷により膜厚１５０μｍで障壁
用のガラスペーストを全面に塗布して乾燥させた。次い
で、その上にジアゾニウム塩添加ＰＶＡをスピンナー、
ローラーコーター、ブレードコーター等で全面に渡って
膜厚１０μｍに塗布し、室温で乾燥させた後、マスクパ
ターンを介して露光を行った。露光条件は、３６５ｎｍ
で測定した時に強度７００μＷ／ｃｍ2 、照射量４００
ｍＪ／ｃｍ2 である。その後、水に１〜２分浸漬してか
らスプレー現像を行い、乾燥工程を経て、図３に示す如
くガラス基板１の上にガラスペースト層２とマスク３を
エッジまで形成した。
ター或いはスクリーン印刷により膜厚１５０μｍで障壁
用のガラスペーストを全面に塗布して乾燥させた。次い
で、その上にジアゾニウム塩添加ＰＶＡをスピンナー、
ローラーコーター、ブレードコーター等で全面に渡って
膜厚１０μｍに塗布し、室温で乾燥させた後、マスクパ
ターンを介して露光を行った。露光条件は、３６５ｎｍ
で測定した時に強度７００μＷ／ｃｍ2 、照射量４００
ｍＪ／ｃｍ2 である。その後、水に１〜２分浸漬してか
らスプレー現像を行い、乾燥工程を経て、図３に示す如
くガラス基板１の上にガラスペースト層２とマスク３を
エッジまで形成した。
【００１０】続いて、図４に示すように、ガラスペース
ト層２及びマスク３の形成されたガラス基板１を定盤４
の上に載置するとともに、これに接するように厚さ２ｍ
ｍのガラス板からなる補助板６を同じく定盤４の上に配
設し、この状態でサンドブラスト加工を図３の矢印方向
にスキャンしながら行うことによりガラスペースト層２
の不要部分を除去した。ここでは、研磨材としてアルミ
ナ♯１０００を用い、噴射圧力３ｋｇｆ／ｃｍ2 、ノズ
ルと基板１の距離１８５ｍｍ、スキャン速度３０ｍｍ／
ｓｅｃの条件でサンドブラスト加工を行った。このサン
ドブラスト加工により、マスク３の端部付近の下にある
ガラスペースト層が研削されすぎることなく、図４に示
すように良好なエッジ形状が得られた。続いてマスク３
を剥離材で除去し、焼成工程を経てガラス基板１に密着
した障壁を形成した。
ト層２及びマスク３の形成されたガラス基板１を定盤４
の上に載置するとともに、これに接するように厚さ２ｍ
ｍのガラス板からなる補助板６を同じく定盤４の上に配
設し、この状態でサンドブラスト加工を図３の矢印方向
にスキャンしながら行うことによりガラスペースト層２
の不要部分を除去した。ここでは、研磨材としてアルミ
ナ♯１０００を用い、噴射圧力３ｋｇｆ／ｃｍ2 、ノズ
ルと基板１の距離１８５ｍｍ、スキャン速度３０ｍｍ／
ｓｅｃの条件でサンドブラスト加工を行った。このサン
ドブラスト加工により、マスク３の端部付近の下にある
ガラスペースト層が研削されすぎることなく、図４に示
すように良好なエッジ形状が得られた。続いてマスク３
を剥離材で除去し、焼成工程を経てガラス基板１に密着
した障壁を形成した。
【００１１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のＰＤＰの
障壁形成方法は、ガラスペースト層とマスクをそれぞれ
ガラス基板のエッジまで形成し、ガラス基板と同じ高さ
となる補助板をガラス基板に接するように配設した状態
でサブトラクティブ加工を行うようにしたので、補助板
がサブトラクティブ加工時における気流の流れを堰き止
める役目を果たし、その結果、ガラスペースト層におけ
るエッジ付近の研削速度が他の部分に比べて速くなるの
を防止することから、エッジ付近に欠陥を生じることな
く所望パターンの障壁を形成することができる。
障壁形成方法は、ガラスペースト層とマスクをそれぞれ
ガラス基板のエッジまで形成し、ガラス基板と同じ高さ
となる補助板をガラス基板に接するように配設した状態
でサブトラクティブ加工を行うようにしたので、補助板
がサブトラクティブ加工時における気流の流れを堰き止
める役目を果たし、その結果、ガラスペースト層におけ
るエッジ付近の研削速度が他の部分に比べて速くなるの
を防止することから、エッジ付近に欠陥を生じることな
く所望パターンの障壁を形成することができる。
【図１】補助板を使用しないでサブトラクティブ加工に
よりガラス基板のエッジまで障壁を形成する状態を示す
断面図である。
よりガラス基板のエッジまで障壁を形成する状態を示す
断面図である。
【図２】図１に示す方法により形成された障壁のエッジ
形状を示す断面図である。
形状を示す断面図である。
【図３】本発明に係る障壁形成方法を説明するための断
面図である。
面図である。
【図４】図３に示す本発明の障壁形成方法により形成さ
れた障壁のエッジ形状を示す断面図である。
れた障壁のエッジ形状を示す断面図である。
１ ガラス基板 ２ ガラスペースト層 ３ マスク ４ 定盤 ５ ノズル ６ 補助板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01J 9/02 H01J 11/02
Claims (3)
- 【請求項１】 ガラス基板上に障壁用のガラスペースト
を所定の厚さで塗布して乾燥させることでガラスペース
ト層を形成し、その上に耐サブトラクティブ性を有する
マスクを形成した後、該マスクを介してのサブトラクテ
ィブ加工によりガラスペースト層の不要部分を除去する
工程を含むプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法
において、ガラスペースト層とマスクをそれぞれガラス
基板のエッジまで形成し、ガラス基板と同じ高さとなる
補助板をガラス基板のエッジ端面に接するように配設し
た状態でサブトラクティブ加工を行うことによりガラス
基板のエッジまで障壁パターンを形成することを特徴と
するプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法。 - 【請求項２】 サブトラクティブ加工にサンドブラスト
を用いることを特徴とする請求項１記載のプラズマディ
スプレイパネルの障壁形成方法。 - 【請求項３】 サブトラクティブ加工に液体ホーニング
を用いることを特徴とする請求項１記載のプラズマディ
スプレイパネルの障壁形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20696393A JP3279754B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20696393A JP3279754B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0745194A JPH0745194A (ja) | 1995-02-14 |
| JP3279754B2 true JP3279754B2 (ja) | 2002-04-30 |
Family
ID=16531906
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20696393A Expired - Fee Related JP3279754B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3279754B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5176188A (en) * | 1991-02-14 | 1993-01-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Investment casting method and pattern material comprising thermally-collapsible expanded microspheres |
| JP3624992B2 (ja) * | 1996-04-22 | 2005-03-02 | 富士通株式会社 | 表示パネルの隔壁形成方法 |
| KR20130044516A (ko) * | 2011-10-24 | 2013-05-03 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 투명패널 부착 방법 및 이에 사용되는 레진 디스펜싱 헤드 |
-
1993
- 1993-07-30 JP JP20696393A patent/JP3279754B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0745194A (ja) | 1995-02-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080222 |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090222 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |