JPH0745191A - プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法Info
- Publication number
- JPH0745191A JPH0745191A JP20696093A JP20696093A JPH0745191A JP H0745191 A JPH0745191 A JP H0745191A JP 20696093 A JP20696093 A JP 20696093A JP 20696093 A JP20696093 A JP 20696093A JP H0745191 A JPH0745191 A JP H0745191A
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- Japan
- Prior art keywords
- barrier
- sandblasting
- mask
- sand blast
- glass paste
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- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な工程により複雑な形状の障壁を形成す
る。 【構成】 少なくとも２つの異なる高さにそれぞれ上下
方向に重ならない状態のサンドブラスト用マスク３１，
５１を有するガラスペースト層２をガラス基板１の上に
設け、該サンドブラスト用マスク３１，５１を介してサ
ンドブラスト加工を行った後、サンドブラスト用マスク
３１，５１を除去する工程を行う。１回のサンドブラス
ト加工によりサンドブラスト用マスク３１，５１のない
部分のガラスペースト２ａ，２ｂが研削されてセル空間
が形成されるとともに、下方に位置するサンドブラスト
用マスク３１の上にあるガラスペースト２ｂが研削され
て上部に窪み７ａのある障壁７が形成される。
る。 【構成】 少なくとも２つの異なる高さにそれぞれ上下
方向に重ならない状態のサンドブラスト用マスク３１，
５１を有するガラスペースト層２をガラス基板１の上に
設け、該サンドブラスト用マスク３１，５１を介してサ
ンドブラスト加工を行った後、サンドブラスト用マスク
３１，５１を除去する工程を行う。１回のサンドブラス
ト加工によりサンドブラスト用マスク３１，５１のない
部分のガラスペースト２ａ，２ｂが研削されてセル空間
が形成されるとともに、下方に位置するサンドブラスト
用マスク３１の上にあるガラスペースト２ｂが研削され
て上部に窪み７ａのある障壁７が形成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に係わるもの
であり、詳しくはＰＤＰの放電空間を構成する障壁の形
成方法に関するものである。
パネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に係わるもの
であり、詳しくはＰＤＰの放電空間を構成する障壁の形
成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＰＤＰにおける障壁の形成方法と
しては、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印
刷によりパターン状に重ねて印刷を行い、このペースト
を乾燥、焼成して所望の障壁を形成する方法が一般的で
ある。そして、プライミングパスなどを有する複雑な形
状の障壁を形成する場合には、重ね刷りを行う際に最上
段をパターン状に抜いて印刷する方法が採られている。
しては、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印
刷によりパターン状に重ねて印刷を行い、このペースト
を乾燥、焼成して所望の障壁を形成する方法が一般的で
ある。そして、プライミングパスなどを有する複雑な形
状の障壁を形成する場合には、重ね刷りを行う際に最上
段をパターン状に抜いて印刷する方法が採られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たようなガラスペーストの重ね刷りにより複雑な形状の
障壁を形成する場合、工程が複雑な上に重ね刷りの位置
合わせが難しく、またガラスペーストのダレが生じるこ
とから、良好な形状の障壁を得るのが困難であるという
問題点があった。
たようなガラスペーストの重ね刷りにより複雑な形状の
障壁を形成する場合、工程が複雑な上に重ね刷りの位置
合わせが難しく、またガラスペーストのダレが生じるこ
とから、良好な形状の障壁を得るのが困難であるという
問題点があった。
【０００４】本発明は、上記のような問題点に鑑みなさ
れたものであり、その目的とするところは、簡単な工程
により複雑な形状の障壁を形成することのできるＰＤＰ
の障壁形成方法を提供することにある。
れたものであり、その目的とするところは、簡単な工程
により複雑な形状の障壁を形成することのできるＰＤＰ
の障壁形成方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るＰＤＰの障壁形成方法は、少なくとも
２つの異なる高さにそれぞれが上下方向に重ならない状
態のサンドブラスト用マスクを有するガラスペースト層
をガラス基板上に設け、該サンドブラスト用マスクを介
してサンドブラスト加工を行った後、前記サンドブラス
ト用マスクを除去する工程を含むことを特徴としてい
る。
に、本発明に係るＰＤＰの障壁形成方法は、少なくとも
２つの異なる高さにそれぞれが上下方向に重ならない状
態のサンドブラスト用マスクを有するガラスペースト層
をガラス基板上に設け、該サンドブラスト用マスクを介
してサンドブラスト加工を行った後、前記サンドブラス
ト用マスクを除去する工程を含むことを特徴としてい
る。
【０００６】
【作用】上述の構成からなる障壁形成方法では、サンド
ブラスト用マスクのない部分のガラスペーストが研削さ
れてセル空間が形成されるとともに、下方に位置するサ
ンドブラスト用マスクの上にあるガラスペーストが研削
される。そして、サンドブラスト用マスクを除去するこ
とにより障壁の上部に窪みが形成される。
ブラスト用マスクのない部分のガラスペーストが研削さ
れてセル空間が形成されるとともに、下方に位置するサ
ンドブラスト用マスクの上にあるガラスペーストが研削
される。そして、サンドブラスト用マスクを除去するこ
とにより障壁の上部に窪みが形成される。
【０００７】
【実施例】以下、図１〜図３を参照しながら本発明の実
施例を説明する。
施例を説明する。
【０００８】まず、図１の（ａ）に示すように、陰極等
（図示せず）を形成したガラス基板１の上にガラスペー
スト２ａをスクリーン印刷により膜厚１８０μｍで塗布
して乾燥させ、その上にマスク材３としてのジアゾニウ
ム塩添加ＰＶＡをスピンナーにより膜厚１０μｍで塗布
して室温で乾燥させた後、（ｂ）に示すようにマスクパ
ターン４を介して露光を行った。露光条件は、３６５ｎ
ｍで測定した時に強度７００μＷ／ｃｍ2 、照射量４０
０ｍＪ／ｃｍ2 である。露光後、水に１〜２分浸漬して
からスプレー現像を行い、乾燥工程を経て（ｃ）に示す
如くガラスペースト２ａ上にサンドブラスト用マスク３
１を形成した。
（図示せず）を形成したガラス基板１の上にガラスペー
スト２ａをスクリーン印刷により膜厚１８０μｍで塗布
して乾燥させ、その上にマスク材３としてのジアゾニウ
ム塩添加ＰＶＡをスピンナーにより膜厚１０μｍで塗布
して室温で乾燥させた後、（ｂ）に示すようにマスクパ
ターン４を介して露光を行った。露光条件は、３６５ｎ
ｍで測定した時に強度７００μＷ／ｃｍ2 、照射量４０
０ｍＪ／ｃｍ2 である。露光後、水に１〜２分浸漬して
からスプレー現像を行い、乾燥工程を経て（ｃ）に示す
如くガラスペースト２ａ上にサンドブラスト用マスク３
１を形成した。
【０００９】次いで、図２の（ｄ）に示すように、サン
ドブラスト用マスク３１を覆うようにしてガラスペース
ト２ａ上にガラスペースト２ｂをスクリーン印刷により
膜厚２０μｍで塗布して乾燥させ、その上に前記したの
と同様にマスク材５としてのジアゾニウム塩添加ＰＶＡ
をスピンナーにより膜厚１０μｍで塗布して室温で乾燥
させた後、（ｅ）に示すようにマスクパターン６を介し
て前記したのと同様の条件により露光を行った。露光
後、水に１〜２分浸漬してからスプレー現像を行い、乾
燥工程を経て図２（ｆ）に示す如くガラスペースト２ｂ
上にサンドブラスト用マスク５１を形成した。これによ
り２つの異なる高さにそれぞれが上下方向に重ならない
状態のサンドブラスト用マスク３１，５１を有するガラ
スペースト層２がガラス基板１の上に形成できた。
ドブラスト用マスク３１を覆うようにしてガラスペース
ト２ａ上にガラスペースト２ｂをスクリーン印刷により
膜厚２０μｍで塗布して乾燥させ、その上に前記したの
と同様にマスク材５としてのジアゾニウム塩添加ＰＶＡ
をスピンナーにより膜厚１０μｍで塗布して室温で乾燥
させた後、（ｅ）に示すようにマスクパターン６を介し
て前記したのと同様の条件により露光を行った。露光
後、水に１〜２分浸漬してからスプレー現像を行い、乾
燥工程を経て図２（ｆ）に示す如くガラスペースト２ｂ
上にサンドブラスト用マスク５１を形成した。これによ
り２つの異なる高さにそれぞれが上下方向に重ならない
状態のサンドブラスト用マスク３１，５１を有するガラ
スペースト層２がガラス基板１の上に形成できた。
【００１０】その後、図３の（ｇ）に示すようにサンド
ブラスト用マスク３１，５１を介してサンドブラスト加
工を行い、ガラスペースト２ａ，２ｂの不要部分を除去
した。ここでは研磨材としてアルミナ♯１０００を用
い、噴射圧力３ｋｇｆ／ｃｍ2、ノズルと基板との距離
１８５ｍｍ、スキャン速度３０ｍｍ／ｓｅｃの条件でサ
ンドブラスト加工を行った。これにより、サンドブラス
ト用マスク３１，５１のない部分のガラスペースト２
ａ，２ｂが研削されてセル空間が形成されるとともに、
（ｈ）に示す如くサンドブラスト用マスク３１の上にあ
るガラスペースト２ｂが研削された。続いて、サンドブ
ラスト用マスク５１，３１を剥離剤により除去し、
（ｉ）に示す如くガラス基板１上にガラスペースト２
ａ，２ｂからなる障壁７のパターンを得た後、焼成工程
を経て障壁７を基板に密着させた。これにより上部にス
リット状の窪み７ａを備えた障壁７が形成できた。
ブラスト用マスク３１，５１を介してサンドブラスト加
工を行い、ガラスペースト２ａ，２ｂの不要部分を除去
した。ここでは研磨材としてアルミナ♯１０００を用
い、噴射圧力３ｋｇｆ／ｃｍ2、ノズルと基板との距離
１８５ｍｍ、スキャン速度３０ｍｍ／ｓｅｃの条件でサ
ンドブラスト加工を行った。これにより、サンドブラス
ト用マスク３１，５１のない部分のガラスペースト２
ａ，２ｂが研削されてセル空間が形成されるとともに、
（ｈ）に示す如くサンドブラスト用マスク３１の上にあ
るガラスペースト２ｂが研削された。続いて、サンドブ
ラスト用マスク５１，３１を剥離剤により除去し、
（ｉ）に示す如くガラス基板１上にガラスペースト２
ａ，２ｂからなる障壁７のパターンを得た後、焼成工程
を経て障壁７を基板に密着させた。これにより上部にス
リット状の窪み７ａを備えた障壁７が形成できた。
【００１１】なお、上記の実施例では２つの異なる高さ
にサンドブラスト用マスクを有するガラスペースト層を
ガラス基板上に設けたが、形成しようとする障壁の形状
によっては３つ以上の異なる高さにサンドブラスト用マ
スクを有するガラスペースト層をガラス基板上に設ける
ようにすることも可能である。また、サンドブラスト用
マスクをメタルマスクで形成することも可能である。
にサンドブラスト用マスクを有するガラスペースト層を
ガラス基板上に設けたが、形成しようとする障壁の形状
によっては３つ以上の異なる高さにサンドブラスト用マ
スクを有するガラスペースト層をガラス基板上に設ける
ようにすることも可能である。また、サンドブラスト用
マスクをメタルマスクで形成することも可能である。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るＰＤ
Ｐの障壁形成方法によれば、少なくとも２つの異なる高
さにそれぞれが上下方向に重ならない状態のサンドブラ
スト用マスクを有するガラスペースト層をガラス基板上
に設け、該サンドブラスト用マスクを介してサンドブラ
スト加工を行った後、前記サンドブラスト用マスクを除
去するようにしたので、１回のサンドブラスト加工によ
りサンドブラスト用マスクのない部分のガラスペースト
が研削されてセル空間が形成されるとともに、下方に位
置するサンドブラスト用マスクの上にあるガラスペース
トが研削されて障壁上に窪みが形成されることから、簡
単な工程で複雑な形状の障壁を形成することができる。
Ｐの障壁形成方法によれば、少なくとも２つの異なる高
さにそれぞれが上下方向に重ならない状態のサンドブラ
スト用マスクを有するガラスペースト層をガラス基板上
に設け、該サンドブラスト用マスクを介してサンドブラ
スト加工を行った後、前記サンドブラスト用マスクを除
去するようにしたので、１回のサンドブラスト加工によ
りサンドブラスト用マスクのない部分のガラスペースト
が研削されてセル空間が形成されるとともに、下方に位
置するサンドブラスト用マスクの上にあるガラスペース
トが研削されて障壁上に窪みが形成されることから、簡
単な工程で複雑な形状の障壁を形成することができる。
【図１】本発明に係るプラズマディスプレイパネルの障
壁形成方法の実施例を示す前半の工程図である。
壁形成方法の実施例を示す前半の工程図である。
【図２】図１に続く工程図である。
【図３】図２に続く後半の工程図である。
１ ガラス基板 ２ ガラスペースト層 ２ａ ガラスペースト ２ｂ ガラスペースト ３１ サンドブラスト用マスク ５１ サンドブラスト用マスク
Claims (1)
- 【請求項１】 少なくとも２つの異なる高さにそれぞれ
が上下方向に重ならない状態のサンドブラスト用マスク
を有するガラスペースト層をガラス基板上に設け、該サ
ンドブラスト用マスクを介してサンドブラスト加工を行
った後、前記サンドブラスト用マスクを除去する工程を
含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの障
壁形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20696093A JP3328384B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法及びプラズマディスプレイパネルの障壁形成用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20696093A JP3328384B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法及びプラズマディスプレイパネルの障壁形成用基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0745191A true JPH0745191A (ja) | 1995-02-14 |
| JP3328384B2 JP3328384B2 (ja) | 2002-09-24 |
Family
ID=16531862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20696093A Expired - Lifetime JP3328384B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法及びプラズマディスプレイパネルの障壁形成用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3328384B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2831710A1 (fr) * | 2001-10-22 | 2003-05-02 | Nec Corp | Masque a espaces multiples, procede de fabrication du susdit et procede de fabrication d'une partie de composant en utilisant le susdit |
| US7371508B2 (en) * | 1998-08-28 | 2008-05-13 | Hitachi, Ltd. | Plasma display panel and method for fabricating the same |
| US7741778B2 (en) | 2000-10-10 | 2010-06-22 | Panasonic Corporation | Plasma display panel and manufacturing method therefor |
-
1993
- 1993-07-30 JP JP20696093A patent/JP3328384B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7371508B2 (en) * | 1998-08-28 | 2008-05-13 | Hitachi, Ltd. | Plasma display panel and method for fabricating the same |
| US7741778B2 (en) | 2000-10-10 | 2010-06-22 | Panasonic Corporation | Plasma display panel and manufacturing method therefor |
| FR2831710A1 (fr) * | 2001-10-22 | 2003-05-02 | Nec Corp | Masque a espaces multiples, procede de fabrication du susdit et procede de fabrication d'une partie de composant en utilisant le susdit |
| KR100499760B1 (ko) * | 2001-10-22 | 2005-07-07 | 파이오니아 플라즈마 디스플레이 가부시키가이샤 | 멀티갭마스크, 그 제조방법 및 이를 이용하여 구성부품을제조하는 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3328384B2 (ja) | 2002-09-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080712 Year of fee payment: 6 |
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Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090712 |
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Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100712 |